DE3543254A1 - Plattenfoermiges aufzeichnungsmedium zur senkrechten magnetisierung - Google Patents
Plattenfoermiges aufzeichnungsmedium zur senkrechten magnetisierungInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein plättenförmiges Auf
zeichnungsmedium mit einem Trägerkörper aus einem hoch
festen, nicht-magnetischen Material, dessen mindestens
eine Flachseite mit einem dünnen, ringscheibenförmigen
Zwischenelement aus Silizium versehen ist, auf welchem
zumindest eine Aufzeichnungsschicht aus einem senkrecht
(vertikal) zu magnetisierenden Material aufgebracht
ist. Ein derartiges Aufzeichnungsmedium geht z.B. aus
der EP 0 054 640 A1 hervor.
Das Prinzip der senkrechten Magnetisierung zur Speiche
rung von Informationen in besonderen Aufzeichnungs
medien ist allgemein bekannt (vgl. z.B. "IEEE Trans
actions on Magnetics", Vol. MAG-16, No. 1, Januar 1980,
Seiten 71 bis 76, oder Vol. MAG-20, No. 5, September
1984, Seiten 657 bis 662 und 675 bis 680). Die für
dieses vielfach auch als vertikale Magnetisierung be
zeichnete Prinzip vorzusehenden Aufzeichnungsmedien
können insbesondere in Form von starren Magnetspeicher
platten vorliegen. Ein entsprechendes Aufzeichnungs
medium weist mindestens eine magnetisierbare Aufzeich
nungsschicht vorbestimmter Dicke auf, welche aus einem
magnetisch anisotropen Material, insbesondere aus einer
CoCr-Legierung besteht. Dieses Material wird z.B. durch
Sputtern auf ein geeignetes Substrat aufgebracht. Dabei
muß die hexagonale C-Achse der sogenannten leichten
Magnetisierung dieser Schicht kristallographisch
senkrecht zur Oberfläche des Mediums ausgerichtet
werden. Um dies zu erreichen, sind besondere
Substratmaterialien und bestimmte Verfahrensparameter
beim Aufbringen des CoCr auf das Substrat erforderlich.
Das Substrat besteht dabei vielfach aus einem Träger
körper für eine besondere Zwischenschicht, auf der dann
das CoCr abzuscheiden ist.
Mittels besonderer Magnetköpfe, die aerodynamisch ge
tragen über diese Platten fliegen, können dann längs
einer Spur die einzelnen Informationen als Magnetisie
rungsübergänge, d.h. Wechsel von aufwärts gerichteter
Magnetisierung zu abwärts gerichteter und umgekehrt, in
die Aufzeichnungsschicht eingeschrieben werden. Durch
entsprechende Codierung im Schreib-/Lesevorgang, z.B.
als RLL-Code, können die Magnetisierungsübergang und
ihre gegenseitigen Abstände als Bits interpretiert
werden. Die minimalen Abstände solcher Magnetisie
rungswechsel haben dabei eine vorbestimmte, auch als
Wellenlänge bezeichnete Ausdehnung in Längsrichtung der
Spur. Diese Ausdehnung kann im Vergleich zu der Grenze,
die bei einer Speicherung nach dem bekannten Prinzip
der longitudinalen (horizontalen) Magnetisierung durch
die Entmagnetisierung festgelegt ist, wesentlich
kleiner sein. Somit läßt sich durch senkrechte Magne
tisierung die Informationsdichte in den besonderen
Aufzeichnungsmedien entsprechend vergrößern.
Die ein- oder beidseitig mit der mindestens einen
magnetischen Aufzeichnungsschicht versehenen Aufzeich
nungsmedien müssen extrem glatte Oberflächen aufweisen,
um so Schwierigkeiten bei der Führung der Magnetköpfe
über diese Oberflächen hinweg zu vermeiden. Die auch
als Flughöhe bezeichnete Führungshöhe der Köpfe liegt
nämlich im allgemeinen unter 1 µm. Folglich muß auch
der plattenförmige Trägerkörper bzw. seine auf ihm auf
gebrachte Zwischenschicht, auf der dann die mindestens
eine Aufzeichnungsschicht abzuscheiden ist, eine ent
sprechend geringe Oberflächenrauhigkeit und Welligkeit
aufweisen.
Dementsprechend wird bei einem aus der DE-PS 29 23 682
bekannten Aufzeichnungsmedium zunächst dessen als
Grundplatte bezeichneter plattenförmiger Trägerkörper
aus nicht-magnetischem Material wie z.B. aus einer
Al-Legierung auf mindestens einer seiner Flachseiten
einem Diamant-Abdrehverfahren unterzogen. Auf den so
vorbehandelten Trägerkörper wird dann eine Zwischen
schicht aus einem nicht-magnetischen Material wie z.B.
