DE4240568A1 - Halbleitfähige Aufladeelektrode - Google Patents
Halbleitfähige AufladeelektrodeInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine halbleitfähige Aufladeelektrode
zur Aufladung von fluidisierten Pulverteilchen im Tauch
becken einer Plastpulverbeschichtungsanlage.
Die elektrostatische Aufladung der Teilchen in der Wirbel
schicht wird bei gattungsgemäßen Vorrichtungen durch
bekannte halbleitfähige Aufladeelektroden realisiert, die
in der Wirbelschicht angeordnet sind (DD-WP 2 42 353).
Die bekannten technischen Lösungen zum elektrostatischen
Aufladen der Teilchen haben den Nachteil, daß beim Einsatz
von Hochspannung keine gleichmäßige Aufladung in
Abhängigkeit von der Eintauchtiefe der Elektrode im Tauch
becken erreicht wird. Als Folge weisen die beschichteten
Werkstücke einen unterschiedlich starken Schichtdicken
auftrag auf ihrer Oberfläche auf.
Ein weiteres technologisches Problem derartiger Plast
pulverbeschichtungsanlagen betrifft die hohe Explosions
gefährdung der Anlage durch die Verwirbelung des Pulver-
Luft-Gemisches im Tauchbecken. Kommt es unter diesen
Bedingungen zu einem Abrißfunken oder einem Funken
überschlag zwischen Elektrode und Werkstück, so ist in der
Regel mit einer Verpuffung des Gemisches zu rechnen.
Ein weiterer Nachteil besteht darin, daß die bekannten
halbleitfähigen Zuleitungen zu den Aufladeelektroden zu
hochohmig sind und den Aufladestrom stark begrenzen.
In der Literatur werden eine Reihe von Lösungen
beschrieben, bei denen mehrschichtige Aufladeelektroden
Verwendung finden. Die Kombination unterschiedlicher
Schichtwerkstoffe dient dabei allerdings andersgearteten
Aufgabenstellungen.
In der DE-OS 29 02 494 wird eine integrierte Halbleiter
schaltung vorgestellt, die ein hochohmiges Widerstands
element enthält. Neben der andersgearteten Aufgabe unter
scheidet sich die technische Lösung in mehreren Merkmalen.
Zum einen werden leitfähige Schichten aus Silicium oder
Metall verwandt, die eine mittlere Schichtdicke von 20 nm
bis 200 nm aufweisen.
Derartige Schichtdicken sind für den Einsatz in Tauch
beschichtungsanlagen völlig unzureichend. Zum anderen
werden bei dieser Schaltungsanordnung Übergangswiderstände
im Bereich von 500 Ohm bis 2000 Ohm realisiert, so daß
diese Werkstoffkombination zu den normalen elektrischen
Leitern zu zählen ist.
Die DE-OS 30 34 747 lehrt eine extrudierbare, leitfähige
Polymermischung, die gekennzeichnet ist durch die
spezifische Verwendung von Ruß als leitfähiger Komponente.
Dabei liegt die Aufgabe zugrunde, ein Gemisch zu
entwickeln, daß einen spezifischen elektrischen Widerstand
von 5·101 bis 103 Ohm·cm aufweist. Aufgrund dieses inneren
Widerstandes stellt die erfindungsgemäße Polymermischung
gleichfalls einen klassischen elektrischen Leiter dar.
In der DE-OS 40 24 268 wird ein elektrisch leitfähiges
Kunststoffelement beschrieben, deren spezifischer elek
trischer Widerstand in weiten Grenzen einstellbar ist. Die
nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Kunst
stoffolien finden Verwendung als Heizelement, z. B. zur
Beheizung von flächigen Gebilden, wie Matten- Außenspiegel
bei Kraftfahrzeugen, Scheiben- und Scheinwerferwaschanlagen
und als elektronische Bauelemente.
Ein Widerstandselement mit hoher Durchbruchsspannung wird
in der DE-OS 30 21 042 dargestellt. Die zugrunde liegende
Aufgabe dieser Schrift ist jedoch ein Widerstandselement zu
entwickeln, das speziell in integrierten Schaltungen zur
Kompensation der Wirkung parasitärer MOS-Transistoren Ver
wendung findet.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine halbleit
fähige Elektrode zu schaffen, die eine gleichmäßige Pulver
beschichtung der zu bearbeitenden Werkstücke ermöglicht.
Zugleich soll die Gefahr einer Verpuffung explosiver
Pulver-Luft-Gemische beseitigt werden.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die
projizierte Querschnittsfläche der elektrostatisch halb
leitfähigen Aufladeelektrode vom Anschlußkontakt der Hoch
spannungszuleitung zum jeweils tiefsten Punkt der Elektrode
im Tauchbecken zunimmt.
