DE3610298A1 - Verfahren und vorrichtung zum steuern eines stroms von feinen partikeln - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zum steuern eines stroms von feinen partikelnInfo
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Description
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Verfahren und Vorrichtung zum Steuern eines Stroms von feinen Partikeln
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Steuern eines Stroms feiner Partikel. Solche Ströme werden dazu verwendet,
feine Partikel zu transportieren oder mitzuführen, um aus den Partikeln oder mit den Partikeln Schichten zu bilden,
einen zusammengesetzten Stoff herzustellen, zu dotieren, oder um ein Feld aus feinen Partikeln zu erzeugen.
Im Rahmen der vorliegenden Erfindung umfassen die "feinen Partikel" Atome, Moleküle, ultrafeine Partikel und allgemeine
feine Partikel. Mit dem Begriff "ultrafeine Partikel" werden hier solche Teilchen bezeichnet, die kleiner als
0,5 um sind und die man z. B. durch Verdampfung in einem
Gas, durch Plasmaverdampfung, durch chemische Reaktion in der Dampfphase, durch Kolloidniederschlag in einer Flüssigkeit
oder durch Pyrolyse eines Flüssigsprays erhält. Mit "allgemein feinen Partikeln" sind solche feinen Teilchen
gemeint, die man durch übliche Verfahren wie das mechanische Quetschen, durch Kristallisation oder durch Ausfällen
erhält. Der Begriff "Strahl" bedeutet hier einen Strom oder eine Strömung mit in Strömungsrichtung unabhängig von
der Geometrie des Querschnitts etwa konstantem Querschnitt.
Im allgemeinen werden feine Partikel in einem Trägergas dispergiert und mitgeführt, um durch den Strom des Trägergases
transportiert zu werden. Bislang wurde die Steuerung des Stroms von feinen Partikeln bei deren Transport lediglich
dadurch erreicht, daß der durch die mit dem Trägergas strömenden feinen Partikel gebildete Gesamtstrom mit Hilfe
eines Rohrs oder eines Gehäuses definiert wurde, wozu der Druckunterschied zwischen stromaufwärts gelegener und stromabwärts
gelegener Seite ausgenutzt wurde. Demzufolge hat sich der Strom der feinen Partikel unvermeidlich über das
gesamte Rohr oder Gehäuse, durch das der Strömungsweg definiert wurde, zerstreut, obwohl innerhalb des Stroms eine
gewisse Verteilung gegeben ist.
Wenn die feinen Partikel auf ein Substrat geblasen werden, werden sie im allgemeinen zusammen mit dem Trägergas von
einer Düse ausgestoßen. Die für ein solches Ausblasen von feinen Partikeln eingesetzte Düse ist eine gestreckte oder
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eine konvergierende Düse, und der Strömungsquerschnitt der feinen Partikel ist unmittelbar nach dem Ausstoß entsprechend
der Querschnittsfläche des Düsenauslasses beschränkt. Gleichzeitig wird die Strömung aber am Auslaß
der Düse zerstreut, so daß die Einschnürung oder Verengung nur vorrübergehend erfolgt und die Strömungsgeschwindigkeit
die Schallgeschwindigkeit nicht übersteigt.
Wenn der gesamte Strömungsweg der feinen Partikel durch ein Rohr oder ein Gehäuse definiert wird und die feinen
Partikel zusammen mit dem Trägergas entlang dem Strömungsweg mittels der Druckdifferenz zwischen der stromaufwärts
gelegenen und der stromabwärts gelegenen Seite transportiert werden, ruft ein an der stromabwärts gelegenen
Seite zur Erzeugung des Druckunterschieds ausströmendes Gas nicht nur das Ausströmen der feinen Partikel hervor,
sondern ist darüber hinaus nicht in der Lage, eine sehr hohe Transportgeschwindigkeit zu bewirken. Außerdem gelangen
die Partikel unvermeidlich mit den Wänden des Rohrs oder des Gehäuses, durch das der Strömungsweg definiert
wird, in Berührung, und zwar über den gesamten Transportweg hinweg. Wenn daher aktive feine Partikel zu einer gewünschten
Stelle transportiert werden, kann es mit verstreichender Transportzeit oder durch die Berührung mit
den Wänden des Rohrs oder des Gehäuses zu einem Verlust der Aktivität kommen. Außerdem kann sich dadurch, daß der
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gesamte Strömungsweg für die feinen Partikel durch ein Rohr oder ein Gehäuse definiert wird, z. B. durch die Ausbildung
eines Totraums innerhalb der Strömung, eine reduzierte Auffangrate der Partikel sowie ein herabgesetzter
Wirkungsgrad des Trägergases für den Transport der Partikel ergeben.
Auf der anderen Seite erzeugt die herkömmliche gestreckte oder konvergierende Düse einen gestreuten Strom, in welchem
die Partikel eine große Dichteverteilung aufweisen. Im Fall des Aufblasens von feinen Partikeln auf ein Substrat ist es
deshalb schwierig, ein gleichförmiges Aufblasen zu erreichen und die Fläche, in der dieses gleichförmige Aufblasen
stattfindet, zu steuern.
Die US-PS 4 200 264 zeigt eine Vorrichtung zum Erzeugen von metallischem Mg oder Ca mit Hilfe des Kohlenstoffreduktionsverfahrens
.
In der Vorrichtung wird dadurch eine Reduktionsreaktion hervorgerufen, daß ein Mg- oder Ca-Oxid in einer Reaktionskammer mit Kohlenstoff erwärmt und das sich daraus ergebende
Gasgemisch in eine divergierende Düse eingeführt wird, um zum Zwecke der Abkühlung eine adiabatische Expansion zu
veranlassen und dadurch feine Partikel aus Mg oder Ca zu erhalten.
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Die in der Patentschrift vorgeschlagene divergierende Düse ist auf den Betrieb unter einer Unter-Expansionsbedingung
beschränkt.
Die Verwendung einer solchen Düse unter einer solchen Bedingung gestattet sicherlich die Erzeugung einer Überschallgeschwindigkeit
in dem durchströmenden Gas, allerdings wird der durchströmende Gasstrom an der Düsenöffnung
verteilt, so daß man nicht eine Strömung mit im wesentlichen konstanten Querschnitt erreicht.
Dadurch ergibt sich eine geringe Auffang-Ausbeute, wenn
man die sich ergebenden feinen Partikel beispielsweise auf einem Substrat einfängt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die oben aufgezeigten Probleme zu beseitigen oder doch zumindest zu
mildern. Insbesondere sollen eine Vorrichtung und ein Verfahren geschaffen werden zur Erzeugung eines Stroms feiner
Partikel mit im wesentlichen konstantem Querschnitt bei minimaler Zerstreuung.
Außerdem soll die Erfindung eine Vorrichtung und ein Verfahren schaffen, die bzw. das das Einfangen feiner Partikel
begrenzter Lebensdauer gestattet, z. B. das Einfangen
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aktiver Partikel, ohne daß ein Aktivitätsverlust der Partikel erfolgt.
Hierzu schafft die vorliegende Erfindung eine Vorrichtung zum Steuern eines Stroms feiner Partikel, die gekennzeichnet
ist durch eine in einem Strömungsweg angeordnete konvergierende/divergierende Düse.
Außerdem schafft die Erfindung eine Vorrichtung zum
Steuern eines Stroms feiner Partikel, die gekennzeichnet ist durch eine konvergierende/divergierende Düse in dem
Strömungsweg, bei dem auf der stromaufwärts gelegenen Seite eine Gasanregungseinrichtung vorgesehen ist.
Steuern eines Stroms feiner Partikel, die gekennzeichnet ist durch eine konvergierende/divergierende Düse in dem
Strömungsweg, bei dem auf der stromaufwärts gelegenen Seite eine Gasanregungseinrichtung vorgesehen ist.
Weiterhin schafft die Erfindung eine Vorrichtung zum
Steuern eines Stroms feiner Partikel, die gekennzeichnet
ist durch eine konvergierende/divergierende Düse in einem Strömungsweg, bei dem auf der stromabwärts gelegenen Seite eine Evakuierung erfolgt, wobei ein Querschnitt des Halses der Düse so festgelegt wird, daß der Durchsatz der Düse
im wesentlichen genauso groß ist wie die Evakuierungsrate.
Steuern eines Stroms feiner Partikel, die gekennzeichnet
ist durch eine konvergierende/divergierende Düse in einem Strömungsweg, bei dem auf der stromabwärts gelegenen Seite eine Evakuierung erfolgt, wobei ein Querschnitt des Halses der Düse so festgelegt wird, daß der Durchsatz der Düse
im wesentlichen genauso groß ist wie die Evakuierungsrate.
Die Erfindung schafft außerdem ein Verfahren zum Steuern
eines Stroms feiner Partikel, bei welchem die stromabwärts gelegene Seite einer in einem Strömungsweg befindlichen
eines Stroms feiner Partikel, bei welchem die stromabwärts gelegene Seite einer in einem Strömungsweg befindlichen
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konvergierenden/divergierenden Düse evakuiert wird, so daß die Partikel durch die Düse hindurchströmen.
Schließlich schafft die Erfindung ein Verfahren zum Steuern eines Stroms feiner Partikel, welches dadurch gekennzeichnet
ist, daß auf der stromaufwärts gelegenen Seite einer in einem Strömungsweg befindlichen konvergierenden/divergierenden
Düse ein Druck aufrechterhalten wird, der gleich oder größer ist als der atmosphärische Druck.
Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Skizze zur Veranschaulichung des Grundprinzips der Erfindung,
Fig. 2 eine schematische Ansicht einer Vorrichtung zur Bildung einer Schicht mit ultrafeinen Partikeln,
Fig. 3A, 3B, 4A, 4B, 5A und 5B Ausführungsformen einer
Gasanregungsvorrxchtung,
Fig. 6A bis 6D unterschiedliche Formen einer konvergierenden/ divergierenden Düse,
Fig. 7A und 7B unterschiedliche Ausfuhrungsformen einer Abstreifvorrichtung,
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Fig. 8 eine schematische Ansicht einer Vorrichtung mit
einer Düsen-Verschlußanordnung, und
Fig. 9 eine schematische Ansicht einer mit einem Reservoir ausgestatteten Vorrichtung.
Eine erfindungsgemäß verwendete konvergierende/divergierende
Düse 1 besitzt einen Öffnungsquerschnitt, der, wie in Fig. gezeigt ist, von einem Einlaß 1a bis zu einem Zwischen-HaIs
2 nach und nach abnimmt und dann auf einen Auslaß 1b zu nach und nach größer wird. Der besseren Anschaulichkeit
halber ist in Fig. 1 der Einlaß bzw. der Auslaß der konvergierenden/divergierenden
Düse 1 angeschlossen an eine geschlossene, stromaufwärts gelegene Kammer 3 bzw. eine geschlossene,
stromabwärts gelegene Kammer 4. Der Einlaß und der Auslaß der erfindungsgemäßen konvergierenden/divergierenden
Düse 1 können jedoch sowohl an geschlossene als auch offene Systeme angeschlossen sein, solange die feinen
Partikel veranlaßt werden, zusammen mit einem Trägergas aufgrund eines zwischen Einlaß und Auslaß herrschenden
Druckunterschieds die Düse zu passieren.
Mit dem Ausdruck "optimale Expansionsbedingung" ist hier gemeint, daß der Druck P1 am Düsenauslaß 1b genauso groß
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ist wie der Druck P in der stromabwärts gelegenen Kammer 4, wodurch der von der Düse kommende Strom die Eigenschaft
eines Strahls hat.
eines Strahls hat.
Unter einer Expansionsbedingung P1>
P divergiert der ausgestoßene Strom nach außen hin sehr rasch, beginnend am Auslaß
der Düse, so daß ein gleichförmiger Strom nicht erzielt wird. Andererseits wird bei einer Überexpansionsbedingung
P. >P der Strom so, daß er in der Düse ein Ablösen bewirkt, so daß er instabil wird und außerdem die Neigung hat, Stoßwellen zu erzeugen und mithin nicht für die vorliegende
Aufgabe geeignet ist.
P. >P der Strom so, daß er in der Düse ein Ablösen bewirkt, so daß er instabil wird und außerdem die Neigung hat, Stoßwellen zu erzeugen und mithin nicht für die vorliegende
Aufgabe geeignet ist.
Um einen optimalen Expansionsstrom zu erhalten, können beispielsweise
Drucksensoren an dem Auslaß oder um den Auslaß
der Düse herum bzw. in der stromabwärts befindlichen Kammer angeordnet werden, während man den Druck P im stromaufwärts gelegenen Abschnitt und den Druck P in dem stromabwärts gelegenen Abschnitt so steuert, daß die von den Sensoren festgestellten Drücke etwa gleich groß sind.
der Düse herum bzw. in der stromabwärts befindlichen Kammer angeordnet werden, während man den Druck P im stromaufwärts gelegenen Abschnitt und den Druck P in dem stromabwärts gelegenen Abschnitt so steuert, daß die von den Sensoren festgestellten Drücke etwa gleich groß sind.
Erfindungsgemäß wird zwischen der stromaufwärts befindlichen
Kammer 3 und der stromabwärts gelegenen Kammer 4 gemäß
Fig. 1 eine Druckdifferenz dadurch erzeugt, daß in die
Fig. 1 eine Druckdifferenz dadurch erzeugt, daß in die
36102
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stromaufwärts gelegene Kammer 3 ein Trägergas eingespeist
wird, in der die feinen Partikel im Schwebezustand dispergiert sind, während die stromabwärts gelegene Kammer
mit Hilfe einer Vakuumpumpe 5 evakuiert wird, so daß das die feinen Partikel enthaltende, eingespeiste Trägergas
von der stromaufwärts gelegenen Kammer 3 durch die konvergierende/divergierende Düse 1 zu der stromabwärts gelegenen
Kammer 4 strömt.
Die konvergierende/divergierende Düse 1 hat nicht nur die Punktion, die feinen Partikel entsprechend dem Druckunterschied
zwischen stromaufwärtiger und stromabwärtiger Seite
zusammen mit dem Trägergas auszustoßen, sondern dient außerdem dazu, den aus Trägergas und feinen Partikeln bestehenden
Strom gleichmäßig auszustoßen. Ein solcher gleichförmiger Strom von feinen Partikeln läßt sich dazu verwenden, die
Partikel gleichförmig auf ein Substrat 6 zu blasen.
Die konvergierende/divergierende Düse 1 ist in der Lage, den mit dem Trägergas ausgestoßenen Strom feiner Partikel
durch geeignete Auswahl eines Druckverhältnisses P/P des Drucks P in der stromabwärts gelegenen Kammer 4 bezüglich
des Drucks P in der stromaufwärts gelegenen Kammer, sowie eines Verhältnisses A/A* des Öffnungsquerschnitts A des
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Auslasses 1b bezüglich der Querschnittsfläche A* des
Halses 2 zu beschleunigen. Wenn das Verhältnis P/Po der Drücke in der stromaufwärts bzw. in der stromabwärts gelegenen
Kammer 3 bzw. 4 ein kritisches Druckverhältnis übersteigt, nimmt die Geschwindigkeit des Massestroms am
Ausgang der Düse 1 einen Wert unterhalb der Schallgeschwindigkeit an, und das aus feinen Partikeln und Trägergas
bestehende Gemisch wird mit verringerter Geschwindigkeit ausgestoßen. Wenn andererseits das Druckverhältnis
P/Po weniger beträgt als das kritische Druckverhältnis, nimmt die Geschwindigkeit des Massestroms an dem Auslaß
der Düse einen Wert oberhalb der Schallgeschwindigkeit an, so daß die Partikel und das Trägergas mit Überschallgeschwindigkeit
ausgestoßen werden.
Wenn man davon ausgeht, daß der Strom der feinen Partikel ein eindimensionaler Druckstrom mit adiabatischer
Expansion ist, wird die Machsche Zahl M, die von dem Strom erreicht werden kann, bestimmt durch den Druck Po
der stromaufwärts gelegenen Kammer und dem Druck P der stromabwärts gelegenen Kammer, und zwar nach folgender
Formel:
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wobei u die Geschwindigkeit des Fluids, a die lokale Schallgeschwindigkeit an dem Auslaß und γ* das Verhältnis
der Werte der spezifischen Wärme des Fluid ist. M überschreitet den Wert 1 wenn das Verhältnis P/Po unterhalb
des kritischen Druckverhältnisses ist.
Die Schallgeschwindigkeit läßt sich durch folgende Formel angeben:
a =
wobei T die lokale Temperatur und R die Gaskonstante ist. Außerdem gilt folgende Beziehung zwischen den Öffnungsquerschnitten
A, A* des Auslasses 1b und des Halses 2 und der Machschen Zahl M:
a —!CIl
Es ist deshalb möglich, die Strömungsgeschwindigkeit der aus der Düse 1 ausgestoßenen feinen Partikel dadurch zu
regulieren, daß man das Öffnungsverhältnis A/A* nach Maßgabe der Machschen Zahl M bestimmt, wobei die Machsche
Zahl M durch die Gleichung (1) aus dem Druckverhältnis P/Po der stromaufwärts und stromabwärts gelegenen Kammer
berechnet wird. Außerdem kann die Regelung dadurch erfolgen,
361Ü298
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daß man das Verhältnis P/Po entsprechend dem nach Gleichung
(2) aus dem Öffnungsverhältnis A/A* bestimmten Wert von M reguliert. Die Geschwindigkeit u der Strömung
der feinen Partikel läßt sich durch folgende Gleichung (3) bestimmen:
u = M /pTo (1 + Vf)* (3)
wobei T die Temperatur der stromaufwärts gelegenen Kammer 3 ist.
Der Zustand des Stroms von feinen Partikeln läßt sich in einem Zustand aufrechterhalten, der bestimmt wird durch
das Öffnungsflächenverhältnis A/A*f falls das Druckverhältnis
P/Po der stromaufwärts gelegenen Kammer 3 und der stromabwärts gelegenen Kammer 4 konstant gehalten wird.
Folglich muß die Vakuumpumpe 5 zum Evakuieren der stromabwärts gelegenen Seite oder Kammer 4 in der Lage sein, die
Kammer 4 unabhängig davon auf konstantem Druck zu halten, wie der Strom von feinen Partikeln durch die konvergierende/
divergierende Düse 1 verläuft, wenn die stromaufwärts gelegene Kammer 3 auf einem konstanten Druck gehalten wird.
