DE4339710A1 - Optoelektronische Abstandsmeßeinrichtung - Google Patents
Optoelektronische AbstandsmeßeinrichtungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine optoelektronische Abstandsmeßeinrichtung gemäß dem
Oberbegriff des Anspruchs 1.
Die optoelektronische Abstandsmeßeinrichtung basiert auf der Grundlage eines
objektabbildenden Verfahrens, speziell eines Auflicht-Hellfeld-Verfahrens, welches zur
Bestimmung der Lage eines Objektpunktes auf der Meßachse, die identisch mit der
optischen Achse des Systems ist, geeignet ist.
Es sind eine Vielzahl von optoelektronischen Abstandssensoren bekannt, die meist nach
dem Prinzip der Triangulation oder nach dem Fokusverfahren arbeiten. Sie werden in der
Regel in abgeschlossenen, kompakten Meßeinheiten als Abstandsdetektoren (Sollage-
Erkennung) oder als messende Systeme kommerziell angeboten.
Meßtechnisch sind insbesondere solche Verfahren interessant, die Vorteile beider
Prinzipien in sich vereinen.
In Laser Magazin 1/85, S. 26 ff. wird eine solche Lösung von der Firma Leitz
beschrieben, bei der ein Laserstrahlbündel unter einem solchen Winkel in den
Auflichtstrahlengang eines Mikroskopes eingespiegelt wird, daß es gerade im Sollabstand
der Oberfläche zu einem ausgezeichneten Schnittpunkt mit der optischen Achse des
Systems kommt und ein Triangulationseffekt bei einer Abstandsänderung erreicht wird.
Nachteilig ist dabei, daß - wie bei allen herkömmlichen Triangulationsverfahren mit einer
festen Triangulationsebene (Ebene, aufgespannt von den optischen Achsen der
Beleuchtungs- und Abbildungsoptik) - in der Meßpraxis Einschränkungen durch
Abschattungseffekte in Kauf genommen werden müssen.
Bei der in DE 35 07 445 beschriebenen Lösung wird dieser Nachteil durch eine
"richtungsunabhängige" Triangulation umgangen. Der Triangulationseffekt wird durch
eine Ringblende im Abbildungsstrahlengang erreicht. Allerdings können die in der Schrift
formulierten Wirkungen nur realisiert werden, wenn der Öffnungsfehler der Optik benutzt
wird. Somit können keine optimal korrigierten Objektiv-Optiken eingesetzt werden, wie
sie beispielsweise standardmäßig in Meßmikroskopen verwendet werden. Deshalb wurde
dort im Anspruch 4 hervorgehoben, daß die Abbildungsoptik als eine Nicht-Gaußsche
Optik ausgebildet ist (d. h., die erzeugte leuchtende Marke auf der Objektoberfläche, also
auch ein Punkt, wird nicht als Punkt, sondern als ein die optische Achse konzentrisch
umgebender Ring in der Bildebene abgebildet).
Mit dieser speziellen Optik ist das Verfahren somit als eine eigenständige Meßanordnung
ausgebildet und auf Abstandsmessungen festgelegt.
Die Erfindung soll, ausgehend von einer vorzugsweise gemeinsamen und optimal
korrigierten Optik für den Beleuchtungsstrahlengang und den Abbildungsstrahlengang, ein
empfindlich reagierendes Abstandsmeßverfahren realisieren, das sowohl als eigenständige
Meßanordnung als auch in vorgegebene optische Strahlengänge von Meßmikroskopen
oder anderen auf der Objektabbildung beruhenden Meßvorrichtungen, insbesondere
Koordinatenmeßmaschinen, integriert werden kann.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die kennzeichnenden Merkmale des
Anspruchs 1 gelöst.
Das Wesen der Erfindung besteht darin, daß im gegebenenfalls separaten
Auflichtbeleuchtungsstrahlengang bzw. im Abbildungsstrahlengang eine geeignet geteilte
Blende dafür sorgt, daß in einem ersten Fall Randstrahlenbündel zur Erzeugung einer
Marke (Punkt) auf der Objektoberfläche genutzt werden und in einem zweiten Fall
Randstrahlenbündel die Abbildung einer vorhandenen Objekt-Marke in eine feste
Empfängerebene bewirken. Eine Änderung des Objektabstandes führt dort zu einer
Aufspaltung des Markenbildes, deren Größe als empfindliches Maß einer
Abstandsänderung mit einer geeigneten Empfängeranordnung auswertbar ist.
