DE3311954C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein zweistrahliges Spektralfotometer
gemäß Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Ein solches Spektralfotometer ist aus der DE-OS 26 06 675
bekannt.
Ein derartiges Spektralfotometer hat eine Integrationskugel
mit zwei Öffnungen zum Anbringen je einer Meßprobe und
eines Standards, zwei Öffnungen zum Einleiten von Licht zur
Bestrahlung der beiden Proben sowie eine Öffnung zur
bündigen Aufnahme eines Detektors. Durch die Integrationskugel
verlaufen die einfallenden Lichtstrahlen durch
das Zentrum und fallen unter 90° auf die Proben auf. Es
gibt zwei Verfahren zur Messung des von der Fläche eines
Objektes reflektierten Lichts unter Verwendung einer
Integrationskugel. Ein Verfahren soll nur den diffusen
Reflexionsanteil messen, das andere Verfahren das gesamt
reflektierte Licht, das sowohl den diffus reflektierten als
auch den direkt reflektierten Anteil enthält. Bei der
Durchführung dieser beiden Meßverfahren mit einem
herkömmlichen Spektralfotometer, das eine einzige
Integrationskugel hat, ist ein zusätzlicher Bauaufwand
nötig. Um beide Messungen an einer Integrationskugel
durchführen zu können, muß ein zusätzliches Bauteil an
einer der Probenöffnungen angeordnet werden. Ein weiterer
Nachteil ist, daß ein Teil des zur Messung benötigten reflektierten
Lichtes an diesem zusätzlichen Bauteil reflektiert
wird und die Messung verfälscht.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Spektralfotometer
gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1
zu schaffen, bei dem zur Durchführung beider Messungen kein
zusätzlicher Bauaufwand betrieben werden muß.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale im
kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1 gelöst.
Anmeldungsgemäß braucht kein zusätzliches Bauteil an einer
Probenöffnung der Integrationskugel angebracht bzw. ausgetauscht
werden. Die Lage einer der Eintrittsöffnungen ist
so gewählt, daß der zugehörige Lichtstrahl schräg auf die
zugehörige Probe auftrifft. Zur Durchführung beider Messungen
müssen lediglich die beiden Proben ausgetauscht werden.
Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung
sind eine Öffnung des ersten Paars und die entsprechende
des zweiten Paars so angeordnet, daß eine gerade Linie,
die den Mittelpunkt der ersten und den der zweiten dieser
entsprechenden Öffnung verbindet, nicht durch den Mittelpunkt
der Integrationskugel geht. Durch diese außermittige
Anordnung trifft der durch diese zweite Öffnung in die
Integrationskugel eintretende Lichtstrahl schräg auf die
Meßprobe bzw. den Standard in dieser ersten Öffnung auf.
Die Meßprobe (bzw. das Muster) und der Standard (bzw. das Bezugsmuster) im ersten Paar der Öffnungen
wird je nach Art der Messung vertauscht. In anderen Worten:
Die Lagen des Musters und des Bezugsmusters an der
Integrationskugel beim Messen lediglich des diffusen Anteils
des vom Muster reflektierten Lichts werden vertauscht,
wenn das gesamte reflektierte Licht einschließlich
sowohl des diffusen als auch des direkten Reflexionsanteils
gemessen werden soll.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden anhand schematischer
Zeichnungen nachstehend näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1a eine Schnittansicht einer erfindungsgemäßen Integrationskugel,
die zur Messung lediglich des diffusen
Reflexionsanteils des von einem Muster
reflektierten Lichts verwendet wird,
Fig. 1b eine Schnittansicht der Integrationskugel gemäß
Fig. 1a, die zur Messung sowohl des diffusen
als auch direkten Reflexionsanteils des von
einem Muster reflektierten Lichts verwendet
wird,
Fig. 2a eine Fig. 1a ähnliche Ansicht einer etwas veränderten
Integrationskugel,
Fig. 2b eine Fig. 1b ähnliche Ansicht der etwas veränderten
Integrationskugel gemäß Fig. 2 und
Fig. 3 ein Aufbaudiagramm des erfindungsgemäßen zweistrahligen
Spektralfotometers mit der Integrationskugel
gemäß den Fig. 1a und 1b.