Nickel-Phosphor mit einer Dicke von 50 µm aufplattiert.
Diese Zwischenschicht wird anschließend durch mecha
nisches Läppen und Polieren zu einer Spiegelfläche mit
einer Oberflächenrauhigkeit von 0,04 µm oder weniger
und einer Restdicke von etwa 30 µm fein bearbeitet. Auf
diese Spiegelfläche werden dann mehrere Aufzeichnungs
schichten aus einem magnetischen Material aufgebracht,
wobei deren Achse der leichten Magnetisierung in senk
rechter Richtung bezüglich der Oberfläche des Auf
zeichnungsmediums ausgerichtet wird. Auf diesem so
erhaltenen, schichtweisen Aufbau wird zuletzt noch eine
besondere Schutzschicht abgeschieden. Bei der Her
stellung des bekannten Aufzeichnungsmediums ist jedoch
der Verfahrensschritt zum Polieren der Zwischenschicht,
bei dem auch besondere Zwischenglühungen vorzunehmen
sind, verhältnismäßig aufwendig.
Derartige Schwierigkeiten treten bei dem aus der ein
gangs genannten EP-A1 bekannten plattenförmigen Auf
zeichnungsmedium nicht auf. Dieses Aufzeichnungsmedium
weist einen Trägerkörper aus einem Kunststoffmaterial
auf, das zusätzlich noch faserverstärkt sein kann. Auf
diesen Trägerkörper ist ein Zwischenelement in Form
einer Silizium-Platte beispielsweise durch Kleben
befestigt. Diese Platte dient als Träger die für eine
auf ihr abzuscheidende CoCr-Speicherschicht. Silizium-
Einkristallschichten sind hierfür besonders vor
teilhaft, da ihre hexagonale C-Achse nach Röntgen-
Rocking-Kurven nur eine geringe statistische Schwankung
der Achsausrichtung zeigt.
Aus der Halbleitertechnologie ist allgemein bekannt,
plattenförmige Silizium-Einkristallscheiben, sogenannte
"Wafer", mit hoher Oberflächenglätte und nahezu fehl
stellenfrei herzustellen. Die als 6-Zoll-Wafer in
dustriell gefertigten Scheiben erfüllen somit die
Maßanforderungen auch für Speicherplatten, die im
allgemeinen 5,25 Zoll Abmessungen aufweisen. Die Dicke
solcher Scheiben beträgt jedoch nur einige 100 µm, z.B.
300 µm, so daß diese Scheiben verhältnismäßig bruchan
fällig sind. Der sie tragende Trägerkörper muß folglich
die mechanische Steifigkeit gewährleisten. Dies ist
jedoch bei Trägerkörpern aus Kunststoffmaterialien
verhältnismäßig schwierig, insbesondere wenn die
Speicherschichten bei höheren Temperatur aufgebracht
werden müssen. Es treten dann verhältnismäßig leicht
Durchbiegungen bzw. Oberflächenwelligkeiten auf, die
einen Maximalwert von beispielsweise 10 µm, gemessen
über die gesamte Plattenbreite, überschreiten. Der
artige Oberflächenwelligkeiten können bei den hohen
Drehzahlen der rotierenden Magnetspeicherplatte von
z.B. 3600 U/min sowie der extrem niedrigen Flughöhe der
Köpfe von z.B. 0,25 µm leicht zu Kopf-Platte-Kontakten
und damit zum Absturz des Kopfes führen. Außerdem be
stehen vielfach Homogenitätsprobleme bei Kunststoff
materialien, wie sie für den Trägerkörper der bekannten
Magnetspeicherplatte vorzusehen sind. Dies gilt insbe
sondere für faserverstärkte Materialien als Substrat.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es deshalb, das
eingangs genannte Aufzeichnungsmedium dahingehend zu
verbessern, daß eine Gefahr solcher Durchbiegungen bzw.
Oberflächenwelligkeiten zumindest weitgehend ausge
schlossen ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß
der Trägerkörper aus gesintertem Aluminiumnitrid be
steht.
Aluminiumnitrid zeichnet sich nämlich dadurch aus, daß
sein thermischer Ausdehnungskoeffizient praktisch mit
dem von Silizium übereinstimmt. Es lassen sich somit
vorteilhaft thermische Spannungen oder ein Verbiegen
des Silizium-Zwischenelementes unterbinden. Außer
dem weist das genannte Material vorteilhaft eine gute
Wärmeleitfähigkeit auf und ist trotz mechanischer Härte
gut zu bearbeiten.