Diese Lösung geht von einer optimal korrigierten Objektiv-Optik aus. Dabei sind
entsprechend des Anspruchs 2 und des Anspruchs 4 zwei äquivalente Grundanordnungen
möglich.
Die optoelektronische Abstandsmeßeinrichtung zur Bestimmung der Lage eines
Objektpunktes auf der optischen Achse eines Meßsystems besteht aus einer in
Lichtrichtung angeordneten Strahlungsquelle, einer Abbildungsoptik, welche nach dem
Auflichtverfahren auf der Objektoberfläche eine Marke erzeugt, in eine Bildebene
abbildet und einem geeigneten optoelektronischen Empfänger in dieser Bildebene
(Empfängerebene), der mit einer Auswerteeinheit verbunden ist. Mindestens ein
abgegrenztes Strahlenbündel wird aus dem Randbereich der Apertur zur Erzeugung einer
Marke ausgewählt. Bei einer Abstandsänderung des Objektes (also Defokussierung) ist in
einer Empfängerebene eine Veränderung des Markenbildes registrierbar, wobei die durch
einen Empfänger erfaßbare resultierende Intensitätsverteilung in der Empfängerebene
empfindlich vom Objektabstand Δz abhängig ist.
Eine erste Variante ist dadurch gekennzeichnet, daß eine Blende im
Beleuchtungsstrahlengang zwischen der Strahlungsquelle und der Abbildungsoptik
angeordnet ist, die vorzugsweise symmetrisch zur optischen Achse liegende
lichtdurchlässige Bereiche hat. Die Blende ist so dimensioniert, daß nur
Randstrahlenbündel zur Erzeugung der Marke in der Objektebene abbildbar sind. Diese
Marke wird dann in die Empfängerebene abgebildet und von dem Empfänger
ausgewertet.
Vorzugsweise ist zwischen der Strahlungsquelle und der Blende eine Kondensoroptik
angeordnet, so daß die Blende von parallelem Beleuchtungslicht durchstrahlt wird. Das
hat zur Folge, daß im Meßbereich (außerhalb der objektseitigen Brennebene der
Abbildungsoptik), also auch im fokussierten Zustand, auswertbare Doppelmarken in den
Koordinatenrichtungen der Objektebene entstehen.
Eine zweite Variante ist dadurch gekennzeichnet, daß eine Blende im
Abbildungsstrahlengang zwischen der Abbildungsoptik und der Empfängerebene
angeordnet ist. Sie hat vorzugsweise symmetrisch zur optischen Achse liegende
lichtdurchlässige Bereiche und ist so dimensioniert, daß nur Randstrahlenbündel, d. h.
Teilbündel, die die Apertur maximal ausnutzen, der auf dem Objekt erzeugten Marke in
der Empfängerebene abbildbar sind.
Für beide Varianten ist es vorteilhaft, wenn symmetrisch zur optischen Achse
angeordnete Bereiche der Blende kreisförmig sind.
Vorteilhaft ist weiterhin erfindungsgemäß eine Kreisringblende mit einem
Kreisringdurchmesser, der die Nutzung der maximalen Apertur zuläßt.
Der Empfänger ist speziell für den Empfang des als Folge der Blendenform entstehenden
Markenbildes in der Empfängerebene und der Meßaufgabe (Sollwertdetektion oder
Abstandsmessung) ausgebildet. Er wertet Abstands- oder Intensitätsänderungen in der
Empfängerebene aus.
Für die Messung der Intensitätsänderung ist der Empfänger vorzugsweise ein
Differenzfotoempfänger mit kreis-kreisringförmiger Geometrie.
Eine vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung ist mit Anspruch 3 gegeben.
Damit wird über die Abstandmessung hinaus die Erfassung einer Neigung der
Objektoberfläche aus der Senkrechten zur Meßachse (optische Achse) möglich. Diese
Messung erfordert jedoch den Einsatz von bildgebenden Empfängeranordnungen (CCD-
Zeile, CCD-Matrix).
