DE3327257A1 - Langgestreckte kammer fuer einen gaslaser mit queranregung - Google Patents
Langgestreckte kammer fuer einen gaslaser mit queranregungInfo
- Publication number
- DE3327257A1 DE3327257A1 DE19833327257 DE3327257A DE3327257A1 DE 3327257 A1 DE3327257 A1 DE 3327257A1 DE 19833327257 DE19833327257 DE 19833327257 DE 3327257 A DE3327257 A DE 3327257A DE 3327257 A1 DE3327257 A1 DE 3327257A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electrode
- laser
- elongated chamber
- electrodes
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/0315—Waveguide lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0975—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
&'HE*fcB*ER
Patentanwälte Am Ruhrstein 1 D-43OO Essen 1
Leroy V. Sutter, Jr., 6301 Summertime Lane, Culver City, Kalifornien, V. St. A.
Langgestreckte Kammer für einen Gaslaser mit Queranregung
Die vorliegende Erfindung betrifft in Querrichtung angeregte
Laser und insbesondere eine langgestreckte Kammer für den Laser-Hohlraum und die Elektroden-Anordnung.
In der US-PS 4 169 251 werden Wellenleiter-Gaslaser mit Hochfrequenz-Gasentladungsanregung in Querrichtung beschrieben,
welche mittels einer querverlaufenden Gasentladung mit RF-Frequenzeri angeregt werden, die im
allgemeinen im VHF-UHF-Bereich liegen, z. B. etwa von 30 MHz bis etwa 3 GHz. Diese Anregungsfrequenzen sind
groß genug, um sicherzustellen, daß die Wechselwirkung der Entladungselektronen mit den Entladungselektroden
vernachlässigbar ist, wobei hervorragende Entladungsbedingungen erreicht werden, die eine verbesserte Laserleistung
bei reduzierter Größe und reduziertem Aufwand für den Laser bewirken.
In jüngster Zeit besteht wachsendes Interesse an Wellenleiter (Hohlleiter)-Gaslasern, bei denen das Laserlicht
durch einen hohlen Wellenleiter läuft, der auch zur Ein-
schnürung der den Laser anregenden Gasentladung dient. In der US-PS 3 772 611 mit dem Titel "Wellenleiter-Gaslaser"
ist ein grundlegendes Anregungssystem beschrieben, welches bei der Mehrzahl der frühen Wellenleiter-Laser
(Hohlleiter-Laser) eingesetzt wurde und bei welchem eine Gleichstrom-Entladung in Längsrichtung der Kammer zwischen
einem Paar von Elektroden vorgesehen ist,und wobei die Elektroden im Bereich der jeweiligen Endabschnitte des
Laser-Wellenleiters angeordnet sind. Bei dieser Gasentladungsart werden relativ große Anregungs-Gleichspannungen
von etwa 10 kV sowie eine entsprechende Stromversorgung mit zugehörigen Schaltungen zur Erzeugung derart großer
Spannungen benötigt.
Die US-PS 3 772 611 lehrt auch die Anregung eines ringförmigen Wellenleiter-Lasers aus einer RF-Quelle mittels
einer um den ringförmigen Wellenleiter gewundenen Spule. Eine derartige Spulen-Anregung ist nicht nur ungeeignet,
sehr gleichmäßige Entladungen zu erzielen, sondern weist auch einen recht schwachen Kupplungs-Wirkungsgrad auf.
Werden weiterhin mehr als ein paar Windungen eingesetzt, so wird die Induktivität der Spule so groß, daß sie die
Anregungsfrequenzen auf Werte unterhalb weniger MHz begrenzt.
Um eine gleichmäßigere Gasentladung bei reduzierter Anregungsspännung
zu erreichen, wurden Wellenleiter-Laser entwickelt, bei denen eine gepulste Entladung in Querrichtung
zum Wellenleiter vorgesehen ist. In der US-PS 3 815 047 mit dem Titel "Querangeregte Wellenleiter-Gaslaser"
werden in Querrichtung angeregte Wellenleiter-Gaslaser beschrieben, welche eine Kupfer-Anode mit glatter
BAD ORIGINAL
Basis aufweisen sowie eine Vielzahl von rechteckförmigen,
flachen Kathoden auf der aus dielektrischem Material geformten Wand, welche der Kupfer-Anode gegenüberliegt,
wobei die Laser-Anregungsquelle elektrisch leitend mit der Anode und der Kathode verbunden ist. In Querrichtung
angeregte Wellenleiter-Gaslaser weisen auch ein Gehäuse auf, das die Anregungsanordnung sowie eine Vielzahl von
J Gas-Einlässen und -Auslassen aufnimmt, welche die Laser-
' Gase im Hohlraum auf großem Gas-Druck halten. In der
Veröffentlichung von Smith et al. unter dem Titel "Repetition-Rate and Quasi-CW Operation of a Waveguide
Laser CO2 TE00 Laser", in Optics Communication, Vol. 16,
! No. 1, Januar 1976, S. 50 - 53, ist ein in Querrichtung
angeregter Wellenleiter-Gaslaser beschrieben, der in
quasi-kontinuierlichem Betriebszustand (Mode) mit Puls-Frequenzen
bis zu 40 kHz betrieben wurde.
Die US-PS 4,103,255 mit dem Titel "High Power, Compact Waveguide Gas Laser" beschreibt einen Wellenleiter-Hochleistungsgaslaser
kompakter Bauweise mit einem Gehäuse, das innerhalb des Resonanz-Hohlraumes angeordnet ist. Im
Gehäuse ist eine langgestreckte Kammer angeordnet. Die Kammer ist mittels einer Vielzahl von infrarot-durchlässigen
Unterteilungen in eine Vielzahl· von Wellenleiter unterteilt. Im Betrieb bewirkt der übertritt von
Laser-Strahlung zwischen benachbarten Wellenleitern durch die Trennwände eine Phasenkoppelung der Wellenleiter-Moden,,
so daß eine hohe Laserleistung erzielt wird.
Gemäß dem vorbeschriebenen Stand der Technik liegt der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine ver-
>. · · —* »Jjr —
<
besserte langgestreckte Kammer bereitzustellen, welche den Laser-Hohlraum bildet, sowie eine Elektroden-Anordnung
für einen in Querrichtung angeregten Gaslaser, wobei die Kammer einen Querschnitt in der Form eines
vier-zackigen Sternes aufweist, um für die Laguerre-Gauss-TEM_0-Mode
niederster Ordnung ein Laser-Energieprofil zu erreichen, das im Bereich des Mittelpunktes
der sternförmigen, langgestreckten Kammer sein Maximum hat.
Eine andere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine sternförmige, langgestreckte Kammer bereitzustellen,
welche einen Laser-Hohlraum und eine Elektroden Abstützung für einen in Querrichtung angeregten Gaslaser
bildet und welche eine gleichförmige Laser-Entladung über ihren Querschnitt aufweist, wobei die Laser-Entladung
in der Mitte des Hohlraumes■ihr Maximum hat,
um eine maximale Koppelung in die Laguerre-Gauss-TEM„n-Mode
zu ermöglichen. Auf diese Weise verbessert die sternförmige langgestreckte Kammer die Koppelung der
Laser-Pumpleistung mit der Laser-Ausgangsleistung, so daß der Wirkungsgrad des in Querrichtung angeregten
Gaslasers verbessert wird.
Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen RF-Generator bereitzustellen, welcher elektrisch
mit den Elektroden des in Querrichtung angeregten Gaslasers phasenrichtig verbunden ist.
Gemäß der Erfindung weist die einen verbesserten Laser-Hohlraum und eine verbesserte Elektrodenanordnung bewirkende
erfindungsgemäße langgestreckte Kammer zum Einsatz in Gaslasern folgende Merkmale auf:
a. Ein Laser-Gas, das in der langgestreckten Kammer angeordnet ist;
BAD ORIGINAL
b. erste und zweite Reflektoren zum Reflektieren von Lichtenergie aus einer Laser-Gasentladung innerhalb der
langgestreckten Kammer, so daß die Lichtenergie in Längsrichtung der langgestreckten Kammer fortschreitet;
c- erste und zweite Elektroden für eine Quer-Anregung des Laser-Gases/ wobei jede der Elektroden aus elektrisch
leitendem Material geformt ist und beide Elektroden einander . gegenüberstehend angeordnet sind;
d. eine Stromquelle zum Anlegen einer Wechselspannung
an die erste und die zweite Elektrode mit einer Frequenz im Bereich von 10 MHz bis etwa 3 GHz, um eine Laser-Gasentladung
in dem Laser-Gas zu erzeugen; und
e. Koppelungseinrichtungen zum Anpassen der Impedanz
des stationären Zustandes in der langgestreckten Kammer an die Impedanz der Stromquelle und zum Koppeln der
ersten Elektrode an die .zweite Elektrode, um die Reaktions-Impedanz
vor der Zündung in der langgestreckten Kammer aufzuheben, wobei die genannten ersten Impedanz-Anpassungseinrichtungen
die ersten und zweiten Elektroden und die zweite .Impedanz-Anpassungseinrichtung an die
Stromversorgung koppeln, wobei insbesondere folgende Verbesserung vorgesehen ist:.
f. Die langgestreckte Kammer ist in der Form eines vierzackigen Sternes ausgebildet und weist Querschnittsabmessungen
auf/ die geeignet sind, um eine Laser-Gasentladung einzuschließen, wobei die langgestreckte Kammer
aus einem dielektrischen Material besteht.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind
in den Unteransprüchen beschrieben.
Nachfolgend ist ein Ausführungsbeispiel der Erfindung an
Hand der Zeichnung im einzelnen beschrieben. Dabei zeigt:
Fig. 1 eine schematische Darstellung eines in Querrichtung angeregten Gaslasers
mit einer verbesserten Koppelungsschaltung,
die erste und zweite Impedanz-Anpassungskreise sowie einen Laser-Hohlraum und eine Elektroden-Anordnung aufweist, wobei
eine sternförmige, langgestreckte Kammer gemäß der Lehre der vorliegenden Erfindung
Verwendung findet;
Fig. 2 einen Seitenaufriß einer Vielzahl von Gehäusen, welche jeweils einen aus einer Vielzahl
von LC-Schaltkreisen aufnehmen, welche zusammen die zweite bei Figur 1 erwähnte
Impedanz-Anpassungsschaltung bilden;
Fig. 3 eine schematische Darstellung eines LC-Schaltkreises
aus. jedem der bei Figur 2 erwähnten Gehäuse;
Fig. 4 eine Querschnittsansicht der sternförmigen · langgestreckten Kammer und eines gegenüberliegenden
Paares von parallel angeordneten Elektrodenplatten des Laserhohlraumes bzw. der Elektrodenanordnung gemäß Figur 1;
Fig. 5 einen Querschnitt in Längsrichtung der sternförmigen langgestreckten Kammer mit einem
Paar gegenüberliegend parallel angeordneter
BAD ORIGINAL
Elektrodenplatten entsprechend Figur 4; <
Fig. 6 einen Schnitt in Querrichtung einer langgestreckten Kammer mit rechteckigem Querschnitt
und zwei Sätzen gegenüberliegender Paare parallel angeordneter Elektrodenplatten eines Laser-Hohlraumes bzw. einer
Elektrodenanordnung, wobei ein RF-Generator phasenkorrelierte Energie liefert;
Fig. 7 einen Schnitt.in Querrichtung einer langgestreckten
Kammer, deren Querschnitt die Form eines vier-zackigen Sternes aufweist,
und zwei Sätze gegenüberliegender Paare von parallel angeordneten Elektrodenplatten
eines Laser-Hohlraumes und einer Elektroden-Anordnung, wobei ein RF-Generator phasenkorrelierte
Energie einspeist;
Fig. 8 einen Schnitt in Querrichtung einer langgestreckten
Kammer mit kreisförmigem Querschnitt und zwei Sätze von gegenüberliegend angeordneten Paaren paralleler Elektrodenplatten eines Laser-Hohlraumes mit einer
Elektroden-Anordnung, wobei ein RF-Generator phasenkorrelierte Energie einspeist;
Fig. 9 einen Schnitt in Längsrichtung einer zylindrischen Kammer mit zwei Sätzen gegenüberliegender
Paare von parallel angeordneten Elektrodenplatten gemäß Figur 8;
-/ti-
Fig. 10 eine schematische Darstellung eines in Querrichtung angeregten Gaslasers, der
in bipolarem Zustand betrieben wird, mit einer verbesserten Koppelungsschaltung,
welche erste und zweite Impedanz-Anpassungsschaltkreise aufweist sowie einen Laser-•
Hohlraum und eine Elektroden-Anordnung einschließlich einer sternförmigen, langgestreckten
Kammer und einer Vielzahl von gegenüberliegend angeordneten Paaren von parallelen Elektrodenplatten gemäß der
vorliegenden Erfindung;
Fig. 10a einen Seitenaufriß mit einer teilweisen Querschnittsansicht
eines Laser-Hohlraumes und einer Elektroden-Anordnung, wobei eine Vielzahl von gegenüberliegenden Paaren parallel
angeordneter Elektrodenplatten dargestellt ist,.wobei jedes Paar jeweils durch einen
Induktanz-Schaltkreis aus einer Vielzahl von Induktanz-Kreisen des zweiten Impedanz-Anpassungs-Schaltkreises
gemäß Figur 10 gekoppelt ist; und
Fig. 11 eine teilweise schematische Darstellung
eines in Querrichtung angeregten Gaslasers gemäß Figur 10, der in unipolarem Zustand
betrieben wird, da ein unterschiedlicher erster Impedanz-Anpassungs-Stromkreis Verwendung
findet.