Vorteilhafte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen Auf
zeichnungsmediums gehen aus den Unteransprüchen hervor.
Zur weiteren Erläuterung der Erfindung wird auf die
Zeichnung Bezug genommen, in deren Figur ein Quer
schnitt durch einen Teil eines erfindungsgemäßen Auf
zeichnungsmediums schematisch veranschaulicht ist.
Ein in der Figur mit 2 bezeichneter Magnetschichtträ
ger einer als Aufzeichnungsmedium 3 vorgesehenen, zu
einer Achse A rotationssymmetrischen Magnetspeicher
platte weist einen sandwichartigen Aufbau auf. Er um
faßt einen zentralen, plattenförmigen Trägerkörper 4
aus einem besonderen, hochfesten, nicht-magnetischen
Material. Erfindungsgemäß soll hierfür gesintertes
Aluminiumnitrid (AlN) vorgesehen sein (vgl. Prospekt der
Fa. W.C.Heraeus, Hanau, DE). Der thermische Ausdeh
nungskoeffizient dieses verhältnismäßig harten,
isolierenden Materials beträgt etwa 2,6 × 10-6/K und
ist somit vorteilhaft etwa gleich dem von Silizium mit
2,53 × 10-6/K. Außerdem weist dieses Material einen
guten Wärmeleitfähigkeitskoeffizienten von 140 bis
170 W/m × K auf. Der Trägerkörper 4 soll außerdem
glatte Flachseiten 5 und 6 mit einer Oberflächen
ebenheit von unter 10 µm, vorzugsweise höchstens
1 bis 2 µm besitzen. Die genannten Werte für die
Oberflächenebenheit stellen dabei die maximal zulässige
Abweichung der Flachseiten 5 und 6 von einer entspre
chenden ideal ebenen Fläche dar. Um diese Ebenheit zu
erreichen, können die Flachseiten entsprechend, z.B.
durch Glanzdrehen oder Läppen oder Polieren, bearbeitet
werden. Auf den beiden somit glatten Flachseiten 5 und
6 dieses plattenförmigen Trägerkörpers 4 ist jeweils
eine dünne, insbesondere ringscheibenförmige Silizium-
Platte (Si-Wafer) als nicht-magnetisches Zwischen- oder
Trägerelement für eine besondere Speicherschicht auf
gebracht. Die mechanische Verbindung dieser ein
kristallinen Silizium-Scheiben 7 und 8 mit dem AlN-
Trägerkörper 4 kann z.B. durch Löten erfolgen.
Vorzugsweise wird hierzu ein Lot verwendet, dessen
thermische Ausdehnung möglichst weitgehend an die der
Silizium-Scheiben und des AlN-Trägerkörpers angepaßt
ist. Beim Abkühlen nach dem Löten wirkt sich außerdem
die Gleichheit der thermischen Dehnung von Si-Scheiben
und Trägerkörper vorteilhaft aus. In der Figur sind
die Lotschichten mit 9 und 10 bezeichnet. Daneben ist
auch eine Klebeverbindung, z.B. mit einem Epoxy-Kleber,
möglich. Aufgrund der erwähnten Dehnungseigenschaften
der Teile 4 und 7 bzw. 8 ist eine durchgehende Ver
bindungsschicht zwischen diesen Teilen nicht unbe
dingt erforderlich; es reicht gegebenenfalls auch
ein punktförmiges oder streifenförmiges Aufbringen des
Lotes bzw. Klebers. Der so ausgebildete Magnetschicht
träger 2 weist dann eine Gesamtdicke D von etwa 2 mm
auf.