Fig. 1a zeigt ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen
Integrationskugel IS. Sie ist mit einer Öffnung
W₁, in der ein Muster S abnehmbar angebracht ist, und
einer Öffnung W₂ versehen, in der ein Bezugsmuster R
ebenfalls abnehmbar angebracht ist. Diametral gegenüber
der Öffnung W₁ befindet sich eine Eintrittsöffnung
WI₁, durch welche ein Lichtstrahl LS in die Integrationskugel
eintritt und senkrecht auf die innere Fläche des
Musters S in der Öffnung W₁ fällt.
Der direkte Reflexionsanteil des vom Muster S reflektierten
Lichts geht durch die Eintrittsöffnung WI₁ und
wird somit nicht bestimmt.
Diametral gegenüber und seitlich versetzt zur Öffnung
W₂ befindet sich in der Kugel IS eine weitere Eintrittsöffnung
WI₂, durch welche ein Bezugslichtstrahl LR in
die Kugel eintritt und schräg auf das in der Öffnung W₂
befindliche Bezugsmuster R fällt. Falls das von der Fläche
des Bezugsmusters R reflektierte Licht einen direkten
Reflexionsanteil enthält, ist es unmöglich, diesen Anteil
zu entfernen. Das Bezugsmuster R ist jedoch nur deshalb
vorgesehen, um ein Signal zur Korrektur der Zeitbasis
des aus der Messung des Musters S erhaltenen Signals
zu bekommen. Für diesen Zweck muß das Bezugsmuster R nur
der Wellenlängencharakteristik der Lichtquelle und der
Drift des messenden elektrischen Schaltkreises entsprechen.
Deshalb ist es nicht erforderlich, den direkten
Reflexionsanteil des vom Bezugsmuster R reflektierten
Lichts zu eliminieren. Die Kugel IS ist ferner mit einer
Austrittsöffnung WO versehen, an deren Außenseite ein
Fotodetektor (nicht gezeigt) zum Empfang des aus der Innenseite
der Kugel austretenden Lichts angeordnet ist.
In Fig. 1b sind die Lagen des Bezugsmusters R und des
Musters S bezüglich Fig. 1a vertauscht, so daß sich das
Muster S in der Öffnung W₂ und das Bezugsmuster R in der
Öffnung W₁ befindet. Bei dieser Anordnung tritt der
Strahl LS für das Muster durch die Eintrittsöffnung WI₂
in die Integrationskugel IS ein und trifft schräg auf
dem Muster F auf, so daß der direkte Reflexionsanteil
des vom Muster reflektierten Lichts auf die innere Fläche
der Integrationskugel fällt. Dies bedeutet, daß das gesamte
vom Muster reflektierte Licht, das sowohl den diffusen
als auch den direkten Reflexionsanteil enthält,
gemessen wird.
In Fig. 1b fällt der Bezugslichtstrahl LR senkrecht auf
das Bezugsmuster R auf, so daß dessen direkter Reflexionsanteil
durch die Eintrittsöffnung WI₁ austritt. Aus
dem gleichen Grund wie oben erwähnt hat dies keinen
schädlichen Einfluß auf die Korrektion der Zeitbasis.
In Fig. 3 ist schematisch ein Zweistrahl-Spektralfotometer
dargestellt, das die Integrationskugel IS gemäß den
Fig. 1a und 1b aufweist. Eine Lichtquelle L sendet Licht
in einem Bereich der messenden Wellenlängen aus. Ein
Monochromator M empfängt dieses Licht und erzeugt ein
monochromatisches Licht mit ausgewählter Wellenlänge, das
von einem Spiegel M₁ auf einen Strahlteiler reflektiert
wird, der einen drehbaren Sektorspiegel SM umfaßt, der
als Zerhacker dient und von einem geeigneten Antrieb DR
angetrieben wird.
Durch die Drehung des Sektorspiegels SM verläuft das monochromatische
Licht wechselweise entlang eines ersten und
zweiten optischen Wegs. Der erste optische Weg und der
dazugehörende Lichtstrahl sind gemeinsam mit Bezugszeichen
L₁ versehen, während der zweite optische Weg und
der dazugehörende Lichtstrahl mit Bezugszeichen L₂ versehen
sind.
Das durch den Sektorspiegel SM hindurchgehende Licht wird
von den Spiegeln M₄, M₅ und M₆ reflektiert und tritt daher
durch die Eintrittsöffnung WI₁ in die Integrationskugel
IS ein. Das vom Sektorspiegel SM reflektierte Licht
L₂ wird weiter von den Spiegeln M₂ und M₃ reflektiert
und tritt dadurch abwechselnd mit dem durch die Eintrittsöffnung
WI₁ eintretenden Lichtstrahl L₁ durch die Eintrittsöffnung
WI₂ in die Integrationskugel ein.
Ein Fotodetektor PD deckt die Öffnung WO der Integrationskugel
ab und empfängt das aus dieser austretende
Licht. Der Fotodetektor kann z. B. eine Fotomultiplikationsröhre
sein, deren Ausgangssignal an einen Vorverstärker
PA angelegt ist, dessen Ausgangssignal durch ein
nachfolgendes paralleles Paar von Schaltern SWR und SWS
an ein paralleles Paar von Signalspeicherschaltkreisen
HR und HS angelegt ist.
Das Ausgangssignal des Speicherschaltkreises HR wird
durch einen negativen Hochspannungsschaltkreis NV zum
Fotodetektor PD zurückgeführt, um dessen Empfindlichkeit
abzustimmen, wodurch sein vom Bezugsstrahl erzeugtes Ausgangssignal
konstant gehalten wird. Das Ausgangssignal
des Signalspeicherschaltkreises HS entspricht dem bei
der Messung durch das vom Muster reflektierte Licht erzeugten
Ausgangssignals des Fotodetektors PD und ist
durch einen Analog/Digitalumwandler AD an einen Computer
CP angelegt, dessen Ausgangssignal durch einen Digital/
Analogwandler DA an einem Aufzeichengerät RD anliegt
und dadurch aufgezeichnet wird.
Wie zuvor erwähnt, werden die Lage des Bezugsmusters R
und des Musters S an der Integrationskugel in Abhängigkeit
der Art der Messung, die durchgeführt werden soll,
vertauscht, d. h. ob das gesamte vom Muster reflektierte
Licht oder nur der diffuse Anteil gemessen werden soll,
wobei in Abhängigkeit der Lage des Musters und des Bezugsmusters
an der Integrationskugel bestimmt wird, welcher
der Strahlen des ersten und zweiten optischen Wegs
L₁ und L₂ der Bezugs- bzw. Musterstrahl wird. Es ist erforderlich,
daß unabhängig davon, welcher der beiden
Lichtstrahlen entlang welchem optischen Weg läuft, das
vom Lichtstrahl für das Bezugsmuster erzeugte Ausgangssignal
des Fotodetektors PD immer an den Signalspeicherschaltkreis
HR angelegt ist, während das vom Musterlichtstrahl
erzeugte Ausgangssignal des Fotodetektors PD immer
an den Signalspeicherschaltkreis HS angelegt ist.
Um diese Anforderung zu erfüllen, betätigt ein Schaltersteuergerät
SC in Abhängigkeit eines Synchron-Signalerzeugers
GE die Schalter SWR und SWS auf folgende Weise,
um wechselseitiges Öffnen und Schließen zu bewirken:
Es sei angenommen, daß das Muster S und das Bezugsmuster R in den Öffnungen W₁ und W₂ der Integrationskugel IS gemäß Fig. 1a angebracht sind, um nur den diffusen Reflexionsanteil des vom Muster reflektierten Lichts zu messen, so daß der Lichtstrahl im ersten bzw. zweiten optischen Weg L₁ bzw. L₂ der Muster- bzw. Bezugslichtstrahl ist.
Es sei angenommen, daß das Muster S und das Bezugsmuster R in den Öffnungen W₁ und W₂ der Integrationskugel IS gemäß Fig. 1a angebracht sind, um nur den diffusen Reflexionsanteil des vom Muster reflektierten Lichts zu messen, so daß der Lichtstrahl im ersten bzw. zweiten optischen Weg L₁ bzw. L₂ der Muster- bzw. Bezugslichtstrahl ist.
Der Signalerzeuger GE arbeitet synchron mit der Drehung
des Sektorspiegels SM und erzeugt dadurch wechselweise
ein erstes Signal SL₁, während der Sektorspiegel SM den
Eintritt des Lichtstrahls für das Muster im ersten optischen
Weg L₁ in die Integrationskugel und das Auftreffen
auf das Muster S gestattet, und ein zweites Signal SL₂,
während der Sektorspiegel SM ein Eintreten des Bezugsstrahls
im zweiten optischen Weg L₂ in die Integrationskugel
und Auftreffen auf das Bezugsmuster R zuläßt.
Das Schaltersteuergerät SC beinhaltet ein Paar von Schaltern
K₁ und K₂, die jeweils ein Paar feststehender Kontakte
K1R und K1S sowie K2R und K2S haben. In Abhängigkeit
der Lagen des Musters S und des Bezugsmusters R bestimmt
der Computer CP, durch welchen der feststehenden
Kontakte jeder der Schalter K₁ und K₂ geschlossen sein
soll, wobei im Beispiel gemäß Fig. 1a (das Muster S bzw.
Bezugsmuster R befindet sich in der Öffnung W₁ bzw. W₂)
die Schalter K₁ bzw. K₂ durch K1S und K2R geschlossen
sind. Deshalb schließt das während dem Einfall des Strahls
L₁ auf das Muster S erzeugte Steuersignal SL₁ den Schalter
SWS, während der andere Schalter SWR gleichzeitig
offen ist, so daß das vom Lichtstrahl L₁ des Musters erzeugte
Ausgangssignal des Fotodetektors PD über den geschlossenen
Schalter SWS an den Signalspeicherschaltkreis
HS angelegt ist; das abwechselnd mit dem Signal SL₁ während
dem Einfallen des Strahls L₂ auf das Bezugsmuster
R erzeugte Steuersignal SL₂ schließt den Schalter SWR,
wobei der andere Schalter SWS gleichzeitig geöffnet wurde,
so daß das durch den Bezugslichtstrahl L₂ erzeugte
Ausgangssignal des Fotodetektors PD über den geschlossenen
Schalter SWR an den Signalspeicherschaltkreis HR
angelegt ist.
Wenn das vom Muster gesamte reflektierte Licht gemessen
werden soll, werden die Lagen des Musters S und des Bezugsmusters
R in Fig. 1a vertauscht, so daß das Muster
S bzw. das Bezugsmuster R in der Öffnung W₂ bzw. W₁ sitzt,
wie in Fig. 1b gezeigt. Der Computer schließt dann die
Schalter K₁ und K₂ an den gegenüberliegenden Seiten K1R
und K2S, wie in gestrichelten Linien dargestellt ist.
In diesem Fall wird der Strahl auf dem ersten optischen
Weg L₁ der Bezugs- und der Strahl auf dem zweiten optischen
Weg L₂ der Musterlichtstrahl. Deshalb schließt das
während des Einfalls des Bezugslichtstrahls L₁ auf das
Bezugsmuster R erzeugte Steuersignal SL₁ den Schalter
SWR, wobei der andere Schalter SWS gleichzeitig geöffnet
wird; das abwechselnd mit dem Steuersignal SL₁ während
des Auftreffens des Strahls L₂ auf das Muster F erzeugte
Steuersignal SL₂ schließt den Schalter SWS, wobei der
andere Schalter SWR gleichzeitig geöffnet wurde.
Ein anderes Ausführungsbeispiel der Integrationskugel
ist in den Fig. 2a und 2b dargestellt, wobei gleiche Bezugszeichen
wie in Fig. 1a und 1b entsprechende Teile
bezeichnen.
In den Fig. 2a und 2b treten die beiden Strahlen LR und
LS so in die Integrationskugel IS ein, daß sie sich senkrecht
schneiden, und die Öffnungen W₁ und W₂, in denen
das Muster S und das Bezugsmuster R sitzen, sind so angeordnet,
daß die Ebene einer der Öffnungen, z. B. W₁, senkrecht
zum einfallenden Lichtstrahl ist, während die Ebene
der anderen Öffnung W₂ relativ zum darauf einfallenden
Lichtstrahl geneigt oder schräg ist.
Wenn lediglich die diffuse Reflexionskomponente des von
einem Muster S reflektierten Lichts gemessen werden soll,
wird das Muster in der Öffnung W₁ angebracht, während
ein Bezugsmuster R in der anderen Öffnung W₂ gemäß Fig.
2a angebracht wird. Wenn das vom Muster gesamt reflektierte
Licht einschließlich des diffusen und direkt reflektierten
Anteils gemessen werden soll, wird das Muster
S in der Öffnung W₂ und das Bezugsmuster R in der Öffnung
W₁ gemäß Fig. 2b angeordnet.
Die Integrationskugel IS gemäß den Fig. 2a und 4b kann
in der Anordnung gemäß Fig. 3 auf die gleiche wie zuvor
erwähnte Art und Weise verwendet werden.
Bei der Anordnung gemäß Fig. 3 treten der Bezugs- und
Musterlichtstrahl durch die Eintrittsöffnungen in die Integrationskugel
ein, während der Fotodetektor neben der
Austrittsöffnung WO angeordnet ist. Es ist möglich, die
Positionen der Lichtquelle und des Fotodetektors zu vertauschen,
so daß das Licht von der Lichtquelle durch
die einzige Öffnung WO in die Integrationskugel eintritt
und der Muster- und Bezugslichtstrahl durch die Öffnungen
WI₁ und WI₂ abgenommen werden. Diese Anordnung ist nützlich
zur Messung fluoreszierender Stoffe oder zur Vermeidung
des nachteiligen Einflusses der Strahlung eines beheizten
Musters, wenn zur Messung Licht im oder in der
Nähe des Infrarotbereichs verwendet wird.
Wie aus der vorstehenden Beschreibung ersichtlich ist,
besteht der Grundgedanke der Erfindung darin, daß das
durch Messung des Bezugsmusters erhaltene Ausgangssignal
nur auf die Fluktuation der Lichtquellen oder die Drift
des messenden elektrischen Schaltkreises ansprechen muß
und es nichts ausmacht, ob der Lichtstrahl senkrecht oder
schräg auf das Bezugsmuster auftrifft, oder ob der direkte
Reflexionsanteil des vom Bezugsmuster reflektierten
Lichts eliminiert wird oder nicht. Deshalb ist die erfindungsgemäße
Integrationskugel mit zwei Öffnungen zur Aufnahme
eines Musters und eines Bezugsmusters versehen,
und der Muster- bzw. Bezugslichtstrahl fällt senkrecht
auf die Ebene der einen Öffnung und schräg auf die Ebene
der anderen Öffnung auf. Die Lage des Musters und des
Bezugsmusters werden in Abhängigkeit der Art der durchzuführenden
Messung vertauscht.
Bei dieser erfindungsgemäßen Anordnung ist es nicht mehr
erforderlich,
an die Integrationskugel ein zusätzliches
Bauteil anzubringen bzw. zu entfernen. Die Erfindung
löst auch das Problem, daß sich die optische Charakteristik
eines zusätzlichen Bauteils mit der Zeit ändert und daß das
zusätzliche Bauteil wahrscheinlich während der Messung einen
Teil der diffus reflektierten Komponente des vom Muster
reflektierten Lichts abblendet. Es ist vorteilhaft möglich,
sowohl das Muster als auch das Bezugsmuster dicht
an der inneren Fläche der Integrationskugel anzuordnen.
Bei der vorstehenden Beschreibung enthält das gesamte
vom Muster reflektierte Licht immer sowohl den diffus
reflektierten als auch direkt reflektierten Anteil. Falls
das Muster einem aufgedampften Spiegel ähnlich ist, dessen
reflektiertes Licht geringen oder keinen diffusen
Anteil enthält, ist es möglich, durch Messung des gesamten
vom Muster reflektierten Lichts den direkten Reflexionsanteil
zu messen.
Claims (4)
1. Zweistrahliges Spektralfotometer mit einer Einrichtung
zur Bildung eines ersten und zweiten Lichtstrahls, einer
Integrationskugel mt einem ersten Paar von Öffnungen,
in denen ene Meßprobe und ein Standard anordbar sind, und
mit einem zweiten Paar von Öffnungen zum Einleiten der
Lichtstrahlen zur Bestrahlung der Meßprobe und des Standards
und einer Einrichtung zur Messung des aus der Integrationskugel
austretenden Lichts, dadurch gekennzeichnet,
daß Meßprobe (S) und Standard (R) austauschbar sind und daß
entweder der erste (L₁) oder der zweite (L₂) Lichtstrahl
senkrecht auf die Meßprobe (S) oder den Standard (R)
trifft, während der andere Lichtstrahl schräg auf den Standard
(R) oder die Meßprobe (S) trifft.
2. Zweistrahliges Spektralfotometer nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß eine der Öffnungen des zweiten Paars (WI₁,
WI₂) der Integrationskugel diametral gegenüber einer Öffnung
des ersten (W₁, W₂) Paars angeordnet ist, während die andere
Öffnung des zweiten Paars (WI₁, WI₂) seitlich versetzt diametral
gegenüber der anderen Öffnung des ersten Paars (W₁, W₂)
angeordnet ist.
3. Zweistrahliges Spektralfotometer nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zur Bildung eines
ersten und zweiten Lichtstrahls eine Einrichtung (M) zur
Erzeugung eines monochromatischen Lichtstrahls und einen
Strahlteiler (SM) zur Aufteilung des monochromatischen Lichtstrahls
in den ersten (L₁) und zweiten (L₂) Lichtstrahl umfaßt.
4. Zweistrahliges Spektralfotometer nach einem der Ansprüche 1
bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zur Messung
des aus der Integrationskugel austretenden Lichts einen Photodetektor
(PD), der ein Ausgangssignal erzeugt, einen mit dem
Photodetektor (PD) verbundenen Rückkopplungsschaltkreis (PA,
NV), eine mit dem Photodetektor verbundene Signalverarbeitungseinrichtung
(HR, HS) und eine Schalteinrichtung (SWR,
SWS, SC) umfaßt, wobei die Schalteinrichtung (SWR, SWS, SC) in
Verbindung mit dem Strahlteiler (SM) betätigt wird, um
abwechselnd das Ausgangssignal, wenn entweder der erste (L₁)
oder zweite (L₂) Lichtstrahl auf die Meßprobe (S) auftrifft,
an die Signalverarbeitungseinrichtung (HR, HS) anzulegen oder
um das Ausgangssignal, wenn der andere der beiden Lichtstrahlen
auf den Standard (R) auftrifft, an den Rückkopplungsschaltkreis
(PA, NV) anzulegen, wodurch die Empfindlichkeit
des Photodetektors (PD) konstant gehalten wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57151046A JPS5940144A (ja) | 1982-08-30 | 1982-08-30 | 積分球式複光束反射測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3311954A1 DE3311954A1 (de) | 1984-03-01 |
DE3311954C2 true DE3311954C2 (de) | 1992-02-06 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19833311954 Granted DE3311954A1 (de) | 1982-08-30 | 1983-03-31 | Zweistrahliges spektralfotometer |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4540281A (de) |
JP (1) | JPS5940144A (de) |
DE (1) | DE3311954A1 (de) |
GB (1) | GB2128359B (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102016225808A1 (de) * | 2016-11-11 | 2018-05-17 | Bwt Property, Inc. | Lichtabgabe- und Sammelvorrichtung zum Messen einer Raman-Streuung einer Probe |
DE102010001189B4 (de) | 2010-01-25 | 2021-08-19 | BAM Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung | Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Photolumineszenzquantenausbeute und weiterer optischer Eigenschaften einer Probe |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6276433A (ja) * | 1985-09-30 | 1987-04-08 | Shimadzu Corp | 分光光度計における積分球測定装置 |
JPH0799326B2 (ja) * | 1986-08-30 | 1995-10-25 | 株式会社マキ製作所 | 球塊状物品の外観検査方法と装置 |
DE4009334C2 (de) * | 1990-03-23 | 2000-11-23 | Perkin Elmer Bodenseewerk Zwei | Beleuchtungsanordnung zur Beaufschlagung eines Photomultipliers bei einem Zweistrahlphotometer |
US5369481A (en) * | 1992-05-08 | 1994-11-29 | X-Rite, Incorporated | Portable spectrophotometer |
DE4423698A1 (de) * | 1994-06-24 | 1996-01-04 | Ingo Hennig | Meßanordnung zur optoelektronischen Bestimmung des gerichteten und gestreuten Anteils der Reflexion von Körperoberflächen |
CA2199868C (en) * | 1994-09-14 | 2000-05-16 | David R. Bowden | Compact spectrophotometer |
EP0781401B1 (de) * | 1994-09-14 | 2004-11-24 | X-Rite, Inc. | Abtastkolorimeter |
US5898181A (en) * | 1995-06-30 | 1999-04-27 | Hdi Instrumentation | Thin film optical measurement system |
US5726455A (en) * | 1995-06-30 | 1998-03-10 | Stormedia, Inc. | Disk film optical measurement system |
JP3353560B2 (ja) * | 1995-08-24 | 2002-12-03 | ミノルタ株式会社 | 反射特性測定装置 |
WO1997041417A1 (en) * | 1996-05-02 | 1997-11-06 | The United States Of America, Represented By The Secretary Of Commerce | Method and apparatus for artificial weathering |
JP2001272272A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-10-05 | Ushikata Shokai:Kk | 光のモニター |
CN102657510B (zh) * | 2012-05-04 | 2014-12-03 | 中国计量科学研究院 | 一种产生照度和颜色观察目标的装置 |
CN102645275B (zh) * | 2012-05-04 | 2014-07-02 | 中国计量科学研究院 | 一种产生对比度和色差观察目标的装置 |
CN105928906B (zh) * | 2016-06-20 | 2018-09-18 | 中国工程物理研究院流体物理研究所 | 一种随温度变化的材料反射率动态测量***以及测量方法 |
US10119917B2 (en) | 2016-11-11 | 2018-11-06 | B & W Tek LLC | Apparatus and method for bidirectional Raman spectroscopy |
US10126244B2 (en) | 2016-11-11 | 2018-11-13 | B&W Tek Llc | Apparatuses and methods for performing spectroscopic analysis of a subject |
US10113969B2 (en) | 2016-11-11 | 2018-10-30 | B&W Tek Llc | Methods and devices for measuring Raman scattering of a sample |
WO2024025871A1 (en) * | 2022-07-26 | 2024-02-01 | Mississippi State University | Methods and systems for integrating-sphere-assisted resonance synchronous (isars) spectroscopy |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2515762A (en) * | 1950-07-18 | Commutator for spectrophotometer | ||
US2347067A (en) * | 1942-02-13 | 1944-04-18 | American Cyanamid Co | Spectrophotometer attachment for absorbing specular reflection |
US2992588A (en) * | 1958-02-03 | 1961-07-18 | Beckman Instruments Inc | Photometer reflectance unit |
DE1921432A1 (de) * | 1969-04-26 | 1970-11-12 | Licentia Gmbh | Reflexionsgradmesser |
DE2606675C3 (de) * | 1976-02-19 | 1979-02-22 | Vladimir Dipl.-Ing. 5100 Aachen Blazek | Anordnung zur spektralanalytischen Untersuchung des Remissionsvermögens einer Probe |
DE2950139A1 (de) * | 1979-12-13 | 1981-06-19 | Bodenseewerk Perkin-Elmer & Co GmbH, 7770 Überlingen | In den probenraum eines spektralphotometers einsetzbares zusatzgeraet fuer remissions- oder fluoreszenzmessungen |
JPS582641U (ja) * | 1981-06-29 | 1983-01-08 | 株式会社島津製作所 | 分光光度計 |
-
1982
- 1982-08-30 JP JP57151046A patent/JPS5940144A/ja active Granted
-
1983
- 1983-03-17 GB GB08307375A patent/GB2128359B/en not_active Expired
- 1983-03-21 US US06/477,523 patent/US4540281A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-03-31 DE DE19833311954 patent/DE3311954A1/de active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102010001189B4 (de) | 2010-01-25 | 2021-08-19 | BAM Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung | Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Photolumineszenzquantenausbeute und weiterer optischer Eigenschaften einer Probe |
DE102016225808A1 (de) * | 2016-11-11 | 2018-05-17 | Bwt Property, Inc. | Lichtabgabe- und Sammelvorrichtung zum Messen einer Raman-Streuung einer Probe |
US10119916B2 (en) | 2016-11-11 | 2018-11-06 | B&W Tek Llc | Light delivery and collection device for measuring Raman scattering of a sample |
DE102016225808B4 (de) | 2016-11-11 | 2023-09-21 | B&W Tek Llc | Lichtabgabe- und Sammelvorrichtung zum Messen einer Raman-Streuung einer Probe |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2128359B (en) | 1986-11-12 |
US4540281A (en) | 1985-09-10 |
GB8307375D0 (en) | 1983-04-27 |
DE3311954A1 (de) | 1984-03-01 |
JPS6329210B2 (de) | 1988-06-13 |
JPS5940144A (ja) | 1984-03-05 |
GB2128359A (en) | 1984-04-26 |
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