DE3927269A1 - Massstabsherstellungs- eichungs- und ortsbestimmungsverfahren - Google Patents
Massstabsherstellungs- eichungs- und ortsbestimmungsverfahrenInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur
Erzeugung eines Maßstabes, dessen Eichung und Ortsbestimmung
eines Gebers vermittels des so erzeugten
und geeichten Maßstabes, kurz "Maßstabsherstellungs,
Eichungs- und Ortsbestimmungsverfahren" das
vorzugsweise im Werkzeug- und Maschinenbau zum
Einsatz kommt.
Es sind absolute und incrementale Maßstäbe bekannt.
Allerdings gelingt es bisher nicht, absolute Maßstäbe
in hinreichender Feinheit (Mikrometerbereich)
herzustellen. Deshalb sind incrementale Maßstäbe
entwickelt worden, die darauf beruhen, daß auf dem
Maßstab angebrachte Incremente bezüglich einer Marke
(NULL) gezählt werden.
Dieses Verfahren hat Nachteile. Wenn die Zählvorrichtung
fehlerhaft zählt und das ist bei der ständigen
Kettenmaßbildung in Relation zur NULL nicht
auszuschließen, so können sich nicht wieder zu behebende
Meß- bzw. Bearbeitungsfehler ergeben.
Ein weiterer Nachteil besteht darin, daß bei der
Abschaltung des Meßsystems die NULL wieder geholt
werden muß, da nicht sicherzustellen ist, daß die
Position des Gebers zum Maßstab in der Stillstandszeit
unverändert geblieben ist. Solche Veränderungen
können beispielsweise durch Wärmedehnung verursacht
werden.
Auch die Zählgeschwindigkeit ist begrenzt, wodurch
sich eine relativ geringe Verfahrgeschwindigkeit
der Mechanik ergibt, wenn große Strecken zu durchfahren
sind.
Die Erfindung hat sich die Aufgabe gestellt, ein
Maßstabsherstellungs-, Eichungs- und Ortsbestimmungsverfahren
zu beschreiben, daß absolutmessend
ist, eine hinreichend schnelle und feine Ortsbestimmung
ermöglicht, wobei die Toleranzen der Bauteile
relativ groß sein dürfen und keine besonderen
Aufwände beim Aus- und Einbau der Meßeinheit im
Anwendungsfall notwendig werden.
Die Erfindung verfolgt den Zweck, hochgenaue und
servicefreundliche Meßsysteme für Werkzeug- und
Meßmaschinen u. ä. zur Verfügung zu stellen, die
absolut messend sind und eine größtmögliche Verfahrgeschwindigkeit
zulassen.
Erfindungsgemäß wird ein Maßstab erzeugt, in dem
auf der Fläche des Maßstabes ein Gesamtmuster angebracht
wird, dessen einzelne Elemente zufällig verteilt
sind.
Ein solcher Maßstab kann - ausgehend vom linearen
Fall - geeicht werden, indem der absolute Abstand
eines jeden Elementes bezüglich einer Marke NULL
bestimmt und gespeichert wird.
Die Elemente des Musters können untereinander durch
bestimmte Operationen verknüpft werden, wie beispielsweise
die Bildung des Verhältnisses zweier
oder mehrerer Abstände.
Von allen möglichen Operationen wird eine solche
betrachtet, deren Ergebnis für jede Gruppe von betrachteten
Elementen eindeutig ist. Eine eindeutige
Zuordnung von Ergebnis und Elementgruppe ist somit
gegben.
Die Operation und ihr Ergebnis wird gespeichert.
Mit der Speicherung der absoluten Abstände der Elemente
und der Ergebnisse der auf sie angewendeten
Operation ist die Eichung beendet.
Verfahrensgemäß erfolgt die Bestimmung eines Geberortes
vermittels des Maßstabes so, daß an einer
bestimmten Stelle des Maßstabes ein Teilmuster
durch den Geber erfaßt wird.
Die definierte Operation wird auf die Elemente angewendet,
das Ergebnis mit den gespeicherten Werten
verglichen und der absoluten Lage der zugehörigen
Elemente zugeordnet. Die Geberposition läßt
sich nun aus der absoluten Position der Elemente
und der Umkehrung der zugehörigen Operation ermitteln.
Eine besondere Ausführung kann erzeugt werden, indem
Elemente auf einem Maßstab an Stellen einer
bestimmten Teilung angebracht werden. Sie bilden
ein Gesamtmuster. Der Abstand zweier Elemente ist
dann L bzw. ein Vielfaches davon. Die Teilung ist
genau einzuhalten.
Die Elemente und ihre Aufeinanderfolge bilden eine
Binärkette, d. h. die Elemente eines bestimmten Intervalls
von Teilungen werden als Binärzahl interpretiert.
Ein solches Intervall heißt elementar.
Wird das elementare Intervall um eine Teilung versetzt,
so ist die Anordnung der Elemente gerade so
gewählt, daß sich eine andere Binärzahl ergibt. In
der Aufeinanderfolge der so gewonnenen Binärzahlen
ist jede nur einmal vorhanden.
Ein solcher Maßstab ist geeicht, weil seine Teilung
geeicht ist. Jede sich ergebende Binärzahl befindet
sich in absoluter Position zur NULL. Es läßt sich
eine funktionale Zuordnung zwischen einer Binärzahl
und ihrer absoluten Position zur NULL angeben.
Verfahrensgemäß erfolgt die Bestimmung eines Geberortes
indem ein Teilbild (elementares Intervall)
des Maßstabes betrachtet wird.
Das Betrachtungsintervall sei ein elementares, dann
entspricht das Teilmuster seiner Elemente einer
bestimmten Binärzahl. Von jeder Binärzahl ist das
zugehörige Teilmuster und dessen absolute Position
bekannt.
Wenn jedes Element bezüglich des Gebers zwei Zustände
annehmen kann, dann lassen sich aus einem
Intervall der Teilungsanzahl n maximal 2n Binärzahlen
ermitteln, wobei in der Aufeinanderfolge der
Binärzahlen jede nur einmal verbunden ist. 2n ist
die maximale Kettenlänge.
Vorzugsweise kommen Ketten zum Einsatz deren Länge
kürzer als 2n sind und die sich durch Bildungsgesetze
herleiten lassen. Es sind Bildungsgesetze bekannt,
wonach sich Binärketten mit der elementaren
Intervallänge von n und einer Gesamtlänge kleiner
2n erzeugen lassen.
Der Anstoß zur Erfassung eines Teilbildes kann von
außerhalb des Meßsystems kommen (externe Bestimmung
des Zeitpunktes bzw. der Zeitpunktfolge).
Der Anstoß zur Erfassung eines Teilbildes kann innerhalb
des Meßsystems erzeugt werden (durch Erfassung
einer Änderung im Teilbild bzw. durch einen
zugeordneten Hilfsmaßstab, dessen Markierungen die
Bildnahme bestimmen).
Beliebig lange Maßstäbe lassen sich bilden (bei
hinreichend kleinen elementaren Intervallen), wenn
mehrere Binärketten der oben beschriebenen Art hintereinander
und parallel zueinander kombiniert werden.
Bei einer derartigen kombinierten Anordnung muß die
Intervallnummer bezüglich der NULL bezeichnet werden;
das kann durch einen gröberen Maßstab erreicht
werden, der prinzipiell wieder als Binärkette
aufgebaut ist.
Bei kombinierten Maßstäben können fehlerhafte Bereiche
logisch korrigiert werden, indem zwischen
mehreren parallelen Binärketten hin und her geschaltet
wird, so daß nur eine fehlerfreie kombinierte
Gesamtkette betrachtet wird. Korrekturen
sind auch dadurch möglich, daß die Vorgänger und
Nachfolger der elementaren Intervalle einer Kette
in ihrer Lage und Bedeutung bekannt sind.
Die Elemente eines Musters werden vorzugsweise als
parallele Linienelemente gestaltet, die zueinander
den Abstand L bzw. ein Vielfaches davon haben.
Die Abtastung/Erfassung des Bitmusters erfolgt
durch einen Geber, der mehrere Sensoren in Reihe
aufweist. Die Sensorzahl entspricht der maximalen
Anzahl der Elemente in einem elementaren Intervall,
wobei sie im Teilungsabstand angeordnet sind. Die
Information der Sensoren wird zeitrichtig erfaßt
und verarbeitet. Es können mehrere Ketten von Sensoren
vorhanden sein, die um Bruchteile von L zueinander
verschoben sind, dann können auch Bruchteile
von L absolut bestimmt werden.
Der Geber kann ein Teilmuster erfassen, das als
Schattenbild des Maßstabes via Laserstrahl auf den
Geber projiziert wird.
Das Schattenbild kann von einer Optik vergrößert
werden.
Die Optik ist vorzugsweise mikroskopartig aufgebaut
und es kann zwischen Optik und Maßstab Immersionsöl
vorhanden sein. Entsprechende Vorrichtungen zur
Immersionsölversorgung sind zugeordnet.
Es können auch flächige Sensoren zum Einsatz kommen
(CCD-Sensoren u. ä.). Dann erfolgt die Abtastung
des Musters sinngemäß linienförmig.
Es können auch Teilmuster erfaßt werden die länger
als elementare Intervalle sind, dann werden mehrere
aufeinanderfolgende, absolute Positionen auf der
Basis elementarer Intervalle berechnet (Redundanz).
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen
näher beschrieben. Es zeigen die
Figuren:
Fig. 1: Maßstab mit zufällig angeordneten Elementen
Fig. 2: Verfahrensschema
Fig. 3: Maßstab mit regelmäßig angeordneten Elementen
Fig. 4: Verfahrensschema
Fig. 5: Kombinierter Maßstab
Fig. 6: Sensoranordnung
Fig. 7: Gesamtanordnung
Fig. 1 zeigt einen Maßstab mit zufällig verteilten
Elementen 2. Sie bilden das Gesamtmuster 21. Ein
Geber erfaßt ein Teilmuster. Die Lage eines Geberpunktes
4 zur NULL ist zu bestimmen.
Fig. 2 zeigt das Verfahrensschema. Ein Geber erfaßt
ein Teilmuster 3. Die darin enthaltenen Elemente
2 werden in ihrer relativen Lage zum Geberpunkt
4 bestimmt. Da die absolute Lage des Geberpunktes
4 gegen NULL mit einem Eichmaßstab 5 erfaßt
werden kann ist auch die absolute Lage aller Elemente
2 gegen NULL bekannt. Diese Lage wird in
einer Datenbank 6 abgespeichert.
Jetzt werden die Beziehungen der Elemente 2 untereinander
und in ihrer Reihenfolge (der Eigenschaftskette)
bezüglich Null betrachtet. Beispielsweise
werden die Abstandsverhältnisse 7 der
aufeinanderfolgenden Elemente 2 betrachtet. Es kann
angenommen werden, daß jedes Abstandsverhältnis 7
genau einmal vorkommt.
Jeder zu einem Element 2 gehörige Punkt 8 wird
durch ein Abstandsverhältnis 7 beschrieben. - Zur
schnelleren Auswertung kann die ansteigend geordnete
Menge B der Abstandsverhältnisse 7 der natürlichen
Reihenfolge zugeordnet werden.
Damit ist die Eichung des Systems gegeben.
Die absolute Ortsbestimmung eines Geberpunktes 4 zu
NULL erfolgt, indem ein Teilmuster betrachtet wird.
Es wird ein Abstandsverhältnis 7.1 ermittelt und
der beim Eichen vorgegebene Verfahrensvorgang 10 wird
rückwärts durchlaufen, was zur absoluten Ortsbestimmung
des Geberpunktes 4 führt.
Der Vorteil dieses Verfahrens und der Anordnung
besteht darin, daß die Elemente des Maßstabes 1
nicht zueinander maßhaltig sein müssen. Sie müssen
lediglich hinreichend dicht liegen.
Der Rechenaufwand des Verfahrens ist relativ hoch,
weshalb es vorzugsweise bei Meßmaschinen zum Einsatz
kommt, wo nur in gewissen Abständen eine Maßzahl
zu erfassen ist.
Weitere Vorteile werden gewonnen, wenn eine Anordnung
nach Fig. 3 gewählt wird.
Der Maßstab 1 trägt Elemente 2. Sie besitzen einen
bestimmten Abstand L 11 bzw. ein Mehrfaches davon
(Teilung/sie ist geeicht). Die Elemente sind vorzugsweise
geätzt und beidseitig transparent abgedeckt.
Bei der Versetzung des Gebers um L sind die Elemente
so angeordnet, daß sie eine Folge bilden, d. h.
es entsteht eine Binärkette 13, wobei jede Binärzahl
12 nur einmal vorkommt.
Dieser Folge von Binärzahlen sind Meßzahlen zugeordnet,
die den Abstand des Teilmusters 3 von NULL
angeben.
Die Ortsbestimmung eines Geberpunktes 4 erfolgt,
indem der Geber ein Teilmuster 3 von der Länge eines
elementaren Intervalls erfaßt (mehrfaches von
L). Das Teilmuster wird als Binärzahl gelesen und
von dieser Binärzahl auf die Maßzahl geschlossen.
Siehe Fig. 4. Das kann sehr schnell geschehen, wenn
die Information eines elementaren Intervalls 15
parallel verarbeitet wird.
Geeignete Binärketten können berechnet werden. Abhängig
von der verfügbaren Rechentechnik (allgemein
32 Bit Wortbreite) folgt daraus die Zahl n
welches die Länge des elementaren Intervalls 15
bestimmt. Damit ist auch die maximale Länge der
Binärkette beschränkt.
Um beliebige Maßstablängen zu produzieren, werden
die Binärketten hintereinander und zueinander versetzt
kombiniert. Das zeigt Fig. 5. - Dabei sind die
Grenzen 17 eines Gesamtmusters 16 wiederum als Binärkette
13 interpretierbar, wodurch jedes Gesamtmuster
in seiner absoluten Lage zur NULL bekannt
ist.
Bruchteile der Teilung einer Binärkette werden ermittelt,
indem mehrere Sensorreihen 18 zueinander
versetzt und parallel an den Elementen 2 vorbeigeführt
werden (Fig. 6).
Dann ermittelt beispielsweise in Fig. 6 bei Bewegung
der Sensoren nach rechts die obere Sensorreihe
eine Binärzahl, die dann von Reihe zu Reihe nach
unten wandert 19. Daraus kann auf Teilungsbruchteile
(Bruchteil von L) geschlossen werden.
Fig. 7 zeigt eine bevorzugte Ausführungsform des
gesamten Meßsystems. Ein Maßstab 1 trägt eine Binärkette
13 von Elementen 2. Eine Laserlichtquelle
20 beleuchtet die Elemente 2, deren Schattenbild
auf eine Mikroskopoptik 21 fällt. Zwischen dem Maßstab
1 und der Mikroskopoptik 21 kann Immersionsöl
zugeführt werden, wozu eine Vorrichtung 24 beigeordnet
ist. Mit einer derartigen Anordnung sind
maximale Vergrößerungen möglich. Das vergrößerte
Schattenbild wird von einem flächigen Sensor 23
erfaßt und in einem zugeordneten Rechner zur Maßzahl
umgerechnet.
Diese Anordnung ist unempfindlich gegenüber Versetzungen
in X- und Y-Richtung, was den Einbau sehr
erleichtert. Die Toleranz der Teile ist hinreichend
groß und wegen der Abbildungsverhältnisse der Mikroskopoptik
21 können bekannte CCD-Sensoren
u. ä. zum Einsatz kommen, die in der Bildebene der
Optik liegen.
Die Flächigkeit des Sensors erlaubt eine Bestimmung
von Bruchteilen der Teilung, falls das notwendig
sein sollte. Die Absolutgeschwindigkeit ist wegen
der Parallelverarbeitung der Information hoch.
Claims (24)
1. Verfahren zum Erzeugen eines Maßstabes mittels eines Gebers, für Eichungs-
und/oder Ortsbestimmungen, vorzugsweise für den Einsatz im Werkzeug- und
Maschinenbau, gekennzeichnet durch folgende Merkmale,
- a) es wird ein Gesamtmuster erzeugt, welches auf der Fläche des Maßstabes angebracht wird und dessen einzelne Elemente zufällig verteilt sind,
- b) zum Eichen wird der absolute Abstand eines jeden Elementes bezüglich einer Marke NULL bestimmt und gespeichert
- c) die Elemente des Gesamtmusters untereinander werden durch Operation miteinander verknüpft
- d) von allen möglichen Operationen wird eine solche betrachtet, deren Ergebnis für jede Gruppe von betrachteten Elementen eindeutig ist, wonach die Operation bzw. das Ergebnis derselben gespeichert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß als Operation eine Quotientenbildung erfolgt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß zur Verknüpfung der Elemente des Gesamtmusters untereinander die
Verhältnisse zweier oder mehrerer Abstände gebildet werden.
4. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß zum Bestimmen eines Geberortes vermittels des Maßstabes an einer bestimmten,
vorgebbaren Stelle des Maßstabes ein Teilmuster bzw. Teilbild (elementares
Intervall) des Gesammusters durch einen Geber erfaßt wird.
5. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß Elemente auf einem Maßstab an Stellen einer bestimmten Teilung angebracht
werden, die ein Gesamtmuster bilden, wobei der Abstand zweier Elemente dann L
bzw. ein Vielfaches davon ist.
6. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß die Elemente und ihre Aufeinanderfolge eine Binärkette bilden und somit die
Elemente eines bestimmten Intervalls (Elementar) von Teilungen als Binärzahl interpretiert werden.
7. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß zum Versetzen des elementare Intervalls um eine Teilung die Anordnung der
Elemente so zu wählen ist, daß sich eine andere Binärzahl ergibt, damit in der
Aufeinanderfolge der so gewonnenen Binärzahlen jede nur einmal vorhanden ist.
8. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß sich aus einem Intervall der Teilungsanzahl n maximal 2n Binärzahlen der
maximalen Kettenlänge 2n ermitteln lassen, wenn jedes Element bezüglich des
Gebers zwei Zustände annehmen kann, wobei in der Aufeinanderfolge der
Binärzahlen jede nur einmal vorhanden ist.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet,
daß Ketten zum Einsatz kommen, deren Länge kürzer als 2n sind und die sich
durch Bildungsgesetze herleiten lassen, bei denen Binärketten mit der elementaren
Intervall-Länge von n und einer Gesamtlänge kleiner 2n erzeugen werden.
10. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß der Anstoß zur Erfassung eines Teilbildes von außerhalb des Meßsystems
kommt mittels externer Bestimmung des Zeitpunktes bzw. der Zeitpunktfolge.
11. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet,
daß zum Erzeugen beliebig langer Maßstäbe mehrere Binärketten hintereinander
und parallel zueinander kombiniert werden.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,
daß zum Erzeugen beliebig langer Maßstäbe die elementaren Intervalle hinreichend
klein gewählt werden.
13. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 10 bis 12,
dadurch gekennzeichnet,
daß bei einer derartigen kombinierten Anordnung die Intervallnummer bezüglich
der NULL bezeichnet wird, was durch einen gröberen Maßstab erreichten werden
kann, der prinzipiell wieder als Binärkette aufgebaut wird.
14. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 10 bis 13,
dadurch gekennzeichnet,
daß zum logischen Korrigieren fehlerhafter Bereiche bei kombinierten Maßstäben
zwischen mehreren parallelen Binärketten hin und her geschaltet wird, so daß nur
eine fehlerfreie kombinierte Gesamtkette betrachtet wird.
15. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 10 bis 13,
dadurch gekennzeichnet,
daß zum logischen Korrigieren fehlerhafter Bereiche bei kombinierten Maßstäben
die Vorgänger und Nachfolger der elementaren Intervalle einer Kette in ihrer Lage
und Bedeutung berechnet, gespeichert und bekannt sind.
16. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß die Elemente eines Musters als parallele Linienelemente gestaltet werden, die
zueinander den Abstand L bzw. eine Vielfaches davon haben.
17. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß zum Erfassen von Teilmustern, die länger als elementare Intervalle sind,
mehrere aufeinanderfolgende, absolute Positionen auf der Basis elementarer Intervalle
berechnet werden (Redundanz).
18. Vorrichtung zum Erzeugen eines Maßstabes mittels eines Gebers, für
Eichungs- und/oder Ortsbestimmungen, vorzugsweise für den Einsatz im Werkzeug-
und Maschinenbau, gekennzeichnet durch folgende Merkmale,
- a) es wird ein Gesamtmuster erzeugt, welches auf der Fläche des Maßstabes angebracht wird und dessen einzelne Elemente zufällig verteilt sind,
- b) zum Eichen wird der absolute Abstand eines jeden Elementes bezüglich einer Marke NULL bestimmt und gespeichert
- c) die Elemente des Gesamtmusters untereinander werden durch Operationen miteinander verknüpft
- d) von allen möglichen Operationen wird eine solche betrachtet, deren Ergebnis für jede Gruppe von betrachteten Elementen eindeutig ist, wonach die Operation bzw. das Ergebnis derselben gespeichert wird
- e) der Geber weist zum Abtasten/Erfassen des Bitmusters mehrere Sensoren in Reihe auf, wobei deren Anzahl der maximalen Anzahl der Elemente in einem elementaren Intervall entspricht, die im Teilungsabstand angeordnet sind.
19. Vorrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet,
daß mehrere Ketten von Sensoren vorhanden sind, die um Bruchteile von L zueinander
verschoben sind zum absoluten Bestimmen von Bruchteilen von L.
20. Vorrichtung nach Anspruch 18 und/oder 19, dadurch gekennzeichnet,
daß die Information der Sensoren zeitrichtig erfaßt und verarbeitet wird.
21. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 18 bis 20,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Geber zum Erfassen eines Teilmusters imstande ist, welches als Schattenbild
des Maßstabes via Laserstrahl auf den Geber projiziert wird.
22. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 18 bis 21,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Schattenbild von einer Optik vergrößert ist, die vorzugsweise mikroskopartig
aufgebaut ist.
23. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 18 bis 22,
dadurch gekennzeichnet,
daß zwischen Optik und Maßstab Immersionsöl angeordnet ist, wobei die Vorrichtung
eine Einrichtung zur Immersionsölversorgung aufweist.
24. Vorrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet,
daß dieselben flächigen Sensoren (CCD-Sensoren u. ä.) aufweist und die Abtastung
des Musters sinngemäß linienförmig erfolgt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19893927269 DE3927269A1 (de) | 1989-08-18 | 1989-08-18 | Massstabsherstellungs- eichungs- und ortsbestimmungsverfahren |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19893927269 DE3927269A1 (de) | 1989-08-18 | 1989-08-18 | Massstabsherstellungs- eichungs- und ortsbestimmungsverfahren |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3927269A1 true DE3927269A1 (de) | 1991-02-21 |
Family
ID=6387356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19893927269 Ceased DE3927269A1 (de) | 1989-08-18 | 1989-08-18 | Massstabsherstellungs- eichungs- und ortsbestimmungsverfahren |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3927269A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19726173A1 (de) * | 1997-06-20 | 1998-12-24 | Voith Sulzer Papiermasch Gmbh | Temperaturkompensierter Eichmaßstab |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4143267A (en) * | 1977-12-23 | 1979-03-06 | Johnson Lonnie G | Digital distance measuring instrument |
EP0050195A2 (de) * | 1980-10-18 | 1982-04-28 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Einrichtung zur Auswahl von Referenzmarken bei inkrementalen Längen- oder Winkelmesseinrichtungen |
DE3204012C1 (de) * | 1982-02-05 | 1983-02-03 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut | Inkrementale Messeinrichtung |
-
1989
- 1989-08-18 DE DE19893927269 patent/DE3927269A1/de not_active Ceased
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE19726173A1 (de) * | 1997-06-20 | 1998-12-24 | Voith Sulzer Papiermasch Gmbh | Temperaturkompensierter Eichmaßstab |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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8131 | Rejection |