Die z.B. aufgelöteten Silizium-Scheiben 7 und 8 mit
einer Dicke d von jeweils 100 bis 300 µm sollen sehr
glatte Oberflächen 11 bzw. 12 mit einer durch die
maximale Rauhtiefe R t festgelegten Oberflächenrauhig
keit von höchstens 40 nm, vorzugsweise unter 20 nm,
bezogen auf eine Meßstrecke von 2 mm besitzen. Unter
der Größe R t wird dabei innerhalb der vorbestimmten
Meßstrecke der Abstand verstanden, der zwischen einer
oberen, das Oberflächenprofil an seiner höchsten
Profilerhebung berührenden Begrenzungslinie und einer
dazu parallelen unteren, das Oberflächenprofil an
seinem tiefsten Profiltal berührenden Begrenzungslinie
ausgebildet ist (vgl. Entwurf 1978 DIN 4762). Auf die
Oberflächen des so ausgebildeten Magnetschichtträgers 2
werden dann in bekannter Weise die für eine senkrechte
(vertikale) Magnetisierung erforderlichen, in der Figur
jedoch nicht näher ausgeführten Magnetschichten 13 und
14, deren Achse der leichten Magnetisierung in
Normalenrichtung bezüglich der Oberflächen 11 und 12
weisen, sowie gegebenenfalls noch erforderliche
Schutzschichten aufgebracht. Dieses Aufbringen der
magnetischen Aufzeichnungsschichten sowie der Schutz
schichten auf dem Sandwichaufbau des Magnetschicht
trägers 2 kann in bekannter Weise, z.B. mittels
Sputterverfahren, erfolgen. Es ist jedoch auch möglich,
zunächst die Silizium-Scheiben einzeln liegend jeweils
mit ihrer glatten Seite mit diesen Schichten zu
versehen und dann diese so beschichteten Scheiben mit
dem plattenförmigen Trägerkörper zu verlöten und zu
verkleben.
Gemäß dem dargestellten Ausführungsbeispiel wurde davon
ausgegangen, daß das erfindungsgemäße Aufzeichnungs
medium einen beidseitig mit magnetischen Aufzeichnungs
schichten versehenen Magnetschichtträger aufweist.
Ebensogut können jedoch auch einseitig beschichtete
Aufzeichnungsmedien entsprechend ausgebildet werden.
Claims (7)
1. Plattenförmiges Aufzeichnungsmedium mit einem Trä
gerkörper aus einem hochfesten, nicht-magnetischen
Material, dessen mindestens eine Flachseite mit einem
dünnen, ringscheibenförmigen Zwischenelement aus
Silizium versehen ist, auf welchem zumindest eine Auf
zeichnungsschicht aus einem senkrecht (vertikal) zu
magnetisierenden Material aufgebracht ist, da
durch gekennzeichnet, daß der
Trägerkörper (4) aus gesintertem Aluminiumnitrid be
steht.
2. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Oberflächen
ebenheit der dem Silizium-Zwischenelement (7, 8)
zugewandten Flachseite (5 bzw. 6) des Trägerkörpers (4)
unter 10 µm liegt, vorzugsweise höchstens 2 µm beträgt.
3. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1 oder 2, da
durch gekennzeichnet, daß das
Silizium-Zwischenelement (7, 8) eine Dicke (d) zwischen
100 µm und 300 µm aufweist.
4. Aufzeichnungsmedium nach einem der Ansprüche 1 bis
3, dadurch gekennzeichnet,
daß die auf eine Meßstrecke von 2 mm Länge bezogene
maximale Rauhtiefe (R t ) der Oberfläche (11, 12) des
Silizium-Zwischenelementes (7, 8) unter 40 nm, vorzugs
weise unter 20 nm liegt.
5. Aufzeichnungsmedium nach einem der Ansprüche 1 bis
4, dadurch gekennzeichnet,
daß das Silizium-Zwischenelement (7, 8) auf dem Träger
körper (4) mittels eines Klebers befestigt ist.
6. Aufzeichnungsmedium nach einem der Ansprüche 1 bis
4, dadurch gekennzeichnet,
daß das Silizium-Zwischenelement (7, 8) auf dem Träger
körper (4) mittels eines Lotes (9, 10) befestigt ist.
7. Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 5 oder 6, da
durch gekennzeichnet, daß nur
Teilflächen des Silizium-Zwischenelementes (7, 8) mit
dem Trägerkörper (4) verbunden sind.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19853543254 DE3543254A1 (de) | 1985-12-06 | 1985-12-06 | Plattenfoermiges aufzeichnungsmedium zur senkrechten magnetisierung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19853543254 DE3543254A1 (de) | 1985-12-06 | 1985-12-06 | Plattenfoermiges aufzeichnungsmedium zur senkrechten magnetisierung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3543254A1 true DE3543254A1 (de) | 1987-06-11 |
Family
ID=6287868
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19853543254 Withdrawn DE3543254A1 (de) | 1985-12-06 | 1985-12-06 | Plattenfoermiges aufzeichnungsmedium zur senkrechten magnetisierung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3543254A1 (de) |
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US5591502A (en) * | 1992-06-16 | 1997-01-07 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
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1985
- 1985-12-06 DE DE19853543254 patent/DE3543254A1/de not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |