DE4125541C2 - Anlage zum Reinigen von Wasser - Google Patents

Anlage zum Reinigen von Wasser

Info

Publication number
DE4125541C2
DE4125541C2 DE4125541A DE4125541A DE4125541C2 DE 4125541 C2 DE4125541 C2 DE 4125541C2 DE 4125541 A DE4125541 A DE 4125541A DE 4125541 A DE4125541 A DE 4125541A DE 4125541 C2 DE4125541 C2 DE 4125541C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
water
unit
ion exchange
ozone
ion exchanger
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE4125541A
Other languages
English (en)
Other versions
DE4125541A1 (de
Inventor
Hitoshi Miyamaru
Takaaki Fukumoto
Motonori Yanagi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Rensui Co
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Nippon Rensui Co
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Rensui Co, Mitsubishi Electric Corp filed Critical Nippon Rensui Co
Publication of DE4125541A1 publication Critical patent/DE4125541A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE4125541C2 publication Critical patent/DE4125541C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D61/00Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/02Reverse osmosis; Hyperfiltration ; Nanofiltration
    • B01D61/025Reverse osmosis; Hyperfiltration
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/42Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/44Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
    • C02F1/441Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by reverse osmosis
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F9/00Multistage treatment of water, waste water or sewage
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S210/00Liquid purification or separation
    • Y10S210/90Ultra pure water, e.g. conductivity water

Landscapes

  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)

