DE3420790A1 - Process and device for producing a blank for optical waveguides - Google Patents

Abstract

For the production of a blank for optical waveguides, an energy supply must be provided which sustains the reaction process for the deposition of the glass particles. In the invention, this energy supply takes place before the chemical reaction process and spatially separated therefrom. This makes it possible to optimise the processes of the energy supply and the processes during the actual reaction process separately from one another. <IMAGE>

Description

Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer VorformMethod and apparatus for making a preform

für Lichtwellenleiter.for fiber optics.

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Vorform für Lichtwellenleiter, bei denen ausgehend von gasförmigen Glasbildner-Komponenten durch einen chemischen Reaktionsprozeß ein Niederschlag aus Glaspartikeln gebildet wird.The invention relates to a method for producing a preform for fiber optic cables, which are based on gaseous glass-forming components a precipitate of glass particles is formed by a chemical reaction process will.

Es ist bekannt, daß Vorformen für dämpfungsarme Lichtwellenleiter entweder durch Oxydation oder durch Hydrolyse von Glasbildner-Halogeniden (SiCl4, GeCl4, etc.) hergestellt werden können. Die entsprechenden Halogenide werden verdampft und im Gaszustand entweder in einer sauerstoffhaltigen Gasflamme hydrolisiert (Außenabscheideverfahren nach Corning zum Beispiel entsprechend EP-OO 18 068 Al, VAD-Prozeß) oder in einem Sauerstoffgasstrom oxydiert (Innenabscheidung nach dem MCVD- oder PCVD-Verfahren zum Beispiel entsprechend DE-PS 24 44 100) Kennzeichnend für die einzelnen Verfahren ist die Art und Weise der Energiezufuhr, mit der die entsprechende Reaktion eingeleitet wird. Bei der Gruppe der Außenabscheideverfahren wird die Energie von der Sauerstoff-Gasflamme geliefert, in der die Halogenide direkt aufgeheizt werden.It is known that preforms for low-loss optical waveguides either by oxidation or by hydrolysis of glass-forming halides (SiCl4, GeCl4, etc.) can be produced. The corresponding halides are evaporated and in the gaseous state either hydrolyzed in an oxygen-containing gas flame (external separation process according to Corning, for example, in accordance with EP-00 18 068 A1, VAD process) or in one Oxygen gas stream is oxidized (internal separation according to the MCVD or PCVD process for example according to DE-PS 24 44 100) Characteristic for the individual processes is the way of supplying energy with which the corresponding reaction is initiated will. In the group of external separation processes, the energy comes from the oxygen gas flame in which the halides are directly heated.

Beim MCVD-Verfahren wird der Halogenid-Sauerstoffgasstrom durch ein Quarzrohr geleitet, das von außen beheizt wird (meist mit Hilfe eines Gasbrenners). Die Energie wird dabei durch Wärmeleitung durch die Glaswand transportiert und an der Innenwand an den Gas strom abgegeben. Beim PCVD-Verfahren wird die Energie durch eine elektrodenlose Plasmaentladung geliefert, die direkt im Halogenid-Sauerstoffgasstrom brennt.In the MCVD process, the halide oxygen gas flow is through a Quartz tube, which is heated from the outside (usually with the help of a gas burner). The energy is transported through the glass wall and attached to it by heat conduction the inner wall to the gas flow submitted. With the PCVD method the energy is delivered by an electrodeless plasma discharge that is placed directly in the halide-oxygen gas stream burns.

Allen Verfahren ist gemeinsam, daß Energiezufuhr und Reaktion zeitlich und örtlich zusammenfallen. Dies hat den praktischen Nachteil, daß an der räumlich begrenzten Stelle der Energiezufuhr gleichzeitig das synthetische Glas entsteht, das in einer räumlich wohl definierten Form zum Vorformkörper aufzutauen ist. Diese Konzentration wichtiger Verfahrensschritte auf einem eng begrenzten Raum führt bei den Außenabscheideverfahren zu aufwendigen Brennerkonstruktionen, während bei den Innenabscheideverfahren Rohrdurchmesser, Strömungsgeschwindigkeit und damit die Abscheiderate begrenzt sind. Ein weiterer Nachteil der bekannten Außenabscheideverfahren ist der Wassergehalt der Flamme, der zu einer direkten Einlagerung von Hydroxylgruppen in das neu gebildete Glas führen kann und entweder durch hohe Dämpfungsspitzen die Licht-Übertragung stört oder einen nachgeschalteten Trocknungsprozeß erzwingt.It is common to all processes that the supply of energy and the reaction take place over time and coincide locally. This has the practical disadvantage that at the spatially limited point of energy supply at the same time the synthetic glass is created, which is to be thawed in a spatially well-defined shape to form the preform body. These Concentration of important process steps in a very limited space leads to the external separation process to complex burner constructions, while with the Internal separation process Pipe diameter, flow velocity and thus the Deposition rate are limited. Another disadvantage of the known external deposition process is the water content of the flame, which leads to a direct intercalation of hydroxyl groups can lead into the newly formed glass and either through high attenuation peaks Light transmission interferes or forces a downstream drying process.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Schwierigkeiten zu vermeiden, welche bei den bekannten Verfahren dadurch gegeben sind, daß die Zuführung der Energie und die Durchführung des Reaktionsprozesses an ein und demselben Ort erfolgen. Dies wird gemäß der Erfindung bei einem Verfahren der eingangs genannten Art dadurch erreicht, daß die notwendige Energiezufuhr für die Einleitung und -Aufrechterhaltung des chemischen Reaktionsprozesses vor dem chemischen Reaktionsprozeß und räumlich getrennt von diesem vorgenommen wird.The present invention is based on the problem of solving the problem to avoid, which are given in the known method that the feed the energy and the implementation of the reaction process in one and the same place take place. According to the invention, this is done in a method of the type mentioned at the outset Kind achieved in that the necessary energy supply for the initiation and maintenance of the chemical reaction process before the chemical reaction process and spatially is made separately from this.

Da bei dem erfindungsgemäßen Verfahren die Energiezufuhr räumlich von der Zone der Reaktion und auch der Reaktionseinleitung getrennt ist, wird es möglich, die Vorgänge der Energiezufuhr einerseits und die dadurch ausgelöste chemische Reaktion andererseits getrennt zu optimieren. Dies gilt insbesondere für den Massendurchsatz durch eine entsprechende Düsenanordnung. Außerdem kann die bauliche Anordnung der gesamten Herstellungsvorrichtung für die Vorform insofern vereinfacht werden, als nicht im Bereich der Reaktion entsprechende Heizeinrichtungen (zum Beispiel Hochfrequenzspulen, Gasbrenner o.dgl.) angeordnet werden müssen, die dort vielfach störend und unerwünscht sind und auf jeden Fall viel Platz beanspruchen.Since in the method according to the invention the energy supply is spatial is separated from the zone of the reaction and also the reaction initiation, it becomes possible the processes of energy supply on the one hand and the thereby triggered on the other hand, to optimize the chemical reaction separately. This is especially true for the mass throughput through a corresponding nozzle arrangement. In addition, the structural Arrangement of the entire production device for the preform is simplified in this respect as heating devices that are not appropriate in the area of the reaction (e.g. High-frequency coils, gas burners or the like.) Must be arranged, which there often are annoying and undesirable and definitely take up a lot of space.

Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung der Erfindung wird die Energiezufuhr bei einem Teil der zur Glasbildung eingesetzten Gase vorgenommen und zwar vorzugsweise im Bereich der Zuleitungen und kurz vor dem Ort des Reaktionsprozesses (zum Beispiel Reaktionskammer). Die Gase können die Glasbildner selber, aber auch Gase wie Sauerstoff oder Argon sein. Voraussetzung ist jeweils, daß im ausgewählten Gasstrom durch Energiezufuhr keine störende Reaktion einsetzt. Im Bereich der einzelnen Glasbildner-Komponenten bzw. von deren Zuführungsleitungen ist es ohne große Schwierigkeiten möglich, entsprechende Einrichtungen für die Energiezuführung zum Beispiel Heizeinrichtungen anzuordnen, weil hier die räumlichen Verhältnisse nicht so beengt und kritisch sind wie bei der eigentlichen Reaktionszone. Außerdem bietet die Tatsache, daß die Energiezuführung im Bereich der einzelnen Gasströme vorgenommen wird, ein weites Feld dafür, die jeweiligen Energiezuführungseinrichtungen optimiert einzusetzen und dabei auf die jeweiligen Belange der einzelnen Komponenten entsprechend Rücksicht zu nehmen. Di e Energi Die zum Beispiel durch einen Wärmetauscher aus Keramik oder aber durcfi Strahlungsquellen (Elektronen, Photonen) erfolgen. Die Anregung des Gasstromes kann nierbei auch nichtthermisch erfolgen.According to a preferred development of the invention, the energy supply carried out with some of the gases used for glass formation, preferably in the area of the supply lines and shortly before the location of the reaction process (for example Reaction chamber). The glass formers themselves can use the gases, but also gases such as oxygen or be argon. The prerequisite is that in the selected gas stream by supplying energy no disruptive reaction occurs. In the area of the individual glass-forming components or from their supply lines, it is possible without great difficulty to corresponding To arrange devices for the energy supply, e.g. heating devices, because here the spatial conditions are not as cramped and critical as with the actual reaction zone. In addition, the fact that the energy supply is carried out in the area of the individual gas flows, a broad field for the to use the respective energy supply devices in an optimized manner and thereby focus on the to take into account the respective concerns of the individual components. Tuesday e Energi The, for example, through a heat exchanger made of ceramic or durcfi Radiation sources (electrons, photons) take place. The excitation of the gas flow can also take place non-thermally.

Die Energiezufuhr in Form einer Erhitzung des ausgewählten Gases findet lediglich dort ihre obere Temperaturgrenze, wo verhindert werden muß, daß eine Reaktion oder ein Zerfall bei den einzelnen Komponenten eintreten würde. Deshalb ist so vorzugehen, daß die Energiezufuhr bei den einzelnen Gasen Jeweils derart vorgenommen wird, daß für sich alleine jeweils noch keine Reaktion auftreten kann.The energy supply takes the form of heating the selected gas only there their upper temperature limit, where a reaction must be prevented or the individual components would decay. This is why the procedure is that the energy supply for the individual gases is made in such a way that no reaction can occur on its own.

Ein weiterer Gesichtspunkt hinsichtlich der Energiezufuhr bei Glasbildner-Komponenten besteht darin, daß dabei keine Verbindungen gebildet werden dürfen, die im späteren Niederschlag der Glaspartikel als störende Beimengungen in Erscheinung treten könnten.Another aspect with regard to the energy supply for glass-forming components consists in the fact that no connections may be formed in the later Precipitation of the glass particles could appear as disruptive admixtures.

Besonders vorteilhaft ist, wenn die Energiezufuhr hauptsächlich mittels entsprechend erhitzter Inertgase, insbesondere Helium oder Argon vorgenommen wird, weil diese Elemente chemisch besonders stabil sind und dementsprechend auch die notwendigen hohen Temperaturen ohne Bildung von störenden Nebenwirkungen ertragen.It is particularly advantageous if the energy supply is mainly by means of appropriately heated inert gases, in particular helium or argon, are carried out, because these elements are particularly stable chemically and, accordingly, so are the endure necessary high temperatures without the formation of disturbing side effects.

Gemäß einer bevorzugten Weiterbildung der Erfindung kann die Energiezufuhr auch ganz oder teilweise mittels Sauerstoffgas erfolgen, das für die Reaktion insbesondere dann benötigt wird, wenn eine Umsetzung zum Beispiel von Silizium-Chlorid (SiCl4) in Silizium-Oxyd (SiO2) bzw. Germanium-Oxyd (GeO2) vorgenommen wird.According to a preferred development of the invention, the energy supply also take place entirely or partially by means of oxygen gas, which is particularly important for the reaction is required when a conversion, for example, of silicon chloride (SiCl4) in silicon oxide (SiO2) or germanium oxide (GeO2).

Die Erfindung betrifft weiterhin eine Vorrichtung zur Durchführung des vorstehend genannten Verfahrens, welche dadurch gekennzeichnet ist, daß in den Verlauf mindestens einer ein Gas enthaltenden Zuleitung eine Zuführungseinrichtung für Energie vorgesehen ist und daß die Zuleitungen der Gase zu einer Mischdüse geführt sind.The invention also relates to a device for implementation of the above-mentioned method, which is characterized in that in the At least one supply line containing a gas runs a supply device for energy is provided and that the supply lines of the gases are led to a mixing nozzle are.

Die Erfindung und ihre Weiterbildungen werden nachfolgend anhand von Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen Fig. 1 in schematischer Darstellung den Aufbau einer Herstellungseinrichtung für die Erzeugung einer Vorform, wobei eine Außenabscheidung vorgenommen wird und Fig. 2 den Aufbau einer Herstellungseinrichtung, die nach dem sogenannten VAD-Prozeß arbeitet.The invention and its developments are explained below with reference to Drawings explained in more detail. 1 shows the structure in a schematic representation a production facility for the production of a preform, with an external deposit is made and Fig. 2 shows the structure of a manufacturing facility, which according to the so-called VAD process works.

Bei der Einrichtung nach Figur 1 sind verschiedene Zuleitungen L1, L2, L3 vorgesehen, über welche die für die Einleitung bzw. Durchführung des Reaktionsprozesses zur Herstellung der Vorform notwendigen gasförmigen Ausgangskomponenten zugeführt werden können. Diese einzelnen Komponenten werden aus entsprechenden Vorratsbehältern entnommen, welche hier zur Vereinfachung der Darstellung nicht gezeichnet sind. In jeder dieser Leitungen ist ein Ventil VI, V2, V3 vorgesehen, das die Dosierung der jeweils zugeführten Menge der einzelnen Komponenten sicherstellt. Im vorliegenden Beispiel ist angenommen, daß über die Zuleitung L1 ein Gemisch aus Silizium-Chlorid (SiCl4) und Sauerstoff (°2) zugeführt wird, während über die Leitung L2 das Dotierungsmittel zugegeben wird, welches im vorliegenden Fall aus einem Gemisch aus Germanium-Chlorid (GeCl4) und Sauerstoff (°2) besteht. Anstelle des dort erwähnten Dotierungsmaterials können auch andere oder zusätzliche chemische Komponenten eingesetzt werden, die allgemein bekannt sind, so zum Beispiel Al203, TiO2. Die beiden Zuführungsleitungen L1 und L2 werden zu einer gemeinsamen Leitung L12 vereinigt und treten in dieser Form in eine geschlossene Mischdüse MD ein.In the device according to Figure 1, various supply lines L1, L2, L3 provided, via which the initiation or implementation of the reaction process Gaseous starting components necessary for the production of the preform are supplied can be. These individual components are taken from appropriate storage containers taken, which are not drawn here to simplify the illustration. A valve VI, V2, V3 is provided in each of these lines, which controls the metering the quantity of the individual components supplied in each case. In the present For example, it is assumed that a mixture of silicon chloride via the feed line L1 (SiCl4) and oxygen (° 2) is supplied, while the dopant is fed via line L2 is added, which in the present case consists of a mixture of germanium chloride (GeCl4) and oxygen (° 2). Instead of the doping material mentioned there other or additional chemical components can also be used are generally known, for example Al203, TiO2. The two feed lines L1 and L2 are combined to form a common line L12 and enter this Form in a closed mixing nozzle MD.

Über die Leitung L3 wird der Mischdüse MD zusätzlich ein Inertgas, zum Beispiel Argon oder Helium ggf. zusam- men mit Sauerstoff zugeführt, wobei jedoch in den Verlauf der Leitung L3 und zwar vorzugsweise möglichst nahe bei der Mischdüse MD eine Vorrichtung zur Energiezufuhr (zum Beispiel eine Heizeinrichtung) vorgesehen ist. Diese Heizeinrichtung HZ, im vorliegenden Beispiel schematisch als Heizwendel dargestellt, erhöht die Temperatur des hindurchtretenden Gases oder Gasgemisches so stark, daß in der Mischdüse MD beim Zusammentreffen mit den eigentlichen Glasbildner-Komponenten SiCl4 und GeCl4 sofort die gewünschte chemische Reaktion einsetzt, welche darin besteht, daß SiCl4 in SiO2 und GeCl4 in GeO2 umgesetzt werden.The mixing nozzle MD is additionally supplied with an inert gas via line L3, for example argon or helium if necessary combine men supplied with oxygen, however, in the course of the line L3 and preferably as close as possible with the mixing nozzle MD a device for supplying energy (for example a heating device) is provided. This heating device HZ, in the present example schematically as Heating coil shown increases the temperature of the gas or gas mixture passing through so strong that in the mixing nozzle MD when it meets the actual glass-forming components SiCl4 and GeCl4 immediately start the desired chemical reaction, which is in it is that SiCl4 is converted into SiO2 and GeCl4 is converted into GeO2.

In der Heizvorrichtung wird der ankommende Gasstrom, der eine Temperatur zwischen Raumtemperatur und 2000C (je nach Vorheizung) haben kann, auf Temperaturen über 10000C erhöht. Der Temperaturbereich von 18000C bis 23000C ist dabei zu bevorzugen. Die Heizvorrichtung HZ, die Zuleitung L3 von der Heizvorrichtung HZ zur Mischdüse MD und die Mischdüse MD selber sind aus temperaturfestem Material (Quarzglas, Al203-Keramik, o.ä.) hergestellt. Die Mischdüse MD ist strömungstechnisch so ausgelegt, daß sich der beheizte Gasstrom mit den anderen eventuell <auf As 100°C) vorbeheizten Gasströme homogen mischt. Bevorzugt wird dabei (nicht dargestellt) das stark aufgeheizte Gas aus der Zuleitung L3 in einer koaxialen Rohranordnung so zugeführt, daß es von den kälteren Gasen der Zuleitung L12 außen umgeben ist. In einen der Gasströme können zusätzlich Keimbildner in Form zum Beispiel von feinverteilten SiO2-Staub eingeblasen werden.In the heating device, the incoming gas flow, which has a temperature between room temperature and 2000C (depending on the preheating) on temperatures increased above 10000C. The temperature range from 18000C to 23000C is preferred. The heating device HZ, the supply line L3 from the heating device HZ to the mixing nozzle MD and the mixing nozzle MD itself are made of temperature-resistant material (quartz glass, Al203 ceramic, or similar). The mixing nozzle MD is fluidically designed so that the heated gas stream with the other gas streams that may have been preheated to <As 100 ° C) mixes homogeneously. The strongly heated gas is preferred (not shown) from the supply line L3 in a coaxial pipe arrangement so supplied that it is from the colder gases of the supply line L12 is surrounded on the outside. In one of the gas streams you can In addition, nucleating agents in the form of finely divided SiO2 dust, for example, are blown in will.

Das die einzelnen hochreinen Glaspartikel enthaltende Gemisch tritt aus der eigentlichen Mischdüse MD aus in eine unmittelbar an sie angesetzte Abscheidekammer RK, wie durch entsprechende Pfeile angedeutet ist. Dabei wird an einem Stab ST, welcher um seine Längsachse rotiert und außerdem in axialer Richtung verschoben wird, in bekannter Weise eine Beschichtung BS niedergeschlagen (Außenabscheideverfahren) und so die gewünschte Vorform für die Herstellung von Lichtwellenleiter-Fasern erzeugt. Am Ausgang der Reaktionskammer RK werden die überschüssigen Gasprodukte abgesaugt, insbesondere Cl2 oder HCl.The mixture containing the individual high-purity glass particles occurs from the actual mixing nozzle MD into a separation chamber attached directly to it RK, as indicated by the corresponding arrows. In this case, on a rod ST, which around its longitudinal axis rotates and also in the axial direction is shifted, a coating BS is deposited in a known manner (external deposition process) and in this way the desired preform for the production of optical waveguide fibers is produced. The excess gas products are sucked off at the exit of the reaction chamber RK, especially Cl2 or HCl.

Im Bereich der Mischdüse MD ist eine Kühleinrichtung KL vorgesehen, welche die Aufgabe hat, die Rohrdurchführung und die Düsenhalterung zu kühlen.A cooling device KL is provided in the area of the mixing nozzle MD, which has the task of cooling the pipe lead-through and the nozzle holder.

Um einen unnötigen Wärmeverlust und eine Abkühlung des erhitzten Inertgases bzw. Gasgemisches in der Leitung L3 zu vermeiden, ist diese Leitung durch eine Isolierung nach der Heizeinrichtung HZ entsprechend geschützt.About unnecessary heat loss and cooling of the heated inert gas or gas mixture in line L3, this line is to be insulated appropriately protected after the HZ heating device.