Mit dieser innovativen Aufladeelektrode ist es möglich, ein
Werkstück auf der gesamten Werkstückoberfläche mit einer
gleichverteilten Pulverbeschichtung zu versehen.
Ein weiterer Vorteil besteht in der Verwendung einfacher
homogener Aufladeelektroden.
In einer vorzugsweisen Ausgestaltung der Erfindung nimmt
bei konstanter Elektrodenbreite die Wanddicke der Auflade
elektrode vom Anschlußkontakt der Hochspannungszuleitung
zum jeweils tiefsten Punkt der Elektrode im Tauchbecken
linear zu.
Nach einer anderen Lösung wird eine plattenförmige,
elektrostatisch halbleitfähige Aufladeelektrode mit kon
stantem Querschnitt und gleicher Wanddicke auf der, dem zu
beschichtenden Werkstück abgewandten Seite, vollflächig
elektrisch leitend mit einer elektrostatisch leitfähigen
Elektrode verbunden. Mittels der erfindungsgemäßen Elek
trode wird der Strom über das elektrostatisch leitfähige
Material an alle Stellen der elektrostatisch halbleit
fähigen Aufladeelektrode herangeführt und ihr Widerstand
auf 108 Ohm·cm gesenkt.
Damit wird in gleicher Weise eine gleichmäßige Verteilung
elektrischer Ladungsträger auf der Oberfläche der Auflade
elektrode erzeugt.
In einer gleichfalls bevorzugten Ausgestaltungsform besitzt
die elektrostatisch halbleitfähige Aufladeelektrode einen
spezifischen elektrischen Widerstand von ζ=108 Ohm·cm
und ist mit einem elektrostatisch leitfähigen Material mit
ζ=106 Ohm·cm parallel geschaltet. In einer anderen
vorteilhaften Anordnung sind beide Elektroden vollflächig
verklebt. In einer weiteren, bevorzugten Ausgestaltung ist
das elektrostatisch leitfähige Material streifenförmig an
den Rändern und diagonal auf der Oberfläche der elektro
statisch halbleitfähigen Aufladeelektrode geklebt. Die
elektrostatisch halbleitfähige Aufladeelektrode ist dabei
immer der Wirbelschicht im Tauchbecken zugewandt.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den beigefügten
Zeichnungen dargestellt und werden im folgenden näher
beschrieben.
Es zeigen
Fig. 1 eine elektrostatisch halbleitfähige Auflade
elektrode mit linear zunehmender Wanddicke,
Fig. 2 eine elektrostatisch halbleitfähige Auflade
elektrode, zusammengeklebt mit einem elektro
statisch leitfähigen Material,
Fig. 3 eine elektrostatisch halbleitfähige Zuleitung,
Fig. 4 das Tauchbecken einer Pulverbeschichtungsanlage.
In Fig. 1 ist eine elektrostatisch halbleitfähige
Aufladeelektrode (4) mit linear zunehmender Wanddicke (10)
dargestellt. Die elektrostatisch halbleitfähige Zuleitung
(1) ist oben angedeutet.
In Fig. 2 ist die elektrostatisch halbleitfähige Auflade
elektrode (4) mit einem elektrostatisch leitfähigen
Material (5) vollflächig zusammengeklebt.
In Fig. 3 ist eine mögliche Ausführungsform der elektro
statisch halbleitfähigen Zuleitung wiedergegeben. Mehrere
einzelne, elektrostatisch halbleitfähige Zuleitungen (1)
mit einem spezifischen elektrischen Widerstand von jeweils
108 Ohm·cm sind durch Klebstoff (2) elastisch verbunden.
Die vom Hochspannungsgenerator kommende leitfähige Zu
leitung (3) und die elektrostatisch halbleitfähige Auflade
elektrode (4) sind jeweils an den Enden der elektrostatisch
halbleitfähigen Zuleitung (1) angebracht.
Insbesondere bei der Verwendung langer, elektrostatisch
halbleitfähiger Zuleitungen zu den Aufladeelektroden wird
durch diese Anordnung der spezifische elektrische Wider
stand auf 108 Ohm·cm begrenzt und somit ein ausreichender
Aufladestrom von 100 µA bei einer Aufladespannung von
größer +10 kV ermöglicht.
In Fig. 4 ist schematisiert das Tauchbecken einer Pulver
beschichtungsanlage dargestellt.