Die Masse, die von der Vakuumpumpe evakuiert werden kann, hängt im allgemeinen von der Pumpenkapazität ab. Wenn
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allerdings der Strömungsdurchsatz durch die Düse kleiner
gewählt wird als die Evakuierungs-Volumengeschwindigkeit der Pumpe, läßt sich der Druck in der stromabwärts gelegenen
Kammer 4 dadurch konstant halten, daß der Durchsatz der Pumpe im wesentlichen genauso groß eingestellt
wird wie der Durchsatz durch die Düse, ζ. Β. mit Hilfe eines Ventils. Speziell durch Auswählen der Querschnittsfläche des Halses 2 der konvergierenden/divergierenden
Düse dahingehend, daß der Durchsatz durch die Düse 1 gleich der effektiven Evakuierungsgeschwindigkeit der Pumpe entspricht,
wird der Strom feiner Partikel einer optimalen Expansion am Düsenausgang 1b unterworfen, ohne daß die
Strömungsgeschwindigkeit durch das Ventil oder dergleichen reguliert wird, und es läßt sich im Leistungsbereich der
Pumpe eine maximale Strömungsgeschwindigkeit stabil einstellen.
Die Strömungsmenge durch die Düse sowie die Strömungsmenge (Durchsatz) bei der Evakuierung werden beide durch Massenströmungsmengen
angegeben.
Die Massenströmungsmenge oder der Durchsatz m in der konvergierenden/divergierenden
Düse 1 bestimmt sich durch folgende Gleichung (4) :
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Der Durchsatz bestimmt sich nach der Öffnungs-Querschnittsflache
A* des Halses 2, wenn der Druck Po und die Temperatur To in der stromaufwärts gelegenen Kammer
konstant sind.
Bei einem Ausstoß mit einem Druckverhältnis, welches das kritische Verhältnis übersteigt, wie oben erläutert wurde,
bilden Trägergas und feine Partikel einen gleichförmigen sich zerstreuenden Strom, so daß die feinen Partikel
gleichförmig über einer relativ großen Fläche aufgeblasen werden können.
Wenn andererseits Trägergas und Partikel in Form einer Hochgeschwindigkeitsströmung in eine Richtung ausgestoßen
werden, bilden sie einen Strahl, bei dem der Querschnitt unmittelbar nach dem Ausstoß im wesentlichen beibehalten
wird. Demzufolge bilden auch die von dem Trägergas mitgeführten feinen Partikel einen Strahl, der mit Hochgeschwindigkeit
in die stromabwärts gelegene Kammer 4 bei minimaler Zerstreuung und ohne räumliche Beeinflussung durch die
Wände der Kammer 4 transportiert, so daß die Evakuierung der Partikel durch die Pumpe 5 leicht verhindert werden
kann.
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Es ist daher möglich, auf dem Substrat 6 innerhalb der stromabwärts gelegenen Kammer 4 aktive feine Partikel
in einem zufriedenstellend aktiven Zustand aufzufangen, indem die aktiven feinen Partikel in der stromaufwärts
gelegenen Kammer erzeugt und durch die Düse 1 transportiert werden, oder indem die aktiven feinen Partikel in
oder unmittelbar nach der Düse 1 erzeugt und in Form eines räumlich unabhängigen Überschallstrahls transportiert
werden. Auch die Auffangzone läßt sich in einfacher Weise steuern, da die feinen Partikel in Form eines Strahls mit
einem entlang dem Strahl etwa gleichförmigen Querschnitt auf das Substrat 6 geblasen werden.
Fig. 2 zeigt schematisch eine Ausführungsform der Erfindung
in Anwendung bei einer Vorrichtung zur Schichtbildung mit ultrafeinen Partikeln, wobei eine konvergierende/divergierende
Düse 1, eine stromaufwärts gelegene Kammer 3, eine erste stromabwärts gelegene Kammer 4a und eine zweite stromabwärts
gelegene Kammer 4b vorhanden sind. Im folgenden soll die konvergierende/divergierende Düse 1 abgekürzt als
KD-Düse bezeichnet werden.
Die stromaufwärts gelegene Kammer 3 und die erste stromabwärts gelegene Kammer 4a sind als einstückige Einheit aufgebaut,
wobei an die erste Kammer 4a abnehmbar eine Ab-
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streifVorrichtung 7, ein Absperrventil 8 und die zweite
stromabwärts gelegene Kammer 4b mit Hilfe von Flanschen gleichen Durchmessers, die im folgenden als gemeinsame
Flansche bezeichnet werden, befestigt sind. Die stromaufwärts gelegene Kammer 3, die erste stromabwärts gelegene
Kammer 4a und die zweite stromabwärts gelegene Kammer 4b werden mit einem unten noch näher zu erläuternden Vakuumsystem
auf sukzessive höherem Vakuum gehalten. Im folgenden soll die stromaufwärts gelegene Kammer vereinfacht mit
"obere Kammer" und die stromabwärts gelegene Kammer vereinfacht mit "untere Kammer" bezeichnet werden.
An die obere Kammer 3 ist mit einem gemeinsamen Flansch eine Gasanregungseinrichtung 9 angeschlossen, die durch Plasma
ultrafeine Partikel erzeugt und diese Partikel zusammen mit einem Trägergas wie Wasserstoff, Helium, Argon oder Stickstoff
zu der gegenüberliegenden KD-Düse 1 schickt. Die obere Kammer 3 kann an ihren Innenwänden eine Antihaftbehandlung
erfahren haben, um das Haftenbleiben der so erzeugten ultrafeinen Partikel an den Innenwänden zu vermeiden.
Aufgrund des Druckunterschieds zwischen der oberen Kammer und der ersten unteren Kammer 4a, verursacht durch das
höhere Vakuum in der unteren Kammer, strömen die erzeugten ultrafeinen Partikel zusammen mit dem Trägergas durch die
Düse 1 zu der ersten unteren Kammer 4a.
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Wie Fig. 3A und 3B zeigen, enthält die Gasanregungseinrichtung 9 eine erste, rohrförmige Elektrode 9a, die
eine zweite, stabförmige Elektrode 9b aufnimmt, so daß zwischen den beiden Elektroden eine elektrische Entladung
induziert wird, während das Trägergas und das Rohmaterialgas in die erste Elektrode 9a eingegeben werden. Beispiele
für im Rahmen der Erfindung einsetzbare Gasanregungsverfahren sind die Gleichspannungs-Glimmentladung und die
Hochfrequenz-Glimmentladung. Außerdem kann in der Gasanregungseinrichtung
9 gemäß Fig. 4A und Fig. 4B die erste Elektrode 9a als zweite Elektrode eine Elektrode 9c mit
einer Vielzahl von Poren beinhalten, so daß das Trägergas in das Innere der ersten Elektrode 9a gelangt, während
das Rohmaterialgas in das Innere der zweiten Elektrode 9c eingegeben wird. Ein solcher Aufbau gestattet die Anregung
von Gas, während das Trägergas sowie das Rohmaterialgas in
dem Rohr gleichförmig gemischt werden.
Fig. 5A ist eine perspektivische Ansicht eines weiteren Ausführungsbeispiels für die Gasanregungseinrichtung, und
Fig. 5B ist eine Querschnittansicht entlang der Linie A-A in Fig. 5A. Wie aus der Zeichnung hervorgeht, bilden eine
erste, einen halbkreisförmigen Querschnitt aufweisende Elektrode 9d und eine zweite Elektrode 9e ähnlicher Gestalt,
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die über Isolatoren 9f aus beispielsweise Quarz oder Porzellan zusammengebaut sind, Rohre für das Trägergas
und das Rohmaterialgas, die über einen gemeinsamen Flansch miteinander verbunden sind.
Die KD-Düse 1 ist mit einem gemeinsamen Flansch an eine in Richtung auf die obere Kammer 3 gerichtete Seite der
ersten unteren Kammer 4a montiert, so daß sie in die obere Kammer 3 hineinragt, wobei ihr Einlaß 1a sich in die
obere Kammer 3 öffnet und der Auslaß 1b sich in die erste untere Kammer 4a öffnet. Die Düse 1 kann auch so montiert
sein, daß sie in die erste untere Kammer 4a hineinragt. Die Richtung des Vorspringens der Düse 1 bestimmt sich durch
ihre Größe und die Menge und Beschaffenheit der zu transportierenden
ultrafeinen Partikel.
Wie oben bereits erläutert wurde, reduziert sich der Querschnitt der KD-Düse 1 vom Einlaß 1a aus zu dem Hals 2 hin
nach und nach, um sich dann zum Auslaß 1b hin nach und nach aufzuweiten, und der Differentialquotient der Kurve
des Strömungswegs ändert sich kontinuierlich, um an dem Hals 2 den Wert Null zu erreichen, so daß dadurch das Wachstum
von Strömungsgrenzschichten in der Düse 1 minimiert wird. Im Rahmen der vorliegenden Erfindung bedeutet die
Kurve des Strömungswegs in der Düse 1 den Krümmungsverlauf
der Innenwand, betrachtet im Querschnitt entlang der Strö-
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mungsrichtung. Auf diese Weise ist es möglich, den wirksamen
Querschnitt des Stroms in der Düse 1 so zu wählen, daß er dem Entwurfswert sehr nahe kommt und die Leistungsfähigkeit
der Düse 1 vollständig ausnützt. Wie in Fig. 6A vergrößert dargestellt ist, verläuft der Innenumfang in der Nähe des
Auslasses 1b vorzugsweise etwa parallel zur Mittelachse oder besitzt einen Differentialkoeffizienten gleich Null,
um die Ausbildung eines parallelen Stroms zu erleichtern, da die Stromrichtung des ausgestoßenen Trägergases und der
ausgestoßenen feinen Partikel bis zu einem gewissen Ausmaß beeinflußt wird durch die Richtung der Innenwand in der
Nähe des Auslasses 1b. Wenn aber der Winkel (X der Innenwand von dem Hals 2 zu dem Auslaß 1b bezüglich der Mittelachse
kleiner als 7° gewählt wird, vorzugsweise 5° oder weniger, wie in Fig. 6B gezeigt ist, ist es möglich, das Abschäloder
Ablöse-Phänomen zu verhindern und einen im wesentlichen gleichförmigen Zustand des ausgestoßenen Trägergases
mit den ultrafeinen Partikeln beizubehalten. Folglich kann in einem solchen Fall auf die oben erwähnte parallele
innere ümfangswand verzichtet werden, so daß sich die Herstellung der Düse 1 durch Wegfall des parallelen Wandabschnitts
vereinfacht. Außerdem läßt sich durch Verwendung einer rechteckigen Düse 1 gemäß Fig. 6C ein schlitzförmiger
Ausstoß des Trägergases und der ultrafeinen Partikel erreichen.
