DE3924605C2

DE3924605C2 - Rasterelektronenmikroskop

Info

Publication number: DE3924605C2
Application number: DE3924605A
Authority: DE
Inventors: Mitsugu Sato
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1988-07-25
Filing date: 1989-07-25
Publication date: 1995-05-18
Anticipated expiration: 2009-07-26
Also published as: JPH0233843A; US4983832A; DE3924605A1; GB2221567A; GB2221567B; GB8916474D0

Description

Die Erfindung betrifft ein Rasterelektronenmikroskop gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1, das zur räumlichen Darstellung einer Probe geeignet ist. Ein Rasterelektronen mikroskop dieser Art ist aus der US-PS 3 714 422 bekannt.

Bei Rasterelektronenmikroskopen wird der von einer Elektro nenkanone ausgesandte Elektronenstrahl durch eine Objektiv linse auf eine Probe fokussiert. Die Probe wird durch den fokussierten Elektronenstrahl zweidimensional abgetastet, und als Ergebnis der Abtastung gibt die Probe charakte ristische Informationssignale ab. Zur Erzeugung dieser In formationssignale können Sekundärelektronen, reflektierte Elektronen, absorbierte Elektronen, Röntgenstrahlen und die Kathodenlumineszenz verwendet werden. Die Informationssi gnale werden erfaßt und zum Zwecke der Helligkeitsmodulation einer Bildröhre (Kathodenstrahlröhre) zugeführt. Der Bild schirm der Bildröhre wird dabei durch Kathodenstrahlen (einem Elektronenstrahl) synchron zu der zweidimensionalen Abtastung der Probe abgetastet. Damit wird ein Abbild des abgetasteten Bereiches der Probe auf der Basis der von der Probe erzeugten Informationssignale auf dem Bildschirm der Bildröhre dargestellt.

Häufig ist eine räumliche Darstellung der Abbildung der Probe wünschenswert. Um eine solche räumliche Darstellung zu erhalten, ist es erforderlich, den Elektronenstrahl unter einem bestimmten Einfallswinkel auf die Probe zu richten. Es sind zwei Methoden bekannt, den Elektronenstrahl unter einem bestimmten Winkel auf die Probe zu richten. Nach der einen Methode bleibt die Richtung des Elektronenstrahles fest, während die Probe mechanisch geneigt wird. Nach der anderen Methode bleibt die Probe fest, während der Elektronenstrahl abgelenkt wird. Wenn jedoch bei der ersten Methode die Probe ziemlich groß ist, ist eine entsprechend große Vorrichtung zum Neigen der Probe erforderlich, und der Abstand zwischen der Objektivlinse und der Probe, das heißt der Objektab stand, wird sehr groß, wenn die Probe unter einem größeren Winkel geneigt wird. Bei großen Proben wird daher die zweite Methode bevorzugt.

Nach JP-A 58-147948 wird ein paralleler Elektronenstrahl auf eine Stelle in der Hauptebene der Objektivlinse des Mi kroskopes gerichtet, die außerhalb der Achse der Objektiv linse liegt. Im Ergebnis wird dadurch der parallele Elektro nenstrahl durch die Objektivlinse auf einen gewünschten Punkt auf der Probe fokussiert, wobei er unter einem be stimmten Winkel auf diesen Punkt einfällt. Um eine zweidi mensionale Abtastung der Probe durch den fokussierten Elek tronenstrahl für die Abbildung der Probe zu erhalten, wird angegeben, daß der Ablenk-Drehpunkt für den zur Abta stung der Probe verwendeten Elektronenstrahl an einer der folgenden Stellen liegt: (1) An einer Stelle, an der der Ablenk-Drehpunkt für die Abtastung mit dem Drehpunkt für die Ablenkung des parallelen Elektronenstrahles auf die Stelle außerhalb der Achse in der Hauptebene der Objektivlinse zusammenfällt; oder (2) an einer Stelle in der Hauptebene der Objektivlinse; oder (3) an einer Stelle zwischen der Objektivlinse und der Probe.