Über eine am Boden des Tauchbeckens (14) angeordnete
Zuführeinrichtung (15) wird Luft eingeblasen, die durch den
Anströmboden (8) in die Wirbelschicht (12) gelangt und die
Fluidisierung des Pulvers bewirkt. Das zu beschichtende
Werkstück (13) ist vollständig in der Wirbelschicht (12)
eingetaucht. Die halbleitende Aufladeelektrode (4) ist an
der Innenwand des Tauchbeckens (14) unterhalb der Wirbel
schichtoberfläche (7) und oberhalb des Anströmbodens (8)
angeordnet. Das Tauchbecken (14) weist eine gasdichte
Abdeckung (11) auf.
Claims (8)
1. Halbleitfähige Aufladeelektrode zur Anwendung in der
Wirbelschicht einer elektrostatischen Tauchbeschichtungs
anlage,
dadurch gekennzeichnet,
daß die projizierte Querschnittsfläche (9) einer homogenen,
elektrostatisch halbleitfähigen Aufladeelektrode (4) vom
Anschluß der elektrostatisch halbleitfähigen Zuleitung (1)
an der Wirbelschichtoberfläche (7) zum Anströmboden des
Tauchbeckens (8) zunimmt und daß der spezifische elek
trische Widerstand der elektrostatisch halbleitfähigen
Aufladeelektrode (4) und der elektrostatisch halbleit
fähigen Zuleitung (1) 106 Ohm·cm <ζ<=1010 Ohm·cm ist.
2. Aufladeelektrode nach Anspruch 1.
dadurch gekennzeichnet,
daß der spezifische elektrische Widerstand der elektro
statisch halbleitfähigen Zuleitung (1) und der elektro
statisch halbleitfähigen Aufladeelektrode (4) ζ108 Ohm·cm
ist.
3. Aufladeelektrode nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Wandstärke (10) der elektrostatisch halbleitfähigen
Aufladeelektrode (4) vom Anschluß der elektrostatisch
halbleitfähigen Zuleitung (1) an der Wirbelschichtober
fläche (7) zum Anströmboden des Tauchbeckens (8) zunimmt.
4. Aufladeelektrode nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Wandstärke (10) der elektrostatisch halbleitfähigen
Aufladeelektrode (4) vom Anschluß der elektrostatisch
halbleitfähigen Zuleitung (1) an der Wirbelschichtober
fläche (7) zum Anströmboden des Tauchbeckens (8) linear,
treppenförmig, quadratisch, parabelförmig, hyperbelartig,
expotentiell oder wellenförmig zunimmt.
5. Aufladeelektrode
dadurch gekennzeichnet,
daß eine elektrostatisch halbleitfähige Auflade
elektrode (4) mit dem spezifischen elektrischen Widerstand
106 Ohm·cm < ζ <= 1010 Ohm·cm auf der, von der Wirbel
schicht abgewandten Seite der Aufladeelektrode (4) voll
flächig oder partiell, elektrisch leitend mit einer
elektrostatisch leitfähigen Schicht (5) mit einem
spezifischen elektrischen Widerstand von
105 Ohm·cm < ζ <= 106 Ohm·cm verbunden ist.
6. Aufladeelektrode nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß die elektrostatisch halbleitfähige Auflade
elektrode (4) einen spezifischen elektrischen Widerstand
von ζ= 108 Ohm·cm und die elektrostatisch leitfähige
Schicht (5) einen spezifischen elektrischen Widerstand
von ζ=106 Ohm·cm aufweist.
7. Aufladeelektrode nach einem der Ansprüche 5 oder 6,
dadurch gekennzeichnet,
daß die elektrostatisch leitfähige Schicht (5) streifen
förmig (6) auf der Oberfläche der Aufladeelektrode (4)
angeordnet ist.
8. Aufladeelektrode nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet,
daß die streifenförmige, elektrostatisch leitfähige Schicht
(6) an den Rändern und/oder diagonal auf der Oberfläche der
Aufladeelektrode (4) aufgebracht ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19924240568 DE4240568C2 (de) | 1992-12-02 | 1992-12-02 | Halbleitfähige Aufladeelektrode |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19924240568 DE4240568C2 (de) | 1992-12-02 | 1992-12-02 | Halbleitfähige Aufladeelektrode |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4240568A1 true DE4240568A1 (de) | 1994-06-09 |
DE4240568C2 DE4240568C2 (de) | 1996-08-08 |
Family
ID=6474228
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19924240568 Expired - Fee Related DE4240568C2 (de) | 1992-12-02 | 1992-12-02 | Halbleitfähige Aufladeelektrode |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4240568C2 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 1992-12-02 DE DE19924240568 patent/DE4240568C2/de not_active Expired - Fee Related
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CN109530171A (zh) * | 2018-11-12 | 2019-03-29 | 山东星宇手套有限公司 | 一种喷洒颗粒机构 |
CN109530171B (zh) * | 2018-11-12 | 2020-09-29 | 山东星宇手套有限公司 | 一种喷洒颗粒机构 |
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