Beim Niederschlag der Beschichtung BS auf dem Stab ST wird in bekannter Weise durch eine entsprechende Prozeßsteuerung dafür gesorgt, daß die Germanium-Konzentration entsprechend dem in der Vorform geforderten Konzentrationsprofil verändert wird.When the coating BS is deposited on the rod ST, it is known Way ensured by an appropriate process control that the germanium concentration is changed according to the concentration profile required in the preform.

Bei der Einrichtung nach Figur 2 ist davon ausgegangen, dieselben Grundkomponenten für die Herstellung des Niederschlags auf der Vorform zu benutzen wie bei Figur 1.The device according to FIG. 2 is assumed to be the same To use basic components for making the deposit on the preform as in Figure 1.

Dementsprechend sind ebenfalls drei Leitungen L1, L2 und L3 vorgesehen, die mit dem gleichen gasförmigen Komponenten beschickt werden wie bei Figur 1. Ebenso erfolgt im Bereich der Leitung L3 eine Aufheizung des dortigen Gasgemisches durch die Heizeinrichtung HZ.Accordingly, three lines L1, L2 and L3 are also provided, which are charged with the same gaseous components as in Figure 1. Likewise the gas mixture there is heated in the area of line L3 the heating device HZ.

Eine Abwandlung ist lediglich insoweit vorgesehen, als bei der Mischdüse MDR eine Anordnung aus mehreren Düsen vorgenommen ist. Im vorliegenden Beispiel sind analog zum bekannten Aufbau beim VAD-Prozeß drei Ringdüsen vorgesehen.A modification is only provided as far as the mixing nozzle MDR an arrangement of several nozzles is made. In this example three ring nozzles are provided analogous to the known structure in the VAD process.

In der MischdüseMDR werden die beiden Gasströme mit Hilfe geeigneter Düsenanordnungen zum Beispiel koaxial angeordnete Düsen, ineinander geleitet. Nach einer Mischstrecke(etwa einige: mm bis einige cm)tritt der mittlerweise mit Glaspartikeln beladene Gas strom aus einer Düse aus. Dabei sind die Gasgeschwindigkeit und der Querschnitt so gewählt, daß eine möglichst lange Ladeströmung entsteht. Der Glaspartikelstrom wird in einen abgeschlossenen Raum in Form der Reaktionskammer RK geleitet. Bei Bedarf können im Bereich der Reaktionskammer auch weitere Gaszutrittsöffnungen zur Aufrechterhaltung einer definierten wasserstoffreien Gasatmosphäre vorgesehen werden. Zusätzlich können Heizelemente vorgesehen sein, die zu einer Verfestigung des Glaskörpers beitragen.In the mixing nozzle MDR, the two gas streams are adjusted with the help of suitable Nozzle arrangements, for example coaxially arranged nozzles, guided one inside the other. To a mixing section (about a few: mm to a few cm) occurs with glass particles in the meantime loaded gas stream from a nozzle. Here are the gas velocity and the Cross-section chosen so that the longest possible charging flow is created. The glass particle flow is fed into a closed space in the form of the reaction chamber RK. at If required, further gas inlet openings can also be used in the area of the reaction chamber Maintaining a defined hydrogen-free gas atmosphere can be provided. In addition, heating elements can be provided which strengthen the glass body contribute.

Die zentrisch zueinander verlaufenden Düsen sorgen dafür, daß sich außen bei dem Niederschlag BS eine geringere Dotierung mit GeO2 und innen eine größere Dotierung mit GeO2 einstellt. Der Aufbau dieser Ringdüse MDR ist somit so getroffen, daß innerhalb der Beschichtung BS die notwendige Dotierungsverteilung erhalten wird, die für das jeweilige Brechzahlprofil erforderlich ist. Die Beschichtung BS selbst wird an einer Platte PL angesetzt, die an einem Stab STD gehalten ist, der eine Drehbewegung um seine Längsachse ausführt und dabei langsam in axialer Richtung verschoben wird.The centrally running nozzles ensure that outside with the precipitation BS a lower doping with GeO2 and inside a larger one Stopping doping with GeO2. The structure of this ring nozzle MDR is made in such a way that that the necessary doping distribution is obtained within the coating BS, which is required for the respective refractive index profile. The BS coating itself is attached to a plate PL, which is held on a rod STD, the one Performs rotary movement around its longitudinal axis and slowly in the axial direction is moved.