Description

Diese Erfindung betrifft eine Anlage zum Reinigen von Wasser. Genauer ausgedrückt betrifft diese Erfindung eine Anlage zur Herstellung von ultrareinem Wasser, das als Spülwasser für integrierte Schaltungen mit sehr hoher Integrationsdichte (VLSI) und dergleichen benutzt wird.
Eine große Menge an reinem bzw. ultrareinem Wasser wird in der elektronischen Industrie verwendet. Weil der Integrationsgrad von integrierten Schaltungen mit hoher Integrationsdichte (LSI) zunimmt, gibt es ein immer größeres Erfordernis für eine hohe Reinheit von ultrareinem Wasser. Eine Ionenaustauscheinheit, ein Ultraviolett-Sterilisator, ein Patronenfilter, eine reverse Osmoseeinheit (nachfolgend mit "RO" bezeichnet), eine Ultrafiltermembran sowie andere Komponenten wurden bisher zusammen in einer Vielstufenstruktur kombiniert, um so ultrareines Wasser herzustellen.
Fig. 4 stellt ein Fließschema dar, welches Schritte zeigt, durch die Wasser durch eine konventionelle Wasserreinigungsanlage behandelt wird. Ausgangs- bzw. Rohwasser wird in einem Rohwasserbehälter 1 aufgenommen, und dann werden suspendierte Feststoffe in dem Rohwasser durch einen Koagulationsfilter 2 entfernt. Ein Koagulationsmittel wie Polyaluminiumchlorid wird zu dem Rohwasser hinzugegeben. Das Rohwasser, welches durch den Koagulationsfilter 2 behandelt ist, wird dann in einem Behälter 3 für gefiltertes Wasser gelagert. Danach entfernt eine sogenannte Ionenaustauscheinheit vom Zwei-Bett-Drei-Turm-Typ, die sich aus einem Kationenaustauschturm 4, einem Decarbonisierungsturm 5 und einem Anionenaustauschturm 6 zusammensetzt, Ionen aus dem gefilterten Wasser. Der Kationenaustauschturm 4 entfernt ebenso wie der Anionenaustauschturm 6 feine Partikel und organische Substanzen aus dem Wasser. Das Wasser, das durch den Anionenaustauschturm 6 behandelt worden ist, wird vorübergehend in einem Behälter 7 für behandeltes Wasser gelagert und dann durch einen Wärmeaustauscher 8, einen Ultraviolett-Sterilisator 9 und einen Sicherheitsfilter 10 geleitet, bevor es zu einer RO-Einheit 11 geführt wird. Das Wasser wird mit Hilfe der RO-Einheit 11 behandelt und in einem Behälter 12 für mit Hilfe von RO behandeltes Wasser gelagert. Eine Mischbett-Ionenaustauscheinheit 13 entfernt dann die restlichen Ionen aus dem Wasser, wodurch sich ein Widerstand von Wasser von 10 Megaohm × cm oder mehr ergibt. Das Wasser wird entweder seinem Verwendungszweck zugeführt oder zu einem Poliersystem weitergeleitet, um ultrareines Wasser zu erzeugen.
Die konventionelle Wasserreinigungsanlage ist wie oben beschrieben konfiguriert. Die RO-Einheit 11 ist eine Membran mit einer Porengröße von mehreren Angström und entfernt Ionen, feine Teilchen, Pilze, organische Substanzen mit hohem Molekulargewicht und kolloide Substanzen wie kolloides Siliziumdioxid, die allesamt im Wasser vorhanden sind. Die RO-Einheit 11 ist aus einer dünnen Membran hergestellt und wird unter einem hohen Druck von 0,98 bis 2,94 MPa [10 bis 30 Kg/cm²] betrieben. Daher gelangen einige der oben erwähnten Substanzen durch die RO-Einheit 11 hindurch, wodurch sich der Anteil der Entfernung an kolloiden Substanzen insbesondere vermindert.
In der letzten Zeit wurden kolloide Substanzen wie kolloides Siliziumdioxid, kolloides Metall und kolloide organische Substanzen zu einem sehr ernsthaften Problem, wenn Spülwasser mit hoher Reinheit für VLSI- und ULSI-Einheiten hergestellt werden soll. Die so aufgebaute, konventionelle Wasserreinigungsanlage weist bei der Entfernung von kolloiden Substanzen aus dem Wasser Schwierigkeiten auf.
Weiterhin offenbart US-A-4 836 929 ein Verfahren zur Reinigung von Wasser, das aus den folgenden Schritten besteht:
  • (i) Elektrolyse von Wasser in einer elektrochemischen Zelle, die mit einem Festelektrolyten, einem Anodenraum und einem Kathodenraum versehen ist, zur Bildung von Ozon im Anodenraum und Wasserstoff im Kathodenraum;
  • (ii) Umsetzung des Wassers mit dem Ozon während hinreichender Zeit zum Abbau von organischen Substanzen und Mikroben im Wasser, so daß ein ozonbehandeltes Wasser erhalten wird;
  • (iii) Exposition dieses ozonbehandelten Wassers an ultraviolette Strahlung und