Die optoelektronische Abstandsmeßeinrichtung ermöglicht, daß die erforderlichen
zusätzlichen Bauelemente (z. B. Blende, Empfänger, Spiegel) in einem vorgegebenen
Aufbau eines Meßmikroskops, eines Meßprojektors oder einer optoelektronischen
Koordinatenmeßmaschine vergleichsweise problemlos im Abbildungsstrahlengang
und/oder im Beleuchtungsstrahlengang einbaubar sind. Diese zusätzlichen Bauelemente
können sogar in bereits fertig hergestellte Geräte nachträglich ohne Probleme eingebaut
werden. Dazu bedarf es im einfachsten Fall nur dem Einschwenken einer Blende in den
Beleuchtungs- oder Abbildungsstrahlengang des abbildenden Meßsystems.
Die Erfindung wird anhand von Figuren beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1 Prinzipielle Darstellung der Anordnung zur optoelektronischen
Abstandsmessung bei der Erzeugung von Marken in der Objektebene
Fig. 2 Prinzipielle Darstellung der Anordnung zur optoelektronischen
Abstandsmessung bei der Abbildung vorhandener Marken
Fig. 3 Darstellung der Anordnung zur Erzeugung von Marken über
Randstrahlenbündel und Abbildung dieser Marken
Fig. 4 Anordnung mit Blende, die von parallelen Lichtbündeln durchsetzt wird
Fig. 5 Beispiele für Blenden
Fig. 6 Darstellung der Anordnung zur optoelektronischen
Abstandsmessung bei der Abbildung von Randstrahlenbündeln
Fig. 7 Kreis-Kreisring-Differenzfotoempfänger mit Detektorsignal
Fig. 8 Markenbilder bei verkippter Objektoberfläche.
Die Abstandsmeßeinrichtung benutzt nach ihrem prinzipiellen Aufbau das
Auflicht-Hellfeld-Verfahren als objektabbildendes Verfahren. Erfindungsgemäß sind zwei
Grundanordnungen zu unterscheiden. Wie in Fig. 1 und Fig. 2 dargestellt, zeichnet sich
die erfindungsgemäße Abstandsmeßeinrichtung dadurch aus, daß eine symmetrisch zur
optischen Achse positionierte Blendenanordnung vorzugsweise Randstrahlbündel aus
einer vollständig ausgeleuchteten Apertur ausblendet. Dies führt im ersten Fall (Fig. 1)
bei Abstandsänderung Δz zu einer charakteristischen, meßbaren Aufspaltung der
erzeugten Marke auf der Objektoberfläche 1, 1′, wobei ausschließlich Randstrahlbündeln
im Beleuchtungsstrahlengang benutzt werden.
Die Blendenanordnung führt im zweiten Fall (Fig. 2) bei Abstandsänderung Δz des
Objektes 1, 1′ zu einer charakteristischen, meßbaren Aufspaltung des Markenbildes in der
Empfängerebene 5, wobei ausschließlich Randstrahlbündel im Bildraum benutzt werden.
In Fig. 3 ist ein Ausführungsbeispiel mit Randstrahlbündeln auf der Beleuchtungsseite
dargestellt. Die in Fig. 5 dargestellten Blendenanordnungen 3 sind so dimensioniert, daß
ausgehend von einer Strahlungsquelle 4 (idealerweise eine Punktlichtquelle, im Beispiel
eine Laserdiode 10 mit geeignetem Kollimator), solche Randstrahlbündel mit Hilfe der
Blende 4 in Verbindung mit dem Umlenkspiegel 7 und dem Ringspiegel 6 entstehen,
deren Neigung zur optischen Achse 8 der maximalen Apertur des Objektivs 2
entsprechen. Im fokussierten Zustand wird bei dieser Anordnung im Idealfall (ohne
Öffnungsfehler) ein Punkt in der Objektebene 1 erzeugt. Bei einer Abstandsänderung um
Δz (Objektoberfläche in der Lage 1′) tritt durch die eingesetzte Blendenanordnung 3 eine
Aufspaltung des Punktes ein, wobei die entstehende Marke der Geometrie der
Blendenanordnung 3 ähnlich ist. Bei senkrechter Lage der Objektebene 1, 1′ zur optischen
Achse 8 entstehen zu dieser Achse symmetrische Teilmarken.
Der Abstand Δx der Teilmarken von der optischen Achse 8 und damit der entsprechende
Abstand Δx′ in der Empfängerebene 5 ist eine Funktion der Abstandsänderung Δz.
