DE4211830A1

DE4211830A1 - EXPOSURE MEASURING DEVICE

Info

Publication number: DE4211830A1
Application number: DE4211830A
Authority: DE
Inventors: Hiroshi Kurei; Hideyuki Irie
Original assignee: Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
Current assignee: Pentax Corp
Priority date: 1991-04-09
Filing date: 1992-04-08
Publication date: 1992-10-15
Also published as: FR2675273A1; GB2254705A; KR920020253A; GB9207556D0

Abstract

A photometering apparatus of a camera is disclosed having a predetermined pattern of divided measuring zones 18 upon which light is made incident and from which corresponding signals are output, a picture plane 13, and includes a picture plane size varying device 21 (204, 205) which varies the size of the picture plane 13 between a large size and a small size, divided photometric elements which set a plurality of the divided measuring zones corresponding to the large size picture plane selected by the picture plane size varying device to calculate an object brightness within the set measuring zones, and a measuring zone selecting device which selects appropriate outputs of the measuring zones when the small size picture plane is selected. <IMAGE>

Description

Die Erfindung betrifft eine Belichtungsmeßvorrichtung für eine Kamera gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.The invention relates to an exposure meter for a camera according to the preamble of claim 1.

Es ist eine Kamera bekannt mit einer Vorrichtung zur Veränderung der Bildebenengröße, bei der eine Bildebene beispielsweise zwischen einer Standardbildebene und entweder einer Bildebene halber Größe oder einer Pan oramabildebene verändert werden kann. In einer solchen Kamera ist üblicherweise eine Belichtungsmeßvorrichtung vorgesehen, bei welcher entweder eine mittlere Hellig keit über die gesamte Bildebene gemessen wird oder eine mittenbetonte Belichtungsmessung erfolgt, bei welcher die Helligkeit im Mittelpunkt der Bildebene gewichtet wird. Im letztgenannten Fall wird selbst dann, wenn die Bildebene eingestellt wird, d. h. die Größe der Bildebe ne verändert wird, die Belichtungsmessung, die durch diese Einstellung verändert wird, mit einem geringen oder gar keinem Fehler ausgeführt. A camera is known with a device for Change the image plane size at which an image plane for example between a standard image plane and either a half-size image plane or a pan orama image level can be changed. In one The camera is usually an exposure meter provided, in which either a medium brightness speed is measured over the entire image plane or a center-weighted exposure metering takes place at which weighted the brightness at the center of the image plane becomes. In the latter case, even if the Image plane is set, d. H. the size of the image ne is changed, the exposure metering by this setting is changed with a slight or no error at all.

In jüngerer Zeit sind Kameras auf den Markt gekommen, welche eine Belichtungsmeßvorrichtung enthalten, die die Objekthelligkeit an einer Mehrzahl von Meßpunkten (Meßzonen) der Bildebene mißt. Bei dieser Art von Be lichtungsmeßvorrichtung (Evaluationsphotometer) werden die Messungen an einer Mehrzahl von Meßpunkten ausge wertet oder bewertet, um optimale Belichtungsbedingun gen zu bestimmen. Die Meßzonen überdecken im wesentli chen die gesamte Standardbildebene (d. h. die große Bildebene). Wenn daher die Bildebene eingestellt, d. h. die Bildebenengröße verändert wird, entsprechen die Meßzonen nicht mehr den ursprünglich eingeteilten Meß zonen, so daß sich die Möglichkeit eines Fehlers bei der Messung oder der Auswertung der Meßergebnisse er gibt.More recently cameras have come onto the market which contain an exposure meter which the object brightness at a plurality of measuring points (Measuring zones) of the image plane. With this type of Be light measuring device (evaluation photometer) the measurements at a plurality of measuring points evaluates or evaluates for optimal exposure conditions conditions. The measuring zones essentially cover the entire standard image plane (i.e. the large Image plane). Therefore, when the image plane is adjusted, i.e. H. the image plane size is changed, correspond to Measuring zones no longer the originally divided measuring zones so that there is a possibility of an error the measurement or the evaluation of the measurement results gives.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Meßvor richtung für eine Kamera der eingangs genannten Art an zugeben, in welcher bei einer Veränderung der Bildebe nengröße dennoch eine exakte Belichtungsmessung möglich ist.The invention has for its object a Meßvor direction for a camera of the type mentioned admit in which when the image changes exact size measurement is still possible is.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale des Anspruchs 1 gelöst.This object is achieved by the features of claim 1 solved.

Demnach ist erfindungsgemäß eine Belichtungsmeßvorrich tung für eine Kamera mit einer Bildebene vorgesehen, umfassend eine vorgegebene Anordnung einzelner Meßzonen, auf welche Licht gelenkt und von denen entsprechende Signale ausgegeben werden. Die Belichtungsmeß vorrichtung umfaßt eine Einrichtung zur Veränderung der Bildebenengröße zwischen einer großen Abmessung und einer kleinen Abmessung, eine Photometereinrichtung zur Bestimmung einer Mehrzahl von einzelnen Meßzonen ent sprechend der von der Einstellvorrichtung ausgewählten Bildebene voller Größe, um die Objekthelligkeit inner halb der bestimmten Meßzonen zu berechnen und eine Meß zonenwähleinrichtung zur Auswahl geeigneter Ausgangs signale der Meßzonen, wenn eine Bildebene geringerer Größe ausgewählt wird.Accordingly, an exposure meter is according to the invention provided for a camera with an image plane, comprising a predetermined arrangement of individual measuring zones, to which light is directed and from which corresponding Signals are output. The exposure meter device comprises a device for changing the Image plane size between a large dimension and a small dimension, a photometer device for Determination of a plurality of individual measuring zones ent speaking of that selected by the adjusting device Full-sized image layer to bring the object brightness inside to calculate half of the determined measuring zones and a measuring zone selector for selecting suitable output signals of the measuring zones when one image plane is lower Size is selected.

Gemäß einem weiteren Merkmal der vorliegenden Erfindung ist eine Belichtungsmeßvorrichtung für eine Kamera vor gesehen, umfassend eine Photometereinrichtung mit ein zelnen Meßzonen, welche einer Bildebene entsprechen. Ferner ist eine Einstellvorrichtung zur Veränderung der Bildebenengröße zwischen einer vollen Größe und einer geringeren Größe vorgesehen, wobei mindestens ein Teil der einzelnen Meßzonen sowie der Bildebene voller Größe und der Bildebene geringerer Größe dieselben Grenzen haben.According to another feature of the present invention is an exposure meter for a camera seen, comprising a photometer device individual measuring zones which correspond to an image plane. Furthermore, an adjusting device for changing the Image layer size between a full size and one smaller size provided, with at least part of the individual measuring zones and the full-size image plane and the image plane of smaller size have the same limits to have.

