DE4225531A1 - Lever device for easy replacement of cathodic sputtering device target - tightens the target unit to the cathode body and releases it to enable rapid target change - Google Patents

Lever device for easy replacement of cathodic sputtering device target - tightens the target unit to the cathode body and releases it to enable rapid target change

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DE4225531A1
DE4225531A1 DE19924225531 DE4225531A DE4225531A1 DE 4225531 A1 DE4225531 A1 DE 4225531A1 DE 19924225531 DE19924225531 DE 19924225531 DE 4225531 A DE4225531 A DE 4225531A DE 4225531 A1 DE4225531 A1 DE 4225531A1
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Abstract

A lever device (1) for tightening the target (4) of a cathode sputtering unit to and releasing it from the cathode body such that a gap (14) is always maintained between the target unit (5,15,9,4) and the surrounding cathode body. The lever is pref. connected to the target unit via push rods (3) which move in ball bearing bushes (7). Seals (12,13) produce airtight seals between internal and external areas of the sputtering unit when the lever is in its tightened locking position. An adaptor ring (15) is used to locate the seals in position. The gap (14) is pref. approx. 1.5 mm. A guide bolt automatically connects the target to the power supply once the lever is in its tightened position. ADVANTAGE - The target can be rapidly and easily changed and the lever device takes up very little space. Once protruding downward beyond the cathode body, screw (6) can be released and the connection pins (5) together with the cooling body (9) and target (4) fall away.

Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zum Wech­ seln eines Targets, das an einer Targethaltevorrichtung in einer Kathodenzerstäubungsanlage angebracht ist.The invention relates to a device for changing seln a target that is in a target holding device in a cathode sputtering system is attached.

Targetplatten für die Kathodenzerstäubung bestehen aus dem Material, welches in einer Kathodenzerstäubungsanlage zerstäubt werden soll, um auf Substratflächen eine Schicht aus dem betreffenden Material niederzuschlagen. Hierbei wird das zu zerstäubende Material, beispielsweise durch Beschuß mit elektrisch geladenen Teilchen derart an der Oberfläche angeregt, daß ein während des Beschichtungs­ prozesses ständiger Targetmaterialabtrag zu beobachten ist.Target plates for cathode sputtering consist of the Material used in a cathode sputtering system should be atomized to form a layer on substrate surfaces to knock down from the material in question. Here is the material to be atomized, for example by Bombardment with electrically charged particles like this Surface excited that one during coating constant process of target material removal is.

Sowohl die Form als auch die vorhandene Menge des Target­ materials sind entscheidende Parameter dafür, daß sich eine auf dem Substrat abscheidende Schicht hinsichtlich einer gewünschten Dicke und Qualität bildet. Both the shape and the amount of the target materials are decisive parameters for the fact that with respect to a layer depositing on the substrate a desired thickness and quality.  

Beim Einsatz von Kathodenzerstäubungsanlagen in Produkti­ onsstätten, die für die Massenfertigung von zu beschich­ tenden Substraten ausgelegt sind, spielen neben der Her­ stellung qualitativ hochwertiger Produkte, auch die Wirt­ schaftlichkeit des Herstellprozesses eine große Rolle. So kommt es insbesondere beim Dauerbetrieb von Kathodenzer­ stäubungsanlagen regelmäßig vor, daß der Targetkörper aufgrund des ständigen Materialabtrages regelrecht aufge­ braucht wird, was schließlich einen Targetkörperwechsel erfordert.When using cathode sputtering systems in products onsiches to coat for the mass production of trending substrates play alongside the Her provision of high quality products, including the landlord Efficiency of the manufacturing process plays a major role. So it occurs especially during continuous operation of the cathode dust systems regularly before that the target body due to the constant material removal literally up what is ultimately needed is a target body change required.

Bei bekannten Targethaltevorrichtungen in Kathodenzer­ stäubungsanlagen ist der zu wechselnde Targetkörper durch eine Vielzahl von Schraubverbindungen mit dem Targetgrund­ körper fest verbunden. Hinzu kommt, daß die räumlichen Verhältnisse innerhalb der Vakuumkammer, in der die Tar­ getvorrichtung sowie das zu beschichtende Substrat ange­ bracht sind, sehr eng bemessen sind, zumal das zu evakuie­ rende Volumen möglichst klein gehalten wird, um die Ab­ pumpzeiten, für das Erreichen eines Vakuums, möglichst kurz zu halten. Dies führt jedoch dazu, daß die Zugäng­ lichkeit zum Target sehr erschwert ist, wodurch ein Tar­ getwechsel umständliche und zum Teil langwierige Aus­ tauscharbeiten erfordert.With known target holding devices in cathode electrodes is the target body to be changed a variety of screw connections with the target base body firmly connected. In addition, the spatial Conditions within the vacuum chamber in which the tar get device and the substrate to be coated are very narrow, especially since this is too evacuated volume is kept as small as possible to the Ab pump times, for reaching a vacuum, if possible to keep short. However, this means that the access target is very difficult, making a tar cumbersome and sometimes lengthy out exchange work requires.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zum Wechseln eines Targets, das an einem Targetträger in einer Kathodenzerstäubungsanlage angebracht ist, derart anzugeben, daß der Targetwechsel möglichst schnell und einfach vorzunehmen ist. Die Vorrichtung soll dabei mö­ glichst platzsparend konstruiert sein, damit sie auch in kleineren Kathodenzerstäubungsanlagen eingesetzt werden kann. The invention has for its object a device to change a target that is attached to a target carrier a cathode sputtering system is attached, such indicate that the target change as quickly and is easy to do. The device is supposed to be constructed as space-saving as possible so that they can also be used in smaller cathode sputtering systems can be used can.  

Diese Aufgabe wird durch eine Targetträgerwechselvor­ richtung mit den in den Patentansprüchen angegebenen Merk­ malen gelöst.This task is accomplished by changing the target carrier direction with the note specified in the claims paint solved.

Erfindungsgemäß wird eine Vorrichtung zum Wechseln eines Targets, das an einer Targethaltevorrichtung in einer Kathodenzerstäubungsanlage angebracht ist, derart angege­ ben, daß die Targetwechselvorrichtung im wesentlichen aus einer Hubvorrichtung besteht, die den Targethaltevor­ richtung von dem, die Targethaltevorrichtung umgebenden Kathodengrundkörper der Kathodenzerstäubungsanlage beab­ standet, bzw. in diesen integriert.According to the invention, a device for changing a Targets that in a target holding device in a Cathode sputtering system is attached, so indicated ben that the target changing device essentially out a lifting device that holds the target direction of that surrounding the target holding device Cathode main body of the cathode sputtering system stands, or integrated into this.

Für den Target-Wechselvorgang muß zunächst dafür gesorgt werden, daß die Targethaltevorrichtung, über die der Tar­ getkörper mit der Kathodenzerstäubungsanlage verbunden ist, aus ihrer Bedampfungsposition, d. h. aus der Position direkt gegenüber dem zu bedampfenden Substrat gebracht werden muß, um einen freien Zugang zu dem auszutauschenden Targetkörper zu erhalten.For the target change process must be ensured first be that the target holding device over which the Tar get body connected to the cathode sputtering system is from its vaporization position, d. H. from the position brought directly opposite the substrate to be vaporized in order to have free access to the one to be exchanged Get target body.

In der sogenannten Anbau-Kathodenzerstäubungsanlage ist die erfindungsgemäße Hubvorrichtung, von außen bedienbar, an einer Gehäusetür der Kathodenzerstäubungsanlage ange­ bracht, so daß an der Innenseite der Gehäusetür die kom­ plette Targetanordnung vorgesehen ist. Durch Öffnen der Tür wird automatisch die Targetanordnung von den rest­ lichen Elementen der Kathodenzerstäubungsanlage beabstan­ det. Ein freier Zugang an das Target ist somit gewährlei­ stet.In the so-called add-on cathode sputtering system the lifting device according to the invention, operable from the outside, attached to a housing door of the sputtering system brings, so that on the inside of the housing door the com plette target arrangement is provided. By opening the Door will automatically target the rest of the target elements of the cathode sputtering system det. This guarantees free access to the target continuous

Ebenso ist es möglich, den erfindungsgemäßen Hubmecha­ nismus samt manueller Bedienung in das Innere der Katho­ denzerstäubungsanlage zu integrieren, so daß für die Beab­ standung des Targets von dem zu beschichtenden Substrat ein gesonderter Bewegungsmechanismus vorzusehen ist, bei­ spielseise in Form einer Schienenführung.It is also possible to use the lifting mechanism according to the invention mechanism with manual operation inside the Katho to integrate the atomization system so that for the Beab  position of the target from the substrate to be coated a separate movement mechanism must be provided for play iron in the form of a rail guide.

Gemäß Anspruch 2 handelt es sich bei der Targetwechsel­ vorrichtung um eine Hubvorrichtung mit einem Kniehebel­ spanner bzw. einer Hubspindel, die über zwei Schiebe­ wellen mit den Targetträgern lösbar fest verbunden ist. Durch die Betätigung der Hubvorrichtung ist es möglich, die Targetkörper samt Targetträger von ihrem apparativen Unterbau zu beabstanden. Durch Lösen einer einfachen Schraubverbindung bzw. einer Rastenverbindung kann das verbrauchte Target samt Träger entnommen und ein neues Target in die entsprechende Aufnahme eingesetzt werden.According to claim 2, it is the target change device around a lifting device with a toggle lever tensioner or a lifting spindle that has two slides waves is releasably firmly connected to the target carriers. By actuating the lifting device, it is possible the target body including target carrier from your apparatus Space substructure. By solving a simple one Screw connection or a catch connection can do that used target and carrier removed and a new one Target can be inserted into the corresponding holder.

Die Erfindung wird nachstehend ohne Beschränkung des all­ gemeinen Erfindungsgedankens anhand von Ausführungsbei­ spielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung exemplarisch beschrieben, auf die im übrigen bezüglich der Offenbarung aller im Text nicht näher erläuterten erfindungsgemäßen Einzelheiten ausdrücklich verwiesen wird. Es zeigtThe invention is hereinafter without limitation of all general inventive idea based on execution play exemplary with reference to the drawing to the rest of the disclosure all of the invention not explained in detail in the text Details are expressly referred to. It shows

Fig. 1 eine erfindungsgemäße Targetwechselvor­ richtung, die von außerhalb einer Kathoden­ zerstäubungsanlage bedienbar ist. Fig. 1 an inventive Targetwechselvor direction, which can be operated from outside a cathode sputtering system.

Die in Fig. 1 dargestellte Wechselvorrichtung zum Wech­ seln eines Targetkörpers in einer Kathodenzer­ stäubungsanlage besteht im wesentlichen aus einem Knie­ hebelspanner 1, der von außen an einer Gehäusetür 2, einer Kathodenzerstäubungsanlage angebracht ist. Die als Knie­ hebelspanner ausgebildete Schnellspannvorrichtung ist mit zwei Schiebewellen 3 mit dem Targetträger, der aus einem Targetkühlkörper 9 und dem darauf befindlichen Target 4 besteht, und den daran befestigten Zapfen 5 über eine Schraube 6 fest lösbar verbunden. Die Schiebewellen 3 verlaufen dabei innerhalb von Kugelbuchsen 7, die der Hubbewegung eine gezielte Führung verleihen.The change device shown in Fig. 1 for changing a target body in a cathode sputtering system consists essentially of a knee lever clamp 1 , which is attached to the outside of a housing door 2 , a sputtering system. The quick release device designed as a toggle clamp is connected with two sliding shafts 3 to the target carrier, which consists of a target heat sink 9 and the target 4 located thereon, and the pin 5 fastened thereon by means of a screw 6 in a releasable manner. The sliding shafts 3 run inside ball bushings 7 , which give the lifting movement a targeted guidance.

Der über eine weitere Befestigungsschraube 8 mit dem Zap­ fen 5 verbundene Targetträger weist den Targetkühl­ körper 9 auf, in dem der Kühlkanal 10 eingearbeitet ist. Auf dem Targetkühlkörper 9 ist das Target 4, das in der dargestellten Ausführungsform eine Aussparung 11 aufweist, in fester Verbindung zum Untergrund angebracht.The target carrier connected to the Zap fen 5 via a further fastening screw 8 has the target cooling body 9 in which the cooling channel 10 is incorporated. The target 4 , which in the embodiment shown has a recess 11 , is attached to the target heat sink 9 in a fixed connection to the substrate.

Das Auswechseln des Targetkörpers, d. h. Targetkühlkörper 9 und Target 4 erfolgt in der Weise, daß das Vakuum in der Kathodenzerstäubungsanlage abgebaut, die Gehäusetür 2 geöffnet und der Kniehebelspanner 1 entsprechend umgelegt wird. Dadurch wird erreicht, daß die Targetanordnung bis zur Höhe der Schraube 6 von der restlichen in Fig. 1 dargestellten Anordnung beabstandet wird, so daß durch Lösen der Schraube 6 der Zapfen 5, der Targetkühlkörper 9 und das auf diesem befindliche Target 4 aus der Anordnung entnommen werden kann. Durch entsprechendes Bereithalten einer neuen Targetvorrichtung einschließlich Zapfen 5 kann der Wechsel durch Einsetzen in die Schiebewelle 3 und Befestigung durch Anziehen der Schraube 6 der Targetwech­ sel schnellstmöglich vollzogen werden.The replacement of the target body, ie target heatsink 9 and target 4 is carried out in such a way that the vacuum is broken down in the cathode sputtering, the enclosure door 2 is opened and the toggle clamp 1 is folded accordingly. It is thereby achieved that the target arrangement is spaced up to the height of the screw 6 from the rest of the arrangement shown in FIG. 1, so that the pin 5 , the target heat sink 9 and the target 4 located thereon are removed from the arrangement by loosening the screw 6 can be. By appropriately holding a new target device including pin 5 , the change can be made as quickly as possible by inserting into the sliding shaft 3 and fastening by tightening the screw 6 of the target change.

Ein ein Umlegen des Kniehebelspanners 1 in entgegengesetz­ ter Richtung führt dazu, daß die Targetanordnung mit ihrer Rückseite gegen die entsprechende Innenwandung der Ge­ häusetür gepreßt wird, so daß keine luftdurchlässigen Leckstellen entstehen können. A flipping the toggle clamp 1 in the opposite direction leads to the target assembly with its back against the corresponding inner wall of the housing door Ge is pressed, so that no air-permeable leaks can occur.

In besonders vorteilhafter Ausgestaltung sind statische Dichtringe 12 und 13 vorgesehen, die während der Hubbe­ wegung keiner Reibung unterliegen. Durch das unmittel­ bare Anpressen des Dichtrings 12, der vorteilhafterweise als O-Ring ausgebildet ist, an die Rückseite der Kathode werden jegliche ausgasende Toträume zwischen dem Hebezeug und der Gehäusewand vermieden. Ebenso vermeiden die Dich­ tringe 13 einen Lufteintritt entlang der Schiebewelle 3 in das Innere der evakuierten Kathodenzerstäubungsanlage. Es wird somit eine Vakuumabdichtung gegenüber der Umgebungs­ athmosphäre erreicht, ohne daß dabei Dichtungsverschleiß, beispielsweise bedingt durch Dichtungsabrieb, entsteht.In a particularly advantageous embodiment, static sealing rings 12 and 13 are provided which are not subject to any friction during the Hubbe movement. The immediate pressing of the sealing ring 12 , which is advantageously designed as an O-ring, to the back of the cathode avoids any outgassing dead spaces between the lifting device and the housing wall. Likewise, the rings 13 prevent you from entering the air along the sliding shaft 3 into the interior of the evacuated cathode sputtering system. A vacuum seal is thus achieved with respect to the ambient atmosphere without seal wear occurring, for example due to seal abrasion.

Durch die exakte Führung des Targetträgers durch die Schiebewelle 3, die in der Kugelbuchse 7 verläuft, wird das Target stets reversibel in eine eineindeu­ tige Anordnung relativ zur gesamten Kathodenzerstäubungs­ anlage zentriert. Dabei wird genauestens ein Zwischen­ spalt, zwischen dem Targetträger und dem umgebenden Katho­ dengrundkörper als Dunkelraum ringsum eingehalten.Through the exact guidance of the target carrier by the sliding shaft 3 , which runs in the ball bushing 7 , the target is always reversibly centered in a one-term arrangement relative to the entire cathode sputtering system. Exactly an intermediate gap is maintained between the target carrier and the surrounding cathode body as a dark space all around.

Ebenso ermöglicht die erfindungsgemäße Wechselvorrichtung durch Betätigung der Schnellspannvorrichtung während des Einführens der Targetträger in die Kathodenzerstäubungs­ anlage eine automatische elektrische Kontaktierung. Hierzu sind die Führungsbolzen bzw. die Schiebewellen 3 gegenein­ ander elektrisch isoliert, so daß sie zur Stromversorgung verwendet werden können.Likewise, the changing device according to the invention enables automatic electrical contacting by actuating the quick-action clamping device during the insertion of the target carrier into the cathode sputtering system. For this purpose, the guide bolts or the sliding shafts 3 are electrically insulated against each other so that they can be used for the power supply.

Ebenso kann durch das Absenken der Targetträgers in das Innere der Kathodenzerstäubungsanlage der Wasseranschluß an die Kühlkanäle 10 zur Kühlung der Targets 4 automatisch vorgenommen werden. Likewise, by lowering the target carrier into the interior of the cathode sputtering system, the water connection to the cooling channels 10 for cooling the targets 4 can be carried out automatically.

Mit der erfindungsgemäßen Targetwechselvorrichtung sind folgende Vorteile gegenüber den bekannten Vorrichtungen erzielbar:With the target changing device according to the invention following advantages over the known devices achievable:

  • - Vermeidung ausgasender Toträume zwischen Hebezeug und Gehäuserückwand,- Avoiding outgassing dead spaces between the hoist and Rear panel,
  • - Vermeidung umständlicher Schraubarbeiten und Abdrücken beim Targetwechsel- Avoid cumbersome screwing and pressing when changing targets
  • - Schneller Targetwechsel ist möglich, Steigerung der Produktivität der Anlage- Fast target change is possible, increasing the Plant productivity
  • - kein O-Ring-Verschleiß bei Betätigung der Schiebewellen in den Kugelbuchsen- No O-ring wear when operating the sliding shafts in the ball bushings
  • - leichter äußerer Zugang von außen an die Hubvorrichtung.- Easy external access to the lifting device from the outside.

BezugszeichenlisteReference list

 1 Kniehebelspanner
 2 Gehäusetür
 3 Schiebewelle
 4 Target
 5 Zapfen
 6 Schraube
 7 Kugelbuchse
 8 Befestigungsschraube
 9 Targetkühlkörper
10 Kühlkanal
11 Aussparung im Target
12 Dichtung
13 Dichtung
14 Spalt
15 Paßring
1 toggle clamp
2 housing door
3 sliding shaft
4 target
5 cones
6 screw
7 ball bushing
8 fastening screw
9 target heat sink
10 cooling channel
11 Cut-out in the target
12 seal
13 seal
14 gap
15 fitting ring

Claims (18)

1. Vorrichtung zum Wechseln eines Targets (11), das an einer Targethaltevorrichtung in einer Kathodenzerstäu­ bungsanlage angebracht ist, mit einer Hubvorrichtung, die die Targethaltevorrichtung von dem, die Targethaltevor­ richtung umgebenden Kathodengrundkörper der Kathodenzer­ stäubungsanlage beabstandet, bzw. in diesen integriert.1. A device for changing a target ( 11 ), which is attached to a target holding device in a cathode atomization system, with a lifting device which spaces the target holding device from the surrounding the target holding device, the cathode main body of the cathode sputtering system, or integrates it into this. 2. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Targethaltevorrichtung aus einem T-förmigen Zapfen (5) und einem an dem Zapfen (5) durch eine Schraubverbindung (8) verbundenen Targetkühl­ körper (4) besteht.2. Device according to one of claims 1 to 12, characterized in that the target holding device consists of a T-shaped pin ( 5 ) and one on the pin ( 5 ) by a screw connection ( 8 ) connected target cooling body ( 4 ). 3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Hubvorrichtung ein Kniehe­ belspanner (1) oder eine Hubspindel ist, der/die über eine Schiebewelle (3) mit der Targethaltevorrichtung lösbar fest verbunden ist.3. Apparatus according to claim 1 or 2, characterized in that the lifting device is a Kniehe belspanner ( 1 ) or a lifting spindle which / which is releasably connected to the target holding device via a sliding shaft ( 3 ). 4. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schiebewelle (3) in einer Kugelbuchse (7) verläuft, die die Targethaltevorrichtung relativ zum Kathodengrundkörper zentriert.4. The device according to claim 2, characterized in that the sliding shaft ( 3 ) extends in a ball bushing ( 7 ) which centers the target holding device relative to the cathode body. 5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Zapfen (5) einen T-förmi­ gen Mittelschenkel aufweist, der in die Schiebewelle (3) hineinragt und dort mit dieser mittels einer Schraube (6) oder Rastenverbindung lösbar fest verbunden ist. 5. Device according to one of claims 2 to 4, characterized in that the pin ( 5 ) has a T-shaped gene middle leg, which protrudes into the sliding shaft ( 3 ) and there releasably fixed by means of a screw ( 6 ) or detent connection connected is. 6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß Dichtungen (12, 13) vorgesehen sind, die bei gespannter Stellung des Kniehebelspanners eine vakuumdichte Abdichtung zwischen dem Innenraum der Kathodenzerstäubungsanlage und der Außenatmosphäre her­ stellen.6. Device according to one of claims 1 to 5, characterized in that seals ( 12 , 13 ) are provided which provide a vacuum-tight seal between the interior of the cathode sputtering system and the outside atmosphere when the toggle lever tensioner is in the tensioned position. 7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Dichtungen an einem auf der Schiebewelle sitzenden Paßring (15) derart angebracht sind, daß eine Dichtung (13) die Schiebewelle umgibt und eine andere Dichtung (12) unmittelbar an der Rückseite des Paßrings angebracht ist.7. The device according to claim 6, characterized in that the seals are attached to a fitting ring on the sliding shaft ( 15 ) such that a seal ( 13 ) surrounds the sliding shaft and another seal ( 12 ) attached directly to the back of the fitting ring is. 8. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Dichtungen statische Dich­ tungen sind.8. The device according to claim 6, characterized in that the seals static you are. 9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Dichtungen O-Ringdichtun­ gen sind.9. Device according to one of claims 6 to 8, characterized in that the seals O-ring seal gen. 10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß bei Spannbetätigung des Knie­ hebelspanners bzw. der Hubspindel die Rückseite des Paß­ rings (15) in direktem Kontakt mit dem Kathodengrundkörper steht.10. Device according to one of claims 1 to 9, characterized in that when the knee lever tensioner or the lifting spindle is actuated, the back of the pass ring ( 15 ) is in direct contact with the cathode main body. 11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß bei Entspannbetätigung des Kniehebelspanners (1) bzw. der Hubspindel der Paßring (15) und der Targetträger (9) ohne Reibkontakt mit dem Katho­ dengrundkörper aus diesem ausfahrbar sind. 11. The device according to any one of claims 1 to 10, characterized in that when the toggle lever tensioner ( 1 ) or the lifting spindle is released, the fitting ring ( 15 ) and the target carrier ( 9 ) can be extended out of the latter without frictional contact with the catheter. 12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß der Targetkühlkörper (9) samt Target (4) (9) mit Zapfen (5) im ausgefahrenen Zustand durch Lösen einer Schraubverbindung (6) oder einer Raste von der Schiebewelle (3) abnehmbar ist.12. Device according to one of claims 1 to 11, characterized in that the target heat sink ( 9 ) together with the target ( 4 ) ( 9 ) with pin ( 5 ) in the extended state by loosening a screw connection ( 6 ) or a detent from the sliding shaft ( 3 ) is removable. 13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen den sich gegenüber­ stehenden, parallel zur Schiebewellensachse verlaufenden Flächen des Paßrings (15), Targetkühlkörper (9) sowie Target (4) und des Kathodengrundkörpers ein Spalt (14) vorgesehen ist.13. The device according to one of claims 1 to 12, characterized in that a gap ( 14 ) is provided between the opposing, parallel to the sliding shaft axis surfaces of the fitting ring ( 15 ), target heat sink ( 9 ) and target ( 4 ) and the cathode body is. 14. Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Spalt ca. 1,5 mm beträgt.14. The apparatus according to claim 13, characterized in that the gap is approximately 1.5 mm. 15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Unterseiten der oberen T- Schenkel des T-förmigen Zapfens (5) mit dem Paßring (15) in direktem Kontakt stehen.15. The device according to one of claims 1 to 14, characterized in that the undersides of the upper T-legs of the T-shaped pin ( 5 ) with the fitting ring ( 15 ) are in direct contact. 16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß isolierte Führungsbolzen (7) vorgesehen sind, über die durch Betätigung des Kniespann­ hebels (1) bzw. der Hubspindel das Target (11) automatisch an die Stromversorgung angeschlossen ist.16. Device according to one of claims 1 to 15, characterized in that insulated guide bolts ( 7 ) are provided, via which the target ( 11 ) is automatically connected to the power supply by actuating the knee tension lever ( 1 ) or the lifting spindle. 17. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß der Kniehebelspanner (1) bzw. die Hubspindel an der Außenseite einer Öffnungseinrichtung der Kathodenzerstäubungsanlage angebracht ist. 17. The device according to one of claims 1 to 16, characterized in that the toggle lever clamp ( 1 ) or the lifting spindle is attached to the outside of an opening device of the sputtering system. 18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5 und 12 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß der Kniehebelspanner (1) bzw. die Hubspindel im Innenraum der Kathodenzerstäu­ bungsanlage angebracht ist.18. Device according to one of claims 1 to 5 and 12 to 17, characterized in that the toggle lever tensioner ( 1 ) or the lifting spindle in the interior of the cathode atomization system is attached.
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