DE4206544A1 - Zweikoordinaten-wegmesssystem - Google Patents

Zweikoordinaten-wegmesssystem

Info

Publication number
DE4206544A1
DE4206544A1 DE19924206544 DE4206544A DE4206544A1 DE 4206544 A1 DE4206544 A1 DE 4206544A1 DE 19924206544 DE19924206544 DE 19924206544 DE 4206544 A DE4206544 A DE 4206544A DE 4206544 A1 DE4206544 A1 DE 4206544A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
windows
grid
line
measuring system
window
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19924206544
Other languages
English (en)
Inventor
Bernhard Dr Loewe
Ulrich Dr Pahl
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LPKF CAD CAM Systeme GmbH
Original Assignee
LPKF CAD CAM Systeme GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LPKF CAD CAM Systeme GmbH filed Critical LPKF CAD CAM Systeme GmbH
Priority to DE19924206544 priority Critical patent/DE4206544A1/de
Publication of DE4206544A1 publication Critical patent/DE4206544A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01DMEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01D5/00Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
    • G01D5/26Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
    • G01D5/32Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
    • G01D5/34Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
    • G01D5/347Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells using displacement encoding scales
    • G01D5/34707Scales; Discs, e.g. fixation, fabrication, compensation
    • G01D5/34715Scale reading or illumination devices