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Das oben erwähnte Ablöse-Phänomen bedeutet die Bildung einer vergrößerten Grenzschicht zwischen der Innenwand
der Düse 1 und dem durchströmenden Fluid, verursacht beispielsweise durch einen Vorsprung der Innenwand, wodurch
eine ungleichmäßige Strömung begünstigt wird. Dieses Phänomen tritt häufiger bei Strömen mit höherer Geschwindigkeit
auf. Um dieses sogenannte Ablöse-Phänomen zu vermeiden,
wird der oben erwähnte Winkel C* vorzugsweise kleiner
gewählt, wenn die Innenwand der Düse 1 nicht so präzise endbearbeitet ist. Die Innenwand der Düse 1 sollte - entsprechend
der Japanischen Industrienorm JIS B 0601 mit einer Feinheit endbearbeitet sein, die drei, vorzugsweise
vier auf der Spitze stehenden Dreieckmarkierungen entspricht, Da das Ablöse-Phänomen in dem divergierenden Abschnitt der
Düse 1 den Strom des Trägergases und der ultrafeinen Partikel anschließend signifikant beeinflußt, sollte der Oberflächenbearbeitung
des divergierenden Abschnitts besondere Aufmerksamkeit gelten, um die Herstellung der Düse 1 zu vereinfachen.
Außerdem ist es zum Verhindern des Ablöse-Phänomens notwendig, den Halsabschnitt 2 mit glatter Krümmung
zu versehen und das Vorhandensein eines unendlich großen Differentialkoeffizienten bei der Änderung der
Querschnittsfläche zu vermeiden. Allerdings ist das Entstehen einer durch das Ablöse-Phänomen verursachten Grenzschicht
unvermeidlich, da es in der Praxis unmöglich ist,
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die Innenwand der Düse 1 als vollständige Spiegelfläche
auszubilden. Die Bildung einer solchen Grenzschicht auf der stromabwärts gelegenen Seite des Halses 2 entspricht
einer Verminderung des Verhältnisses A/A*, so daß dadurch die gewünschte Strömungsgeschwindigkeit nicht erzielt
wird. Aus diesem Grund ist die wirksame Querschnittsfläche am Auslaß gleich der Querschnittsfläche des Auslasses, abzüglich
der Gesamtfläche der Grenzschicht in dem Auslaß, vorzugsweise mindestens 90 % der Querschnittsfläche des
Auslasses.
Die Dicke der Grenzschicht sollte folglich einen Wert von 0,5 mm bei einem Auslaßdurchmesser von 20 mm und einen
Wert von ca. 0,05 mm bei einem Auslaßdurchmesser von 2 mm nicht übersteigen. Da die genannte Dicke nicht unter einen
gewissen Grenzwert abgesenkt werden kann, sollte der Durchmesser des Auslasses 1b im Fall eines Auslasses mit kreisförmigem
Querschnitt mindestens 1 mm betragen, und bei einem Auslaß mit rechteckigem Querschnitt sollte der Spalt
des Auslasses 1b mindestens etwa 1 mm betragen. Die Obergrenze hängt beispielsweise ab von der Kapazität der
Vakuumpumpe 5b auf der stromabwärts gelegenen Seite. Außerdem sollte die Strömungslinie des Stroms mit der Krümmunq
der Innenwand der Düse 1 so weit wie möglich übereinstimmen, da ansonsten die oben erwähnte Grenzschicht dicker wird.
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Zusätzlich zu den in den Fig. 6A, 6B und 6C gezeigten
Formen kann die KD-Düse 1 mit mehreren Halsabschnitten
2, 2' versehen sein, wie Fig. 6D zeigt. In diesem Fall
wird der beim Durchlauf durch den ersten Hals 2 beschleunigte Strom in einem Abschnitt mit sich verringernden
Durchmesser verzögert und bei dem zweiten Halsabschnitt
21 erneut beschleunigt. Bei einem solchen Aufbau steigt und fällt die Temperatur des Stroms wiederholt, entsprechend der Änderung der Geschwindigkeit in der Düse 1, und zwar infolge wechselseitiger Umsetzung der thermischen Energie und der kinetischen Energie, wie im folgenden noch näher erläutert wird. Dadurch kann ein interessierendes Reaktionsfeld gebildet werden. Die Anzahl von Halsabschnitten ist nicht auf zwei beschränkt, sondern es können auch drei oder noch mehr Halsabschnitte vorhanden sein.
Formen kann die KD-Düse 1 mit mehreren Halsabschnitten
2, 2' versehen sein, wie Fig. 6D zeigt. In diesem Fall
wird der beim Durchlauf durch den ersten Hals 2 beschleunigte Strom in einem Abschnitt mit sich verringernden
Durchmesser verzögert und bei dem zweiten Halsabschnitt
21 erneut beschleunigt. Bei einem solchen Aufbau steigt und fällt die Temperatur des Stroms wiederholt, entsprechend der Änderung der Geschwindigkeit in der Düse 1, und zwar infolge wechselseitiger Umsetzung der thermischen Energie und der kinetischen Energie, wie im folgenden noch näher erläutert wird. Dadurch kann ein interessierendes Reaktionsfeld gebildet werden. Die Anzahl von Halsabschnitten ist nicht auf zwei beschränkt, sondern es können auch drei oder noch mehr Halsabschnitte vorhanden sein.
Beispiele für das für die KD-Düse 1 zu wählende Material sind Metalle wie Eisen und rostfreier Stahl, Kunststoffe
wie Acrylharz, Polyvinylchlorid, Polyäthylen, Polystyren und Polypropylen, keramische Stoffe, Quarz, Glas und dergleichen.
Das Material kann unter Berücksichtigung des
Fehlens einer Reaktion mit den zu erzeugenden ultrafeinen Partikeln ausgewählt werden, unter Berücksichtigung der
einfachen Bearbeitung und der Gasemission in dem Vakuumsystem. Außerdem kann die Innenwand der Düse 1 mit einem Material überzogen oder beschichtet sein, welches ein
Fehlens einer Reaktion mit den zu erzeugenden ultrafeinen Partikeln ausgewählt werden, unter Berücksichtigung der
einfachen Bearbeitung und der Gasemission in dem Vakuumsystem. Außerdem kann die Innenwand der Düse 1 mit einem Material überzogen oder beschichtet sein, welches ein
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Haften oder eine Reaktion mit den ultrafeinen Partikeln verhindert. Ein Beispiel für ein solches Material ist
eine Beschichtung aus Polyfluoräthylen.
Die Länge der KD-Düse 1 kann unter Berücksichtigung der Länge der Vorrichtung frei gewählt werden. Die in dem
Trägergas enthaltene thermische Energie wird in kinetische Energie umgesetzt, wenn das Trägergas die KD-Düse durchströmt.
Folglich verringert sich auch die thermische Energie der ultrafeinen Partikel spürbar, und die Strömungsgeschwindigkeit
dieser Partikel folgt derjenigen des Trägergases. Wenn weiterhin in dem Trägergas ein kondensierbares Gas enthalten
ist, kann dieses kondensierbare Gas in dem Strom aufgrund des durch die erwähnte Abnahme der thermischen
Energie erfolgenden Abkühleffekts kondensieren.
Das beschriebene Verfahren ermöglicht aufgrund der homogenen Kernbildung die Erzeugung homogener ultrafeiner Partikel,
Für ein ausreichendes Kondensieren sollte auch in diesem Fall die KD-Düse 1 vorzugsweise länger gemacht werden. Auf
der anderen Seite erhöht das Kondensieren die thermische Energie und reduziert die kinetische Energie. Um folglich
eine hohe Ausstoßgeschwindigkeit beizubehalten, sollte die Düse 1 vorzugsweise kürzer sein.
Durch das Durchleiten des die ultrafeinen Partikel ent-
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haltenden Trägergasstroms durch die oben erläuterte KD-Düse 1 bei geeigneter Auswahl des Druckverhältnisses P/Po
der oberen Kammer 3 und der unteren Kammer 4 sowie eines Öffnungsquerschnittverhältnisses A/A* des Halsabschnitts
und des Auslasses 1b nimmt der Strom die Form eines Strahls an, der mit hoher Geschwindigkeit von der ersten
unteren Kammer 4a in die zweite untere Kammer 4b gelangt.
Bei der Abstreifvorrichtung 7 handelt es sich um eine veränderliche
Öffnung, die von außen verstellbar ist, so daß sich der Öffnungsquerschnitt zwischen der ersten unteren
Kammer 4a und der zweiten unteren Kammer 4b schrittweise ändert, um so in der zweiten unteren Kammer 4b ein höheres
Vakuum aufrechtzuerhalten als in der ersten Kammer 4a. Speziell besteht die Abstreifvorrichtung gemäß Fig. 7A aus
zwei Justierplatten 11 und 11', die mit Kerben 10 bzw. 10'
versehen sind. Die Platten sind verschieblich derart angeordnet, daß sich die Kerben 10 und 10' gegenseitig überlagern.
Die Justierplatten 11 und 11' lassen sich von außen
bewegen, damit die Kerben 10 und 10' eine Öffnung definieren, die ein Passieren des Strahls gestatten und dennoch ein ausreichendes
Vakuum in der zweiten unteren Kammer aufrechterhalten. Die Gestalt der Kerben 10, 10' der Abstreifvorrichtung
10 und die Form der Justierplatten 11, 11' ist nicht auf die in Fig. 7A dargestellte V-Form beschränkt, sondern
die Form kann auch halbkreisförmig oder anders sein.
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Man kann auch einen Blendenraechanismus verwenden, ähnlich wie bei einer Kamera. Dies ist in Fig. 7B dargestellt. Mit
einem solchen Mechanismus läßt sich eine feine Drucksteuerung erreichen.
Das Absperrventil 8 besitzt ein wehrähnliches Ventilteil 13, das mit Hilfe eines Handgriffs 12 geöffnet oder geschlossen
werden kann. Bei vorhandenem Strahl wird es vollständig geöffnet. Durch Schließen des Absperrventils 8 ist es möglich,
die Einheit der zweiten unteren Kammer 4b auszutauschen, während in der oberen Kammer 3 und in der ersten unteren
Kammer 4a ein Vakuum aufrechterhalten bleibt. Handelt es sich bei den ultrafeinen Partikeln um leicht oxidierende
Metallpartikel, so kann man die Einheit ohne Gefahr einer raschen Oxidation austauschen, indem man ein Kugelventil
oder dergleichen als Absperrventil 8 einsetzt und die zweite untere Kammer 4b zusammen mit dem Kugelventil austauscht.
In der zweiten unteren Kammer 4b befindet sich ein Substrat 6, welches die ultrafeinen Partikel, die in Form eines Strahls
transportiert werden, als Schicht auffängt. Das Substrat ist auf einem Substrathalter 16 am Ende einer Schiebestange
15 montiert. Die Schiebestange ist in der zweiten unteren Kammer 4b mit Hilfe eines gemeinsamen Flansches montiert
und wird durch einen Zylinder 14 bewegt. Vor dem Substrat
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befindet sich ein Verschluß 17, um den Strahl bei Bedarf abzufangen. Außerdem kann der Substrathalter 16 das
Substrat 6 erwärmen oder Abkühlen, um für das Auffangen der ultrafeinen Partikel optimale Bedingungen zu schaffen.
In der oberen und der unteren Wand der oberen Kammer 3 und der zweiten unteren Kammer 4b befinden sich Glasfenster
18, die mit gemeinsamen Flanschen in der in der Zeichnung dargestellten Weise montiert sind. Die Fenster gestatten
die Beobachtung des Innenraums. Ähnliche Glasfenster sind (wenngleich hier nicht dargestellt) mit Hilfe gemeinsamer
Flansche in der Vorder- und der Rückwand der oberen Kammer 3, der ersten unteren Kammer 4a und der zweiten unteren
Kammer 4b vorhanden. Diese Glasfenster lassen sich abnehmen, so daß man verschiedene Meßinstrumente oder eine Last-Verriegelungskammer
mit Hilfe der gemeinsamen Flansche montieren kann.
Die obere Kammer 3 ist über ein Druckregelventil 19 an ein Hauptventil 20a angeschlossen. Die erste untere Kammer 4a
ist direkt an das Hauptventil 20a angeschlossen, welches seinerseits an die Vakuumpumpe 5a angeschlossen ist. Die
zweite untere Kammer 4b ist an ein Hauptventil 20b angeschlossen, welches an eine Vakuumpumpe 5b angeschlossen ist.
Vorpumpen 21a, 21b sind an die stromaufwärts gelegene Seite der Hauptventile 20a, 20b über Vorvakuumventile 22a, 22b
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und außerdem über Hilfsventile 23a, 23b an die Vakuumpumpen
5a, 5b angeschlossen. Die Vorpumpen 21a und 21b werden zur Vorevakuierung der oberen Kammer 3, der ersten
unteren Kammer 4a und der zweiten unteren Kammer 4b verwendet. Für die Kammern 3, 4a, 4b sowie die Pumpen 5a, 5b,
21a, 21b sind Leck/Entleerungs-Ventile 24a-24h vorgesehen.
Zunächst werden die Vorvakuuraventile 22a, 22b und das Druckregelventil 19 geöffnet, um eine Vorevakuierung der
oberen Kammer 3 und der. ersten und zweiten unteren Kammer 4a, 4b mit Hilfe der Vorpumpen 21a und 21b zu erreichen.
Dann werden die Vorvakuumventile 22a, 22b geschlossen, und die Hilfsventile 23a, 23b sowie die Hauptventile 20a, 20b
werden geöffnet, um die obere Kammer 3 und die erste und die zweite untere Kammer 4a, 4b mit Hilfe der Vakuumpumpen 5a,
5b ausreichend zu evakuieren. In diesem Zustand wird das Öffnungsmaß des Druckregelventils 19 so gesteuert, daß in
der ersten unteren Kammer 4a ein höheres Vakuum erreicht wird als in der oberen Kammer 3. Dann werden das Trägergas
und das Rohstoffgas eingespeist, und die Abstreifvorrichtung 7 wird so eingestellt, daß in der zweiten unteren
Kammer 4b ein stärkeres Vakuum erhalten wird als in der ersten unteren Kammer 4a. Die Einstellung kann auch über
das Hauptventil 20b erfolgen. Außerdem erfolgt die Steuerung so, daß in jeder der Kammern 3, 4a, 4b während der Erzeugung
der ultrafeinen Partikel und der Schichtbildung durch den
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ausgestoßenen Strahl ein konstantes Vakuum vorhanden ist. Diese Steuerung läßt sich entweder von Hand oder automatisch
dadurch erreichen, daß die Drücke in den Kammern 3, 4a und 4b ermittelt und dementsprechend das Druckregelventil
19, die Hauptventile 20a und 20b und die Abstreifvorrichtung 7 eingestellt werden. Wenn außerdem das Trägergas
und die feinen Partikel, die der oberen Kammer 3 zugeführt werden, unmittelbar über die Düse 1 zur stromabwärts
gelegenen Seite transportiert werden, läßt sich die Evakuierung während des Transports nur durch die erste und
die zweite untere Kammer 4a und 4b durchführen.
Die obere Kammer 3 und die erste untere Kammer 4a können mit separaten Vakuumpumpen ausgestattet sein, um die oben
erwähnte Einstellung des Vakuums zu erreichen. Verwendet man allerdings eine einzige Vakuumpumpe 5a, wie es oben
angesprochen wurde, so läßt sich zur Evakuierung in Richtung des Strahlstroms zum Steuern der Vakuumwerte in der
oberen Kammer 3 und der ersten unteren Kammer 4a die Druckdifferenz zwischen den Kammern konstant halten, selbst wenn
die Vakuumpumpe 5a bis zu einem gewissen Maß pulsierend arbeitet. Deshalb ist es einfacher, einen konstanten Strömungszustand
aufrechtzuerhalten, der in einfacher Weise beeinflußt wird durch eine Änderung der Druckdifferenz.
Das Ansaugen durch die Vakuumpumpen 5a und 5b erfolgt vor-
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zugsweise von der Oberseite her, speziell in der ersten und der zweiten unteren Kammer 4a und 4b, da dieses Ansaugen
von der Oberseite her bis zu einem gewissen Maß das Abfallen des Strahls aufgrund der Schwerkraft verhindert.
Die oben erläuterte Vorrichtung gemäß der Erfindung kann in folgender Weise modifiziert werden:
Zunächst kann die KD-Düse 1 vertikal oder horizontal geneigt werden. Sie kann außerdem so aufgebaut sein, daß sie über
einen gewissen Bereich eine Abtastbewegung vollzieht, um über einen größeren Flächenbereich eine Schicht aufzubauen.
Eine solche Neigung oder Abtastbewegung ist dann vorteilhaft, wenn die in Fig. 6C gezeigte Düse mit rechteckigem
Querschnitt verwendet wird.
Außerdem ist es möglich, die Düse 1 aus einem Isolator, wie z. B. Quarz, herzustellen, um durch Zuführen von Mikrowellenenergie
aktive ultrafeine Partikel in der Düse zu erzeugen. Die Düse kann auch aus durchscheinendem Material
gefertigt sein, so daß der Strom in der Düse mit Licht verschiedener Wellenlängen, z. B. mit UV-Licht, IR-Licht oder
Laserlicht bestrahlt werden kann. Außerdem können mehrere Düsen 1 zur gleichzeitigen Erzeugung mehrerer Strahlen vorhanden
sein. Speziell die Verbindung mehrerer Düsen 1 mit
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unabhängigen oberen Kammern 3 ermöglicht die gleichzeitige Erzeugung von Strahlen unterschiedlicher feiner Partikel,
so daß man eine Laminierung oder ein gemischtes Auffangen unterschiedlicher Partikel erreichen kann und darüber hinaus
auch die Möglichkeit besteht, sogar neue feine Partikel durch Kollision von sich kreuzenden Strahlen zu erzeugen.
Das Substrat 6 kann vertikal oder horizontal bewegbar oder drehbar gelagert sein, um den Strahl in einem großen
Flächenbereich aufzufangen. Außerdem läßt sich ein Substrat für die Aufnahme des Strahls von einer Rolle abziehen und
weitertransportieren, so daß ein band- oder tuchförmiges Substrat mit feinen Partikeln behandelt werden kann. Außerdem
kann die Behandlung mit feinen Partikeln auch angewendet werden auf ein sich drehendes, trommelförmiges
Substrat 6.
Die oben beschriebenen Ausführungsbeispiele umfassen die obere Kammer 3, die erste untere Kammer 4a und die zweite
untere Kammer 4b, man kann aber auch auf die zweite untere Kammer 4b verzichten oder zusätzliche untere Kammern zu
der zweiten unteren Kammer hinzufügen. Die erste untere Kammer 4a kann in einem offenen System betrieben werden,
wenn die obere Kammer 3 unter Druck steht, oder die obere Kammer 3 kann in einem offenen System betrieben werden, wenn
die erste untere Kammer 4a unter verringertem Druck steht.
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Es ist ebenfalls möglich, die obere Kammer 3 wie einen Autoklaven unter Druck zu setzen und die erste und nachfolgende
untere Kammern unter Unterdruck zu setzen.
Bei dieser Ausführungsform ist es ferner möglich, eine Verschlußvorrichtung 25 zu verwenden, wie sie in Fig. 8 gezeigt
ist, um den Strömungsweg der KD-Düse zu öffnen oder zu schließen und dadurch vorübergehend die feinen Partikel
in der oberen Kammer 3 zu speichern und den Ausstoß aus der Düse durch intermittierendes Öffnen und Schließen der Verschlußvorrichtung
zu pulsen.
Die Verschlußvorrichtung läßt sich vor, hinter oder in der Düse anordnen, vorzugsweise befindet sie sich jedoch vor
der Düse, um deren Eigenschaften voll ausnutzen zu können. Die Verschlußvorrichtung kann z. B. aus einem Kugelventil
oder einem Flügelventil bestehen, vorzugsweise handelt es sich bei der Verschlußvorrichtung wegen der raschen Ansprechzeigt
jedoch um ein elektromagnetisches Ventil.
Die Verschlußvorrichtung kann auch synchron mit der Energiezufuhr durch den Laserstrahl oder der Bestrahlung mit
Licht verschiedener Wellenlängen in dem Halsabschnitt 2 der Düse 1 oder an deren stromabwärts gelegenen Seite geöffnet
und geschlossen werden, so daß sich dadurch die Be-
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lastung des Vakuumsysterns deutlich verringert und unnötiges
Ausstoßen von Material vermieden wird. Dadurch läßt sich der Rohstoff effektiver nutzen, indem man einen pulsierenden
Strom der feinen Partikel erhält. Außerdem erleichtert bei einem gegebenen Vakuumsystem das erwähnte
intermittierende öffnen die Erzielung eines stärkeren Vakuums auf der stromabwärts gelegenen Seite.
Nach der obigen Beschreibung werden die aktiven ultrafeinen Partikel in der oberen Kammer 3 erzeugt, sie können jedoch
auch an einer anderen Stelle erzeugt und zusammen mit dem Trägergas der Kammer zugeführt werden.
Fig. 9 zeigt ein Reservoir 28 für die vorübergehende Speicherung ultrafeiner Partikel oberhalb der oberen Kammer 3.
Die Partikel werden über eine am Ende des Reservoirs vorhandene Düse in der Nähe des Eingangs der KD-Düse 1 eingespeist.
Die Innenwände der oberen Kammer 3 können in geeigneter Weise behandelt sein, um die Ablagerung von feinen
Partikeln zu verhindern. Weil die erste untere Kammer 4a ein höheres Vakuum hat als die obere Kammer 3, strömen die
von dem Reservoir 28 eingespeisten ultrafeinen Partikel sofort zusammen mit dem Trägergas zu der ersten unteren
Kammer 4a, und zwar durch die KD-Düse 1 hindurch.
Es ist ferner möglich, mehrere Düsen 1 in Serie zu verwenden
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und das Druckverhältnis zwischen stromaufwartiger und stromabwärtiger
Seite jeder Düse zu regeln, um eine konstante Strahlgeschwindigkeit aufrechtzuerhalten. Außerdem läßt
sich zur Vermeidung von Toträumen eine kugelförmige Kammer verwenden.
In einer Anwendung der erfindungsgemäßen Vorrichtung kann
das Innere der oberen Kammer 3 auf atmosphärischem Druck oder höherem Druck gehalten werden. Wenn die stromaufwärts
gelegene Seite auf Atmosphärendruck gehalten wird, läßt sich die stromabwärts gelegene Seite auf einem niedrigeren Druck
halten, und falls die obere Kammer auf einem Druck gehalten wird, der größer ist als der Atmosphärendruck, läßt sich
die stromabwärts gelegene Seite auf Atmosphärendruck halten
oder kann in einem Bereich auf über- oder Unterdruck gehalten werden, der den Druck in der oberen Kammer nicht
übersteigt.
Man kann also ein festes Reaktionsprodukt erhalten, welches in einer unter Druck stehenden flüssigen Phase auf der
stromaufwärts gelegenen Seite gebildet wird, ohne daß es der Atmosphäre ausgesetzt ist. Außerdem läßt sich ein solches
Reaktionsprodukt in größeren Mengen unter höherem Druck auf der stromabwärts gelegenen Seite kondensieren und
folglich mit höherer Konzentration erhalten.
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Erfindungsgemäß können feine Partikel als gleichförmig
gestreuter, ausgestoßener Strom oder als überschallstrahl transportiert werden. Der mit Hochgeschwindigkeit
erfolgende Transport von feinen Partikeln läßt sich in einem räumlich unabhängigen Zustand erreichen, und es
ist einfacher, den Verlust von feinen Partikeln beim Austritt des Stroms auf der stromabwärts gelegenen Seite zu
verhindern. Es ist ferner möglich, die aktiven feinen Partikel zu der Auffangstelle sicher im aktiven Zustand
zu transportieren, und den Auffangquerschnitt durch Steuern der Auffangfläche exakt zu steuern. Es steht außerdem
zu erwarten, daß man ein neues Reaktionsfeld erhält, realisiert durch das Vorhandensein eines Strahls in Form
einer ultraschnellen, strahlförmigen Strömung und durch die Umsetzung der thermischen Energie in kinetische Energie
bei der Strahlbildung, so daß die feinen Partikel in einem energetisch eingefrorenen Zustand gehalten werden.
Außerdem ist durch Ausnutzung des genannten energetisch eingefrorenen Zustands die erfindungsgemäße Strömungssteuereinrichtung in der Lage, einen mikroskopischen Zustand
der Moleküle in dem Fluid zu definieren, um einen Übergang von einem Zustand in den anderen zu bewirken. Es
eröffnet sich die Möglichkeit einer neuen chemischen Gasreaktion, bei der die Moleküle durch ihr Energieniveau
definiert sind und sie eine dem Energieniveau entsprechende Energie erhalten. Es ergibt sich ein neues Gebiet von
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Energieübertragung, welches sich in einfacher Weise dazu ausnutzen läßt, Molekülverbindungen bei relativ schwachen
Zwischenmolekülkräften wie z. B. der Wasserstoffbindung
oder der Van-der-Waal-Kraft zu erhalten. Außerdem ist die mit Hilfe der Anregung durch einen gepulsten
Laser bewirkte intermittierende Bestrahlung durch einen Lichtstrahl wirksam in Kombination mit einem Prozeß zur
Erzeugung von feinen Partikeln aus einem Rohstoffgas. Diese intermittierende Bestrahlung ist ebenfalls wirksam im Fall
einer Lichtquelle, bei der die Intensität des kurzwelligen Bereichs durch gepulsten Betrieb deutlich höher ist, z. B.
bei einer Quecksilberlampe.
Der Strahlausstoß kann unterbrochen werden, wenn er nicht benötigt wird, z. B. während der Bewegung des Substrats,
so daß man eine effiziente Ausnutzung der Rohstoffe und die Bildung bestimmter Muster erreicht.
Ferner kann die im Rahmen der Erfindung eingesetzte Gasanregungseinrichtung
in der Lage sein, wirksam feine Partikel zu erzeugen, da sie die Gase in einem Rohr gleichmäßig
mischen und ohne Diffusion der Gase eine elektrische Entladung vornehmen kann.
Claims (22)
1. Vorrichtung zum Steuern eines Stroms von feinen Partikeln,
gekennzeichnet durch eine in dem Strömungsweg angeordnete, konvergierende/ divergierende Düse (1).
2. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet , daß die Düse unter einer optimalen Expansionsbedingung betrieben
wird.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet , daß der Differentialkoeffizient der Strömungslinie des Kanals
innerhalb der Düse sich kontinuierlich ändert und in einem Halsabschnitt (2) der Düse den Wert Null hat.
Radeckestraüe 43 8000 München 60 Telefon (089) 883603/383604 Telex 5212315 Telegramme Patentconsult
Sonnencerge' Slraße 43 6200 Wiesbaden Telefon (06121, 56:943/561598 Teiex 418623? Telegramme Palenlconsult
Telefax (CCITT 2) München und Wiesbaden !089, 3 34 4618 Attention Patentconsult
'* - 2 - 4392
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet , daß
auf der stromaufwärts gelegenen Seite der Düse (1) ein Speicherreservoir für die feinen Partikel vorgesehen
ist, aus dem die Partikel in den Strömungsweg eingespeist werden.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, gekennzeichnet durch
eine Verschlußvorrxchtung (25) für die Düse (1).
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet , daß
auf der stromabwärts aelegenen Seite der Düse eine als Prallblende dienende Abstreifvorrichtung (7) mit
veränderlicher Öffnung angeordnet ist.
7. Vorrichtung zum Steuern eines Stroms von feinen Partikeln, dadurch gekennzeichnet , daß
in einem Strömungsweg, in welchem stromaufwärts eine Gasanregungsvorrichtung angeordnet ist, eine konvergierende/divergierende
Düse angeordnet ist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet , daß die Düse unter einer optimalen Expansionsbedingung betrieben
wird.
- 3 - 4392
9. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet , daß der Differentialkoeffizient der Strömungslinie des Kanals
innerhalb der Düse sich kontinuierlich ändert und an einem Halsabschnitt der Düse den Wert Null hat.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 9,
gekennzeichnet durch eine Verschlußvorrichtung für die Düse.
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet , daß
auf der stromabwärts gelegenen Seite der Düse eine Abstreifvorrichtung mit veränderlicher Öffnung angeordnet
ist.
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 11, dadurch gekennzeichnet , daß
die Gasanregungseinrichtung eine rohrförmige, erste Elektrode und eine stabförmige, zweite Elektrode aufweist,
wobei die zweite Elektrode in der Mitte der ersten Elektrode angeordnet ist.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 11, dadurch gekennzeichnet , daß
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4 - 4392
die Gasanregungseinrichtung eine erste und eine zweite Elektrode mit halbkreisförmigem Querschnitt aufweist,
die über Isolatoren unter Bildung eines Rohrs miteinander verbunden sind.
14. Vorrichtung zum Steuern eines Stroms feiner Partikel, dadurch gekennzeichnet , daß
in einem Strömungsweg, an den stromabwärts eine Evakuierung gegeben ist, eine konvergierende/divergierende Düse
angeordnet ist, und daß der Querschnitt eines Halses der Düse so bestimmt ist, daß der Durchsatz des Stroms durch
die Düse etwa so groß ist wie der Durchsatz bei der Evakuierung.
15. Vorrichtung nach Anspruch 14,
dadurch gekennzeichnet , daß die Düse unter einer optimalen Expansionsbedingung betrieben
wird.
16. Vorrichtung nach Anspruch 14 oder 15, dadurch gekennzeichnet , daß
der Differentialkoeffizient der Strömungslinie des Kanals im Inneren der Düse sich kontinuierlich ändert
und an einem Halsabschnitt der Düse den Wert Null annimmt,
- 5 - 4392
17. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 14 bis 16, dadurch gekennzeichnet , daß
auf der stromabwärts gelegenen Seite der Düse eine Abstreichvorrichtung mit variabler Öffnung angeordnet ist.
18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 14 bis 17, gekennzeichnet durch
eine Gasanregungseinrichtung, die stromaufwärts bezüglich der Düse angeordnet ist.
19. Verfahren zum Steuern eines Stroms feiner Partikel, dadurch gekennzeichnet , daß
die stromabwärts gelegene Seite einer in einem Strömungsweg befindlichen konvergierenden/divergierenden
Düse evakuiert wird, so daß die feinen Partikel durch die Düse hindurch strömen.
20. Verfahren nach Anspruch 19,
dadurch gekennzeichnet , daß die Düse unter einer optimalen Expansionsbedingung betrieben
wird.
21. Verfahren zum Steuern der Strömung feiner Partikel,
dadurch gekennzeichnet, daß die stromaufwärts gelegene Seite einer in einem Strömungs-
- 6 - 4392
weg gelegenen konvergierenden/divergierenden Düse auf
einem Druck gehalten wird, der gleich oder größer ist als der atmosphärische Druck.
22. Verfahren nach Anspruch 21,
dadurch gekennzeichnet , daß die Düse unter einer optimalen Expansionsbedingung betrieben
wird.
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---|---|---|---|
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JP14999285A JPS61220736A (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | 気相励起装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3610298A1 true DE3610298A1 (de) | 1986-10-02 |
DE3610298C2 DE3610298C2 (de) | 1992-01-02 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (4)
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---|---|
US (1) | US4911805A (de) |
CA (1) | CA1272662A (de) |
DE (1) | DE3610298A1 (de) |
GB (1) | GB2175413B (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3641437A1 (de) * | 1985-12-04 | 1987-06-11 | Canon Kk | Feinteilchen-blasvorrichtung |
WO1996004410A1 (de) * | 1994-08-01 | 1996-02-15 | Franz Hehmann | Industrieller dampftransport und -abscheidung |
WO2020260743A1 (en) | 2019-06-25 | 2020-12-30 | Picosun Oy | Plasma in a substrate processing apparatus |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1272661A (en) * | 1985-05-11 | 1990-08-14 | Yuji Chiba | Reaction apparatus |
IL90970A (en) * | 1989-07-13 | 1993-07-08 | Univ Ramot | Mass spectrometer method and apparatus for analyzing materials |
GB2242443B (en) * | 1990-03-28 | 1994-04-06 | Nisshin Flour Milling Co | Coated particles of inorganic or metallic materials and processes of producing the same |
US5256205A (en) * | 1990-05-09 | 1993-10-26 | Jet Process Corporation | Microwave plasma assisted supersonic gas jet deposition of thin film materials |
US5356672A (en) * | 1990-05-09 | 1994-10-18 | Jet Process Corporation | Method for microwave plasma assisted supersonic gas jet deposition of thin films |
US5529809A (en) * | 1994-02-07 | 1996-06-25 | Mse, Inc. | Method and apparatus for spraying molten materials |
US5883005A (en) * | 1994-03-25 | 1999-03-16 | California Institute Of Technology | Semiconductor etching by hyperthermal neutral beams |
US5571332A (en) * | 1995-02-10 | 1996-11-05 | Jet Process Corporation | Electron jet vapor deposition system |
US7576296B2 (en) * | 1995-03-14 | 2009-08-18 | Battelle Energy Alliance, Llc | Thermal synthesis apparatus |
US5749937A (en) * | 1995-03-14 | 1998-05-12 | Lockheed Idaho Technologies Company | Fast quench reactor and method |
US6821500B2 (en) | 1995-03-14 | 2004-11-23 | Bechtel Bwxt Idaho, Llc | Thermal synthesis apparatus and process |
US6072327A (en) * | 1995-05-26 | 2000-06-06 | Nec Corporation | Method and device of testing semiconductor integrated circuit chip capable of preventing electron-hole pairs |
JPH11145148A (ja) * | 1997-11-06 | 1999-05-28 | Tdk Corp | 熱プラズマアニール装置およびアニール方法 |
US6804285B2 (en) * | 1998-10-29 | 2004-10-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Gas supply path structure for a gas laser |
AU2906401A (en) * | 1999-12-21 | 2001-07-03 | Bechtel Bwxt Idaho, Llc | Hydrogen and elemental carbon production from natural gas and other hydrocarbons |
US6302142B1 (en) * | 2000-06-01 | 2001-10-16 | Trw Inc. | Supersonic gas flow device incorporating a compact supersonic diffuser |
DE10112494C2 (de) * | 2001-03-15 | 2003-12-11 | Mtu Aero Engines Gmbh | Verfahren zum Plasmaschweißen |
WO2005100891A1 (ja) * | 2004-04-12 | 2005-10-27 | Kitakyushu Foundation For The Advancement Of Industry, Science And Technology | マイクロ波を用いた減圧乾燥方法及びその装置 |
US7354561B2 (en) * | 2004-11-17 | 2008-04-08 | Battelle Energy Alliance, Llc | Chemical reactor and method for chemically converting a first material into a second material |
US7977599B2 (en) * | 2007-10-19 | 2011-07-12 | Honeywell International Inc. | Erosion resistant torch |
US7842898B2 (en) * | 2007-10-19 | 2010-11-30 | Honeywell International Inc. | Variable orifice torch |
US7743790B2 (en) * | 2008-02-20 | 2010-06-29 | Varian, Inc. | Shutter and gate valve assemblies for vacuum systems |
US8591821B2 (en) * | 2009-04-23 | 2013-11-26 | Battelle Energy Alliance, Llc | Combustion flame-plasma hybrid reactor systems, and chemical reactant sources |
KR101736214B1 (ko) | 2010-12-22 | 2017-05-16 | 플라즈마 기켄 고교 가부시키가이샤 | 콜드 스프레이용 노즐 및 그 콜드 스프레이용 노즐을 이용한 콜드 스프레이 장치 |
US20130087633A1 (en) * | 2011-10-11 | 2013-04-11 | Hirotaka Fukanuma | Cold spray gun |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4200264A (en) * | 1976-08-16 | 1980-04-29 | Fumio Hori | Apparatus for obtaining Mg and Ca through carbon reduction |
DE3127074A1 (de) * | 1981-07-09 | 1983-01-27 | Ernst Peiniger GmbH Unternehmen für Bautenschutz, 5090 Leverkusen | Strahlgeraet, insbesondere fuer das druckluftstrahlen |
FR2519273A1 (fr) * | 1982-01-07 | 1983-07-08 | Camiva | Dispositif de projection pour produit solide finement divise |
Family Cites Families (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR544737A (fr) * | 1921-05-26 | 1922-09-27 | Arbed | Procédé de chauffage à l'aide de combustibles pulvérisés |
GB222209A (en) * | 1923-06-27 | 1924-09-29 | John Ernest Mortimer | Improvements relating to the regulation of the flow of fluids, and means therefor |
GB415446A (en) * | 1931-11-25 | 1934-08-27 | Daimler Benz Ag | Method of and means for stabilising the flow of gas in pipes connected to reciprocating piston machines |
US2175160A (en) * | 1935-07-02 | 1939-10-03 | Linde Air Prod Co | Nozzle for cutting blowpipes |
DE811900C (de) * | 1948-10-02 | 1951-08-23 | Metallgesellschaft Ag | Verfahren zur Erleichterung der Kaltverformung von hochlegierten Staehlen |
GB721364A (en) * | 1951-06-29 | 1955-01-05 | Conservatoire Nat Des Arts & M | Variable section nozzle neck |
LU34348A1 (de) * | 1955-05-02 | |||
US3003939A (en) * | 1955-08-31 | 1961-10-10 | Lord Mfg Co | Method and apparatus for producing and enhancing chemical reaction in flowable reactant material |
GB891159A (en) * | 1957-03-20 | 1962-03-14 | Holmes & Co Ltd W C | Improvements in or relating to the reduction or substantial elimination of pressure fluctuations in pipe lines |
US3005762A (en) * | 1958-01-20 | 1961-10-24 | Aero Chem Res Lab Inc | Electric discharge jet stream |
US3010009A (en) * | 1958-09-29 | 1961-11-21 | Plasmadyne Corp | Method and apparatus for uniting materials in a controlled medium |
NL266640A (de) * | 1960-08-01 | 1900-01-01 | ||
US3075065A (en) * | 1960-10-04 | 1963-01-22 | Adriano C Ducati | Hyperthermal tunnel apparatus and electrical plasma-jet torch incorporated therein |
GB1092534A (en) * | 1964-05-06 | 1967-11-29 | Nuclear Power Plant Co Ltd | Fluid control means |
DE1523019C3 (de) * | 1964-12-09 | 1975-09-04 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Einrichtung zur Einstellung und Konstanthaltung des Trägergasflusses bei gaschromatographischen Meßeinrichtungen |
FR1467158A (fr) * | 1965-12-14 | 1967-01-27 | Siderurgie Fse Inst Rech | Dispositif de réglage de débit de gaz |
NL6712305A (de) * | 1966-09-12 | 1968-03-13 | ||
US3507294A (en) * | 1966-12-14 | 1970-04-21 | Philco Ford Corp | Fluid flow control apparatus |
FR1518843A (fr) * | 1967-02-13 | 1968-03-29 | Radiotechnique Coprim Rtc | Dispositif pour le dépôt de couches minces sur des supports semi-conducteurs |
SE311449B (de) * | 1967-11-30 | 1969-06-09 | Aga Ab | |
GB1155495A (en) * | 1968-01-31 | 1969-06-18 | Congost Luis | Tennis Toy for Playing on a Table |
US3670400A (en) * | 1969-05-09 | 1972-06-20 | Nat Res Dev | Process and apparatus for fabricating a hot worked metal layer from atomized metal particles |
US3904505A (en) * | 1970-03-20 | 1975-09-09 | Space Sciences Inc | Apparatus for film deposition |
FR2108856A1 (fr) * | 1970-10-13 | 1972-05-26 | Siderurgie Fse Inst Rech | Procede pour l'introduction de combustibles auxilliaires dans un haut fourneau et tuyere pour la mise en oeuvre de ce procede |
FR2122682A5 (de) * | 1971-01-20 | 1972-09-01 | Siderurgie Fse Inst Rech | |
GB1336253A (en) * | 1971-03-11 | 1973-11-07 | Gaz De France | Pressure regulating and reducing gas-flow meter for industrial installations |
US3914573A (en) * | 1971-05-17 | 1975-10-21 | Geotel Inc | Coating heat softened particles by projection in a plasma stream of Mach 1 to Mach 3 velocity |
BE790902A (fr) * | 1971-11-15 | 1973-05-03 | Zachry Co H B | Procede et application pour appliquer une matiere de revetementpulverulente sur une piece |
US3839618A (en) * | 1972-01-03 | 1974-10-01 | Geotel Inc | Method and apparatus for effecting high-energy dynamic coating of substrates |
GB1342994A (en) * | 1972-07-24 | 1974-01-10 | Clarke Chapman John Thompson L | Equalising flow in pipes |
FR2245779B1 (de) * | 1973-09-28 | 1978-02-10 | Cit Alcatel | |
FR2288282A1 (fr) * | 1974-10-15 | 1976-05-14 | Siderurgie Fse Inst Rech | Tuyere pour l'injection de combustible auxiliaire dans les fours a cuve |
NL7600738A (nl) * | 1976-01-23 | 1977-07-26 | Plasmainvent Ag | Inrichting voor het plasma-spuiten. |
US4172558A (en) * | 1977-04-19 | 1979-10-30 | Bondarenko Alexandr S | Apparatus for explosive application of coatings |
US4297971A (en) * | 1977-09-23 | 1981-11-03 | Ppg Industries, Inc. | Apparatus for vaporizing solid coating reactants |
GB2007388A (en) * | 1977-10-14 | 1979-05-16 | Northern Eng Ind | Proportioning flow in pipes |
JPS5546266A (en) * | 1978-09-28 | 1980-03-31 | Daido Steel Co Ltd | Plasma torch |
FR2443137A1 (fr) * | 1978-11-30 | 1980-06-27 | Labo Electronique Physique | Procede pour ameliorer l'uniformite des couches epitaxiales, dispositif et produits obtenus |
US4389973A (en) * | 1980-03-18 | 1983-06-28 | Oy Lohja Ab | Apparatus for performing growth of compound thin films |
US4416421A (en) * | 1980-10-09 | 1983-11-22 | Browning Engineering Corporation | Highly concentrated supersonic liquified material flame spray method and apparatus |
AU8288282A (en) * | 1981-05-04 | 1982-11-11 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Production and utilization of activated molecular beams |
US4540121A (en) * | 1981-07-28 | 1985-09-10 | Browning James A | Highly concentrated supersonic material flame spray method and apparatus |
JPS6015698B2 (ja) * | 1981-09-30 | 1985-04-20 | 日本真空技術株式会社 | ノズル付蒸発器 |
DE3148756A1 (de) * | 1981-12-09 | 1983-07-21 | Dusan Dr.-Ing. 8000 München Nendl | Ueberschallringduese |
JPS58167602A (ja) * | 1982-03-29 | 1983-10-03 | Futaba Corp | 有機物薄膜の形成方法 |
CH659864A5 (de) * | 1982-06-23 | 1987-02-27 | Bbc Brown Boveri & Cie | Lochplatte zur vergleichmaessigung der geschwindigkeitsverteilung in einem stroemungskanal. |
LU84686A1 (fr) * | 1983-03-11 | 1984-11-14 | Arbed | Dispositif d'acceleration de particules solides |
-
1986
- 1986-03-24 CA CA000504938A patent/CA1272662A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-03-26 GB GB8607602A patent/GB2175413B/en not_active Expired
- 1986-03-26 DE DE19863610298 patent/DE3610298A1/de active Granted
-
1987
- 1987-05-21 US US07/052,148 patent/US4911805A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4200264A (en) * | 1976-08-16 | 1980-04-29 | Fumio Hori | Apparatus for obtaining Mg and Ca through carbon reduction |
DE3127074A1 (de) * | 1981-07-09 | 1983-01-27 | Ernst Peiniger GmbH Unternehmen für Bautenschutz, 5090 Leverkusen | Strahlgeraet, insbesondere fuer das druckluftstrahlen |
FR2519273A1 (fr) * | 1982-01-07 | 1983-07-08 | Camiva | Dispositif de projection pour produit solide finement divise |
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
Becker, R., Theorie der Wärme, Berlin, Heidelberg, New York, Seite 13 * |
JP-Abstract, C-267 Feb. 21 1985 Vol. 9/No. 41 zu 59-183855 * |
JP-Abstract, C-274 Apr. 6 1985 Vol. 9/No. 78 zu 59-213464 * |
Spurk, J.H., Vorlesung Strömungslehre II, Darmstadt, Technische Hochschule Darmstadt, 1974, Seiten 0-6 bis 0-9 und 2-154 bis 2-175 * |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3641437A1 (de) * | 1985-12-04 | 1987-06-11 | Canon Kk | Feinteilchen-blasvorrichtung |
US4957061A (en) * | 1985-12-04 | 1990-09-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Plurality of beam producing means disposed in different longitudinal and lateral directions from each other with respect to a substrate |
WO1996004410A1 (de) * | 1994-08-01 | 1996-02-15 | Franz Hehmann | Industrieller dampftransport und -abscheidung |
US6941973B2 (en) | 1994-08-01 | 2005-09-13 | Franz Hehmann | Industrial vapor conveyance and deposition |
WO2020260743A1 (en) | 2019-06-25 | 2020-12-30 | Picosun Oy | Plasma in a substrate processing apparatus |
EP3990678A4 (de) * | 2019-06-25 | 2023-01-04 | Picosun Oy | Plasma in einer substratverarbeitungsvorrichtung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3610298C2 (de) | 1992-01-02 |
GB2175413A (en) | 1986-11-26 |
GB2175413B (en) | 1989-06-28 |
GB8607602D0 (en) | 1986-04-30 |
CA1272662A (en) | 1990-08-14 |
US4911805A (en) | 1990-03-27 |
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