  • (iv) Inkontaktbringen dieses bestrahlten Wassers mit einem Teil des im Kathodenraum erzeugten Wasserstoffs oder mit extern zugeführtem Wasserstoff zum Abbau von Sauerstoff oder Ozon. Nach dem Reduktionsschritt kann das Wasser durch einen Mischbettionenaustauscher und durch einen RO-Filter geleitet und in einem Tank aufgenommen werden. Das Verfahren kann auch mit ultravioletter Strahlung alleine oder mit O₂ und O₃ Abbau durch H₂ alleine ausgeführt werden.
Handbuch Wasser, 5. Auflage, Vulkan-Verlag Essen, 1979, Seite 169, offenbart Membranen auf Celluloseacetat- und Polyamidbasis insbesondere zur Anwendung bei der Umkehrosmose.
DE-U1-81 11 288 offenbart allgemein Einrichtungen zur Durchführung verfahrenstechnischer Prozesse, insbesondere auch Prozesse zur Abwasserreinigung, mittels hintereinander geschalteten und vertikal übereinander angeordneten Behältern mit vorgeschaltetem Filter, die als Module ausgebildet sind. Die Module können mit voneinander unterschiedlichen Substanzen und/oder verfahrenstechnischen Baugruppen befüllt werden.
Weiterhin offenbart US-A-4 759 849, daß ein zu reinigendes Wasser, das einer RO-Einheit zugeführt wird, zuvor mit Ozon behandelt werden kann.
Keine dieser Veröffentlichungen spricht jedoch das Problem der Entfernung von kolloidalen Substanzen aus Wasser an.
Die vorliegende Erfindung wurde gemacht, um die oben angesprochenen Probleme zu lösen. Es ist daher ein Ziel dieser Erfindung, eine Anlage sowie ein Verfahren zum Reinigen von Wasser zur Verfügung zu stellen, mit deren Hilfe kolloide Substanzen effektiv entfernt werden können, die nicht durch eine RO-Einheit oder durch die anderen Membranen entfernt werden können.
Um diese Aufgabe zu lösen, wird entsprechend einem Aspekt dieser Erfindung eine Wasserreinigungsanlage zur Verfügung gestellt, die die aufeinanderfolgenden Elemente umfaßt:
  • - einen Koagulationsfilter (2)
  • - eine erste Ionenaustauschereinheit (4)-(6)
  • - eine Ozonbehandlungseinheit (14), die der Ionenaustauschereinheit nachgeschaltet ist
  • - einen Aktivkohleturm (15)
  • - eine zweite Ionenaustauschereinheit (13)
  • - einen Wärmeaustauscher (8)
  • - einen Ultraviolettsterilisator (9) und
  • - eine reverse Osmosemembraneinheit (11).
Bevorzugte Ausgestaltungen sind Gegenstand der Ansprüche 2 bis 6.
Gemäß einem zweiten Aspekt dieser Erfindung wird eine solche Anlage zur Entfernung von kolloidalen Substanzen aus Wasser verwendet.
Diese Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die Zeichnungen noch detaillierter beschrieben. In den Figuren zeigt:
Fig. 1 ein Fließschema, welches die Schritte darstellt, durch die Wasser durch eine Wasserreinigungsanlage entsprechend einem Ausführungsbeispiel dieser Erfindung behandelt wird;
Fig. 2 einen schematischen Schnitt durch einen Ozonbehandlungsturm;
Fig. 3 ein Fließschema, welches Schritte darstellt, durch die Wasser durch die Wasserreinigungsanlage gemäß einem anderen Beispiel dieser Erfindung behandelt wird; und
Fig. 4 ein Fließschema, welches Schritte darstellt, durch die Wasser durch die konventionelle Wasserreinigungsanlage behandelt wird.
Fig. 1 ist ein Fließschema, welches Schritte darstellt, durch die Wasser durch eine Wasserreinigungsanlage entsprechend einem Ausführungsbeispiel dieser Erfindung behandelt wird. Die Komponenten oder die Schritte, die mit den Bezugszeichen 1 bis 13 in Fig. 1 bezeichnet sind, sind die gleichen Komponenten oder Schritte, wie sie bei der konventionellen Wasserreinigungsanlage verwendet werden. Wasser, das durch einen Anionenaustauschturm 6 behandelt ist, wird in einem Behälter 7 für entionisiertes Wasser gelagert und wird dann in einen Ozonbehandlungsturm 14 für die Oxidation eingeführt. Das Problem bei der konventionellen Wasserreinigungsanlage liegt darin, daß einige kolloide Substanzen in Wasser selbst durch eine RO-Einheit 11 hindurchgehen, die die kleinste Porengröße aufweist. Aus diesem Grund wird der Ozonbehandlungsturm 14, der für eine der Oxidation verwendet wird, so vorgesehen, daß er nicht nur die kolloiden Substanzen in feste, feine Oxidteilchen umwandelt, sondern daß ebenfalls organische Substanzen mit geringem Molekulargewicht zu organischen Säuren und Kohlensäure oxidiert werden.