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Optical Transform (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Zweikoordinaten-Wegmeßsystem für eine Vorrichtung zur Durchführung von Bewegungen eines Kör­ pers in einer Ebene gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Zweikoordinaten-Positionierantriebe mit Positionsabwei­ chungen im Bereich weniger Mikrometer erlangen immer mehr Bedeu­ tung, z. B. bei der Strukturierung von Leiterplatten mittels me­ chanischer Werkzeuge oder Laserstrahlen, beim Bonden in der Halb­ leiterfertigung, bei x-y-Meßtischen und bei Werkzeugmaschinen, um nur einige Beispiele zu nennen.
Beim Einsatz geregelter Servomotoren in diesen Antrie­ ben ist es notwendig, die Lage des zu positionierenden Körpers in einer Ebene zu messen. Diese Lagenmessung kann mit Hilfe zweier linearer Wegmeßsysteme, die z. B. photoelektrisch inkremental ar­ beiten, durchgeführt werden. Lineare Wegmeßsysteme verwenden Linienraster als Maßstab. Aufgrund der begrenzten Ausdehnung des Linienfeldes quer zur Richtung der Linien ist beim Einsatz dieser Systeme in den oben genannten Antrieben eine konstruktive Tren­ nung der Antriebsachsen notwendig. Außerdem wächst mit zunehmen­ der Anforderung an die Genauigkeit dieser Positionierantriebe der Justageaufwand der Antriebsachsen zueinander.
Lineare Wegmeßsysteme sind für Zweikoordinaten-Positio­ nierantriebe, bei denen die Antriebsachsen konstruktiv in einer Ebene angeordnet sein sollen, daher nicht einsetzbar.
Eine andere Möglichkeit zur Messung der Lage des Kör­ pers in der Ebene ist in EP-A1-03 17 787 beschrieben. Der in dieser Druckschrift gezeigte Zweikoordinaten-Antrieb bewegt sich plan­ parallel auf einer Führungsebene. Zur Positionsmessung sind am Läufer des Antriebs zwei Meßelemente angebracht, die mit in x- und y-Richtung orientierten langen Stricheinheiten versehen sind. Gegenüber diesen Meßelementen sind zwei Meßköpfe angeordnet. Je­ der Meßkopf tastet die Stricheinheiten einer Richtung ab, wobei die optronisch arbeitenden Meßköpfe von den Meßelementen stel­ lungsabhängige Daten ermitteln und in Signale umwandeln, die den elektromotorischen Antrieben oder einer Steuereinheit für die An­ triebe zugeführt werden. Dieses bekannte System hat den Nachteil, daß jeder Meßkopf einzeln bezüglich des Meßelements justiert wer­ den muß.
Eine weitere Möglichkeit zur Lagemessung in der Ebene besteht in der Abtastung eines Kreuzrasters als Maßstab. Der Kreuzraster entsteht durch die Kombination zweier Linienraster mit einer gleichen Rasterkonstante p oder mit ungleichen Raster­ konstanten p und q, wobei zwei Gruppen von langen Linien mit end­ licher Breite aufeinander senkrecht stehend auf dem Maßstabträger aufgebracht werden. Die Rasterkonstante p bzw. q ist der Abstand zwischen zwei Lücken oder zwei Linien des Rasters. Der Raster kann symmetrisch aufgebaut sein, d. h. die Breite der Linien und Lücken ist gleich, oder er kann unsymmetrisch aufgebaut sein.
Ein solcher Kreuzraster-Maßstab gestattet den Aufbau eines integrierten Zweikoordinaten-Lagemeßsystems. Bei seinem Einsatz in Positionierantrieben können die Antriebsachsen in einer Ebene angeordnet werden, und der Läufer des Antriebs kann sich planparallel in der Führungsebene bewegen.
In der DD-PS 2 39 013 ist eine Einrichtung zur Messung der Verschiebung eines Körpers in der Ebene unter Verwendung eines Kreuzrasters beschrieben. Die Abtasteinrichtung besteht aus zwei lichtelektrischen Abtasteinheiten, deren Mittellinien senk­ recht aufeinander stehen. Jede Abtasteinheit verfügt über mehrere zeilen- oder matrixförmig angeordnete Empfängerelemente. Durch diese Anordnung der Empfängerelemente ist die Abtasteinrichtung unempfindlich gegenüber einer ungenauen Justage bezüglich des Kreuzrasters. Dadurch verursachte Amplitudenunterschiede und Pha­ senfehler der elektrischen Signale der Abtasteinrichtung sind mi­ nimal.