332
Gemäß Figur 1 weist ein in Querrichtung angeregter Gaslaser 10 einen RF-Generator 11, einen verbesserten Koppelungs-Schaltkreis
und ein Koaxialkabel 13 auf, welches den RF-Generator 1T mit dem verbesserten Koppelungs-Stromkreis verbindet.
Der verbesserte KoppelungsTStromkreis weist einen ersten Impedanz-Anpassungskreis 14 auf, welcher elektrisch
mit Anschlüssen A und B einer Laserhohlraum- und -Elektrodenanordnung 15 verbunden ist, sowie einen zweiten Impedanz-Anpassungskreis
16, welcher elektrisch mit der Laserhohlraum- und -Elektrodenanordnung 15 verbunden ist. Der in
Querrichtung angeregte Gaslaser 10 weist weiterhin ein Paar von optischen Reflektoren 17 auf, welche den Laser-Resonator
bilden.
Gemäß Figur 2 und Figur 1 weist die Laserhohlraum- und -Elektrodenanordnung 15 eine langgestreckte Kammer 20 auf,
welche die Form eines vier-zackigen Sternes einnimmt und deren Querschnittsabmessungen nicht nur im Bereich von
0,25 mm2 bis 7,5 mm2, sondern auch größer als 7,5 mm2 sind
und welche geeignet ist, die Laser-Gasentladung einzugrenzen. Die sternförmige,langgestreckte Kammer 20 weist
Wände 21 auf, die nach innen in Richtung auf das Zentrum der sternförmigen,langgestreckten Kammer gekrümmt sind
und welche aus einem dielektrischen Material, wie beispielsweise BeO, Al2O3 oder Glas, geformt sind. Die Laserhohlraum-
und -Elektrodenanordnung 15 weist weiterhin erste und. zweite, parallel angeordnete Elektrodenplatten 22 auf,
von denen jede mit einer Kühl-Bohrung 23 versehen ist, durch welche ein Kühlmittel strömen kann. Die ersten und
die zweiten parallelen Elektrodenplatten 22 sind aus einem elektrisch leitenden Material geformt, wie beispielsweise
Aluminium oder Kupfer, und einander gegenüberstehend ange-
-Ki--
ordnet. Die ersten und zweiten Elektrodenplatten 22 werden zur Anregung des Lasergases in Querrichtung verwendet,
wobei es sich beispielsweise um die herkömmliche Gasmischung eines CO2-Lasers handeln kann mit 65 % He,
22 % N2 und 13 % CO2. Der RP-Generator 11 erzeugt ein
elektrisches Wechselfeld in der sternförmigen,langgestreckten
Kammer 20 in einer Richtung, die quer zur Längserstreckung, der sternförmigen,langgestreckten Kammer
20 verläuft und eine Frequenz im Bereich von 10 MHz bis etwa 3 GHz aufweist, um eine Laser-Gasentladung in dem
Lasergas 24 zu erzeugen.
In der sternförmigen,langgestreckten Kammer 20 muß eine
ausreichende Menge von Lasergas 24 enthalten sein, um die Laser-Gasentladung aufrechtzuerhalten. Das Lasergas
24 weist einen Druck im Bereich von 1 Torr bis etwa 1000 Torr auf. Das Lasergas 24 ist in der langgestreckten
Kammer 20 eingeschlossen. Bei dem Ausführungsbeispiel ist das Paar optischer Reflektoren 17 optisch in bezug
auf die langgestreckte Kammer 20 ausgerichtet und mit ihr mechanisch verbunden, um das Lasergas 24 in der
Kammer 20 dicht einzuschließen.
Die optischen Reflektoren 17 reflektieren Licht aus der Laser-Gasentladung innerhalb der sternförmigen,langgestreckten
Kammer 20, so daß die Lichtwelle longitudinal in Längsrichtung der sternförmigen, langgestreckten
Kammer fortschreitet. Bei dem bevorzugten Ausführungsbeispiel reflektieren die optischen Reflektoren 17 nicht
nur, sondern führen das Licht in der sternförmigen, langgestreckten
Kammer 20 auch derart, daß die Lichtwellen unabhängig von den Innenwänden 21 der sternförmigen,
langgestreckten Kammer 20 sind.
· * Ο·Ό·*ζ. / £ 3 f
Bei einem anderen Ausführungsbeispiel kann der in Querrichtung angeregte Gaslaser 10 auch einen Gaseinlaß und
einen Gasausläß aufweisen, um das Lasergas 24 in die langgestreckte Kammer 20 einzulassen bzw. auszulassen.
Auch kann eine Gas-Regeleinrichtung vorgesehen sein, um den Druck des Lasergases 24 in der sternförmigen,
langgestreckten Kammer 20 einzustellen.
Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel kann der in Querrichtung
angeregte Gaslaser TO auch ein Gehäuse aufweisen, in welchem die sternförmige, langgestreckte 'Kammer
20 angeordnet und das Lasergas 24 dicht eingeschlossen ist. Der in Querrichtung angeregte Gaslaser 10 kann auch
einen Gaseinlaß und einen Gasauslaß aufweisen, so daß Lasergas 24 in das Gehäuse einströmen bzw. aus ihm ausströmen
kann, wobei weiterhin eine Gas-Regeleinrichtung den Druck des Gases steuern kann.
Gemäß den Figuren 2 und 3 weist der zweite Impedanz-Anpassungskreis
16 eine Vielzahl von LC-Kreisen 30 auf, von denen jeder in einem Gehäuse 31 eingeschlossen ist
und welche zusammen den zweiten Impedanz-Anpassungs-Kreis 16 bilden.
Wie den Figuren 4 und 5 sowie den Figuren 1 und 2 des
bevorzugten Ausführungsbeispieles der Laserhohlraum- und -Elektrodenanordnung 15 zu entnehmen ist, hat die
langgestreckte Kammer 20 einen Querschnitt in der Form eines vier-zackigen Sternes. Die sternförmige, langgestreckte
Kammer 20 weist erste und zweite gegenüberliegende, gekrümmte Wände 21 auf, welche einen kleinsten
Abstand d zueinander einnehmen, sowie dritte und vierte gegenüberliegende, gekrümmte Wände 21, wobei alle Wände
aus dielektrischem Material geformt sind.
ORIGINAL INSPECTED
Gemäß Figur 6 weist ein zweites Ausführungsbeispiel eines
in Querrichtung angeregten Gaslasers 60 eine Laserhohlraum- und -Elektrodenanordnung 65 auf, welche mit einer
langgestreckten Kammer 70 versehen ist, die einen rechtwinkeligen Querschnitt aufweist, mit Querschnittsab-
messungen, die nicht nur im Bereich von 0,25 mm bis
2 . Z
7,5 mm , sondern auch größer sind als 7,5 mm , und geeignet
.sind,eine Laser-Gasentladung einzuschnüren. Die rechtwinkelige, langgestreckte Kammer 70 weist Wände 71
auf, welche aus einem dielektrischen Material, wie beispielsweise BeO, Al2O3 oder Glas, geformt sind. Die
Laserhohlraum- und -Elektrodenanordnung 65 weist weiterhin
eine erste Elektrodenplatte 73, eine zweite, parallele Elektrodenplatte 74, welche parallel und gegenüberstehend
zu der ersten Elektrodenplatte 73 angeordnet ist, eine dritte Elektrodenplatte 75 und eine vierte, parallele
Elektrodenplatte 76 auf, welche parallel und gegenüberstehend zu der dritten Elektrodenplatte 75 angeordnet ist
und welche rechtwinkelig zu der ersten und der zweiten Elektrodenplatte 73 bzw. 74 angeordnet ist. Jede der
Elektrodenplatten 73, 74, 75 und 76 hat eine Kühl-Bohrung 77, durch welche ein Kühlmittel strömt. Die Elektroden
sind aus elektrisch leitendem Material, wie beispielsweise Aluminium oder Kupfer, geformt. Die Elektrodenplatten
73, 74, 75 und 76 werden zur Anregung des Lasergases in Querrichtung eingesetzt, wobei es sich beim Lasergas um
die herkömmliche Mischung eines CO2-Gaslasers handeln kann mit 75 % He, 22 % N2 und 13 % CO2 (Molenbruch). Der
RF-Generator 11 erzeugt ein elektrisches Wechselfeld in
der rechtwinkeligen, langgestreckten Kammer 70 und zwar in Richtung quer zur Längserstreckung der Kammer 70 und
mit einer Frequenz im Bereich von 10 MHz bis etwa 3 GHz, um im Lasergas 24 eine Gasentladung zu erzeugen. Der RF-
BAD ORIGINAL
·· ο··· «·Ο«ν.ί / Z. Ό I
# 9
Generator 11 ist elektrisch mit den Elektrodenplatten 73, 74, 75 und 76 phasenkorreliert verbunden, wobei die erste
Elektrodenplatte 73 um 180° phasenverschoben gegenüber der zweiten Elektrodenplatte 74 angesteuert wird, während
die dritte Elektrodenplatte 75 in bezug auf die vierte Elektrodenplatte 76 um 180° phasenverschoben ist und die
erste Elektrodenplatte 73 gegenüber der dritten Elektrodenplatte 75 um 90° phasenverschoben ist, so daß die Laser-
.t Entladung des in Querrichtung angeregten Lasers 60 sich
mit der Zeit gegen den Uhrzeigersinn dreht. Werden die dritten und die vierten Elektroden 75 und 76 umgepolt, so
wird sich die Laser-Gasentladung im Uhrzeigersinn drehen. Die Phasenwinkel sind in Figur 6 gezeigt.
Figur 7 zeigt ein drittes Ausführungsbeispiel eines in Querrichtung angeregten Gaslasers 80, der eine Laserhohlraum-
und -Elektrodenanordnung 85 mit einer sternförmigen, langgestreckten Kammer 20 aufweist, welche geeignet
ist, die Laser-Gasentladung einzugrenzen. Die sternförmige, langgestreckte Kammer 20 weist Wände 21
auf, welche aus einem dielektrischen Material, wie beispielsweise BeO, Al2O3 oder Glas, geformt sind. Die Laserhohlraum-
und -Elektrodenanordnung 85 weist weiterhin eine erste Elektrodenplatte 73 und eine zweite, parallele
Elektrodenplatte 94 auf, welche parallel und gegenüberstehend zu der ersten Elektrodenplatte 73 angeordnet ist,
sowie eine dritte Elektrodenplatte 95 und eine vierte, parallele Elektrodenplatte 96, welche parallel und gegenüberstehend
zu der dritten Elektrodenplatte 95 angeordnet ist und welche weiterhin senkrecht zu der ersten und der
zweiten Elektrodenplatte 93 bzw. 94 angeordnet ist. Jede ! der Elektrodenplatten 93, 94, 95 und 96 weist eine Kühl-
: bohrung 97 auf, durch welche ein Kühlmittel strömen kann.