Fig. 2 stellt einen schematischen Schnitt durch einen Ozonbehandlungsturm dar. Das zu behandelnde Wasser wird durch ein Wassereinführrohr 21 in einen Reaktionsbehälter 22 geleitet. Das durch einen Ozonisator (nicht dargestellt) erzeugte Ozon wird in den Reaktionsbehälter 22 durch ein Ozonzuführrohr 26 eingeführt und wird dann durch ein Ozonverteilungsrohr 27, welches mit dem Ende des Ozonzuführrohres 26 verbunden ist, eingeblasen. Das Wasser, welches durch das Ozon nachdrücklich oxidiert worden ist, wird durch ein Reaktionsbehälter-Auslaßrohr 23 geleitet und in einem Behälter 24 für mit Ozon behandeltes Wasser gelagert, bevor es durch einen Auslaß 25 für mit Ozon behandeltes Wasser herausgelassen wird. Das noch unumgesetzte Ozon verläßt das System nach außen durch ein Ozonauslaßrohr 28. Während der Ozonbehandlung kann Wasserstoffperoxid in den Reaktionsbehälter 22 zugegeben werden, um dadurch die kolloiden Substanzen weiter zu oxidieren, was die Wirksamkeit eines solchen Verfahrens noch verbessert.
Da Ozon im Wasser gelöst wird, das durch Ozon oxidiert wurde, können Ionenaustauschharze durch Oxidation zerstört werden, wenn das Wasser direkt zu einer Mischbett-Ionenaustauscheinheit 13 geführt wird. Aus diesem Grund wird das Wasser in die Mischbett-Ionenaustauscheinheit 13 geführt, nachdem entweder ein Aktivkohleturm 15 zum Zersetzen von Ozon oder ein Reduktionsmittel wie NaHSO₃ zur Entfernung von Ozon verwendet worden ist. Die Ozonbehandlung wandelt die kolloiden Substanzen in oxidierte, feste, feine Partikel um, wodurch die Anzahl der feinen Partikel zunimmt, die die RO-Einheit 11 verstopfen. Die Mischbett-Ionenaustauscheinheit 13 wird in diesem Behandlungsschritt eingeführt, da sie verhindert, daß die RO-Einheit 11 verstopft. Nachdem die Mischbett-Ionenaustauscheinheit 13 die feinen Partikel entfernt hat, wird das behandelte Wasser der RO-Einheit 11 zugeführt. Da die Mischbett-Ionenaustauscheinheit 13 ebenfalls organische Säuren und Kohlensäure entfernt, die durch die Ozonbehandlung erzeugt wurden, wird der Gehalt an gesamtem organischen Kohlenstoff in Wasser vermindert.
Das Wasser, das durch die Mischbett-Ionenaustauscheinheit 13 behandelt worden ist, wird dann durch einen Wärmeaustauscher 8 und andere Komponenten geleitet und wird durch die RO-Einheit 11 behandelt. Da Ozon in dem vorhergehenden Schritt verwendet wird, wird eine reverse Osmosemembran, die oxidationsresistent ist, vorzugsweise eine, die aus einem aromatischen Polyamidharz oder Celluloseazetatharz hergestellt ist, als RO-Einheit 11 verwendet, um zu verhindern, daß sie wegen der Oxidation über verlängerte Zeitspannen hinweg zerstört wird. Die RO-Einheit 11 entfernt die festen, feinen Oxidteilchen, die nicht durch die Mischbett-Ionenaustauscheinheit 13 entfernt wurden, ebenso wie organische Substanzen mit verhältnismäßig hohem Molekulargewicht,die nicht durch die Ozonbehandlung oxidiert wurden.
Die folgende Tabelle zeigt die Qualität von reinem Wasser, das durch die erfindungsgemäße Wasserreinigungsanlage erhalten wird.
Tabelle
Wenn die Ozonbehandlung durchgeführt wird, findet eine ungefähre Verdoppelung der feinen Teilchen, die jeweils eine Größe von 0,07 µm oder mehr aufweisen, in dem Wasser bei dem Einlaß in die Mischbett-Ionenaustauscheinheit von 26 000 auf 51 000 Teilchen pro ml statt. Der nicht flüchtige Rest verbleibt auf der anderen Seite gleich, nämlich bei 1000 ppb. Aus diesem Grund wird angenommen, daß die Ozonbehandlung die kolloiden Substanzen in feste, feine Oxidpartikel umgewandelt hat. Der nicht-flüchtige Rest dient als Index für die Anzahl der kolloiden Substanzen, was die Gesamtmenge der kolloiden Substanzen und der feinen Teilchen anzeigt. Der nicht-flüchtige Rest in dem Wasser bei dem Auslaß der RO-Einheit nimmt um eine 10er Potenz von 100 ppb auf 10 ppb ab. Die Anzahl der kolloiden Substanzen vermindert sich drastisch und das Wasser wird zehnmal so rein wie das Wasser, das durch die übliche Anlage und ein übliches Verfahren erhältlich ist.
Bei dem oben beschriebenen Ausführungsbeispiel werden der Ozonbehandlungsturm, die Mischbett-Ionenaustauscheinheit und die RO-Einheit alle an einer Stelle installiert, bei der Wasser eingeführt wird, nachdem es durch eine Ionenaustauscheinheit vom Zweibett-Drei-Turm-Typ behandelt worden ist. Die Ionenaustauscheinheit kann aber auch irgendwo installiert werden, beispielsweise an einer Stelle, wo das Wasser eingeführt wird, nachdem es durch den Aktivkohleturm 15 behandelt worden ist, wie es in Fig. 3 gezeigt ist. Anstelle der Mischbett-Ionenaustauscheinheit kann ebenfalls eine Ionenaustauscheinheit vom Zweibett-Drei-Turm-Typ verwendet werden. Diese beiden Arten von Ionenaustauscharten können ebenfalls zusammen verwendet werden. Ein zusätzlicher Anionenaustauschturm kann verwendet werden.