Nachteilig bei dieser bekannten Einrichtung ist der verhältnismäßig hohe Aufwand, die Verwendbarkeit der Einrichtung nur im Durchlicht und die Realisierbarkeit einer akzeptablen Bau­ größe nur durch Verwendung eines Halbleiterchips.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Zweiko­ ordinaten-Wegmeßsystem der im Oberbegriff des Anspruchs 1 genann­ ten Art zu schaffen, das sowohl im Durchlicht als auch im Auf­ licht arbeiten kann, das im Aufbau einfach ist, und das es ferner ermöglicht, neben der Funktion der Wegmessung auch die Funktionen der Erkennung von Endlagen- und Nullpunkt-Positionen zu überneh­ men.
Die gestellte Aufgabe wird durch die im Anspruch 1 an­ gegebenen Merkmale gelöst.
Vorteilhafte Weiterentwicklungen der Erfindung sind den Unteransprüchen zu entnehmen.
Die erfindungsgemäße Rasterplatte stellt ein außeror­ dentlich einfaches Element dar, das aber trotzdem alle für ein Zweikoordinaten-Wegmeßsystem notwendigen Meßfunktionen in sich vereinigt. Aufgrund der konstruktiven Trennung der Abtasteinrich­ tung in eine Abtastrasterplatte und eine Ebene, in der die Photo­ empfänger bei Durchlichtbetrieb bzw. die Strahlungsquellen (In­ frarot-Emitterdioden) bei Auflichtbetrieb angeordnet sind, ist ein thermisch isolierter Aufbau des Meßsystems möglich, d. h. thermische Verluste der Strahlungsquellen beeinflussen die Genau­ igkeit der Wegmessung nicht.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand der beigefügten Zeichnungen näher erläutert. In den Zeichnungen stellen dar:
Fig. 1 einen Kreuzraster-Maßstab mit einem vergrößerten Ausschnitt,
Fig. 2 eine schematische perspektivische Dar­ stellung des erfindungsgemäßen Meß­ sytems,
Fig. 3 eine Draufsicht auf die Abtastraster­ platte,
Fig. 4.1 ein Beispiel für den Phasenversatz des Rasters in den Fenstern einer Gruppe von zwei Fensterpaaren für eine Koor­ dinate,
Fig. 4.2 ein weiteres Beispiel für den Phasen­ versatz des Rasters in den Fenstern einer Gruppe von zwei Fensterpaaren für eine Koordinate,
Fig. 5 eine schematische perspektivische Dar­ stellung eines erfindungsgemäßen, im Durchlicht arbeitenden Meßsystems und
Fig. 6 eine Draufsicht auf eine Abtastraster­ platte mit weiteren Meßfenstern.
Fig. 1 zeigt eine Trägerplatte 1 mit einem darauf an­ gebrachten Kreuzraster 14, von dem in Fig. 1 unten ein Ausschnitt dargestellt ist, aus dem ersichtlich ist, daß es sich um ein sym­ metrisches Kreuzraster handelt, bei dem die Rasterkonstante p in der einen Koordinate gleich der Rasterkonstanten q in der ande­ ren, zur ersten Koordinate senkrecht stehenden Koordinate ist, d. h. die Breite der Linien und Lücken ist gleich. Der Linienra­ ster kann jedoch auch unsymmetrisch aufgebaut sein.
Das in Fig. 2 dargestellte Meßsystem besteht aus der Trägerplatte 1, auf der der Kreuzraster 14 aufgebracht ist, einer mit Fenstern versehenen Abtastrasterplatte 3 und Photoempfängern 2, die den Fenstern zugeordnet sind. Die Abtastrasterplatte 3 be­ findet sich im Abstand h von der Trägerplatte 1, wobei die Trä­ gerplatte 1 relativ zur Abtastrasterplatte 3 und den Photoempfän­ gern 2 in zwei Freiheitsgraden in einer zur Abtastrasterplatte 3 parallelen Ebene verschiebbar ist.