Bei verkippter Objektoberfläche 1, 1′ entstehen charakteristische Unsymmetrien, die
beispielhaft in Fig. 8 für den Fall gezeigt sind, daß die Kreisring-Blende nach Fig. 5c)
verwendet wird. Durch Vermessung dieser Marken z. B. mit dem in Fig. 8 dargestellten
Empfängerarray 18 (CCD-Zeilenkreuz) kann damit zusätzlich zum Objektabstand
vorteilhaft auch die Neigung der Objektoberfläche zur optischen Achse bestimmt werden.
Stimmt die Lage des CCD-Zeilenkreuzes (Empfängerarray 18) mit dem x′-y′-
Bildkoordinatensystem überein, dann kennzeichnet das Markenbild 13a eine
Objektkippung um die x-Achse und das Markenbild 13b eine Objektkippung um die y-
Achse.
Für den Aufbau nach Fig. 3 ist die Anordnung wie folgt zu dimensionieren: Der
Lochabstand bzw. der Ringdurchmesser a ergibt sich zu:
mit T, der nutzbaren Öffnung am bildseitigen Linsenscheitel S′, mit b′, dem
Blendenabstand zu S′ und der bildseitigen Schnittweite s′, gemessen vom bildseitigen
Linsenscheitel S′.
Die Empfindlichkeit Δx/Δz der Abstandsmeßanordnung nach Fig. 3 hängt bei
maximaler Ausnutzung der Apertur gemäß obiger Gleichung direkt von der objektseitigen
Schnittweite s und dem entsprechend der Apertur nutzbaren Durchmesser der Frontlinse
ab. Es gilt:
mit dem nutzbaren Radius der Frontlinse R, der Schnittweite s, der Abstandsänderung von
der optischen Achse Δx.
Besonders einfach kann der Triangulationseffekt bei dem Ausführungsbeispiel nach
Fig. 4 genutzt werden. Mit der parallelen Strahlenführung durch die Blendenanordnung
3 wird im Idealfall eine Fokussierung der Randstrahlbündel im objektseitigen Brennpunkt
des Objektivs erreicht. Folglich liegen für das in Fig. 4 dargestellte optische System in
der Objektebene 1 (Schärfenebene) schon getrennt meßbare Teilmarken vor.
Geeignete Blendenanordnungen werden in Fig. 5 dargestellt:
- a) Lochblendenpaar
- b) Symmetrische Anordnung von vier Lochblenden
- c) Ringblende.
In Fig. 6 ist eine Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Anordnung nach Anspruch 4
dargestellt. Eine Punktlichtquelle (Strahlungsquelle 4) wird über den Umlenkspiegel 7
und den Spiegel 12 in die Objektebene 1 abgebildet und erzeugt dort eine punktförmige
Marke.
Über die in der bildseitigen Brennebene F′ angeordnete Blende 3 (entsprechend Fig. 5)
gelangen nur die von dieser Marke ausgehenden Randstrahlenbündel in der
Empfängerebene 5 zur Abbildung. Im beschriebenen Fall erzeugen sie dort wiederum
eine punktförmige Lichtmarke. Bei Änderung des Objektabstands um Δz von dieser
Sollposition kommt es auch hier zu der bereits beschriebenen
charakteristischen
Aufspaltung des Markenbildes.
Die Ausführungsbeispiele nach Fig. 3 und Fig. 6 sind besonders für die Sollage-
Detektion geeignet, weil unabhängig von der Ausführung der Blendenanordnung 3 im
fokussierten Zustand (Sollage des Objektes 1) eine punktförmige Marke in der
Objektebene 1 oder in der Empfängerebene 5 erzeugt wird. Durch eine
Intensitätsmessung in der Empfängerebene 5 am Ort der optischen Achse 8 mit einem
Fotoempfänger kann nach bekannten Verfahren empfindlich von der Intensitätsverteilung
(Aufspaltung der Marke in Figuren, deren Form der Blende 3 entspricht) bei einem
geänderten Abstand (Objektebene 1′) unterschieden werden.
Vorteilhaft ist dabei der Einsatz einer kreis-kreisringförmigen Differenzfotodiode wie in
Fig. 7a) dargestellt. Sie zeigt die Situation für ein um Δz defokussiertes Objekt und bei
Verwendung der Kreisring-Blende nach Fig. 5c).
Neben dem Kreisempfänger 14 und dem Sepparationsring 17, der den Kreisempfänger 14
elektrisch vom Kreisringempfänger 15 isoliert, ist das Markenbild 13 zu erkennen.
Die Differenz D der Signale vom Kreisempfänger 14 und vom Kreisringempfänger 15
liefert ein eindeutiges Kriterium für das Erreichen der Sollage (Fig. 7b).
Die Abstandsmessung, die über eine direkte Ortsbestimmung der Teilmarken im Bild mit
Bildsensoren erfolgt, ist durch Einsatz von positionsempfindlichen Empfängern (CCD-
Zeile, CCD-Matrix) möglich.
Der Einsatz von zeilenförmigen bzw. matrixförmigen Empfängeranordnungen ist
insbesondere für das Ausführungsbeispiel nach Fig. 4 vorteilhaft. Wegen der endlichen
bildseitigen Schnittweite s′ liegt die Objektebene außerhalb der objektseitigen
Brennebene F. Damit liegt im Gegensatz zum Ausführungsbeispiel nach Fig. 3 schon in
der Objektebene eine vollständig geteilte Marke vor, die im Bild direkt vermessen wird,
d. h., daß der Abstand vom Ort der optischen Achse bestimmt wird. Mit dem Einsatz von
solchen Bildsensoren als Empfänger 9 wird damit eine messende
Abstandsmeßeinrichtung realisiert, die zudem in der Lage ist, aus der Geometrie der
geteilten Marke im Bild (siehe dazu Fig. 8) auf die Neigung der Objektoberfläche
(Objektebene 1, 1′) zu schließen. Die Lage der Marke wird dabei vorteilhaft durch ein
Integralkriterium, wie die fotometrische Mitte bzw. den Lichtschwerpunkt, bestimmt.
Wird für die Ausführungsbeispiele nach Fig. 3 und Fig. 6 eine Objekt-Sollage
außerhalb der Objektebene 1 (Schärfenebene) definiert, ist auch für diese
Ausführungsbeispiele eine analoge Abstandsmessung vorteilhaft möglich.
Bezugszeichenliste
1 Objektebene (Schärfenebene)
1′ defokussierte Lage der Objektebene
2 Abbildungsoptik
3 Blendenanordnung (Blende)
4 Strahlungsquelle
5 Empfängerebene (Bildebene im fokussierten Zustand)
6 Ringspiegel
7 Umlenkspiegel
8 optische Achse
9 Empfänger
10 Laserdiode
11 Kondensoroptik
12 Spiegel
13 Markenbild (Marke)
14 Kreisempfänger
15 Kreisringempfänger
16 lichtdurchlässiger-Bereich
17 Separationsring
18 CCD-Zeilenkreuz
D Differenzsignal
F objektseitige Brennebene
F′ bildseitige Brennebene
R nutzbarer Radius der Frontlinse
S objektseitiger Linsenscheitel
S′ bildseitiger Linsenscheitel
T nutzbare Öffnung am bildseitigen Linsenscheitel
a Abstand der Teilblenden
Δz Abstandsänderung von der optischen Achse
x, x′ x-Koordinate
y, y′ y-Koordinate
Δx Abstandsänderung von der optischen Achse im Objekt
Δx′ Abstandsänderung von der optischen Achse im Bild
s objektseitige Schnittweite
s′ bildseitige Schnittweite
b′ Blendenabstand zu S′.
1′ defokussierte Lage der Objektebene
2 Abbildungsoptik
3 Blendenanordnung (Blende)
4 Strahlungsquelle
5 Empfängerebene (Bildebene im fokussierten Zustand)
6 Ringspiegel
7 Umlenkspiegel
8 optische Achse
9 Empfänger
10 Laserdiode
11 Kondensoroptik
12 Spiegel
13 Markenbild (Marke)
14 Kreisempfänger
15 Kreisringempfänger
16 lichtdurchlässiger-Bereich
17 Separationsring
18 CCD-Zeilenkreuz
D Differenzsignal
F objektseitige Brennebene
F′ bildseitige Brennebene
R nutzbarer Radius der Frontlinse
S objektseitiger Linsenscheitel
S′ bildseitiger Linsenscheitel
T nutzbare Öffnung am bildseitigen Linsenscheitel
a Abstand der Teilblenden
Δz Abstandsänderung von der optischen Achse
x, x′ x-Koordinate
y, y′ y-Koordinate
Δx Abstandsänderung von der optischen Achse im Objekt
Δx′ Abstandsänderung von der optischen Achse im Bild
s objektseitige Schnittweite
s′ bildseitige Schnittweite
b′ Blendenabstand zu S′.