Im Falle (1) bewegt sich jedoch während der Abtastung der Probe der parallele Elektronenstrahl in der Hauptebene der Objektivlinse, mit dem Ergebnis einer erhöh ten Verzerrung der Abbildung. Um diese Abbildungsverzerrung möglichst klein zu halten, ist es erforderlich, die Öffnung der Objektivlinse zu vergrößern. Im Falle (2) muß die Ablenkeinrichtung zur Abtastung der Probe innerhalb der Objektivlinse angeordnet werden. Es ist daher auch hier erforderlich, die Öffnung der Objektivlinse entsprechend zu vergrößern. Im Falle (3) muß die Ablenkein richtung zum Abtasten der Probe zwischen der Probe und der Objektivlinse angeordnet werden. Es ist daher erforderlich, den Objektabstand entsprechend zu vergrößern. Wenn der Ein fallswinkel des Elektronenstrahles auf die Probe festgehal ten werden soll und dabei der Objektabstand erhöht wird, muß ebenfalls die Öffnung der Objektivlinse entsprechend ver größert werden.

Die Tatsache, daß die Objektivlinse eine große Öffnung hat, hat zur Folge, daß die Objektivlinse einen großen Brenn punktabstand aufweist. Damit steigt jedoch der Koeffizient Cc für die chromatische Aberration an, und die Auflösung wird drastisch reduziert. Die Auflösung nimmt nämlich pro portional zur Wurzel (Cc^1/2) des Koeffizienten Cc der chro matischen Aberration ab. Das gleiche gilt, wenn der Objekt abstand vergrößert wird, da damit ebenfalls der Brennpunkt abstand der Objektivlinse ansteigt.

Bei einem Rasterelektronenmikroskop ist es wünschenswert, den auf die Probe gerichteten Strahlstrom oder den Strahl reduktionsfaktor des optischen Systems für den Elektronen strahl ändern zu können. Zu diesem Zweck ist es üblich, den Elektronenstrahl wenigstens einmal auf eine Stelle zwischen der Elektronenkanone und der Objektivlinse zu fokussieren.

Um einen parallelen Elektronenstrahl auf die Objektivlinse richten zu können, ist es daher erforderlich, dann zusätz lich eine Linse vorzusehen, die den fokussierten Elektronen strahl in einen parallelen Elektronenstrahl umwandelt.

Bei Rasterelektronenmikroskopen ist es bekannt, (vergl. die US-PS 3 702 398, Fig. 2) den Drehpunkt der Kastenablenkung in die Haupt ebene der Objektivlinse zu legen. Hierbei ist jedoch keine zweite Ablenkvorrichtung zur Änderung des Einfallwinkels vorgesehen.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Rasterelektro nenmikroskop der eingangs genannten Art zu schaffen, mit dem sich bei möglichst geringen räumlichen Abmessungen hoch-aufgelöste räumliche Abbildungen einer Probe erhalten lassen.

Die erfindungsgemäße Lösung dieser Aufgabe ist im Anspruch 1 gekennzeichnet. Vorteilhafte Weiterbildungen ergeben sich aus den Unteransprüchen.

Ein Ausführungsbeispiel für das erfindungsgemäße Rasterelek tronenmikroskop wird im folgenden anhand der Zeichnung er läutert. Es zeigen:

Fig. 1 in einem Blockschaltbild schematisch den Aufbau des Ausführungsbeispiels für das Rasterelektronenmikro skop;

Fig. 2 das optische System für den Elektronenstrahl der Anordnung der Fig. 1, wenn ein Ablenksystem zum Abtasten der Probe aktiviert ist;

Fig. 3 das optische System für den Elektronenstrahl der Anordnung der Fig. 1, wenn ein Ablenksystem zur Ablenkung der optischen Achse aktiviert ist; und

Fig. 4 das zusammengesetzte optische System für den Elektro nenstrahl, wenn sowohl das Ablenksystem zur Abtastung der Probe als auch das Ablenksystem zur Ablenkung der optischen Achse aktiviert sind.