Claims (8)

1. Anlage zur Reinigung von Wasser, umfassend die aufein­ anderfolgenden Elemente:
  • - einen Koagulationsfilter (2)
  • - eine erste Ionenaustauschereinheit (4)-(6)
  • - eine Ozonbehandlungseinheit (14), die der Ionenaustauschereinheit nachgeschaltet ist
  • - einen Aktivkohleturm (15)
  • - eine zweite Ionenaustauschereinheit (13)
  • - einen Wärmeaustauscher (8)
  • - einen Ultraviolettsterilisator (9) und
  • - eine reverse Osmosemembraneinheit (11).
2. Anlage gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Ionenaustauschereinheit (4)-(6) ein Ionenaustauscher vom Zweibett-Drei-Turm-Typ ist.
3. Anlage gemäß einem der Ansprüche 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Ionenaustauschereinheit (13) ein Ionenaustauscher vom Zweibett-Drei-Turm-Typ ist.
4. Anlage gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die reverse Osmosemembran eine oxidationsbeständige Membran ist.
5. Anlage gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Membran aus einem Harz, ausgewählt aus einem aromatischen Polyamidharz und Celluloseacetatharz, gefertigt ist.
6. Anlage gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Ionenaustauschereinheit (13) ein Mischbettionenaustauscher ist.
7. Verwendung einer Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 6 zur Entfernung von kolloidalen Substanzen aus Wasser.
8. Verwendung gemäß Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Schritt der Umwandlung von kolloidalen Stoffen die Zugabe von Wasserstoffperoxid zum Wasser zur weiteren Oxidation der kolloidalen Substanzen einschließt.
DE4125541A 1990-08-01 1991-08-01 Anlage zum Reinigen von Wasser Expired - Lifetime DE4125541C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2206174A JPH0790219B2 (ja) 1990-08-01 1990-08-01 純水製造装置及び製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE4125541A1 DE4125541A1 (de) 1992-02-06
DE4125541C2 true DE4125541C2 (de) 1995-04-27

Family

ID=16519038

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE4125541A Expired - Lifetime DE4125541C2 (de) 1990-08-01 1991-08-01 Anlage zum Reinigen von Wasser

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5259972A (de)
JP (1) JPH0790219B2 (de)
DE (1) DE4125541C2 (de)