Die Elektroden sind aus elektrisch leitendem Material, wie beispielsweise Aluminium oder Kupfer, geformt. Die
Elektrodenplatten 93, 94, 95 und 96 werden verwendet, um das Lasergas 24 in Querrichtung anzuregen. Der RF-Generator
11 erzeugt ein elektrisches Wechselfeld in
der rechtwinkeligen, langgestreckten Kammer 20, welches quer zur Längsachse der langgestreckten Kammer 20 ausgerichtet
ist und eine Frequenz im Bereich von 10 MHz bis etwa 3 GHz aufweist, um eine Laser-Gasentladung in dem
Lasergas 24 zu erzeugen. Der RF-Generator 11 ist elektrisch
mit den Elektrodenplatten 93, 94, 95 und 96 phasenkorreliert verbunden, wobei die erste Elektrodenplatte
gegenüber der zweiten Elektrodenplatte 94 um 180 phasenverschoben
ist, während die dritte Elektrodenplatte gegenüber der vierten Elektrodenplatte 97 um 180 phasenverschoben
ist und die erste Elektrodenplatte 93 gegenüber der dritten Elektrodenplatte 9 5 einen Phasenunterschied
von 90 aufweist, wobei die Laser-Gasentladung des in Querrichtung angeregten Lasers 80 zeitabhängig
gegen den Uhrzeigersinn dreht. Werden die dritte und die vierte Elektrode 95 und 96 in ihrer Polarität umgekehrt,
so dreht die Laser-Gasentladung im Uhrzeigersinn. Die Phasenwinkel sind in Figur 7 gezeigt.
In den Figuren 8 und 9 ist ein viertes Ausführungsbeispiel eines in Querrichtung angeregten Gaslasers 100 gezeigt,
welcher eine Laserhohlraum- und -Elektrodenanordnung 101 mit einer Kammer 102 aufweist, die einen
kreisförmigen Querschnitt hat und geeignet ist, eine Laser-Gasentladung einzugrenzen. Die langgestreckte Kammer
102 mit kreisförmigem Querschnitt hat zylinderförmige
Wände 103 aus einem dielektrischen Material, wie beispielsweise BeO, Al2O3 oder Glas. Die Laserhohlraum- und Elektroden
ORIGINAL INSPECTED ; ' COPY
anordnung 101 weist, weiterhin eine erste Elektrodenplatte 105 und eine zweite, parallele Elektrodenplatte
106 auf/ welche parallel und gegenüberstehend zu der ersten Elektrodenplatte 105 angeordnet ist, sowie eine
dritte Elektrodenplatte 101 und eine vierte, parallele Elektrodenplatte 108, welche bezüglich der dritten Elektrodenplatte
101 parallel und gegenüberstehend angeordnet ist und welche bezüglich der ersten und der zweiten
Elektrodenplatten 105 bzw. 106 senkrecht steht. Jede der Elektrodenplatten 105, 106, 107 und 108 weist eine Kühlbohrung
109 auf, durch welche ein Kühlmittel strömen kann und ist aus einem elektrisch leitenden Material, wie
beispielsweise Aluminium oder Kupfer, geformt. Die Elektrodenplatten 105, 106, 107 und 108 werden verwendet, um
das Lasergas 24 in Querrichtung anzuregen. Der RF-Generator 11 erzeugt ein elektrisches Wechselfeld in der runden,
langgestreckten Kammer 102 und zwar in einer Richtung quer zu Längsachse der langgestreckten Kammer 102 und mit einer
Frequenz im Bereich von 10 MHz bis etwa 3 GHz, um in dem Lasergas 24 eine Laser-Gasentladung zu erzeugen. Der RF-Generator
11 ist elektrisch mit den Elektrodenplatten 105, 106, 107 und 108 elektrisch phasenkorreliert verbunden,
wobei die erste und die zweite Elektrodenplatte 105 und in Phase sind und wobei die dritte und die vierte Elektrodenplatte .107 und 108 in Phase sind, während die erste Elektrodenplatte
105 in bezug auf die dritte Elektrodenplatte um 180 phasenverschoben ist. Der vierte, in Querrichtung
angeregte Gaslaser 100 wird TEM01-Moden erzeugen, welche
eine Laguerre-Gauss-Mode von höherer Ordnung ist als die TEM00-Mode, welche die ersten drei Laser 10, 60 und 80
ohne Schwierigkeiten erzeugen. Die Laser-Gasentladung erfolgt entlang der Außenseite der zylinderförmigen Wand
103 der runden, langgestreckten Kammer 102, wobei die Elek-
ORIGINAL INSPECTED COPY
troden 105, 106, 107 und 108 symmetrisch angeordnet sind,
so daß die Laser-Gasentladung ringförmig ist. Die ringförmige Gasentladung in der langgestreckten Kammer 102
mit kreisförmigem Querschnitt fördert die Oszillationen der TEM01* Mode.
Gemäß den Figuren 10 und 10 a weist ein fünfter, in Querrichtung angeregter Gaslaser 110 einen RF-Generator 11
und einen Leistungsteiler 111 auf, dessen Eingang ein
Koaxialkabel 13 mit dem RF-Generator 11 verbindet und
welche eine Vielzahl von Ausgängen aufweist. Der fünfte, in Querrichtung angeregte Gaslaser 110 weist ebenfalls
einen verbesserten Koppelungs-Schaltkreis auf mit einem ersten Impedanz-Anpassungskreis 114 und einer Laserhohlraum-
und -Elektrodenanordnung 115. Der verbesserte Koppelungskreis weist ebenfalls einen zweiten Impedanz-Anpassungskreis
116 auf, der den ersten Impedanz-Anpassungskreis 114 elektrisch mit der Laserhohlraum- und
-Elektrodenanordnung 115 koppelt.
Die Laserhohlraum- und -Elektrodenanordnung 115 weist
eine sternförmige, langgestreckte Kammer 20 und eine
Vielzahl von Elektrodenabschnitten 120 auf, wobei jeder
Elektrodenabschnitt 120 ein Paar von sich gegenüberstehend, parallel angeordneten Elektroderiplatten 122 aufweist,
deren jede eine Kühlbohrung 123 aufweist. Die Laserhohlraum- und -Elektrodenanordnung 115 weist weiterhin eine
Vielzahl von dielektrischen Abstandsstücken 124 auf, die jeweils mit einer Kühl-Bohrung 125 versehen ist, welche
axial in bezug auf die Kühl-Bohrungen 123 der Elektrodenplatten 122 ausgerichtet ist. Die Elektrodenplatten 122
und die dielektrischen Abstandsstücke 124 sind abwechselnd nacheinander und aneinander anstoßend entlang der Außen-
BAD ORIGINAL
* » e ♦
·· ··«· ·· win/ /L i t- \J I
fläche der ersten und zweiten Wände 21 der langgestreckten Kammer 20 angeordnet. Die Laserhohlraum- und -Elektrodenanordnung
115 schließt ein Paar optischer Reflektoren 17, wie beispielsweise Konkav-Spiegel, ein, welche optisch in
bezug auf die sternförmige, langgestreckte Kammer 20 ausgerichtet sind und welche an den Endabschnitten der sternförmigen,
langgestreckten Kammer 20 befestigt sind, um das ■ Lasergas 24 in der langgestreckten Kammer 20 abdichtend
einzuschließen.