Anhand der Fig. 1 wird nun ein Ausführungsbeispiel des Raster elektronenmikroskopes näher erläutert. Wie aus der Fig. 1 ersichtlich ist, versorgt eine Elektronenkanonen-Stromver sorgung 1 eine Elektronenkanone 2 mit Energie. Die Elektro nenkanone 2 sendet einen Elektronenstrahl aus. Der von der Elektronenkanone abgegebene Elektronenstrahl wird mittels einer Kombination aus einem Fokussierlinsensystem 4, das durch eine Linsen-Stromversorgung 3 mit Energie versorgt wird, und einer Objektivlinse 5 auf eine Probe 6 fokussiert. Das heißt, daß an einer Position 7 durch das Fokussierlin sensystem 4 eine Brennpunktabbildung der Elektronenquelle der Elektronenkanone 2 ausgebildet wird, und daß diese Ab bildung durch die Objektivlinse 5 auf die Probe 6 fokussiert wird. Die Position 7 stellt damit den Objektpunkt der Objek tivlinse 5 dar. Nach der Position 7 ist eine Objektivblende 8 angeordnet. Der Elektronenstrahl wird durch diese Objek tivblende 8 begrenzt. Das Fokussierlinsensystem 4 kann eine oder zwei und mehr Linsen beinhalten.

Zwischen der Objektivblende 8 und der Probe 6 sind im Ab stand voneinander eine erste und eine zweite elektromagneti sche Ablenkeinrichtung 9 und 10 zum Zwecke der Abtastung der Probe angeordnet. Diese Ablenkeinrichtungen 9 und 10 werden durch eine Abtast-Stromversorgung 11 und über eine Einstell vorrichtung 12 für die Vergrößerung mit einem zweidimensio nalen Abtastsignal versorgt, so daß der Elektronenstrahl derart zweidimensional abgelenkt wird, daß sich der Dreh punkt der Ablenkung in der Hauptebene 5a der Objektivlinse 5 befindet, wie es in der Fig. 2 gezeigt ist. Die Probe 6 wird daher von dem fokussierten Elektronenstrahl zwischen einer Position, die in der Fig. 2 mit durchgezogenen Linien ge zeigt ist, und einer weiteren Position, die durch eine ge strichelte Linie gezeigt ist, zweidimensional abgetastet. Als Ergebnis dieser Abtastung gibt die Probe 6 charakteri stische Informationssignale ab. Diese Informationssignale werden im allgemeinen durch Sekundärelektronen, reflektierte Elektronen, absorbierte Elektronen, Röntgenstrahlen oder die Kathodenlumineszenz dargestellt. Bei dem in der Fig. 1 ge zeigten Ausführungsbeispiel werden zur Erzeugung der Informa tionssignale die Sekundärelektronen verwendet, es kann je doch auch jede andere Art von Signalen verwendet werden. Gemäß Fig. 1 erfaßt ein Detektor 13 diese Sekundärelektro nen, und das Ausgangssignal des Detektors 13 wird über einen Videoverstärker 14 und einen Schalter 15 zu einer Bildröhre 16 oder 17 geführt, die zur Helligkeitsmodulation verwendet werden. Obwohl in der Fig. 1 nicht gezeigt, wird das zweidi mensionale Abtastsignal aus der Abtast-Stromversorgung 11 ebenfalls den Bildröhren 16 und 17 zugeführt. An der Bild röhre 16 bzw. 17 wird damit eine Abbildung der Probe 6 erhalten.

Zwischen der Objektivblende 8 und der Probe 6 sind des wei teren in einem Abstand voneinander erste und zweite elektro magnetische Ablenkeinrichtungen 18 und 19 zum Zwecke der Auslenkung der optischen Achse angeordnet. Diese elektroma gnetischen Ablenkeinrichtungen 18 und 19 befinden sich in Richtung des Elektronenstrahles jeweils im wesentlichen an den gleichen Stellen wie die ersten und zweiten Ablenkein richtungen 9 und 10 zum Abtasten der Probe.

Es ist ferner ein Schalter 20 mit zwei Schaltstellungen R und L sowie eine Gleichstromversorgungsschaltung 21 mit veränderbaren Widerständen 21R und 21L vorgesehen. Wenn sich der Schalter 20 in der Stellung R befindet, wird ein Gleich stromsignal vom veränderbaren Widerstand 21R in der Gleich stromversorgungsschaltung 21 einerseits über einen Addierer 22 und einen Verstärker 23 zu der ersten elektromagnetischen Ablenkeinrichtung 18 und andererseits über den Addierer 22, einen veränderbaren Widerstand 24 und einen Verstärker 25 zu der zweiten elektromagnetischen Ablenkeinrichtung 19 ge führt. Wenn sich der Schalter 20 in der Stellung L befindet, wird ein Gleichstromsignal vom veränderbaren Widerstand 21L in der Gleichstromversorgungsschaltung 21 über die gleichen Wege zu den ersten und zweiten elektromagnetischen Ablenk einrichtung 18 und 19 geführt.

