DE3307661A1 - Verfahren zum herstellen von scheiben mit hohem transmissionsverhalten im sichtbaren spektralbereich und mit hohem reflexionsverhalten fuer waermestrahlung - Google Patents

Verfahren zum herstellen von scheiben mit hohem transmissionsverhalten im sichtbaren spektralbereich und mit hohem reflexionsverhalten fuer waermestrahlung

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Klaus Dr.-Phys. 6451 Ronneburg Hartig
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Michael Dr.-Phys. 6458 Rodenbach Scherer
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Description

83505 - 4
LEYBOLD-HERAEUS GmbH
Bonner Straße 504
5000 Köln - 51
11 Verfahren zum Herstellen von Scheiben mit hohem Tr.ansmis'sionsverhalten im sichtbaren Spektralbereich und mit hohem Reflexionsverhalten für Wärmestrahlung "
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von Scheiben mit hohem Transmissionsverhalten im sichtbaren Spektralbereich und mit hohem Reflexionsverhalten für Wärmestrahlung durch Beschichtung von transparenten Substraten durch Katodenzerstäubung mit einer ersten Oxidschicht aus der Gruppe Indiumoxid, Zinnoxid und deren Mischoxide, mit einer zweiten Schicht aus Silber mit einer Dicke von 5 bis 15 nm, und mit einer weiteren Oxidschicht aus der Gruppe Indiumoxid, Zinnoxid und deren Mischoxide.
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Derartige Scheiben sollen einen möglichst großen Anteil des sichtbaren Lichts durchlassen und einen möglichst großen Anteil der Wärmestrahlung in demjenigen Raum zurückhalten, der nach außen hin durch die betreffende Scheibe begrenzt wird. Diese Maßnahme soll insbesondere im Winter verhindern, daß teure Heizenergie nach außen hin abgestrahlt wird. Hierbei muß man sich vor Augen halten, daß eine unbeschichtete Fensterscheibe gegenüber der Wärmestrahlung wie eine Öffnung wirkt..Derartige bekannte Schichtsysteme werden daher auch im internationalen Sprachgebrauch als "low-E-Schichten" bezeichnet.
Durch die DE-AS 22 21 472 ist die Herstellung einer wärmedämmenden Verglasung durch Vakuumaufdampfen unter anderem von Silber und Aluminium bekannt, wobei bereits durch die Silberschicht eine Verminderung des Transmissionskoeffizienten um 25 bis 75 % erzielt werden soll und wobei durch die Aluminiumschicht eine erneute Verminderung des Transmissionskoeffizienten um 20 bis 50 % bewirkt werden soll. Derartige Schichten haben kein hohes Transmissionsverhalten im sichtbaren Bereich, und die Dicken von Silberschicht und Aluminiumschicht liegen merklich oberhalb 50 nm. Es handelt sich also um ausgesprochen "dicke" Metallschichten. Infolge der Herstellung durch Aufdampfen verändert sich die Aluminiumschicht während des Herstellprozesses nicht merk!ich, auch dann nicht wenn man auf das Schichtsystem aus Silber-Aluminium nachträglich noch eine Oxidschicht aufdampft.
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Durch die DE-OS 24 07 363 ist ein Verfahren zur Herstellung einer halbreflektierenden Verglasung bekannt, die gleichfalls kein hohes Transmissionsverhalten im sichtbaren Spektralbereich besitzt. Bei der Herstellung werden Metallschichten, darunter Silber, unmittelbar auf der Glasscheibe niedergeschlagen, und anschliessend wird z.B. auf der Silberschicht eine Oxidschicht als Schutzschicht durch Katodenzerstäubung niedergeschlagen* Es hat sich jedoch gezeigt, daß mit einem derartigen Herstellverfahren kein ausreichend hohes Transmissionsverhalten erzielt werden kann, worunter ein Maximum der gemessenen Transmissionskurve von mindestens 80 %., vorzugsweise von mindestens 85 %, zu verstehen ist.
Durch die DE-OS 31 30 857 ist es bekannt, bei der Herstellung von Wärmedämmscheiben eine Silberschicht zwischen zwei Oxidschichten einzubetten, die aus einem der Materialien Bleioxid, Antimonoxid, Telluroxid oder einer Mischung oder Legierung dieser Materialien bestehen. Sämtliche Schichten sollen dabei durch Katoden-Zerstäubung aufgebracht werden. Es hat sich jedoch gezeigt, daß auch mit einem derartigen Schichtsystem nicht das gewünschte hohe Transmissionsverhalten im sichtbaren Spektralbereich erzielt werden kann. Es wurde nämlich beobachtet, daß bei einem ausreichend hohen Reflexionsverhalten im Bereich der Wärmestrahlung das Transmissionsverhalten aufgrund einer entsprechenden Absorption abnahm, wobei auch noch eine Lichtdispersion bei hohem Silberverbrauch pro Flächeneinheit beobachtet werden konnte.
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Die eigentlich wirksame Schicht für eine hohe Wärmereflexion ist die Silberschicht. Diese, sollte daher möglichst dünn und mit äußerst gleichmäßiger Schichtdickenverteilung aufgetragen werden. Untersuchungen unter dem Elektronenmikroskop haben gezeigt, daß diese Forderung durch einen Katodenzerstäubungsprozeß auch durchaus zu erfüllen ist, jedenfalls bis zum Auftragen der ersten Oxidschicht und der Silberschicht. Elektronenmikroskopische Aufnahmen zeigen bis zu diesem Zeitpunkt eine geschlossene Silberschicht von gleichmäßiger Dicke. Auch die optischen Eigenschaften eines solchen Zwei-Schichten-Systems waren durchaus gut, wenn man einmal von dem Einfluß der fehlenden letzten Oxid- oder Schutzschicht absieht. Sobald nun diese letzte Oxidschicht durch Katodenzerstäubung aufgebracht wurde, zeigte sich eine abrupte Verschlechterung der optischen Eigenschaften, indem nämlich sowohl das Transmissions- als auch das Reflexionsverhalten deutlich schlechter wurde. Um nun das Reflexionsverhalten für die Wärmestrahlung wieder auf den gewünschten Wert anzuheben, wurde die Silbermenge pro Flächeneinheit erhöht, wodurch das Transmissionsverhalten sich weiter verschlechterte.
Untersuchungen eines derartigen Schichtsystems unter dem Elektronenmikroskop haben zu dem Ergebnis geführt, daß die Silberschicht, ganz offensichtlich unter dem Einfluß des Katodenzerstäubungsprozesses beim Aufbringen der letzten Oxidschicht, ihre Geschlossenheit verlor und sich zu einer Art tröpfchenförmiger Silberinseln zusammenzog. Dieser Effekt wurde auch durch
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Messungen des elektrischen FTächenwiderstandes der Schicht bestätigt: Beim Aufbringen der letzten Oxidschicht stieg der Flächenwiderstand auf ein Mehrfaches seines ursprünglichen Wertes. Selbst eine erhebliche Ver-Stärkung der Silberschicht führte zu keinem Schliessen der Zwischenräume zwischen den "Silberinseln", sondern letztendlich zu einer Trübung der Schicht, die ganz offensichtlich auf eine Lichtstreuung zurückzuführen ist. Es steht zu vermuten, daß die Ursache für das Aufreissen der Silberschicht in der reaktiven Glimmentladung beim Aufbringen der letzten Oxidschicht zu suchen ist.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs beschriebenen Art dahingehend zu verbessern, daß sowohl das Transmissionsverhalten im sichtbaren Spektralbereich als auch das Reflexionsverhalten im Bereich der Wärmestrahlung einen hohen und vor allem äußerst gleichmäßigen Wert bei möglichst geringem Silbergehalt pro Flächenelement der beschichteten Scheibe aufweisen. Vereinfacht ausgedrückt geht es also darum, das nachträgliche Aufreissen der Silberschicht während des Aufbringen^ der letzten Oxidschicht durch Katodenzerstäubung zu verhindern oder zumindest stark zu unterdrücken.
Die Lösung der gestellten Aufgabe erfolgt bei dem eingangs beschriebenen Verfahren erfindungsgemäß dadurch, daß auf die Silberschicht unmittelbar eine metallische Schicht aus der Gruppe Aluminium, Titan, Tantal, Chrom, Mangan und Zirkonium mit einer Dicke zwischen 1 und 5 nm
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aufgebracht wird, bevor die nachfolgende weitere Oxidschicht aufgestäubt wird.
Bei einer Untersuchung dieses Schichtsystems unter dem Elektronenmikroskop zeigte sich, daß die Geschlossenheit der Silberschicht praktisch vollständig erhalten blieb. Auch der zuvor gemessene elektrische Schichtwiderstand blieb praktisch unverändert. Sobald jedoch auf die Zwischenschicht aus einem der vorstehend genannten Metalle verzichtet wurde, trat wieder das Aufreissen der Silberschicht in einzelne Inseln auf, und der gemessene Schichtwiderstand stieg beim Aufstäuben des Oxids auf das Silber sprunghaft an.
Beim Aufbringen einer Zwischenschicht aus einem der vorstehend genannten Metalle (oder auch aus einer Legierung) lag das Maximum der Transmission im sichtbaren Bereich beim 550 nm auf dem verhältnismäßig sehr hohen Wert von 87 %. Das Maximum der Wärmereflexion lag bei 8 μ auf dem gleichfalls sehr hohen Wert von 93 %. Sobald die Zwischenschicht aus einem Metall aus der vorstehend genannten Gruppe weggelassen wurde, sank das Maximum der Transmission im sichtbaren Bereich bei etwa 480 nm auf den Wert von 66% und die IR-Reflexion bei 8 μΐη auf 60%.
Bezüglich des Schichtwiderstandes konnte bei Verwendung einer Zwischenschicht aus einem Metall aus der vorstehend genannten Gruppe ein Flächenwiderstand gemessen werden, der bei verschiedenen Versuchen zwischen 6,7 und 8,2 0hm lag. Sobald die erfindungsgemäße Zwischenschicht weggelassen wurde, stieg der Flächenwiderstand auf einen nicht mehr meßbaren Betrag an, der oberhalb 10 Kiloohm lag.
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Auch dies ist ein starkes Indiz für das Aufreissen der Silberschicht bei Verzicht auf die erfindungsgemäße Zwischenschicht.
Bezüglich der Schichtdicke für die Zwischenschicht, die zwischen 1 und 5 nm liegt, ist noch auszuführen, daß bei einer derartig geringen Schichtdicke keine merkliche Absorption erfolgt, so daß die betreffende Metallschicht selbst die Transmission nicht bzw. nicht in meßbarem Maße verschlechtert.
Nach Fertigstellung des gesamten Schichtsystem durchgeführte Untersuchungen haben ergeben, daß die zuvor metallische Zwischenschicht nach dem Aufbringen der abschliessenden Oxidschicht mehr oder weniger stark durchoxidiert war, wobei allerdings immer noch ein geringer Restgehalt an Metall vorhanden war. Es kann unterstellt werden, daß die ursprünglich metallische Zwischenschicht beim Aufstäuben der Oxidschicht zumindest demjenigen Teil des aktivierten Sauerstoffs gebunden hat, der ansonsten zum Aufreissen der Silberschicht geführt hätte. Versuche, anstelle der metallischen Zwischenschicht eine Oxidschicht des gleichen Metalls oder der gleichen Metalle aufzubringen, haben nicht zum Erfolg geführt, ganz offensichtlich, weil die betreffende Schicht bereits mit Sauerstoff gesättigt war.
An weiteren Vorteilen konnte eine hohe Prozeßstabilität beobachtet werden, d.h. es wurden einerseits homogene Schichten erzeugt, andererseits waren diese auch in mehreren, nacheinander durchgeführten Verfahrenszyklen
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in hohem Maße reproduzierbar. Außerdem konnte eine gute mechanische und chemische Resistenz des Schichtsystems beobachtet werden. Auch läßt sich die Schichtdickenkontrolle sehr einfach durch eine Leitfähigkeitsmessung durchführen.
Es ist gemäß der weiteren Erfindung besonders vorteilhaft, die Oxidschichten aus der Gruppe Indiumoxid, Zinnoxid bzw. deren Mischoxide mit Gehalten an Bleioxid zu versehen, die zwischen 2 und 15 Gewichtsprozent liegen. Durch diesen Zusatz werden die betreffenden Scheiben auch gegenüber dem für Silber so gefährlichen Chlor resistent, d.h. die betreffenden Scheiben überstehen den in Abnehmerkreisen üblichen Kochsalz-Sprühtest nach SS DIN 50021 wesentlich länger als vergleichbare Produkte ohne diese Maßnahme. Derartige Scheiben sind längere Zeit als vergleichbare Produkte in einer Atmosphäre beständig, die Industrieabgase enthält
Es ist gemäß der weiteren Erfindung wiederum besonders vorteilhaft, den Targets für die Herstellung der Silberschicht zwischen 0,001 und 1,0 % Nickel zuzusetzen. Es hat sich gezeigt, daß durch einen derartigen, sehr geringen Nickelzusatz die Gleichförmigkeit der Silberschicht noch weiter verbessert wird, ganz offensichtlich, weil die Nickelatome als Kondensationskeime für die Silberschicht dienen.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen des Erfindungsgegenstandes ergeben sich aus den übrigen Unteransprüchen.
In der Praxis erprobte Schichtsysteme, deren konkrete
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Schichtdicken und vorteilhafte Bereiche für die Variation der einzelnen Schichtdicken sind in der nachstehenden Tabelle angegeben:
Schicht
Nr.		 Schi chtmaterial » Schichtdicke
". .'. . ..(.nm) .'. .		 vorteilhafter
Bereich
■ " (nm)		 50
1. SnO2 , In2I 33 40 30 - 15
2. Ag 10 . 5 - 5
3. Al,
Mn,		 Ti, Ta, Cr
Zr		 2 1 - 50
4. SnO2 , In2I 40 30 -
Ausführungsbeispiele des Erfindungsgegenstandes werden nachfolgend anhand der Figuren 1 bis 5 sowie der nachfolgenden Verfahrensbeispiele näher erläutert.
Es zeigen:
Figur 1 einen Querschnitt durch ein erfindungsgemäßes !Schichtsystem,
Figur 2 eine elektronenmikroskopische Aufnahme eines
zum Stande der Technik gehörenden Schichtssystems zu Vergleichszwecken,
Figur 3 eine elektronenmikroskopische Aufnahme des erfindungsgemäßen Schichtsystems,
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Figur 4 Transmissionskurven einer unbeschichteten Scheibe und einer Scheibe mit dem Schichtsystem Zinnoxid/Silber/Älumiηium/Zinnoxid und
Figur 5 Transmissionskurven für eine unbeschichtete Scheibe, ein Schichtsystem Indium-Zinn-Blei-Oxid /S ilber/Aluminium/Indium-Zinn-Bl ei-Oxid sowie (zu Vergleichszwecken) eines Schichtsystems Indium-Blei-Zinn-Oxid/Silber/Indi um-Blei-Zinn-Oxid.
In Figur 1 ist ein Substrat S dargestellt, das durch eine Glasscheibe aus Mineralglas gebildet wird. Auf dem Substrat befindet sich eine erste Oxidschicht 1 mit einer Dicke von 40 nm, die aus einem Oxid aus der Gruppe Indiumoxid, Zinnoxid bzw. deren Mischoxide besteht. Auf diese Schicht ist eine zweite Schicht 2 aus Silber in einer Dicke von 10 nm aufgebracht. Auf diese Schicht wurde eine dritte Schicht 3 (sogenannte Zwischenschicht) in einer Dicke von 2 nm aufgebracht, die zunächst aus einem Metall aus der Gruppe Aluminium, Titan, Tantal, Chrom, Mangan und Zirkonium besteht. Auf diese Schicht ist wiederum eine vierte Schicht 4 aus einem oder mehreren der Oxide aufgebracht, wie sie auch für die erste Schicht 1 verwendet werden. Sämtliche Schichten sind durch ein Katodenzerstäubungsverfahren aufgebracht, das - für sich genommen - zum Stande der Technik gehört. Durch den Katodenzerstäubungsprozeß ist die Schicht 3 mehr oder weniger durchoxidiert; sie stellt jedoch kein reines Oxid des betreffenden Metalls bzw. der betreffenden Metalle dar.