Analog wie bei Figur 1 wird aus der Reaktionskammer RK das entsprechende Abgas insbesondere in Form von Cl2 abgesaugt.Analogously to FIG. 1, the reaction chamber RK becomes the corresponding one Exhaust gas is extracted in particular in the form of Cl2.

Die Energiezufuhr im Bereich der Heizeinrichtung HZ kann vorteilhaft in einem zum Beispiel auf 20000C aufgeheizten Wärmetauscher erfolgen, der vorteilhaft aus Keramik besteht und von außen mit einer Gasflamme beheizt wird. Bei einer anderen Ausführungsform kann die Energie der Heizeinrichtung HZ auch durch ein im Träger- gas selbst gezündetes Plasma zugeführt werden, ähnlich wie dies - allerdings im Bereich der Reaktionskammer -in der DE-PS 24 44 100 beschrieben ist. Auch energiezuführende Strahlungsquellen zum Beispiel UV-IR-Licht oder Elektronen sind einsetzbar. Dabei muß die Energie im Trägergas bzw. im Inertgas nicht notwendigerweise nur als thermische Energie auftreten, sondern kann auch in Form von angeregtem Molekül- oder Atomzuständen in die Mischdüse MD bzw. MDR transportiert werden.The energy supply in the area of the heating device HZ can be advantageous in a heat exchanger heated to 20000C, for example, which is advantageous consists of ceramic and is heated from the outside with a gas flame. With another Embodiment, the energy of the heating device HZ can also be achieved by a gas self-ignited plasma can be supplied, similar to this - but in the area the reaction chamber -in DE-PS 24 44 100 is described. Also energizing Radiation sources such as UV-IR light or electrons can be used. Included the energy in the carrier gas or in the inert gas need not necessarily only be thermal Energy can occur, but can also be in the form of excited molecular or atomic states be transported into the mixing nozzle MD or MDR.

Auch eine chemische Energiezufuhr ist vorstellbar, wobei jedoch darauf geachtet werden muß, daß wasserstofffreie Substanzen gemischt werden. Ein Beispiel hierfür besteht in der Verwendung von CO und Sauerstoff. Ebenso ist allein für sich oder zusätzlich eine Energiezufuhr in Form von Plasmaentladung oder Strahlung durchführbar.A chemical supply of energy is also conceivable, but based on this Care must be taken that hydrogen-free substances are mixed. An example this consists in the use of CO and oxygen. Likewise is alone for yourself or an additional energy supply in the form of plasma discharge or radiation can be carried out.

Die Rohrleitung L3 vom Ort der Energiezufuhr bis zur jeweiligen Mischdüse MD bzw. MDR sollte so kurz wie möglich gehalten werden und entsprechend thermisch isoliert sein.The pipeline L3 from the point of energy supply to the respective mixing nozzle MD or MDR should be kept as short as possible and accordingly thermal be isolated.

2 Figuren 15 Patentansprüche2 Figures 15 claims

Claims (15)