Die in Fig. 3 in Draufsicht dargestellte Abtastraster­ platte 3 besteht aus transparentem Material, z. B. Glas. Auf ihrer dem Kreuzraster-Maßstab zugekehrten Seite ist bis auf Fenster 4 bis 11, die vorzugsweise eine rechteckige Form aufweisen, eine lichtundurchlässige Schicht (z. B. Chrom oder Aluminium) oder eine Schichtfolge, (z. B. Chromoxid-Chrom-Chromoxid), aufgebracht. In der Abtastrasterplatte 3 sind zwei Gruppen von je zwei Fenster­ paaren (4, 5; 6, 7) bzw. (8, 9; 10, 11) angeordet, die licht­ durchlässig sind. Die Fenster 4 bis 7 sind jeweils mit einem Linienraster versehen, das dieselbe Rasterkonstante sowie Linien- und Lückenbreite der ihnen zugeordneten Koordinate des Kreuzra­ sters 14 besitzt. Das gleiche gilt für die Fenster 8 bis 11. Die Fenster 4 bis 7 sowie die Fenster 8 bis 11 sind so angeordnet, daß deren Mittellinien A und B senkrecht aufeinander stehen. Die Mittellinien schneiden sich in einem Punkt. In jeder Koordinate können die Gruppen von zwei Fensterpaaren symmetrisch oder unsym­ metrisch zum Schnittpunkt der Linien A und B liegen. Es kann die dargestellte kreuzförmige Anordnung der Fenster vorgesehen wer­ den. Es sind aber auch andere Konfigurationen möglich, z. B. eine L-förmige Anordnung. Der Linienraster in den Fenstern 4 bis 7 verläuft parallel zur Mittellinie B der Fenster 8 bis 11, und der Linienraster in den Fenstern 8 bis 11 verläuft parallel zur Mittellinie A der Fenster 4 bis 7. Die Linien der Linienraster in den Fenstern 4 bis 11 bestehen ebenfalls aus einer lichtundurch­ lässigen Schicht (z. B. Chrom oder Aluminium) oder einer Schicht­ folge (z. B. Chromoxid-Chrom-Chromoxid).
Die Linienraster in den Fenstern 4 bis 7 bzw. 8 bis 11 sind zueinander phasenversetzt aufgebracht. Eine Möglichkeit zeigt Fig. 4.1. Der Abstand zwischen einer beliebigen Linie des Linienrasters in einem der Fenster 4 bis 7 und einer beliebigen Linie des Linienrasters in einem anderen der Fenster 4 bis 7 kann ein ganzzahliges Vielfaches des Wertes der Rasterkonstanten p addiert mit einem Viertel des Wertes der Rasterkonstanten p be­ tragen. K, m und n sind ganze Zahlen.
Eine weitere Möglichkeit zeigt Fig. 4.2. Der Abstand zwischen einer beliebigen Linie des Rasters im Fenster 4′ und einer beliebigen Linie im Fenster 7′ beträgt ein ganzzahliges Vielfaches der Rasterkonstanten p addiert mit der Hälfte des Wer­ tes der Rasterkonstanten p. Dies gilt auch für den Versatz zwi­ schen den Fenstern 5′ und 6′. Der Versatz des Linienrasters zwi­ schen den Fenstern 4′ und 5′ beträgt ein Viertel der Rasterkon­ stanten p.
Die zuvor gemachten Aussagen über den Phasenversatz des Linienrasters in den Fenstern 4 bis 7 bzw. 4′ bis 7′ gelten eben­ falls für die Fenster 8 bis 11 bzw. 8′ bis 11′.
Mit den beschriebenen Fenstern kann der Kreuzraster- Maßstab 14 im Durch- oder Auflicht abgetastet werden. Die Funk­ tionsweise für ein Durchlicht-Meßsystem soll im folgenden anhand von Fig. 5 erläutert werden, in der das System schematisch darge­ stellt ist. Das System besteht aus einer Beleuchtungsquelle 12, einem Kondensor 13, dem Kreuzraster-Maßstab 14, der Abtastraster­ platte 3 und den Photoempfängern 16. Der Maßstab 14 ist gegenüber der Beleuchtungsquelle 12, dem Kondensor 13, der Abtastraster­ platte 15 und den Photoempfängern 16 beweglich angeordnet. Die Abtastrasterplatte mit den Photoempfängern ist gegenüber dem Kreuzraster-Maßstab so auszurichten, daß die Linien des Linien­ rasters in den Fenstern 4 bis 11 der Abtastrasterplatte parallel zu den Linien des Kreuzrasters verlaufen. Der Phasenversatz des Linienrasters in den Fenstern 4 bis 11 der Abtastrasterplatte 3 ist dabei so gewählt wie sie in Fig. 4.1 gezeigt ist.
Es ergeben sich bei den nachfolgend beschriebenen Po­ sitionen die folgenden Signale:
  • a) Den Linien des Linienrasters in den Fenstern 4 und 8 stehen Linien des Kreuzrasters gegenüber, d. h. die Fenster sind hell (Signal = 1),
  • b) die Lücken des Linienrasters in den Fenstern 5 und 9 sowie 7 und 11 sind jeweils zur Hälfte ihrer Breite durch die Linien des Kreuzrasters abgedeckt (Signal=0.5) und
  • c) die Lücken des Linienrasters in den Fenstern 6 und 10 sind in ihrer ganzen Breite durch die Linien des Kreuzrasters ab­ gedeckt (Signal=0).
Bewegt sich der Maßstab in X-Richtung um den Betrag X=p (p ent­ spricht der Rasterkonsten) in Schritten von X=0.25*p zur Ab­ tasteinrichtung, so ändern sich die Beleuchtungsverhältnisse in den einzelnen Fenstern 4 bis 11 entsprechend den in Tafel 1 an­ gegebenen Signalverläufen.
Tafel 1
Der Verlauf der Beleuchtungsverhältnisse in den Fen­ stern 4 bis 11 für eine Verschiebung des Maßstabes in Y-Richtung ist in Tafel 2 gezeigt.
Tafel 2
Bewegt sich der Maßstab von der beschriebenen Ausgangs­ position gleichzeitig in X- und Y-Richtung, so ergibt sich der in Tafel 3 angegebene Verlauf der Beleuchtungsverhältnisse in den einzelnen Fenstern.
Tafel 3
Der Verlauf der Beleuchtungsverhältnisse in den Fen­ stern 4 bis 11 wird mit Hilfe der Photoempfänger 16 in elektri­ sche Signale gewandelt, und diese können dann mit den entspre­ chenden Verfahren, die z. B. auch bei linearen photoelektrischen inkrementalen Wegmeßsystemen üblich sind, weiterverarbeitet wer­ den.
Beim Einsatz einer Abtastrasterplatte mit dem in Fig. 4.2 gezeigten Phasenversatz des Linienrasters in den Fen­ stern 4′ bis 11′ entsprechen die Verläufe der Beleuchtungsver­ hältnisse in den Fenstern 4, 5 bzw. 8, 9 denen in den Fenstern 4′, 5′ bzw. 8′, 9′, jedoch der Verlauf im Fenster 7 dem im Fen­ ster 6′ sowie der im Fenster 11 dem im Fenster 10′.
Bei einem Auflichtsystem sind gegenüber dem beschrie­ benen Durchlichtsystem anstelle der Photoempfänger jeweils ein Photoempfänger und eine Beleuchtungsquelle, z. B. eine LED, vorge­ sehen. Die Photoempfänger wandeln das von den Linien des Kreuz­ rasters reflektierte Licht in elektrische Signale um. Beleuch­ tungsquelle 12 und Kondensor 13 entfallen in einem Auflicht­ system.
Inkrementale Wegmeßsysteme sind relative Meßsysteme, d. h. zur Bestimmung der absoluten Position eines Objektes ist es notwendig, sogenannte Referenzpunkte zu detektieren, deren abso­ lute Position bekannt ist. Für hochdynamische Positionierantriebe ist weiterhin das sichere Erkennen von Endlagen sehr wichtig.
Diese beiden Funktionen lassen sich ebenfalls in die Abtastrasterplatte integrieren. Fig. 6 zeigt schematisch den Auf­ bau einer solchen Platte.
Außer den aus Fig. 3 bekannten Fenstern 4 bis 11 sind zum Detektieren der Endlagen die Fenster 19, 20, 23, 24, 27, 31, 32 und 35 vorgesehen. Sie können z. B. transparent sein. Eine de­ finierte Kante des Kreuzraster-Maßstabes läßt sich somit leicht erkennen.
Die Fenster 17, 18, 21, 22, 29, 30, 33 und 34, in denen z. B. eine spezielle Rasterstruktur angeordnet sein kann, dienen zum Erkennen eines oder mehrerer Referenzpunkte. Ist z. B. die spezielle Rasterstruktur auf dem Kreuzraster ebenfalls vorhanden, so kann sehr genau, z. B. bei Überdeckung der beiden Rasterstruk­ turen, ein Referenzpunkt definiert werden.
Zur Gewinnung spezieller elektrischer Referenzsignale, die für die elektronische Weiterverarbeitung der bei der Abta­ stung gewonnenen elektrischen Signale notwendig sein können, sind die Fenster 25, 26, 28 und 36 auf der Abtastrasterplatte 15 vor­ gesehen. Diese Fenster können z. B. transparent oder mit einer speziellen Rasterstruktur versehen sein. Durch eine spezielle Rasterstruktur, die als Blende für den Photoempfänger wirkt, läßt sich der Pegel des Referenzsignals festlegen. Änderungen der Be­ leuchtungsstärke der Photoempfänger können so erkannt und ausge­ glichen werden.
Zur einfacheren Montage der Abtasteinrichtung können auf der Abtastrasterplatte 15 ferner eine oder mehrere Justier­ marken angeordnet werden, wie sie z. B. in den Fenstern 37 bis 39 zu sehen sind.
Mit Hilfe der beschriebenen Abtastrasterplatte, die alle Funktionen für die Messung beinhaltet, die auf einfache Wei­ se herstellbar ist und nur wenig Raum einnimmt, ist es möglich, sehr kompakte Meßanordnungen für integrierte Zweikoordinaten- Wegmeßsysteme zu bauen.