Wenn sich der Schalter 20 in der Stellung R befindet, wird der Elektronenstrahl durch die erste und zweite elektroma gnetische Ablenkeinrichtung 18 und 19 in der in der Fig. 3 gezeigten Weise abgelenkt. Das heißt, daß die Position 7 dabei der Drehpunkt für die Ablenkung des Elektronenstrahles ist, wie es in der Fig. 3 gezeigt ist, und daß der Elektro nenstrahl unter einem Einfallswinkel +R auf die Probe 6 ein fällt. Wenn sich der Schalter 20 in der Stellung L befindet, wird der Elektronenstrahl ebenfalls bei der Position 7 abge lenkt, und er fällt daher unter einem Einfallswinkel -R auf die Probe 6 (in der Fig. 3 nicht gezeigt). Wenn der Schalter 20 zwischen den Stellungen R und L umgeschaltet wird, ist die Einfallsrichtung des Elektronenstrahles nach der Um schaltung jeweils entgegengesetzt zu der vor der Umschal tung, wobei jedoch der Absolutwert R des Einfallswinkels immer gleich bleibt.

Wenn das Ablenksystem für die Abtastung der Probe durch den Elektronenstrahl in der in der Fig. 2 gezeigten Weise akti viert und gleichzeitig das Ablenksystem für die Auslenkung der optischen Achse des Elektronenstrahles in der in der Fig. 3 gezeigten Art aktiviert ist, verhält sich der Elek tronenstrahl wie in der Fig. 4 gezeigt. In der Fig. 4 stellen ausgezogene Linien den Weg des Elektronenstrahles dar, wenn das Ablenksystem zur Auslenkung der optischen Achse, das heißt die erste und die zweite elektromagnetische Ablenkeinrichtung 18 und 19 aktiviert sind, und die gestri chelten Linien zeigen den Weg des Elektronenstrahles, wenn das Ablenksystem zur Abtastung der Probe, das heißt die ersten und zweiten elektromagnetischen Ablenkeinrichtungen 9 und 10 aktiviert sind.

Wenn sich die Schalter 15 und 20 jeweils in ihrer Position R befinden, wird eine Abbildung der Probe 6 erhalten und an der Bildröhre 17 dargestellt, bei der der Elektronenstrahl unter einem Einfallswinkel +R auf die Probe 6 auftrifft. Wenn sich die Schalter 15 und 20 in ihren jeweiligen Positi onen L befinden, wird eine Abbildung der Probe 6 erhalten und an der Bildröhre 16 dargestellt, bei der der Elektro nenstrahl unter einem Einfallswinkel -R auf die Probe 6 auftrifft. Unabhängig davon, ob der Einfallswinkel des Elektronenstrahles auf der Probe 6 gleich +R oder R ist, bleibt der Auftreffpunkt des Elektronenstrahles auf der Probe 6 immer gleich. Die an den Bildröhren 16 und 17 dar gestellten Abbildungen der Probe weisen daher immer das gleiche Sehfeld auf. Wenn die an den Bildröhren 16 und 17 dargestellten Abbildungen der Probe unter Aufnahme von zwei Bildern photographiert werden, bilden diese Photographien daher ein Paar stereoskopischer Bilder, das zur räumlichen Betrachtung der Probe 6 verwendet werden kann.

Die mechanischen Schalter 15 und 20 können durch jede geeig nete bekannte elektronische Schaltung ersetzt werden, und die elektronische Schaltung kann so vorgesehen werden, daß der Schaltvorgang synchron zu den Synchronisationssignalen für die zweidimensionale Abbildung aus der Abtast-Stromver sorgung 11 ausgeführt wird, das heißt synchron zu den X- Achsen-Abtast-Synchronisationssignalen oder den Y-Achsen- Abtast-Synchronisationssignalen. Mittels einer solchen elektronischen Schaltung können die Abbildungen der Probe, die jeweils mit den Einfallswinkeln +R und -R des Elektro nenstrahles erhalten werden, gleichzeitig an den Bildröhren 16 und 17 betrachtet werden.