Patentansprüche 1. Verfahren zur Herstellung einer Vorform für Lichtwellenleiter, bei denen ausgehend von gasförmigen Glasbildner-Komponenten durch einen chemischen Reaktionsprozeß ein Niederschlag aus Glaspartikeln gebildet wird, dadurch gekennzeichnet, daß die notwendige Energiezufuhr für die Einleitung und Aufrechterhaltung des chemischen Reaktionsprozesses vor dem chemischen Reaktionsprozeß und räumlich getrennt von diesem vorgenommen wird.Claims 1. A method for producing a preform for optical waveguides, where starting from gaseous glass-forming components by a chemical Reaction process a precipitate is formed from glass particles, characterized in that that the necessary energy input for the initiation and maintenance of the chemical Reaction process before the chemical reaction process and spatially separated from this is done. 2. Verfahren nach Anspruch 1, d a d u r c h g e -k e n n z e i c h n e t , daß die Energiezufuhr bei einem Teil der zur Glasbildung eingesetzte Gase vorgenommen wird.2. The method according to claim 1, d a d u r c h g e -k e n n z e i c h n e t that the energy supply for some of the gases used for glass formation is made. 3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß die Energiezufuhr im Bereich der Zuleitungen und kurz vor dem Ort des Reaktionsprozesses vorgenommen wird.3. The method according to any one of the preceding claims, d a d u r c h e k e n n n e i n e t that the energy supply in the area of the supply lines and is carried out shortly before the site of the reaction process. 4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e 1 c h n e t , daß die Energiezufuhr bei den Glasbildner-Komponenten derart vorgenommen wird, daß dort für sich jeweils noch keine Reaktion auftritt.4. The method according to any one of the preceding claims, d a d u r c h e k e n n z e 1 c h n e t that the energy supply in the glass-forming components is carried out in such a way that no reaction occurs in each case. 5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e 1 c h n e t , daß die Energiezufuhr bei den Glasbildner-Komponenten so vorgenommen wird, daß im späteren Niederschlag keine störenden Verbindungen auftreten.5. The method according to any one of the preceding claims, d a d u r c h e k e n n z e 1 c h n e t that the energy supply in the glass-forming components is carried out in such a way that no interfering compounds occur in the subsequent precipitation. 6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß die Energiezufuhr hauptsächlich mittels Inertgasen, insbesondere Helium oder Argon vorgenommen wird.6. The method according to any one of the preceding claims, d a d u r c h e k e n n n n e i n e t that the energy supply is mainly by means of inert gases, in particular helium or argon is made. 7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß die Energiezufuhr hauptsächlich mittels Sauerstoffgas vorgenommen wird.7. The method according to any one of the preceding claims, d a d u r c I would like to point out that the energy is mainly supplied by means of oxygen gas is made. 8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß die Reaktionskomponentn aus wasser- und wasserstoffreien Gasen bestehen.8. The method according to any one of the preceding claims, d a d u r c it is noted that the reaction components are composed of hydrogen and hydrogen-free Gases exist. 9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß das jeweilige Gas auf Temperaturen über 10000C,bevorzugt auf 18000C bis 23000C aufgeheizt wird.9. The method according to any one of the preceding claims, d a d u r c it should be noted that the gas in question is preferred to temperatures above 10000C is heated to 18000C to 23000C. 10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß die Energiezufuhr mit Hilfe eines Wärmetauschers vorgenommen wird.10. The method according to any one of the preceding claims, d a d u r c h e k e k e n n n e i n e t that the energy is supplied with the help of a heat exchanger is made. 11. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß die Energiezufuhr durch eine elektrodenlose Plasmaentladung bewirkt wird.11. The method according to any one of the preceding claims, d a d u r c h e k e n n n n e i c h n e t that the energy supply is through an electrodeless Plasma discharge is effected. 12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß die Energiezufuhr durch Strahlung (Licht, Teilchen) bewirkt wird.12. The method according to any one of the preceding claims, d a d u r c it is noted that the energy input through radiation (light, particles) is effected. 13. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß in den Verlauf mindestens einer ein Gas enthaltenden Zuleitung (L3) eine Zuführungseinrichtung (HZ) für Energie vorgesehen ist und daß die Zuleitungen (L12, L3) der Gase zu einer Mischdüse (MD) geführt sind.13. Device for performing the method according to one of the preceding Claims, d a d u r c h e k e n n n n z e i c h n e t, that in the course at least a supply line (L3) containing a gas, a supply device (HZ) for energy is provided and that the supply lines (L12, L3) of the gases to a mixing nozzle (MD) are led. 14. Vorrichtung nach Anspruch 12, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß die Zuleitungen (L12, L3) der Gase konzentrisch eingeführt sind, vorzugsweise derart, daß das heißeste Gas innen geführt ist.14. The apparatus of claim 12, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t that the supply lines (L12, L3) of the gases are introduced concentrically, preferably such that the hottest gas is passed inside. 15. Vorrichtung nach Anspruch 12 oder 13, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß an die Mischdüse (MD) eine Abscheidekammer (RK) angeschlossen ist.15. The apparatus of claim 12 or 13, d a d u r c h g e k e n It is noted that a separation chamber (RK) is connected to the mixing nozzle (MD) is.