Claims (11)

1. Zweikoordinaten-Wegmeßsystem für eine Vorrichtung zur Durchführung von Bewegungen eines Körpers in einer Ebene, mit einer photoelektrisch inkremental arbeitenden Abtasteinrichtung, die ein Kreuzraster als Maßstab und eine relativ zu diesem be­ wegbare Meßanordnung enthält, dadurch gekennzeichnet, daß die Meßanordnung eine mit Ausnahme von zwei Gruppen von je zwei Fen­ sterpaaren (4, 5 bzw. 6, 7; 8, 9 bzw. 10, 11) lichtundurchlässige Abtastrasterplatte (3, 15) aufweist, daß die Mittellinie (A) einer Gruppe von zwei Fensterpaaren (4, 5 bzw. 6, 7) die Mittel­ linie (B) der anderen Gruppe von zwei Fensterpaaren (8, 9 bzw. 10, 11) im rechten Winkel schneidet und die Paare jeder Gruppe einan­ der beidseits des Schnittpunktes der Mittellinie (A, B) gegen­ überliegt, daß die Fenster (4 bis 11) mit einem Linienraster ver­ sehen sind, der dieselbe Rasterkonstante (p) sowie Linien- und Lückenbreite der ihnen zugeordneten Koordinate des Kreuzrasters (14) besitzt, und daß die Linienraster in den Fenstern jeder Gruppe von Fensterpaaren von Fenster zu Fenster um einen Bruch­ teil der Rasterkonstanten (p) versetzt zueinander angeordnet sind.
2. Meßsystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Abtastrasterplatte (3, 15) aus transparentem Material besteht und auf ihrer dem Kreuzraster-Maßstab (15) zugekehrten Seite mit Ausnahme der Fenster (4 bis 11) mit einer lichtundurchlässigen Schicht oder Schichtfolge versehen ist, und daß die Linien des Linienrasters in den Fenstern ebenfalls aus einer lichtundurch­ lässigen Schicht oder Schichtfolge bestehen.
3. Meßsystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht aus Chrom oder Aluminium besteht.
4. Meßsystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichtfolge aus Chromoxid-Chrom-Chromoxid besteht.
5. Meßsystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Versatz der Linienraster zwischen den Fenstern, die einer Koordinate zugeordnet sind, ein Viertel des Wertes der Rasterkonstanten (p) beträgt.
6. Meßsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Versatz der Linienraster zwischen den Fenstern, die einer Koordinate zugeordnet sind, die Hälfte des Wertes der Rasterkonstanten (p) zwischen dem ersten und vierten sowie dem zweiten und dritten Fenster, und ein Viertel der Rasterkonstanten (p) zwischen dem ersten und zweiten sowie zwi­ schen dem dritten und vierten Fenster beträgt.
7. Meßsystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß in der Abtastrasterplatte (15) je Koordinate wenigstens ein weiteres Fenster (19, 20, 23, 24, 27, 31, 32, 35) zur Feststellung der Endlagenposition angeordnet ist.
8. Meßsystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß in der Abtastrasterplatte (15) je Koordinate wenigstens ein weiteres Fenster (17, 18, 21, 22, 29, 30, 33, 34) zur Definition von Referenzpunkten für das relativ arbeitende inkrementale Meßsystem angeordnet ist.
9. Meßsystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß in der Abtastrasterplatte (15) je Koordinate wenigstens ein weiteres Fenster (25, 26, 28, 36) zur Gewinnung elektrischer Referenzsignale angeordnet ist.
10. Meßsystem nach Anspruch 6 bis 9, dadurch gekennzeich­ net, daß die zusätzlichen Fenster transparent oder mit Raster- bzw. Linienstrukturen versehen sind.
11. Meßsystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß auf der Abtastrasterplatte (15) Fenster (36, 37, 38, 39) mit Justiermarken vorgesehen sind.
DE19924206544 1992-03-02 1992-03-02 Zweikoordinaten-wegmesssystem Withdrawn DE4206544A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19924206544 DE4206544A1 (de) 1992-03-02 1992-03-02 Zweikoordinaten-wegmesssystem