Durch Einstellen der veränderbaren Widerstände 21R und 21L kann der Einfallswinkel des Elektronenstrahles auf die Probe 6 geändert werden. Über die veränderbaren Widerstände 21R und 21L werden nämlich die Pegel der zu der ersten bzw. der zweiten elektromagnetischen Ablenkeinrichtung 18 bzw. 19 geführten Gleichspannungssignale geändert, während das Verhältnis dieser Signale zueinander konstant bleibt.

Ein Schalter 27 verbindet eine Wechselspannungsquelle 28 trennbar mit dem Addierer 22. Wenn der Schalter 27 geschlos sen ist, wird im Addierer 22 ein Wechselspannungssignal aus der Wechselspannungsquelle 28 zu dem Gleichspannungssignal vom veränderbaren Widerstand 21R oder 21L addiert. Dieses Summensignal mit einer Gleichspannungs- und einer Wechsel spannungskomponente wird dann zu den ersten und zweiten elektromagnetischen Ablenkeinrichtungen 18 und 19 geführt.

Wenn der Drehpunkt für die Ablenkung des Elektronenstrahles durch das Ablenksystem für die Auslenkung der optischen Achse nicht mit der Position 7 zusammenfällt, bewegt sich die Abbildung der Probe auf den Bildschirmen der Bildröhren 16 und 17. Wenn jedoch der Drehpunkt der Ablenkung des Elektronenstrahles mit der Position 7 zusammenfällt, ver schwindet die Bewegung der Abbildung auf den Bildschirmen. Durch Einstellen des veränderbaren Widerstandes 24 kann das Verhältnis zwischen den zu den ersten und zweiten elektro magnetischen Ablenkeinrichtungen 18 und 19 geführten Sum mensignalen wie gewünscht geändert werden. Der Drehpunkt für die Ablenkung der Elektronenstrahlen kann daher durch geeig nete Einstellung des Widerstandes 24 auf die Position 7 ge bracht werden, wodurch die Bewegung der Abbildung auf den Bildschirmen der Bildröhren 16 und 17 verschwindet. Nach einer solchen Einstellung wird der Schalter 27 natürlich wieder geöffnet.

Anstelle der getrennten Darstellung der beiden Abbildungen an den beiden Bildröhren 16 und 17 kann auch der Bildschirm einer dieser Bildröhren in Längsrichtung oder seitlich auf geteilt werden, so daß die beiden Abbildungen auf den beiden getrennten Bildschirmabschnitten dargestellt werden können. Die beiden Abbildungen können auch sich überlappend und in verschiedenen Farben gleichzeitig an einer der Bildröhren dargestellt werden.

Gemäß dem beschriebenen Ausführungsbeispiel fällt auf die Ob jektivlinse kein paralleler Elektronenstrahl. Es treten daher auch nicht die mit der Verwendung eines parallelen Elektronenstrahles verbundenen Probleme auf. Des weiteren bewegt sich der Elektronenstrahl während der Abtastung der Probe auch nicht in der Hauptebene der Objektivlinse, und die Ablenkeinrichtungen zum Abtasten der Probe sind nicht innerhalb der Objektivlinse oder zwischen der Objektivlinse und der Probe angeordnet. Die mit der Bewegung des Elektro nenstrahles in der Hauptebene der Objektivlinse sowie die mit der Anordnung der Ablenkeinrichtungen innerhalb der Objektivlinse oder zwischen der Objektivlinse und der Probe verbundenen Probleme treten daher auch nicht auf. Weder der Objektabstand noch die Öffnung der Objektivlinse brauchen daher besonders groß zu sein, so daß eine hoch aufgelöste räumliche Abbildung der Probe erhalten werden kann.