Gemäß einem weiteren Merkmal der vorliegenden Erfindung umfaßt eine Belichtungsmeßvorrichtung für eine Kamera mit einer Bildebene eine vorgegebene Anordnung einzel ner Meßzonen, auf welche Licht gelenkt und von denen entsprechende Ausgangssignale erzeugt werden, eine Pho tometereinrichtung zur Messung einer Objekthelligkeit entsprechend den Ausgangssignalen der einzelnen Meßzo nen, eine Einstellvorrichtung zur Veränderung der Bild ebenengröße zwischen einer vollen Größe und einer ge ringeren Größe sowie eine Meßzonenwähleinrichtung zur Auswahl geeigneter Ausgangssignale der Meßzonen in Übereinstimmung der Bildebenengröße, um diese ausge wählten Ausgangssignale der Photometereinrichtung zuzu führen.According to another feature of the present invention includes an exposure meter for a camera with a picture plane a given arrangement individually ner measuring zones, to which light is directed and from which corresponding output signals are generated, a pho tometer device for measuring an object brightness according to the output signals of the individual measuring zones NEN, an adjustment device for changing the image level size between a full size and a ge smaller size and a measuring zone selector for Selection of suitable output signals of the measuring zones in Match the image plane size to make this out chose output signals from the photometer device to lead.

Schließlich wird erfindungsgemäß eine Belichtungsmeß vorrichtung für eine Kamera vorgeschlagen, umfassend eine Einrichtung zur Veränderung der Bildebenengröße zwischen einer vollen Größe und einer geringeren Größe, eine Mehrzahl einzelner Meßzonen, die der Bildebene voller Größe entsprechen, photometrische Elemente, die in den einzelnen Meßzonen vorgesehen sind, eine Photo metereinrichtung zur Messung der Objekthelligkeit in Übereinstimmung mit den Ausgangssignalen der photome trischen Elemente und eine Meßzonenwähleinrichtung zur Auswahl geeigneter Ausgangssignale in Übereinstimmung mit der Bildebenengröße, wobei die ausgewählten Aus gangssignale der Photometereinrichtung zugeführt werden sollen. Ferner entsprechen bei der erfindungsgemäßen Belichtungsmeßvorrichtung die einzelnen Meßzonen, die bei Auswahl der Bildebene geringerer Größe ausgewählt werden, der Bildebene geringerer Größe.Finally, according to the invention, an exposure meter Device proposed for a camera, comprising a facility for changing the image plane size between a full size and a smaller size, a plurality of individual measuring zones, that of the image plane full size, photometric elements that match a photo is provided in the individual measuring zones meter device for measuring object brightness in Agreement with the output signals of the photome trical elements and a measuring zone selector for Selection of suitable output signals in accordance with the image plane size, with the selected Off can be fed to the photometer device should. Furthermore correspond to the invention Exposure meter the individual measuring zones, the selected when selecting the image plane of smaller size the image plane of smaller size.

Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Beschreibung, welche in Verbin dung mit den beigefügten Zeichnungen die Erfindung an hand von Ausführungsbeispielen erläutert. Es zeigen:Further features and advantages of the invention result from the following description, which is in Verbin with the accompanying drawings of the invention hand explained by embodiments. Show it:

Fig. 1 eine teilweise schematische Schnitt ansicht durch den Hauptteil einer einäugigen Spiegelreflexkamera, auf welche sich die vorliegende Erfindung bezieht, Fig. 1 is a partially schematic sectional view of the major part of a single lens reflex camera to which the present invention relates,

Fig. 2 eine schematische Ansicht einer Vor richtung zur Veränderung der Bildebe nengröße in der einäugigen Spiegelre flexkamera gemäß Fig. 1, Fig. 2 is a schematic view of an on direction for changing the Bildebe Nominal size in the single-lens reflex camera according to flex Spiegelre Fig. 1,

Fig. 3 eine Draufsicht auf eine Anordnung einzelner Meßzonen, die in einer ein äugigen Spiegelreflexkamera gemäß Fig. 1 vorgesehen ist, Fig. 3 is a plan view of an arrangement of individual measuring zones, which is provided in a one-eyed reflex camera of FIG. 1,

Fig. 4 ein Blockdiagramm einer erfindungsge mäßen Belichtungsmeßvorrichtung, Fig. 4 is a block diagram of a light measuring erfindungsge MAESSEN,

Fig. 5 ein Flußdiagramm zur Erläuterung der Funktionsweise einer erfindungsgemä ßen Belichtungsmeßvorrichtung, Fig. 5 is a flowchart for explaining the operation of an inventive light measuring SEN,

Fig. 6 eine Draufsicht auf eine Anordnung von einzelnen Meßzonen gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung, Fig. 6 is a plan view of an arrangement of individual measuring zones according to a second embodiment of the invention,

Fig. 7 ein Blockdiagramm einer Belichtungs meßvorrichtung für das Ausführungs beispiel gemäß Fig. 6 und Fig. 7 is a block diagram of an exposure meter for the embodiment example of FIG. 6 and

Fig. 8 ein Flußdiagramm zur Erläuterung der Funktionsweise der Belichtungsmeßvor richtung gemäß den Fig. 6 und 7. Fig. 8 is a flowchart for explaining the operation of the Belichtungsmeßvor direction as shown in FIGS. 6 and 7.

Fig. 1 zeigt eine teilweise schematische Schnittdar stellung durch eine einäugige Spiegelreflexkamera, auf welche sich die vorliegende Erfindung bezieht. Das durch ein Aufnahmeobjektiv 11 fallende Objektlicht wird über einen Spiegel 12 auf eine Fokussierungsplatte 14 gebündelt, um auf dieser Platte 14 ein Objektivbild zu erzeugen. Die Fokussierungsplatte 14 ist bezüglich des Spiegels 12 äquivalent zur Bildebene 13 angeordnet. Der Fotograf betrachtet das Objektivbild über ein Pentagon prisma 15 und ein Okular 16. Das auf der Fokussierungs platte 14 erzeugte Objektbild wird in seiner Größe re duziert und auf eine Belichtungsmeßeinrichtung 18 über eine Linse 17 der Belichtungsmeßeinrichtung projiziert, die in dem oberen Teil des Kameragehäuses hinter dem Pentagonprisma 15 angeordnet ist. Das auf der Fokussie rungsplatte 14 erzeugte Objektbild dient als Sekundär lichtquelle. Fig. 1 shows a partially schematic sectional view through a single-lens reflex camera, to which the present invention relates. The light incident through a phototaking lens 11 object light is focused via a mirror 12 to a focusing plate 14, to produce on this plate 14, a lens image. The focusing plate 14 is arranged with respect to the mirror 12 equivalent to the image plane 13 . The photographer views the lens image through a Pentagon prism 15 and an eyepiece 16 . The object image generated on the focusing plate 14 is reduced in size and projected onto an exposure measuring device 18 via a lens 17 of the exposure measuring device, which is arranged in the upper part of the camera housing behind the pentagon prism 15 . The object image generated on the focusing plate 14 serves as a secondary light source.

Zwei den Lichtweg schneidende plattenförmige Blenden oder Masken 204 und 205, welche eine Einrichtung 21 zur Veränderung der Größe der Bildebene bilden, sind zwi schen einem Verschlußmechanismus 19 und einem Apertur rahmen 203 angeordnet, um Lichtstrahlen zu unterbre chen, welche den unteren und oberen Abschnitten der eine Standardgröße aufweisenden Bildebene entsprechen, um so eine Panoramabildebene zu begrenzen.Two plate-shaped diaphragms or masks 204 and 205 intersecting the light path, which form a device 21 for changing the size of the image plane, are arranged between a shutter mechanism 19 and an aperture frame 203 to interrupt light beams which interrupt the lower and upper sections of the correspond to a standard size image plane so as to limit a panorama image plane.

In der dargestellten Ausführungsform sind die Platten 204 und 205 außerhalb des oberen und unteren Randes des Aperturrahmens 203 angeordnet. Die Platten 204 und 205 bilden in dieser Position eine Bildebene von 35 mm (volle Größe) und haben eine Breite, welche größer ist als die des Aperturrahmens 203, wie dies in Fig. 3 dargestellt ist. Die Platten 204 und 205 sind mit ihrem einen Ende an einer Führungsplatte 206 gehalten, die sich in einer Richtung parallel zur Höhe der Bildebene (d. h. in einer zu der Längsrichtung der Platten 204 und 205 senkrechten Richtung) erstreckt. Die Platten 204 und 205 gleiten in eine Richtung parallel zur Führungsplat te 206.In the illustrated embodiment, plates 204 and 205 are located outside the top and bottom of aperture frame 203 . The plates 204 and 205 form an image plane of 35 mm (full size) in this position and have a width which is larger than that of the aperture frame 203 , as shown in FIG. 3. The plates 204 and 205 are held at one end on a guide plate 206 which extends in a direction parallel to the height of the image plane (ie in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the plates 204 and 205 ). The plates 204 and 205 slide in a direction parallel to the guide plate 206 .

Die Platten 204 und 205 sind mit ihrem entgegengesetz ten Ende an Muttern 207 bzw. 208 befestigt, die Gewindebohrungen mit Gewinden entgegengesetzter Steigung haben. Infolgedessen stehen diese Muttern 207 und 208 in Gewindeeingriff mit Gewindeabschnitten 209a und 209b entgegengesetzter Steigung, die auf einer Welle 209 ausgebildet sind. Diese erstreckt sich parallel zur Führungsplatte 206 auf der der Führungsplatte entgegengesetzten Seite des Aperturrahmens 203. Wenn daher die Welle 209 in der einen oder der anderen Richtung gedreht wird, bewegen sich die Platten 204 und 205 aufeinander zu oder voneinander weg, um eine Panoramabildebene oder eine normale Bildebene, d. h. eine Bildebene mit Standardabmessungen zu bilden.The plates 204 and 205 are fastened at their opposite ends to nuts 207 and 208 , respectively, which have threaded bores with threads of opposite pitch. As a result, these nuts 207 and 208 are in threaded engagement with threaded sections 209 a and 209 b of opposite pitch, which are formed on a shaft 209 . This extends parallel to the guide plate 206 on the side of the aperture frame 203 opposite the guide plate. Therefore, when the shaft 209 is rotated in one direction or the other, the plates 204 and 205 move towards or away from each other to form a panoramic image plane or a normal image plane, ie an image plane with standard dimensions.

Die Welle 209 wird mittels eines Motors 213 über einen Reduktionsgetriebemechanismus 210, 211 und 212 gedreht. Der Motor 213 wird über eine Motorsteuerschaltung 215 in Abhängigkeit eines Steuersignals angesteuert, das mittels eines Bildebenenwahlschalters 214 ausgelöst wird. Die Platten 204 und 205 werden auf eine der nor malen Bildebenengröße entsprechende Position oder eine einer Panoramabildebenengröße entsprechende Position verstellt entsprechend der Betätigung des Bildebe nenwahlschalters 214. In der der Panoramabildebenengrö ße entsprechenden Position überdecken der untere und obere Rand 204 bzw. 205 der oberen bzw. der unteren Platte 204 und 205 teilweise die Bildebene und definie ren so den oberen und den unteren Rand der Panorama bildebene. Die der normalen Bildebenengröße entspre chende Normalposition und die der Panoramabildebenen größe entsprechende Panoramaposition der Maskenplatten 204 und 205 werden durch entsprechende Endschalter 216 und 217 ermittelt. Die Motorsteuerschaltung 205 stoppt den Motor in Abhängigkeit der entsprechenden Detektor signale.The shaft 209 is rotated by means of a motor 213 via a reduction gear mechanism 210 , 211 and 212 . The motor 213 is controlled via a motor control circuit 215 as a function of a control signal, which is triggered by means of a picture plane selection switch 214 . The plates 204 and 205 are adjusted to a position corresponding to the normal image plane size or to a position corresponding to a panoramic image plane size in accordance with the operation of the image plane selector switch 214 . In the position corresponding to the panorama image plane size, the lower and upper edges 204 and 205 of the upper and lower plates 204 and 205 partially cover the image plane and thus define the upper and lower edges of the panorama image plane. The normal position corresponding to the normal image plane size and the panorama position of the mask plates 204 and 205 corresponding to the panorama image plane size are determined by corresponding limit switches 216 and 217 . The motor control circuit 205 stops the motor in response to the corresponding detector signals.

Die Endschalter 216 und 217 dienen auch als Anschläge, welche die Bewegung der Maskenplatten 204 und 205 be grenzen.The limit switches 216 and 217 also serve as stops which limit the movement of the mask plates 204 and 205 .

Fig. 3 zeigt ein Muster abgeteilter Meßzonen der Belichtungsmessungsauswerteeinrichtung 18 als Ausfüh rungsbeispiel. Bei dem dargestellten Ausführungsbei spiel gibt es neun von einander unabhängige Meßzonen, umfassend eine zentrale Meßzone A, vier mittlere Zonen B1, B2, C1 und C2, welche die zentrale Meßzone A umge ben und vier äußere Zonen D1, D2, E1 und E2, welche die mittleren Zonen B1, B2, C1 und C2 umgeben. Die abge teilten Meßzonen A bis E2 haben jeweils photometrische Elemente, die auf diese Meßzonen einfallende Licht strahlen empfangen und von denen entsprechende Detek torsignale ausgegeben werden. Die von den neun Meßzonen überdeckte Meßfläche entspricht in ihrer Größe der Standardbildebene. Fig. 3 shows a pattern of divided measuring zones of the exposure measurement evaluation device 18 as an exemplary embodiment. In the illustrated embodiment, there are nine mutually independent measuring zones, comprising a central measuring zone A, four middle zones B 1 , B 2 , C 1 and C 2 , which are the central measuring zone A and four outer zones D 1 , D 2 , E 1 and E 2 , which surround the middle zones B 1 , B 2 , C 1 and C 2 . The divided measuring zones A to E 2 each have photometric elements which receive incident light from these measuring zones and from which corresponding detector signals are output. The size of the measuring area covered by the nine measuring zones corresponds to the standard image plane.

In der der Panoramabildebenengröße entsprechenden Stel lung der Platten 204 und 205 jedoch liegen die oberen und unteren Abschnitte der Meßfläche, die von den Meß zonen gebildet wird, teilweise außerhalb der Panorama bildebene, wie man dies in Fig. 3 erkennen kann. Wenn daher in der der Panoramabildebenengröße entsprechenden Position eine Belichtungsmessung in derselben Weise ausgeführt wird, wie für die Standardbildebenengröße, kann ein Meßfehler auftreten, der wiederum zu einer nicht optimalen Belichtung führt.In the position of the plates 204 and 205 corresponding to the panorama image plane size, however, the upper and lower sections of the measuring surface formed by the measuring zones are partially outside the panorama image plane, as can be seen in FIG. 3. Therefore, if an exposure measurement is carried out in the position corresponding to the panoramic image plane size in the same manner as for the standard image plane size, a measurement error may occur, which in turn leads to a non-optimal exposure.

In dem dargestellten Ausführungsbeispiel empfangen die Meßzonen B1, B2, D1, D2, E1 und E2 auch bei der Panora mabildebene einige der Lichtstrahlen. Mit anderen Wor ten heißt dies, daß Teile der Meßzonen B1, B2, D1, D2, E1 und E2 sowohl der Standardbildebene (der größten Bildebene mit 35 mm) als auch der kleineren Panorama bildebene.In the illustrated embodiment, the measuring zones B 1 , B 2 , D 1 , D 2 , E 1 and E 2 also receive some of the light rays at the Panora image plane. In other words, this means that parts of the measuring zones B 1 , B 2 , D 1 , D 2 , E 1 and E 2 both the standard image plane (the largest image plane with 35 mm) and the smaller panorama image plane.

Fig. 4 zeigt ein Blockdiagramm einer erfindungsgemäßen Belichtungsmeßvorrichtung, mit der eine präzise Belich tungsmessung sowohl für die Standardbildebene als auch für die Panoramabildebene erhalten werden kann. Fig. 4 shows a block diagram of an exposure meter according to the invention, with which a precise exposure metering can be obtained both for the standard image plane and for the panorama image plane.

Die Meßzonen umfassen mindestens ein photometrisches Element. Eine Belichtungssteuereinrichtung 30 umfaßt eine Meßzonenwähleinrichtung 31, eine Recheneinrichtung 32 zur Gewichtung der Belichtungsmessungen und eine Einrichtung 33 zur Bestimmung des Belichtungsfaktors. Die Ausgänge der neun Meßzonen A bis E2 und das Aus gangssignal der Einstelleinrichtung 21 zur Verstellung der Bildebenengröße werden der Meßzonenwähleinrichtung 31 zugeführt.The measuring zones comprise at least one photometric element. An exposure control device 30 comprises a measuring zone selection device 31 , a computing device 32 for weighting the exposure measurements and a device 33 for determining the exposure factor. The outputs of the nine measuring zones A to E 2 and the output signal from the adjusting device 21 for adjusting the image plane size are supplied to the measuring zone selector 31 .

Die Meßzonenwähleinrichtung 31 führt die Ausgangssigna le aller neun Meßzonen A bis E2 der Recheneinrichtung 32 zur Gewichtung der Belichtungsmessungen zu, wenn die volle Größe der Bildebene von der Verstelleinrichtung 21 ausgewählt wird. Infolgedessen berechnet die Rechen einrichtung 32 die Objekthelligkeit in Übereinstimmung mit einem vorgegebenen Auswertealgorithmus P zur Ge wichtung der entsprechenden Ausgangssignale der Meßzo nen A bis E2. Infolgedessen bestimmt die Einrichtung 33 die Belichtungsfaktoren (Verschlußgeschwindigkeit und Blendenwert) entsprechend der Objekthelligkeit.The measuring zone selector 31 supplies the output signals of all nine measuring zones A to E 2 to the computing device 32 for weighting the exposure measurements when the full size of the image plane is selected by the adjusting device 21 . As a result, the computing device 32 calculates the object brightness in accordance with a predetermined evaluation algorithm P for weighting the corresponding output signals of the measuring zones A to E 2 . As a result, the device 33 determines the exposure factors (shutter speed and aperture value) in accordance with the object brightness.

Wenn die Panoramabildebene ausgewählt wird, führt die Meßzonenwähleinrichtung 31 nur die Ausgangssignale der Meßzonen A, C1 und C2 entsprechend der Panoramabildebe ne der Recheneinheit 32 zu. Anschließend berechnet die Recheneinrichtung 32 die Objekthelligkeit entsprechend einem vorgegebenen Auswertalgorithmus Q zur Gewichtung der entsprechenden Ausgangssignale der spezifizierten Meßzonen A, C1 und C2. Aufgrund der so erhaltenen Ob jekthelligkeit berechnet die Einrichtung 33 die Belich tungsfaktoren. Im Falle der Panoramabildebene werden also die Ausgangssignale der Meßzonen B1, B2, D1, D2 E1 und E2, welche sowohl in der Standardbildebene als auch teilweise in der Panoramabildebene liegen, zur Berech nung der Objekthelligkeit (und damit der Be lichtungsfaktoren) nicht verwendet.When the panoramic image plane is selected, the measuring zone selector 31 supplies only the output signals of the measuring zones A, C 1 and C 2 to the computing unit 32 in accordance with the panoramic image plane. The computing device 32 then calculates the object brightness in accordance with a predetermined evaluation algorithm Q for weighting the corresponding output signals of the specified measuring zones A, C 1 and C 2 . On the basis of the object brightness thus obtained, the device 33 calculates the exposure factors. In the case of the panoramic image plane, the output signals of the measuring zones B 1 , B 2 , D 1 , D 2 E 1 and E 2 , which are both in the standard image plane and partly in the panoramic image plane, are used to calculate the object brightness (and thus the loading clearing factors) not used.

Fig. 5 zeigt ein Flußdiagramm zur Erläuterung der vor stehend beschriebenen Funktionsweise. Zunächst wird die Bildebenengröße überprüft. Wenn die Standardbildebene ausgewählt wurde, werden alle Meßzonen A bis E2 für die Berechnung herangezogen. Anschließend wird die Objekt helligkeit in Übereinstimmung mit dem ersten Auswerte algorithmus berechnet, um so die optimalen Belichtungs faktoren zu erhalten. Fig. 5 shows a flow chart for explaining the operation described before standing. First, the image plane size is checked. If the standard image plane has been selected, all measuring zones A to E 2 are used for the calculation. The object brightness is then calculated in accordance with the first evaluation algorithm in order to obtain the optimal exposure factors.

Wenn dagegen die Panoramabildebene ausgewählt wird, werden nur die speziellen Meßzonen A, C1 und C2 ausge wählt. Die Objekthelligkeit wird dann in Übereinstim mung mit dem zweiten Auswertealgorithmus Q berechnet, um so die für diese Bildebenengröße optimalen Belich tungsfaktoren zu erhalten.If, on the other hand, the panoramic image plane is selected, only the special measuring zones A, C 1 and C 2 are selected. The object brightness is then calculated in accordance with the second evaluation algorithm Q in order to obtain the optimal exposure factors for this image plane size.

Aus der vorstehenden Beschreibung ergibt sich, daß bei einer Änderung der Bildebenengröße von der Standard bildebene zur Panoramabildebene entsprechend der vor liegenden Erfindung eine präzise Belichtungsmessung er halten werden kann, da die Belichtungsfaktoren in Über einstimmung mit dem Auswertealgorithmus Q ermittelt werden, welcher den speziellen Meßzonen A, C1 und C2 entspricht. Infolgedessen kann eine präzise Belich tungssteuerung erreicht werden unabhängig von der Bild ebenengröße.From the above description it follows that when changing the image plane size from the standard image plane to the panoramic image plane according to the present invention, he can maintain a precise exposure measurement, since the exposure factors are determined in accordance with the evaluation algorithm Q, which determines the special measuring zones A. , C 1 and C 2 corresponds. As a result, precise exposure control can be achieved regardless of the image plane size.

Die Fig. 6 bis 8 zeigen eine zweite Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Fig. 6 zeigt ein anderes Muster der abgeteilten Meßzonen. Die Belichtungsauswer teeinrichtung 18A hat dreizehn unabhängige Meßzonen (photometrische Elemente) umfassend eine zentrale Zone A, vier mittlere Zonen B1′, B2′, C1′ und C2′, welche die zentrale Zone A umgeben, und acht äußere Meßzonen D1′, D2′, E1′, E2′, F1, F2, G1 und G2, welche die mitt leren Zonen B1′, B2′, C1′ und C2′ umgeben. Die dreizehn Meßzonen A bis C2 haben jeweils photometrische Elemen te, auf welche Lichtstrahlen gelenkt werden und von denen entsprechende Detektorsignale ausgegeben werden. FIGS. 6 to 8 show a second embodiment of the present invention. Fig. 6 shows another pattern of the divided measuring zones. The Belichtenauswer teeinrichtung 18 A has thirteen independent measuring zones (photometric elements) comprising a central zone A, four central zones B 1 ', B 2 ', C 1 'and C 2 ', which surround the central zone A, and eight outer measuring zones D. 1 ', D 2 ', E 1 ', E 2 ', F 1 , F 2 , G 1 and G 2 , which surround the middle zones B 1 ', B 2 ', C 1 'and C 2 '. The thirteen measuring zones A to C 2 each have photometric elements to which light beams are directed and from which corresponding detector signals are output.

Die von den dreizehn Meßzonen überdeckte Meßfläche ent spricht im wesentlichen der Standardbildebene, d. h. der Bildebene voller Größe. Auf der anderen Seite ent spricht in der Einstellung der Panoramabildebene die Meßfläche, welche von den neun Meßzonen A bis C2′ unter Ausschluß der obersten und untersten Meßzonen F1, F2, C1 und C2 überdeckte Meßfläche im wesentlichen der Pan oramabildebene. Mit anderen Worten entsprechen die un abhängigen Meßzonen F1, F2, C1 und C2 einer Fläche, die aus der Differenz der Abmessungen der Standardbildebene und der Panoramabildebene gebildet wird. Die unteren Ränder der oberen Meßzonen F1 und F2 und die oberen Ränder der unteren Meßzonen C1 und C2 entsprechen näm lich im wesentlichen den Grenzen zwischen der Pan oramabildebene und der Standardbildebene, wie dies in Fig. 6 dargestellt ist.The measuring area covered by the thirteen measuring zones corresponds essentially to the standard image plane, ie the full-size image plane. On the other hand, in the setting of the panoramic image plane, the measurement surface speaks, which of the nine measurement zones A to C 2 ', excluding the top and bottom measurement zones F 1 , F 2 , C 1 and C 2, covers the measurement surface essentially the panorama image plane. In other words, the independent measurement zones F 1 , F 2 , C 1 and C 2 correspond to an area which is formed from the difference in the dimensions of the standard image plane and the panorama image plane. The lower edges of the upper measuring zones F 1 and F 2 and the upper edges of the lower measuring zones C 1 and C 2 essentially correspond to the boundaries between the pan-orama image plane and the standard image plane, as shown in FIG. 6.

Infolgedessen werden bei der Berechnung der photometri schen Werte die Ausgangssignale aller Meßzonen A bis C2 verwendet, wenn die Standardbildebene ausgewählt wurde. Wenn dagegen die Panoramabildebene ausgewählt wurde, werden nur die Ausgangssignale der Meßzonen E bis E2′ verwendet, so daß eine präzise Belichtungsmessung aus geführt werden kann abhängig von der jeweils gewählten Bildebenengröße. As a result, the output signals of all measuring zones A to C 2 are used in the calculation of the photometric values if the standard image plane has been selected. If, on the other hand, the panoramic image plane has been selected, only the output signals of the measuring zones E to E 2 'are used, so that a precise exposure measurement can be carried out depending on the respectively selected image plane size.

Fig. 7 zeigt ein Blockdiagramm einer Belichtungsmeß einrichtung entsprechend der in Fig. 6 dargestellten zweiten Ausführungsform der Erfindung. Fig. 7 shows a block diagram of an exposure meter according to the second embodiment of the invention shown in Fig. 6.

Gemäß Fig. 7 umfaßt die Belichtungssteuereinrichtung 30A eine Meßzonenwähleinrichtung 31A, eine Rechenein richtung 32A zur Gewichtung der photometrischen Meßwer te und eine Einrichtung 33A zur Bestimmung der Belich tungsfaktoren. Die Ausgangssignale der dreizehn Meßzo nen A bis C2 und das Ausgangssignal der Bildebenenein stelleinrichtung 21 werden der Meßzonenwähleinrichtung 31A zugeführt.Referring to FIG. 7, the exposure control means 30 comprises a Meßzonenwähleinrichtung A 31 A, 32 A Rechenein direction for weighting the photometric reco te and means weighting factors 33 A for determining the Belich. The outputs of the thirteen Meßzo nen A to C 2 and the output signal of the adjustment device Bildebenenein Meßzonenwähleinrichtung are fed 31 A 21st

Die Meßzonenwähleinrichtung 31A führt die Ausgangssi gnale aller dreizehn Meßzonen A bis C2 der Rechenein richtung 32A zu, wenn die 35 mm-Bildebene, d. h. die Bildebene voller Größe von der Bildebeneneinstellein richtung 21 eingestellt wurde. Infolgedessen berechnet die Recheneinrichtung 32A die Objekthelligkeit und damit die optimalen Belichtungswerte entsprechend einem vorgegebenen Auswertealgorithmus 50 zur Gewichtung der entsprechenden Ausgangssignale der Meßzonen A bis C2. Als Folge hiervon berechnet die Einrichtung 33A die Be lichtungsfaktoren (Verschlußgeschwindigkeit und Blen denwert) entsprechend der Objekthelligkeit, der Film empfindlichkeit usw.The measuring zone selector 31 A supplies the output signals from all thirteen measuring zones A to C 2 to the computing device 32 A when the 35 mm image plane, ie the full-size image plane, has been set by the image plane setting device 21 . As a result, the computing device 32 A calculates the object brightness and thus the optimal exposure values in accordance with a predetermined evaluation algorithm 50 for weighting the corresponding output signals of the measuring zones A to C 2 . As a result, the device 33 A calculates the exposure factors (shutter speed and aperture value) according to the brightness of the object, the film sensitivity, etc.

Wenn dagegen die Panoramabildebene ausgewählt wird, führt die Meßzonenwähleinrichtung 31A die Ausgangssi gnale der neun speziellen Meßzonen A, B1′, B2′, C1′, C2′, D1′, D2′, E1′ und E2′, welche der Panoramabildebe ne entsprechen, der Recheneinrichtung 32A zu. Hierauf berechnet die Recheneinrichtung 32A die Objekthellig keit (optimaler Belichtungswert) in Übereinstimmung mit einem vorgegebenen Auswertealgorithmus 60 zur Gewich tung der entsprechenden Ausgangssignale der speziellen Meßzonen in Abhängigkeit der Ausgangssignale dieser Meßzonen. Aufgrund der so ermittelten Objekthelligkeit bestimmt die Einrichtung 33A die Belichtungsfaktoren.If, on the other hand, the panoramic image plane is selected, the measuring zone selector 31 A performs the output signals of the nine special measuring zones A, B 1 ', B 2 ', C 1 ', C 2 ', D 1 ', D 2 ', E 1 'and E 2 ', which correspond to the Panoramabildebe ne, the computing device 32 A. The computing device 32 A then calculates the object brightness (optimal exposure value) in accordance with a predetermined evaluation algorithm 60 for weighting the corresponding output signals of the special measuring zones as a function of the output signals of these measuring zones. The device 33 A determines the exposure factors on the basis of the object brightness determined in this way.

Fig. 8 zeigt ein Flußdiagramm zur Erläuterung der vor stehend beschriebenen Betriebsweise der zweiten Ausfüh rungsform. Der Betrieb wird üblicherweise von einem Mikrocomputer gesteuert, der in dem Kameragehäuse ange ordnet ist. Zunächst wird die Bildebenengröße über prüft. Wenn die Standardbildebene ausgewählt wurde, werden alle Meßzonen A bis C2 zur Berechnung herangezo gen. Anschließend wird die Objekthelligkeit in Überein stimmung mit dem ersten Auswertealgorithmus berechnet, um so die optimalen Belichtungsfaktoren zu erhalten. Fig. 8 shows a flowchart for explaining the operation of the second embodiment described above. The operation is usually controlled by a microcomputer, which is arranged in the camera housing. First, the image plane size is checked. If the standard image plane has been selected, all measuring zones A to C 2 are used for the calculation. The object brightness is then calculated in accordance with the first evaluation algorithm in order to obtain the optimal exposure factors.

Wenn dagegen die Panoramabildfläche ausgewählt wurde, werden nur die speziellen Meßzonen A bis E2′ ausge wählt. Die Objekthelligkeit wird dann entsprechend dem zweiten Auswertealgorithmus berechnet, um so die opti malen Belichtungsfaktoren zu erhalten.If, on the other hand, the panorama image area was selected, only the special measuring zones A to E 2 'are selected. The object brightness is then calculated according to the second evaluation algorithm in order to obtain the optimal exposure factors.

Die vorstehende Beschreibung bezog sich auf eine einäu gige Spiegelreflexkamera. Es ist jedoch offensichtlich, daß die vorliegende Erfindung nicht auf diesen Anwen dungsfall beschränkt ist sondern auch beispielsweise bei einer Kamera des Zentralverschlußtyps eingesetzt werden kann. Ferner kann sowohl die Anzahl als auch die Anordnung (Muster) der Meßzonen bzw. Meßelemente von der vorstehend beschriebenen Anordnung verschieden sein. Ferner ist auch die Einstelleinrichtung zur Ver änderung der Bildebenengröße nicht auf die vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiele beschränkt und kann beispielsweise durch eine nicht-mechanische Filmbegren zungseinrichtung ersetzt werden. Die vorliegende Erfin dung kann auch für eine Kamera verwendet werden, in der stets Bilder mit voller Bildebenengröße aufgenommen werden, wobei die Bildebenenabschnitte, die nicht in der Panoramabildebene erhalten sind, dem Licht während des Filmtransportes ausgesetzt werden. Die Erfindung kann auch bei einer Kamera angewandt werden, in der eine lichtempfindliche Markierung für die Anzeige ver wendet wird, daß ein Panoramabild auf dem Film aufge zeichnet wurde. Die variable Größe der Bildebene ist nicht auf das Panoramaformat begrenzt und kann bei spielsweise auch eine Bildebene halber Größe usw. sein.The description above referred to one Common SLR camera. However, it is obvious that the present invention is not based on these applications is limited but also for example used in a camera of the central shutter type can be. Furthermore, both the number and the Arrangement (pattern) of the measuring zones or measuring elements from the arrangement described above different be. Furthermore, the adjustment device for Ver Change the image plane size not to the above described and limited embodiments for example by a non-mechanical film limit be replaced. The present inven can also be used for a camera in which always take pictures with full image plane size , the image plane sections that are not in the panoramic image plane are preserved during the light be suspended from film transport. The invention can also be used with a camera in which a light sensitive mark for the display ver is applied that a panoramic image is applied to the film was drawn. The variable size of the image layer is not limited to the panorama format and can be used for for example, a half-size image plane, etc.

Aus der vorstehenden Beschreibung ergibt sich also, daß bei der erfindungsgemäßen Lösung dank der Verwendung einzelner voneinander abgetrennter Belichtungsmeßein richtungen, einer Einstelleinrichtung zur Veränderung der Bildebenengröße und einer Auswahleinrichtung zur Auswahl von Belichtungsmeßzonen, welche der gewählten Bildebenengröße entsprechen, eine korrekte Objekthel ligkeit ermittelt werden kann, wodurch man präzise Be lichtungswerte erhält, unabhängig von der Bildebenen größe.It follows from the above description that in the solution according to the invention thanks to the use single exposure meter directions, an adjustment device for change the image plane size and a selector for Selection of exposure measuring zones, which of the selected Correspond to the image plane size, a correct object helix Liability can be determined, whereby precise Be receives clearing values, regardless of the image levels size.

Claims

1. Belichtungsmeßvorrichtung für eine Kamera mit einer Bildebene, umfassend eine vorgegebene Anord nung einzelner Meßzonen, auf welche Lichtstrahlen gelenkt und von denen entsprechende Signale ausge sandt werden, gekennzeichnet durch
eine Einstellvorrichtung zur Veränderung der Bild ebenengröße zwischen einer großen Fläche und einer kleinen Fläche,
eine Photometereinrichtung zur Bestimmung einer Mehrzahl einzelner Meßzonen entsprechend der von der Einstellvorrichtung ausgewählten Bildebene voller Größe, um eine Objekthelligkeit innerhalb der Meßzone zu berechnen und
eine Meßzonenwähleinrichtung zur Auswahl geeigne ter Ausgangssignale der Meßzonen, wenn eine Bild ebene geringerer Größe ausgewählt wird.1. Exposure meter for a camera with an image plane, comprising a predetermined arrangement of individual measuring zones, onto which light beams are directed and from which corresponding signals are sent out, characterized by
an adjusting device for changing the image plane size between a large area and a small area,
a photometer device for determining a plurality of individual measuring zones corresponding to the full-size image plane selected by the setting device in order to calculate an object brightness within the measuring zone and
a measuring zone selector for selecting suitable output signals of the measuring zones when an image plane of smaller size is selected.

2. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 1, gekenn zeichnet durch eine Belichtungsfaktorberechnungseinrichtung zum Be rechnen von Belichtungsfaktoren in Übereinstimmung mit den Ausgangssignalen der einzelnen Meßzonen, die von der Photometereinrichtung gewählt wurden.2. Exposure meter according to claim 1, marked is marked by a Exposure factor calculation device for loading calculate exposure factors in accordance with the output signals of the individual measuring zones, selected by the photometer device.

3. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Meßzonenwähleinrichtung bei Einstellung der Bildebene voller Größe die Ausgangssignale aller Meßzonen und bei Einstellung der Bildebene geringerer Größe nur die Ausgangssi gnale einiger Meßzonen auswählt.3. Exposure meter according to claim 1, characterized characterized in that the measuring zone selector when setting the image size full size the Output signals of all measuring zones and when setting the image plane of smaller size only the output si gnale selected some measuring zones.

4. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Meßzonen unabhängige Meß zonen umfassen, welche der Differenz zwischen der Bildebene voller Größe und der Bildebene geringe rer Größe entsprechen, so daß die Ausgangssignale der unabhängigen Meßzonen nur gewählt werden, wenn die Bildebene voller Größe eingestellt wurde.4. Exposure meter according to claim 3, characterized characterized in that the measuring zones independent measuring zones include which is the difference between the Image plane full size and the image plane low rer size, so that the output signals of the independent measuring zones can only be selected if the full size image plane has been set.

5. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Meßzonen Brückenmeßzonen umfassen, welche einen Flächenbereich überbrücken, welcher der Differenz zwischen der Bildebene vol ler Größe und der Bildebene geringerer Größe ent spricht und welche die Gesamtheit der Brückenbe reiche überdecken, so daß die Ausgangssignale der Brückenmeßzonen ausgewählt werden, wenn die Bild ebene voller Größe eingestellt ist, und die Aus gangssignale der Brückenmeßzonen nicht gewählt werden, wenn die Bildebene geringerer Größe einge stellt ist.5. Exposure meter according to claim 3, characterized characterized that the measuring zones bridge measuring zones comprise which bridge an area, which is the difference between the image plane vol size and the image plane of smaller size speaks and which the entirety of the bridge leg rich cover so that the output signals of the Bridge measurement zones are selected when the picture level full size is set, and the off output signals of the bridge measuring zones not selected be turned on when the image plane is smaller in size represents is.

6. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Bildebene voller Größe eine 35 mm-Bildebene ist.6. Exposure meter according to claim 1, characterized characterized that the image layer is full size is a 35 mm image plane.

7. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Bildebene kleinerer Größe eine Panoramabildebene ist, deren vertikale Abmes sung geringer als die der 35 mm-Bildebene ist.7. Exposure meter according to claim 6, characterized characterized that the image plane is smaller in size is a panoramic image plane, the vertical dimensions solution is less than that of the 35 mm image plane.

8. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Panoramabildebene durch eine Begrenzung der oberen und unteren Randab schnitte der 35 mm-Bildebene erhalten wird.8. Exposure meter according to claim 7, characterized characterized in that the panoramic image plane by a limitation of the top and bottom margins sections of the 35 mm image plane is obtained.

9. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Meßzonen durch Untertei lung einer der 35 mm-Bildebene entsprechenden Flä che in eine Vielzahl einzelner Meßzonen erhalten werden.9. Exposure meter according to claim 8, characterized characterized in that the measuring zones by Untertei area corresponding to the 35 mm image plane in a variety of individual measurement zones will.

10. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Meßzonenwähleinrichtung bei Auswahl der Panoramabildebene nicht ein Aus gangssignal einer der Meßzonen auswählt, welche in der Fläche liegen, die einer Differenz zwischen der 35 mm-Bildebene voller Größe und der Panorama bildebene entspricht.10. Exposure meter according to claim 3, characterized characterized in that the measuring zone selector not on when selecting the panoramic image plane signal selects one of the measuring zones, which in the area that is a difference between the full-size 35 mm image plane and the panorama corresponds to the image plane.

11. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 10, da durch gekennzeichnet, daß die einzelnen Meßzonen unabhängige Meßzonen umfassen, welche einer Diffe renz zwischen der 35 mm-Bildebene voller Größe und der Panoramabildebene entsprechen.11. Exposure meter according to claim 10, there characterized in that the individual measuring zones independent measuring zones, which a Diff limit between the full-size 35mm image plane and correspond to the panorama image plane.

12. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 10, da durch gekennzeichnet, daß die einzelnen Meßzonen Brückenmeßzonen umfassen, welche eine Fläche über brücken, die der Differenz zwischen der 35 mm- Bildebene voller Größe und der Panoramabildebene entspricht und welche die Gesamtheit der Brücken flächen überdeckt.12. Exposure meter according to claim 10, there characterized in that the individual measuring zones Bridge measurement zones which cover an area bridges which is the difference between the 35 mm Full-size image plane and the panoramic image plane and which corresponds to the entirety of the bridges areas covered.

13. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Kamera eine einäugige Spiegelreflexkamera ist. 13. Exposure meter according to claim 1, characterized characterized that the camera is a one-eyed SLR camera is.

14. Belichtungsmeßvorrichtung für eine Kamera umfas send eine Photometereinrichtung mit einzelnen Meß zonen, welche einer Bildebene entsprechen, und eine Einstellvorrichtung zur Veränderung der Bild ebenengröße zwischen einer vollen Größe und einer geringeren Größe, wobei mindestens ein Teil der einzelnen Meßzonen und der beiden Bildebenen die selben Grenzen haben.14. Includes exposure meter for a camera send a photometer device with individual measurement zones corresponding to an image plane, and an adjusting device for changing the image layer size between a full size and one smaller size, with at least part of the individual measuring zones and the two image planes have the same limits.

15. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 14, da durch gekennzeichnet, daß die Kamera eine einäugi ge Spiegelreflexkamera ist.15. Exposure meter according to claim 14, there characterized in that the camera is one-eyed SLR camera.

16. Belichtungsmeßvorrichtung für eine Kamera mit einer Bildebene umfassend eine vorgegebene Anord nung einzelner Meßzonen, auf welche Lichtstrahlen geleitet und von denen entsprechende Ausgangssi gnale abgegeben werden gekennzeichnet durch eine Photometereinrichtung zur Messung einer Objekthel ligkeit entsprechend den Ausgangssignalen der ein zelnen Meßzonen, eine Einstellvorrichtung zur Ver änderung der Bildebenengröße zwischen einer vollen Größe und einer geringeren Größe und eine Meßzo nenwähleinrichtung zur Auswahl geeigneter Aus gangssignale der Meßzonen, die der Photometer einrichtung zugeführt werden sollen in Abhängig keit der Bildebenengröße.16. Exposure meter for a camera with an image plane comprising a given arrangement of individual measuring zones, on which light rays directed and from which corresponding output si gnale are identified by a Photometer device for measuring an object helm according to the output signals of the individual measuring zones, an adjusting device for ver Change the image plane size between a full one Size and a smaller size and a Meßzo selector for selecting suitable options output signals of the measuring zones, that of the photometer facility to be fed depending on image size.

17. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 16, da durch gekennzeichnet, daß die Kamera eine einäugi ge Spiegelreflexkamera ist.17. Exposure meter according to claim 16, there characterized in that the camera is one-eyed SLR camera.

18. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 16, ge kennzeichnet durch eine Einrichtung zur Gewichtung der Ausgangssignale der einzelnen Meßzonen in Ab hängigkeit der Größe der ausgewählten Bildebene. 18. Exposure meter according to claim 16, ge characterized by a weighting device the output signals of the individual measuring zones in Ab the size of the selected image layer.

19. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 18, ge kennzeichnet durch eine Einrichtung zur Verände rung der gewichteten Werte der Ausgangssignale der einzelnen Meßzonen.19. Exposure meter according to claim 18, ge characterized by a facility for change tion of the weighted values of the output signals of the individual measuring zones.

20. Belichtungsmeßvorrichtung für eine Kamera mit einer Bildebene, gekennzeichnet durch eine Ein stellvorrichtung zur Veränderung der Bildebenen größe zwischen einer Bildebene voller Größe und einer Bildebene geringerer Größe, eine Mehrzahl von einzelnen Meßzonen, welche der Bildebene vol ler Größe entsprechen, photometrische Elemente, die in den einzelnen Meßzonen vorgesehen sind, eine Photometereinrichtung zur Messung der Objekt helligkeit in Übereinstimmung mit den Ausgangssi gnalen der photometrischen Elemente und eine Meß zonenwähleinrichtung zur Auswahl der der Photome tereinrichtung in Abhängigkeit der Bildebenengröße zuzuführenden Ausgangssignale der Meßzonen, wobei die einzelnen Meßzonen, die bei Auswahl der Bild ebene geringerer Größe ausgewählt werden sollen, der Bildebene geringerer Größe entsprechen.20. Exposure meter for a camera with an image plane, characterized by an on adjusting device for changing the image planes size between a full size and an image plane of smaller size, a plurality of individual measuring zones, which the image plane vol correspond to size, photometric elements, which are provided in the individual measuring zones, a photometer device for measuring the object brightness in accordance with the output si gnalen the photometric elements and a measuring zone selection device for the selection of the photomes depending on the size of the image plane output signals to be supplied to the measuring zones, where the individual measuring zones when selecting the image layer of smaller size should be selected, correspond to the image plane of smaller size.

21. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 20, da durch gekennzeichnet, daß die Kamera eine einäugi ge Spiegelreflexkamera ist.21. Exposure meter according to claim 20, there characterized in that the camera is one-eyed SLR camera.

22. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 20, ge kennzeichnet durch eine Einrichtung zur Gewichtung der Ausgangssignale der photometrischen Elemente in Abhängigkeit der Größe der ausgewählten Bild ebene. 22. Exposure meter according to claim 20, ge characterized by a weighting device the output signals of the photometric elements depending on the size of the selected image level.

23. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 20, ge kennzeichnet durch eine Einrichtung zur Verände rung der gewichteten Werte der Ausgangssignale der photometrischen Elemente.23. Exposure meter according to claim 20, ge characterized by a facility for change tion of the weighted values of the output signals of the photometric elements.

24. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 23, da durch gekennzeichnet, daß die Bildebene geringerer Größe eine Panoramabildebene ist.24. Exposure meter according to claim 23, there characterized in that the image plane is less Size is a panoramic image plane.

25. Belichtungsmeßvorrichtung nach Anspruch 23, da durch gekennzeichnet, daß die Bildebene geringerer Größe eine Bildebene der halben Normalgröße ist.25. Exposure meter according to claim 23, there characterized in that the image plane is less Size is an image layer half the normal size.