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19924206544 DE4206544A1 (de) 1992-03-02 1992-03-02 Zweikoordinaten-wegmesssystem

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE4206544A1 true DE4206544A1 (de) 1993-09-09

Family

ID=6453047

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19924206544 Withdrawn DE4206544A1 (de) 1992-03-02 1992-03-02 Zweikoordinaten-wegmesssystem

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE4206544A1 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19511973A1 (de) * 1995-04-02 1996-12-05 Univ Ilmenau Tech Feldgeführter planarer Präzisionsantrieb
EP2030723A1 (de) * 2007-09-03 2009-03-04 Korea Institute Of Machinery & Materials Ebene Bewegungsvorrichtung für eine Maschine

Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1276336B (de) * 1963-08-01 1968-08-29 Wenczler & Heidenhain Optische Einrichtung zum Messen von Strecken und Teilen von Kreisen durch Verschiebung einer Teilung gegenueber einer Ablesevorrichtung
DE1448431A1 (de) * 1963-09-09 1970-06-25 Itek Corp Koordinaten-Messsystem,insbesondere zur Bestimmung der Koordination von Messpunkten eines Objektes
DE2521618B1 (de) * 1975-05-15 1976-03-11 Zeiss Carl Fa Vorrichtung zum Messen oder Einstellen von zweidimensionalen Lagekoordinaten
DE1588018C3 (de) * 1967-11-03 1977-01-20 Jenoptik Jena Gmbh, Ddr 6900 Jena Einrichtung zur x,y-Positionierung von Kreuztischen
DE2945175A1 (de) * 1978-11-11 1980-05-22 Ferranti Ltd Messvorrichtung
GB2070234A (en) * 1980-02-21 1981-09-03 Optimetrix Corp X-Y addressable workpiece positioner
DE2120383C2 (de) * 1970-05-01 1982-04-22 Newell Industries Inc., Sunnyvale, Calif. Einrichtung zum genauen Einstellen zweier in mehrere bestimmte Relativlagen zueinander bewegbarer Teile
DE3346095A1 (de) * 1982-12-22 1984-06-28 VEB Feinmesszeugfabrik Suhl, DDR 6000 Suhl Einrichtung zum kippfehlerfreien messen von verschiebungen eines koerpers
SU1174740A1 (ru) * 1983-01-28 1985-08-23 Предприятие П/Я Р-6348 Устройство дл поверки стрелочных приборов с круговой шкалой
DE3007311C2 (de) * 1980-02-27 1985-11-28 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut Digitales lichtelektrisches Längen- oder Winkelmeßsystem
EP0036026B1 (de) * 1980-03-10 1986-11-12 Eaton-Optimetrix Inc. Adressierbare Positioniervorrichtung
DE3530439A1 (de) * 1985-08-26 1987-02-26 Siemens Ag Vorrichtung zum justieren einer mit mindestens einer justiermarke versehenen maske bezueglich eines mit mindestens einer gitterstruktur versehenen halbleiterwafers
DE3909855A1 (de) * 1989-03-25 1990-09-27 Ems Technik Gmbh Verfahren zur lagerbestimmung einer positionierbaren flaeche sowie lagegeber
US5026164A (en) * 1988-02-22 1991-06-25 Mitutoyo Corporation Optical encoder
EP0482553A2 (de) * 1990-10-22 1992-04-29 Karl SÀ¼ss KG Präzisionsgeräte für Wissenschaft und Industrie - GmbH & Co. Messanordnung für x,y,gamma-Koordinatentische
DE4035948A1 (de) * 1990-11-09 1992-05-14 Leitz Messtechnik Messung von lageaenderungen

Patent Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1276336B (de) * 1963-08-01 1968-08-29 Wenczler & Heidenhain Optische Einrichtung zum Messen von Strecken und Teilen von Kreisen durch Verschiebung einer Teilung gegenueber einer Ablesevorrichtung
DE1448431A1 (de) * 1963-09-09 1970-06-25 Itek Corp Koordinaten-Messsystem,insbesondere zur Bestimmung der Koordination von Messpunkten eines Objektes
DE1588018C3 (de) * 1967-11-03 1977-01-20 Jenoptik Jena Gmbh, Ddr 6900 Jena Einrichtung zur x,y-Positionierung von Kreuztischen
DE2120383C2 (de) * 1970-05-01 1982-04-22 Newell Industries Inc., Sunnyvale, Calif. Einrichtung zum genauen Einstellen zweier in mehrere bestimmte Relativlagen zueinander bewegbarer Teile
DE2521618B1 (de) * 1975-05-15 1976-03-11 Zeiss Carl Fa Vorrichtung zum Messen oder Einstellen von zweidimensionalen Lagekoordinaten
DE2945175A1 (de) * 1978-11-11 1980-05-22 Ferranti Ltd Messvorrichtung
GB2070234A (en) * 1980-02-21 1981-09-03 Optimetrix Corp X-Y addressable workpiece positioner
DE3007311C2 (de) * 1980-02-27 1985-11-28 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut Digitales lichtelektrisches Längen- oder Winkelmeßsystem
EP0036026B1 (de) * 1980-03-10 1986-11-12 Eaton-Optimetrix Inc. Adressierbare Positioniervorrichtung
DE3346095A1 (de) * 1982-12-22 1984-06-28 VEB Feinmesszeugfabrik Suhl, DDR 6000 Suhl Einrichtung zum kippfehlerfreien messen von verschiebungen eines koerpers
SU1174740A1 (ru) * 1983-01-28 1985-08-23 Предприятие П/Я Р-6348 Устройство дл поверки стрелочных приборов с круговой шкалой
DE3530439A1 (de) * 1985-08-26 1987-02-26 Siemens Ag Vorrichtung zum justieren einer mit mindestens einer justiermarke versehenen maske bezueglich eines mit mindestens einer gitterstruktur versehenen halbleiterwafers
US5026164A (en) * 1988-02-22 1991-06-25 Mitutoyo Corporation Optical encoder
DE3909855A1 (de) * 1989-03-25 1990-09-27 Ems Technik Gmbh Verfahren zur lagerbestimmung einer positionierbaren flaeche sowie lagegeber
EP0482553A2 (de) * 1990-10-22 1992-04-29 Karl SÀ¼ss KG Präzisionsgeräte für Wissenschaft und Industrie - GmbH & Co. Messanordnung für x,y,gamma-Koordinatentische
DE4035948A1 (de) * 1990-11-09 1992-05-14 Leitz Messtechnik Messung von lageaenderungen