Claims (8)
1. Optoelektronische Abstandsmeßeinrichtung zur Bestimmung der Lage eines
Objektpunktes auf der optischen Achse eines Meßsystems,
bestehend aus
- - einer in Lichtrichtung angeordneten Strahlungsquelle (4),
- - einer Abbildungsoptik (2), welche nach dem Auflichtverfahren auf der Objektoberfläche (1, 1′) eine Marke erzeugt und/oder abbildet und
- - einem geeigneten optoelektronischen Empfänger (9), der mit einer Auswerteeinheit verbunden ist, dadurch gekennzeichnet, daß
- - mindestens ein abgegrenztes Strahlenbündel aus dem Randbereich der Apertur zur Erzeugung und/oder Abbildung einer Marke auswählbar ist und
- - bei einer Abstandsänderung (Δz) des Objektes (1, 1′) (also Defokussierung) in einer
festen Empfängerebene (5) eine Veränderung des Markenbildes registrierbar ist,
wobei die durch einen Empfänger (9) erfaßbare resultierende Intensitätsverteilung in der Empfängerebene (5) ein empfindliches Maß für den Objektabstand (Δz) ist.
2. Optoelektronische Abstandsmeßeinrichtung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß
- - eine Blende (3) im Beleuchtungsstrahlengang zwischen Strahlungsquelle (4) und Abbildungsoptik (2) angeordnet ist, die vorzugsweise symmetrisch zur optischen Achse (8) liegende lichtdurchlässige Bereiche (16) hat, so daß Randstrahlenbündel zur Erzeugung der Marke in der Objektebene (1, 1′) abbildbar sind und
- - diese Marke in die Empfängerebene (5) abbildbar ist.
3. Optoelektronische Abstandsmeßeinrichtung nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß
zwischen Strahlungsquelle (4) und Blende (3) eine Kondensoroptik (11) angeordnet ist, so
daß die Blende (3) von parallelem Beleuchtungslicht durchstrahlbar ist.
4. Optoelektronische Abstandsmeßeinrichtung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß
- - eine Blende (3) im Abbildungsstrahlengang zwischen Abbildungsoptik (2) und Empfängerebene (5) angeordnet ist, die vorzugsweise symmetrisch zur optischen Achse (8) liegende lichtdurchlässige Bereiche (16) hat, so daß
- - Randstrahlenbündel der auf dem Objekt erzeugten Marke in der Empfängerebene (5) abbildbar sind.
5. Optoelektronische Abstandsmeßeinrichtung nach Anspruch 2 oder Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Blende (3) symmetrisch zur optischen Achse angeordnete Bereiche (16) hat, die
vorzugsweise kreisförmig sind.
6. Optoelektronische Abstandsmeßeinrichtung nach Anspruch 2 oder Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet, daß
der Empfänger speziell für den Empfang der als Folge der Blendenform entstehenden
Markenbildes in der Empfängerebene (5) so ausgebildet ist, daß eine Abstands- oder
Intensitätsänderung in der Empfängerebene auswertbar ist.
7. Optoelektronische Abstandsmeßeinrichtung nach Anspruch 6, dadurch
gekennzeichnet, daß
der Empfänger (9) ein Differenzfotoempfänger mit kreis-kreisringförmiger Geometrie
ist.
8. Optoelektronische Abstandsmeßeinrichtung nach einem oder mehreren der
vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
diese in einem vorgegebenen Aufbau eines Meßmikroskops, eines Meßprojektors oder
einer optoelektronischen Koordinatenmeßmaschine im Abbildungsstrahlengang und/oder
im Beleuchtungsstrahlengang realisiert ist.
Priority Applications (1)
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DE19934339710 DE4339710C2 (de) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | Optoelektronische Abstandsmeßeinrichtung |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE4339710C2 DE4339710C2 (de) | 1997-02-13 |
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ID=6503114
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