Claims

1. Rasterelektronenmikroskop mit

- einer Einrichtung (2) zum Aussenden eines Elektronen strahles;
- einer Einrichtung (4, 5, 8) zum Fokussieren des Elek tronenstrahles auf eine Probe (6), wobei diese Fokussiereinrichtung eine Objektivlinse (5) aufweist;
- einer ersten Ablenkvorrichtung (9, 10) zum zweidimen sionalen Ablenken und Abtasten des Elektronenstrahls;
- einer zwischen der Elektronenkanone (2) und der Objek tivlinse (5) angeordneten zweiten Ablenkvorrichtung (18, 19) zum Ablenken des Elektronenstrahles derart, daß der Drehpunkt (7) der Ablenkung im wesentlichen mit dem Objektpunkt der Objekt tivlinse (5) zusammenfällt und der Elektronenstrahl unter einem ausgewählten Einfallswinkel auf die Probe (6) auftrifft, und
- einer Einrichtung zum Erfassen von Informations signalen, die als Folge der Abtastung der Probe (6) durch den Elektronenstrahl erzeugt werden und die Probe charakterisieren;
dadurch gekennzeichnet, daß die erste Ablenkvorrichtung (9, 10) zwischen der Elektronenkanone (2) und der Objektiv linse (5) angeordnet ist, und den Elektronenstrahl so ab lenkt, daß der Drehpunkt der Ablenkung im wesentlichen in der Hauptebene der Objektivlinse (5) liegt.

2. Rasterelektronenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch ge kennzeichnet, daß die zweite Ablenkvorrichtung (18, 19) eine Einrich tung (21R, 21L) zum Ändern des Einfallswinkels des Elektronen strahls auf die Probe (6) aufweist.

3. Rasterelektronenmikroskop nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge kennzeichnet, daß eine Einrichtung (24) zum Einstellen der Position des Drehpunktes (7) der Ablenkung durch die zweite Ablenk vorrichtung (18, 19) vorgesehen ist.

4. Rasterelektronenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch ge kennzeichnet, daß die erste Ablenkvorrichtung erste und zweite elektromagnetische Ablenkeinrichtungen (9, 10) aufweist, die voneinander in Richtung des Elektronenstrahls in Abstand ange ordnet sind, daß die zweite Ablenkvorrichtung erste und zweite elektromagnetische Ablenkeinrichtungen (18, 19) aufweist, die voneinander in Richtung des Elektronenstrahls im Abstand angeordnet sind, und daß Einrichtungen (11, 12; 20, 21, 22, 23, 24, 25, 27, 28) zum Anlegen eines Ablenksignals an die ersten und zweiten elektromagnetischen Ablenkvorrichtungen vorgesehen sind.

5. Rasterelektronenmikroskop nach Anspruch 4, dadurch ge kennzeichnet, daß die zweite Ablenkvorrichtung eine Einrich tung (21R, 21L) aufweist zum Einstellen der an die ersten und zweiten elektromagnetischen Ablenkeinrichtungen (18, 19) der zweiten Ablenkvorrichtung angelegten Ablenksignale unter Auf rechterhaltung eines Verhältnisses zwischen den an die elek tromagnetischen Ablenkeinrichtungen (18, 19) der zweiten Ab lenkvorrichtung angelegten Ablenksignalen auf einem gegebenen Wert.

6. Rasterelektronenmikroskop nach Anspruch 5, dadurch ge kennzeichnet, daß die zweite Ablenkvorrichtung eine Einrich tung (24) zum Ändern des Verhältnisses zwischen den an die erste und zweite elektromagnetische Ablenkeinrichtung (18, 19) der zweiten Ablenkvorrichtung angelegten Ablenksignalen aufweist.

7. Rasterelektronenmikroskop nach Anspruch 6, dadurch ge kennzeichnet, daß die erste elektromagnetische Ablenkeinrich tung (9) der ersten Ablenkvorrichtung und die erste elektro magnetische Ablenkeinrichtung (18) der zweiten Ablenkvorrich tung im wesentlichen an einer ersten Position zwischen der Elektronenkanone (2) und der Objektivlinse (5) angeordnet sind, und daß die zweite elektro magnetische Ablenkeinrichtung (10) der ersten Ablenkvorrich tung und die zweite elektromagnetische Ablenkeinrichtung (19) der zweiten Ablenkvorrichtung im wesentlichen an einer zweiten Position zwischen der Elektronenkanone (2) und der Objektivlinse (5) angeordnet sind, wobei sich die erste und die zweite Position voneinander in Richtung des Elektronenstrahles unterscheiden.

8. Rasterelektronenmikroskop nach einen der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Fokussiereinrichtung (4) eine Einrichtung (4) zur Abbildung der Elektronenquelle der Elektronenkanone (2) auf den Objektpunkt (7) der Objektivlinse (5) aufweist und die Objek tivlinse (5) diese Abbildung auf die Probe (6) abbildet.