Der zweite Impedanz-Anpassungskreis 116 weist eine Vielzahl
von Induktanz-Kreisen 130 auf, welche jeweils elektrisch mit einem der Elektrodenabschnitte 120 verbunden
sind. Jeder der Induktanz-Kreise 130 ist in einem Gehäuse
131 untergebracht.
Der erste Impedanz-Anpassungskreis 114 weist eine Vielzahl
von LC-Kreisen 140 auf, welche jeweils elektrisch mit einem der Induktanz-Kreise 130 verbunden sind. Jeder
der LC-Kreise 140 ist in einem Gehäuse 141 aufgenommen. Der in Querrichtung angeregte Gaslaser 110 wird bipolar
betrieben.
Jeder Ausgang des Leistungsteilers 111 ist elektrisch mit einem der LC-Kreise 140 des verbesserten Koppelungs-Schaltkreises
verbunden.
Gemäß Figur 11 arbeitet ein dritter, in Querrichtung angeregter
Gaslaser 210 in der unipolaren Mode, wenn ein unterschiedlicher Induktanz-Kreis 230 eines zweiten Impedanz-Anpassungskreises
216 den zweiten Induktanz-Kreis
• 130 des Impedanz-Anpassungskreises 115 der Figur 10 er-
: setzt.
Aus dem Vorstehenden ist ersichtlich, daß eine verbesserte, langgestreckte Kammer für Laserhohlraum- und -Elektrodenanordnungen
für in Querrichtung angeregte Gaslaser beschrieben wurde. Der Vorzug der verbesserten,langgestreckten
Kammern besteht auch darin, daß durch die Gestaltung der langgestreckten Kammer bestimmt wird, in welcher Mode der
in Querrichtung angeregte Gaslaser betrieben wird. Die sternförmige, langgestreckte Kammer bedingt einen in Querrichtung
angeregten Gaslaser, der am wirkungsvollsten in der TEM00-Mode arbeitet,· während die langgestreckte Kammer
mit kreisförmigem Querschnitt einen in Querrichtung angeregten Gaslaser ermöglicht, der höchst wirkungsvoll in der
TEM- *-Mode arbeitet.. Die in der Zeichnung angegebenen Abmessungen
sind nur illustrativ.
BAD ORIGINAL
Claims (5)
- .. .232725 7S 522Ansprüche,' Eine langgestreckte Kammer für eine La serhohl raura-
und -Elektrodenanordnung eines Gaslasers mit einem in
der langgestreckten Kammer angeordneten Lasergas; ersten und* zweiten Reflektoren zum Reflektieren des Lichtes aus der Laser-Gasentladung innerhalb der langgestreckten
Kammer, so daß das Licht sich in Längsrichtung der langgestreckten Kammer fortpflanzt; ersten und zweiten Elektroden zur Anregung des Lasergases in Querrichtung, wobei jede Elektrode aus elektrisch leitendem Material gefertigt ist und die Elektroden einander gegenüberstehend angeordnet sind; einer Stromquelle zum Anlegen einer Wechselspannung an die erste und die zweite Elektrode mit einer Frequenz im Bereich von 10 MHz bis etwa 3 GHz, um im Lasergas eine Laser-Gasentladung zu erzielen; und mit Koppelungseinrichtungen zum Anpassen der reaktiven Impedanz des
stationären.Zustandes in der langgestreckten Kammer an
die Impedanz der Stromquelle und zum Koppeln der ersten
Elektroden und der zweiten Elektroden, um die vor der
Zündung vorliegende reaktive Impedanz der langgestreckten Kammer zu kompensieren, wobei die. erste Impedanz-Anpassungseinrichtung die ersten und zweiten Elektroden
und die zweite Impedanz-Anpassungseinrichtung an die
Stromquelle koppelt, dadurch gekennzeichnet, daß die langgestreckte Kammer (20) einen Querschnitt in Form eines vier-zackigen Sternes aufweist, daß die Quer-ORIGINAL INSPECTEDschnittsabmessungen der langgestreckten Kammer (20) geeignet sind, die Laser-Gasentladung einzugrenzen und daß die langgestreckte Kanuner (20) aus dielektrischem Material geformt ist. - 2. Gas-Laser mit einer langgestreckten Kammer, deren "; Querschnittsabmessungen geeignet- sind, um eine Laser-Gasentladung einzugrenzen und die aus dielektrischem Material geformt ist, mit einem in der langgestreckten Kammer angeordneten'Lasergas, ersten und zweiten Reflektoren zum Reflektieren und Führen des Lichtes aus der Laser-Gasentladung innerhalb der langgestreckten Kammer, so daß die Lichtwellen beim Durchgang in Längsrichtung der langgestreckten Kammer unabhängig von den Innenwänden der langgestreckten Kammer sind, und mit ersten und zweiten Elektroden zum Anregen des Lasergases in Querrichtung, wobei jede Elektrode aus elektrisch leitendem Material gefertigt ist und die Elektroden einandergegenüberliegend angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet, daß dritte und vierte Elektroden (75, 7.6) vorgesehen. sind, um das Lasergas (24) in Querrichtung anzuregen, wobei jede Elektrode (22, 73, 74, 75, 76) aus elektrisch leitendem Material geformt ist und die Elektroden jeweils gegenüberstehend angeordnet sind; daß eine L'eistungsquelle (11) zum Anlegen einer phasenkorrelierten Wechselspannung an die Elektroden (22, 73, 74, 75, 76) mit einer Frequenz im Bereich von 10 MHz bis etwa 3 GHz vorgesehen ist, um eine Laser-Gasentladung in dem Lasergas (24) zu erzeugen, und daß Koppelungseinrichtungen (13, 14) vorgesehen sind, um die reaktive Impedanz des stationären Zustandes der langgestreckten Kammer (20) an die Impedanz der Leistungsquelle (11) anzupassen und zum Ankoppeln der ersten Elektrode (22, 73) an die zweitenORIGINAL INSPECTED COPYElektroden (22, 74), um die vor der Zündung vorhandene reaktive Impedanz der langgestreckten Kammer (20) zu rkompensieren, wobei die ersten Impedanz-Anpassungsein- . .· richtungen (14) die ersten und zweiten Elektroden (73 bzw. 74) und' die zweite Impedanz-Anpassungseinrichtung (16) mit der Leistungsquelle (11) verbinden.·
- 3. Gaslaser nach Anspruch 2, dadurch' gekennzeichnet , daß die langgestreckte Kammer (70) einen recht; winkeligen Querschnitt aufweist und daß die Phasenkorrelation der Elektroden derart ist, daß die erste Elektrode■(73)' in bezug auf die zweite Elektrode (74) um 180 phasenverschoben ist, während die dritte Elektrode (75) in bezug auf die vierte Elektrode (76) um 180° phasenverschoben ist und die erste Elektrode (73) in bezug auf die dritte Elektrode "(75) um 90° phasenverschoben ist.