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL9200508A (nl) * 1992-03-19 1993-10-18 E M Engineering F T S B V Werkwijze en inrichting voor het reinigen van water.
JP2652301B2 (ja) * 1992-05-28 1997-09-10 株式会社荏原製作所 洗浄水製造装置
EP0634364B1 (de) * 1993-02-03 1999-01-07 Kurita Water Industries Ltd. Verfahren zur herstellung von reinem wasser
US5447640A (en) * 1993-06-28 1995-09-05 Permelec Electrode Ltd. Method and apparatus for sterilization of and treatment with ozonized water
US5376281A (en) * 1993-07-21 1994-12-27 Safta; Eugen Water purification system
US5518624A (en) * 1994-05-06 1996-05-21 Illinois Water Treatment, Inc. Ultra pure water filtration
US5466425A (en) * 1994-07-08 1995-11-14 Amphion International, Limited Biological decontamination system
JP3200301B2 (ja) * 1994-07-22 2001-08-20 オルガノ株式会社 純水又は超純水の製造方法及び製造装置
NZ264188A (en) * 1994-08-05 1996-10-28 Ennotech Holdings Ltd Method and apparatus for sterilising electrically conductive liquid by creating a voltage gradient between electrodes in contact with the liquid
US5558775A (en) * 1994-11-01 1996-09-24 Joseph Busch, Jr. Process for the treatment of hazardous waste water
US5807486A (en) * 1994-11-01 1998-09-15 Joseph B. Busch, Sr. et al. Process for the treatment of hazardous waste water
JP3518112B2 (ja) * 1995-12-06 2004-04-12 東京瓦斯株式会社 燃料電池の水処理装置
AU1719097A (en) * 1996-02-12 1997-09-02 Povl Kaas Plant for purification of contaminated water
WO1997029995A1 (en) * 1996-02-12 1997-08-21 Aqua System A/S Plant for production of drinking water from unfiltered water
US5997752A (en) * 1996-09-27 1999-12-07 Leu; Sheng-I Water treating apparatus for raising oxygen solubility
DE19650191C1 (de) * 1996-12-04 1998-08-06 Wang Jen I Verfahren zur Wasserreinigung sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
US5868924A (en) * 1997-02-14 1999-02-09 Barnstead/Thermolyne Corporation Water purifier
KR100251649B1 (ko) * 1997-04-22 2000-04-15 윤종용 반도체장치제조공정용초순수의제조를위한살균조성물 및 이를이용한초순수제조장치의살균방법
US6001262A (en) * 1997-06-16 1999-12-14 Kelada; Maher I. Cascade ion exchange for high purity water production
AU5786599A (en) * 1998-08-28 2000-03-21 Millennium 2100 Corporation Water purification system
CN1135206C (zh) * 1998-11-05 2004-01-21 旭化成株式会社 水处理方法
US6096206A (en) * 1998-12-07 2000-08-01 Huang; Wen-Tien Manufacturing equipment for drinkable water containing high oxygen
GB2350357A (en) * 1999-05-26 2000-11-29 Hynes Patricia Rosemary Water treatment apparatus
JP2002282850A (ja) * 2001-03-26 2002-10-02 Mitsubishi Electric Corp 超純水製造装置
JP3878452B2 (ja) * 2001-10-31 2007-02-07 株式会社ルネサステクノロジ 半導体集積回路装置の製造方法
WO2003040042A1 (en) * 2001-11-05 2003-05-15 Bionomics Ltd. Apparatus and method for producing purified water having high microbiological purity by using a reverse osmosis membrane assembly
PL356761A1 (en) * 2002-10-21 2004-05-04 Andrzej Panuszewski Method of water treatment and appliance for water treatment
US20050067341A1 (en) * 2003-09-25 2005-03-31 Green Dennis H. Continuous production membrane water treatment plant and method for operating same
EP1553055A1 (de) * 2004-01-07 2005-07-13 HomeFlow Switzerland Distribution SA Vorrichtung und Verfahren zur Wasserreinigung
PL211231B1 (pl) * 2004-02-03 2012-04-30 Tadeusz Kozak Sposób uzdatniania wody
US8499832B2 (en) * 2004-05-13 2013-08-06 Baker Hughes Incorporated Re-use of surfactant-containing fluids
JP4661503B2 (ja) * 2005-09-29 2011-03-30 栗田工業株式会社 水処理方法及び装置
US20130008858A1 (en) * 2006-12-22 2013-01-10 Michael Howdeshell Systems and Methods for Process Stream Treatment
WO2008079362A1 (en) * 2006-12-22 2008-07-03 Siemens Water Technologies Corp. Systems and methods for process stream treatment
WO2008089279A1 (en) * 2007-01-19 2008-07-24 The Purolite Company Reduced fouling of reverse osmosis membranes
GR20070100189A (el) * 2007-03-28 2008-10-13 Νικολαος Πηττας Αυτοματη διαταξη επεξεργασιας εκροων βιολογικων σταθμων λυματων με εκπληρωση των προδιαγραφων του ποσιμου νερου
WO2009009465A1 (en) * 2007-07-06 2009-01-15 Christopher William Heiss Electrocoagulation reactor and water treatment system and method
US20090032471A1 (en) * 2007-07-30 2009-02-05 Applied Process Technology, Inc. Innovative treatment technologies for reclaimed water
JP5348948B2 (ja) * 2008-06-20 2013-11-20 株式会社東芝 変圧器
JP5608988B2 (ja) * 2009-02-27 2014-10-22 栗田工業株式会社 活性炭用スライムコントロール剤、活性炭装置への通水方法、有機物含有水の処理方法及び処理装置
US11772016B2 (en) 2021-05-27 2023-10-03 Saudi Arabian Oil Company Date seed powder for water filtration treatment

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2049919C2 (de) * 1970-10-10 1982-05-19 Laboratorium für Adsorptionstechnik GmbH, 6000 Frankfurt Verfahren zur Gewinnung von Trinkwasser
US4136027A (en) * 1972-09-22 1979-01-23 Osaka Gas Company Limited Method for treating water
US4280912A (en) * 1978-05-22 1981-07-28 Darco Water Systems, Inc. Water purification unit and method
US4273660A (en) * 1979-02-21 1981-06-16 Beitzel Stuart W Purification of water through the use of ozone and ultraviolet light
DE8111288U1 (de) * 1981-04-14 1982-12-16 Dornier System Gmbh, 7990 Friedrichshafen "einrichtung zur durchfuehrung verfahrenstechnischer prozesse"
US4512900A (en) * 1983-12-13 1985-04-23 International Business Machines Corporation Method for treating waste compositions
US4548716A (en) * 1984-07-25 1985-10-22 Lucas Boeve Method of producing ultrapure, pyrogen-free water
US4595498A (en) * 1984-12-27 1986-06-17 Thomson Components-Mostek Corporation Water-polishing loop
US4724079A (en) * 1985-01-11 1988-02-09 Gloria Stephan Sale Water purification process
DE3767350D1 (de) * 1986-03-11 1991-02-21 Bbc Brown Boveri & Cie Verfahren und vorrichtung zur aufbereitung von speisewasser mittels ozon fuer die umkehrosmose.
US4759844A (en) * 1986-03-21 1988-07-26 Aquathin Corp. Portable water purification system
JPH0645037B2 (ja) * 1986-07-31 1994-06-15 三菱電機株式会社 超純水製造方法
JPH0638954B2 (ja) * 1986-08-29 1994-05-25 三菱電機株式会社 純水の製造方法
JPH0815596B2 (ja) * 1986-12-02 1996-02-21 オルガノ株式会社 超純水の製造方法
CH674003A5 (de) * 1987-03-11 1990-04-30 Bbc Brown Boveri & Cie
US4969991A (en) * 1989-08-30 1990-11-13 Valadez Gerardo M Water purifying and dispensing system
US5059317A (en) * 1989-10-02 1991-10-22 Dietrich Marius Transportable apparatus for producing drinking water

Also Published As

Publication number Publication date
US5259972A (en) 1993-11-09
JPH0790219B2 (ja) 1995-10-04
DE4125541A1 (de) 1992-02-06
JPH0490885A (ja) 1992-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE4125541C2 (de) Anlage zum Reinigen von Wasser
EP0281940B1 (de) Verfahren zum Abbau von organischen Stoffen und/oder von Keimen in vorbehandeltem Speisewasser für Reinstwasserkreisläufe
EP0604904B1 (de) Verfahren zur Abwasserbehandlung durch chemische Oxidation
EP2162401B1 (de) Aufbereitung von wasser mit hypobromitlösung
DE19580994C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von entionisiertem oder hochreinem Wasser
EP0979211B1 (de) Verfahren zur behandlung von abwasser aus einem chemisch-mechanischen polierprozess in der chipfertigung
DE2738812A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum behandeln von waessrigem abfallmaterial
DE4233270A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung von reinem wasser
EP0618884B1 (de) Blasenfreier wasserstoffeintrag in wässrige flüssigkeiten
EP0242533B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Aufbereitung von Speisewasser mittels Ozon für die Umkehrosmose
EP0592370A1 (de) Verfahren zur Konditionierung von Ionenaustauschharzen
JPH07284799A (ja) 超純水製造装置
EP1084002B1 (de) Verfahren und anlage zum reinigen von halbleiterelementen
EP0579623B1 (de) Verfahren zum reinigen von abluft
JP4810757B2 (ja) 超純水製造用限外ろ過膜およびその予備洗浄方法
DE19807155C2 (de) Verfahren zur Reinigung von Abwasser durch Kombination einer homogenen katalytischen Oxidation mittels Wasserstoffperoxid mit einem Membrantrennverfahren
DE60010741T2 (de) Verfahren zur entfernung von nicht biologisch abbaubaren stoffen
AT410314B (de) Verfahren und vorrichtung zur aufbereitung von organisch belasteten abwässern
JP3992996B2 (ja) 排水処理方法及び装置
DE2851135C2 (de) Verfahren zum Regenerieren von zur Entfernung von Anionen starker Säuren aus Rohwässern verwendeten Anionenaustauschern in Hydrogenkarbonatform
DE102016106445B4 (de) Verfahren zum Behandeln eines Wassers
DE19645548C2 (de) Verfahren zur Ozonisierung von Wasser
DE60025360T2 (de) Verfahren zum chemischen waschen, und insbesondere zum spülen von membranvorrichtungen zum trennen von lösungen und suspensionen
DE102022112660A1 (de) Aufkonzentration wässriger Elektrolytlösungen
DE102021212510A1 (de) Wasseraufbereitungsverfahren für wässrige Germanium-haltige Lösungen

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
R071 Expiry of right
R071 Expiry of right