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19511973A1 (de) * 1995-04-02 1996-12-05 Univ Ilmenau Tech Feldgeführter planarer Präzisionsantrieb
EP2030723A1 (de) * 2007-09-03 2009-03-04 Korea Institute Of Machinery & Materials Ebene Bewegungsvorrichtung für eine Maschine
US8008815B2 (en) 2007-09-03 2011-08-30 Korea Institute Of Machinery & Materials Planar stage moving apparatus for machine

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3176606B1 (de) Verfahren zum ausrichten eines laserscanners
DE102007017630B4 (de) Verfahren zum Steigern der Messgenauigkeit beim Bestimmen der Koordinaten von Strukturen auf einem Substrat
EP0137099B1 (de) Messeinrichtung
DE3241510A1 (de) Verfahren zur steuerung von robotern oder anderen maschinen sowie einrichtung zur pruefung von teilen
EP0141123B1 (de) Lichtelektrische inkrementale Messeinrichtung
DE3936949A1 (de) Kalibrier-verfahren fuer laser-trimmer
EP0493385B1 (de) Hochauflösender encoder
EP0596330A1 (de) Anordnung zum messtechnischen Erfassen von Lastpendelungen bei Kranen
EP0058302A2 (de) Lichtelektrische inkrementale Positioniereinrichtung
EP1995566B1 (de) Maßstab für eine Positionsmesseinrichtung und Positionsmesseinrichtung
EP0276395A2 (de) Lichtelektrische Messeinrichtung
DE3316520C2 (de) Vorrichtung zum Positionieren eines Werkzeuges gegenüber einem Werkstück
EP1019669A1 (de) Vorrichtung zur erfassung der position von zwei körpern
DE1905392A1 (de) Vorrichtung zum Erzeugen von elektrischen Signalen mittels eines Skalengitters,das relativ zu einem Indexgitter bewegbar ist
EP1085291B1 (de) Vorrichtung zur Positionsbestimmung und Ermittlung von Führungsfehlern
EP0279944B1 (de) Lichtelektrische Positionsmesseinrichtung
DE4206544A1 (de) Zweikoordinaten-wegmesssystem
DE112019006322T5 (de) Kontaktlose Dickenmessung
DE19921309A1 (de) Abtasteinheit für eine optische Positionsmeßeinrichtung
DE3816933A1 (de) Einrichtung zum automatischen nachlauf und zur konturmessung
DE3879802T2 (de) Optoelektrisches geraet zum detektieren und zur standortbestimmung einer strahlungsquelle.
DE3611204C2 (de)
DE1473931A1 (de) Einrichtung zur fortwaehrenden Ermittlung der Istlage eines beweglichen Geraetes in einem Bezugskoordinatensystem
AT394275B (de) Lagemesssystem, insbesondere inkrementales lagemesssystem
DE10329931A1 (de) Planarer Direktantrieb mit einem Positionsmesssystem

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
8141 Disposal/no request for examination