- 4. Gaslaser nach Anspruch 2, dadurch g'ekennz e ic h η e*t , daß die langgestreckte Kammer (102) einen kreisförmigen Querschnitt aufweist und daß die Phasenkorrelation der Elektroden derart ist, daß die erste Elektrode (105) mit der zweiten Elektrode (106) in Phase ist, während die dritte Elektrode■(107) mit der vierten Elektrode (108) in Phase ist und die erste Elektrode (105) in bezug auf die dritte Elektrode (107) um 180° phasenverschoben angesteuert wird.
- 5. Gaslaser nach Anspruch 2, dadurch gekenn-.zeichnet, daß die langgestreckte Kammer (20) einen Querschnitt in Form eines vier-zackigen Sternes aufweist, und daß die Phasenkorrelation der Elektroden (93, 94, 9 und 96) derart ist, daß die erste Elektrode (93) in bezug auf die zweite Elektrode (94) um 180° phasenverschoben ist,ORIGINAL INSPECTEDdaß die dritte Elektrode (95) in bezug auf die vierte Elektrode (96) um 180° phasenverschoben ist, während
die vierte Elektrode (96) und die erste Elektrode (93) in bezug auf die dritte Elektrode (95) um 90° phasenverschoben angesteuert sind.BAD ORIGINAL
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/403,781 US4464760A (en) | 1982-04-20 | 1982-07-30 | Elongated chambers for use in combination with a transversely excited gas laser |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3327257A1 true DE3327257A1 (de) | 1984-02-02 |
Family
ID=23596979
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19833327257 Withdrawn DE3327257A1 (de) | 1982-07-30 | 1983-07-28 | Langgestreckte kammer fuer einen gaslaser mit queranregung |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4464760A (de) |
JP (1) | JPS6048918B2 (de) |
CA (1) | CA1198199A (de) |
DE (1) | DE3327257A1 (de) |
GB (1) | GB2126777B (de) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3422525A1 (de) | 1984-06-16 | 1986-02-13 | Trumpf GmbH & Co, 7257 Ditzingen | Gefalteter co(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts)-laser |
FR2579384A1 (fr) * | 1985-03-20 | 1986-09-26 | Lasertechnik Gmbh | Dispositif pour exciter une decharge dans un gaz laser |
EP0207455A2 (de) * | 1985-07-01 | 1987-01-07 | Siemens Aktiengesellschaft | Gaslaseranordnung |
EP0215458A2 (de) * | 1985-09-14 | 1987-03-25 | Trumpf GmbH & Co | Gas-Laser |
US4761787A (en) * | 1986-12-17 | 1988-08-02 | Siemens Aktiengesellschaft | Transversely excited waveguide laser |
EP0482225A1 (de) * | 1990-10-22 | 1992-04-29 | Siemens Aktiengesellschaft | Wellenleiterlaser |
DE3448212C2 (de) * | 1984-06-16 | 1993-03-18 | Trumpf Gmbh & Co, 7257 Ditzingen, De |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4577323A (en) * | 1983-09-06 | 1986-03-18 | United Technologies Corporation | U Channel waveguide laser |
US4596018A (en) * | 1983-10-07 | 1986-06-17 | Minnesota Laser Corp. | External electrode transverse high frequency gas discharge laser |
US4589114A (en) * | 1984-06-19 | 1986-05-13 | Sutter Jr Leroy V | Optical mode control for a gas laser |
US4648093A (en) * | 1984-09-06 | 1987-03-03 | Coherent, Inc. | Power supply for gas discharge lasers |
EP0183023B1 (de) * | 1984-11-24 | 1991-02-20 | Trumpf GmbH & Co | Gas-Laser mit Quereinkopplung von Hochfrequenzenergie |
CN85100563B (zh) * | 1985-04-01 | 1987-03-04 | 南京工学院 | 大功率氦氖激光器 |
US4633478A (en) * | 1985-06-17 | 1986-12-30 | Hughes Aircraft Company | High efficiency RF excited gas laser with transverse discharge excitation |
JPS6239083A (ja) * | 1985-08-14 | 1987-02-20 | Mitsubishi Electric Corp | ガスレ−ザ装置 |
US4737964A (en) * | 1985-11-12 | 1988-04-12 | Hughes Aircraft Company | RF discharge suppression in low pressure gas devices |
GB2185846B (en) * | 1986-01-24 | 1989-12-20 | Ferranti Plc | Ring laser |
GB2187881A (en) * | 1986-03-11 | 1987-09-16 | Komatsu Mfg Co Ltd | Silent discharge laser |
JPH0682875B2 (ja) * | 1986-10-15 | 1994-10-19 | フアナツク株式会社 | 高周波放電励起レ−ザ装置 |
GB8728829D0 (en) * | 1987-12-10 | 1988-01-27 | British Aerospace | Ring laser gyroscopes |
JPH01258482A (ja) * | 1988-04-08 | 1989-10-16 | Fanuc Ltd | ガスレーザ装置用放電管 |
JPH01286376A (ja) * | 1988-05-12 | 1989-11-17 | Fanuc Ltd | ガスレーザ装置用放電管 |
US4891819A (en) * | 1989-01-17 | 1990-01-02 | Sutter Jr Leroy V | RF excited laser with internally folded resonator |
DE3931082C2 (de) * | 1989-09-18 | 1996-05-30 | Tzn Forschung & Entwicklung | Gaslaser |
US4953174A (en) * | 1989-10-23 | 1990-08-28 | Hughes Aircraft Company | Preionization electrode for pulsed gas laser |
GB9024733D0 (en) * | 1990-11-14 | 1991-01-02 | Eev Ltd | Laser apparatus |
GB9607959D0 (en) * | 1996-04-17 | 1996-06-19 | Domino Printing Sciences Plc | Multi-channel RF-Excited gas discharge laser |
RU2679453C1 (ru) * | 2018-04-05 | 2019-02-11 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физический институт им. П.Н. Лебедева Российской академии наук (ФИАН) | Способ создания импульсного повторяющегося разряда в газе и устройство для его осуществления |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4112392A (en) * | 1975-09-17 | 1978-09-05 | Andersson Hans E B | Method and apparatus for producing laser pulses with high reproducibility |
US4169251A (en) * | 1978-01-16 | 1979-09-25 | Hughes Aircraft Company | Waveguide gas laser with high frequency transverse discharge excitation |
JPS5673484A (en) * | 1979-11-21 | 1981-06-18 | Mitsubishi Electric Corp | Voiceless discharge gas laser device |
US4363126A (en) * | 1980-12-10 | 1982-12-07 | United Technologies Corporation | Tuned-circuit RF-excited laser |
-
1982
- 1982-07-30 US US06/403,781 patent/US4464760A/en not_active Expired - Fee Related
-
1983
- 1983-07-25 GB GB08319974A patent/GB2126777B/en not_active Expired
- 1983-07-28 DE DE19833327257 patent/DE3327257A1/de not_active Withdrawn
- 1983-07-28 CA CA000433434A patent/CA1198199A/en not_active Expired
- 1983-07-30 JP JP58140437A patent/JPS6048918B2/ja not_active Expired
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3422525A1 (de) | 1984-06-16 | 1986-02-13 | Trumpf GmbH & Co, 7257 Ditzingen | Gefalteter co(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts)-laser |
DE3448212C2 (de) * | 1984-06-16 | 1993-03-18 | Trumpf Gmbh & Co, 7257 Ditzingen, De | |
FR2579384A1 (fr) * | 1985-03-20 | 1986-09-26 | Lasertechnik Gmbh | Dispositif pour exciter une decharge dans un gaz laser |
EP0207455A2 (de) * | 1985-07-01 | 1987-01-07 | Siemens Aktiengesellschaft | Gaslaseranordnung |
US4759029A (en) * | 1985-07-01 | 1988-07-19 | Siemens Aktiengesellschaft | Gas laser with different positional dependent mutual spacings between the electrodes |
EP0207455A3 (de) * | 1985-07-01 | 1988-12-07 | Siemens Aktiengesellschaft | Gaslaseranordnung |
EP0215458A2 (de) * | 1985-09-14 | 1987-03-25 | Trumpf GmbH & Co | Gas-Laser |
EP0215458A3 (en) * | 1985-09-14 | 1988-12-07 | Trumpf Gmbh & Co | Gas laser |
US4761787A (en) * | 1986-12-17 | 1988-08-02 | Siemens Aktiengesellschaft | Transversely excited waveguide laser |
EP0276443A2 (de) * | 1986-12-17 | 1988-08-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Quer angeregter Wellenleiter-Laser |
EP0276443A3 (en) * | 1986-12-17 | 1989-03-29 | Siemens Aktiengesellschaft Berlin Und Munchen | Transversely excited wave guide laser |
EP0482225A1 (de) * | 1990-10-22 | 1992-04-29 | Siemens Aktiengesellschaft | Wellenleiterlaser |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5943583A (ja) | 1984-03-10 |
GB2126777A (en) | 1984-03-28 |
GB8319974D0 (en) | 1983-08-24 |
GB2126777B (en) | 1986-09-24 |
US4464760A (en) | 1984-08-07 |
CA1198199A (en) | 1985-12-17 |
JPS6048918B2 (ja) | 1985-10-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3327257A1 (de) | Langgestreckte kammer fuer einen gaslaser mit queranregung | |
DE2952046C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung einer elektrischen Entladung in einem mit Überschallgeschwindigkeit strömenden Gas | |
DE69306424T2 (de) | Laser-Apparat | |
DE3310598A1 (de) | Gaslaser | |
DE2406290C2 (de) | Gas-Laser vom Wellenleitertyp | |
DE112005000288T5 (de) | Dielektrisch gekoppelter CO2-Plattenlaser | |
DE112005001820T5 (de) | Dielektrisch gekoppelter CO2-Plattenlaser | |
EP0468986A1 (de) | Gas-laser, insbesondere co2 - laser | |
EP0306506B1 (de) | Mikrowellengepumpter hochdruckgasentladungslaser | |
DE69128880T2 (de) | Beschleuniger für geladene Teilchen | |
EP0590346A1 (de) | Diffusionsgekühlter CO2-Bandleiterlaser mit reduzierter Zündspannung | |
DE2926119A1 (de) | Hochleistungs-gyro-einrichtung | |
DE4105053A1 (de) | Praeionisierter, transvers erregter laser | |
DE1008789B (de) | Ultrahochfrequenzoszillator unter Verwendung einer Magnetfeldroehre der Speichenrad-Bauart | |
DE1566030B1 (de) | Laufzeitr¦hre, insbesondere Klystron | |
DE3504403C2 (de) | Quer angeregter Wellenleiter-Laser | |
DE69624447T2 (de) | Gaslaser mit rechteckigem Entladungsraum | |
DE2939121A1 (de) | Gaslaser-entladungsgefaess | |
DE2442291C2 (de) | Gaslaser-Oszillator mit axialem Gasdurchfluss | |
DE3933619C2 (de) | Vorrichtungen zur elektrischen Anregung eines Gases mit Mikrowellenenergie | |
DE69527109T2 (de) | Gaslaser mit Mikrowellenanregung | |
DE2109893C2 (de) | Laser | |
EP0272429B1 (de) | Gastransportlaser | |
DE69111647T2 (de) | Lasersystem mit mehreren radialen Entladungskanälen. | |
DE3134583A1 (de) | Gyrotron-hohlraumresonator |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8141 | Disposal/no request for examination |