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Figur 2 zeigt eine elektronenmikroskopische Aufnahme eines herkömmlichen Schichtsystemss d.h. eines Schichtsystems, bei dem die Zwischenschicht 3 gemäß Figur 1 fehlt. Die hellen Flecken stellen inselförmige Silberpartikel dar, und es ist deutlich zu erkennen, daß der fotografierte Ausschnitt mit einer Vielzahl solcher Inseln übersät ist.
Figur 3 zeigt eine analoge Aufnahme im gleichen Maßstab, jedoch gewonnen im Zusammenhang mit einem erfindungsgemäßen Schichtsystem gemäß Figur 1. Es ist deutlich zu erkennen, daß die Anzahl der Flecken wesentlich geringer ist und daß die noch vorhandenen Flecken auch weit weniger deutlich ausgeprägt sind. Dieser Zustand kommt nahe an den Idealfall der absolut homogenen Silberschicht heran, die auch im mikroskopischen Bereich von planparallelen Flächen begrenzt ist.
Figur 4 zeigt zwei Transmissionskurven im Wellenlängenbereich zwischen etwa 380 und 850 nm. Die obere Kurve 5 zeigt das Transmissionsverhalten einer unbeschichteten Glasscheibe, während dje untere Kurve 6 das Transmissions· verhalten eines Schichtsystems Glassubstrat/Zinnoxid/ Silber/Aluminium/Zinnoxid wiedergibt. Es ist deutlich erkennbar, daß das Maximum der Transmissionskurve im Bereich um eine Wellenlänge von 550 nm bei etwa 85 % liegt.
Figur 5 zeigt gleichfalls Transmissionskurven, und zwar gilt die Kurve 5 auch hier für eine unbeschichtete Glasscheibe. Kurve 7 zeigt die Transmission für
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ein Schichtsystem Glassubstrat/Indium-Zinn-Bleioxid/ Silber/Aluminium/Indium-Zinn-Blei-Oxid. Die betreffenden Oxidschichten wurden durch reaktive Zerstäubung eines metallischen Targets aus 85 % Indium, 10 % Blei und 5 % Zinn hergestellt. Das Transmissionsmaximum liegt gemäß der Kurve in einem Bereich um etwa 520 nm und bei 87 %.
Die gestrichelte Kurve 8 zeigt die spektrale Abhängigkeit des Transmissionsverhaltes bei Weglassung der metallischen Zwischenschicht 3 (Figur 1). Die aiektronenmikroskopische Aufnahme dieses Schichtsystems ist in Figur 2 gezeigt. Es ist deutlich zu erkennen, daß die Transmission in einem breiten Bereich nahezu unverändert ist, daß aber selbst an der Stelle des bei einer Wellenlänge von etwa 480 nm liegenden Maximums die Transmission nicht über 66 % hinausgeht, d.h. mehr als 1/3 des Tageslichts würde durch eine derartige Scheibe "geschluckt".
Beispiel 1:
In einer Katodenzerstäubungsanlage des Typs A 900 H (Hersteller: Firma Leybold-Heraeus GmbH in Hanau, BRD) wurden nacheinander Targets aus reinem Zinn, Silber, Aluminium und wiederum Zinn zerstäubt. Als Substrate dienten Glasscheiben mit den Abmessungen 40 cm χ 40 cm, die relativ zu den Targets bzw. zu den Katoden bewegt wurden. Die Zerstäubung des Zinns fand in reaktiver Atmosphäre statt, so daß Zinnoxidschichten niedergeschlagen wurden. Die Zerstäubung von Silber und Aluminium fand in neutraler Atmosphäre statt. Die Schichtdicken
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entsprachen den Werten in der obigen Tabelle.
Das Transmissionsverhalten entsprach der Kurve 6 in Figur 4. Der Flächenwiderstand Rs betrug 8,2 Ohm. Die elektronenmikroskopische Aufnahme dieses Schichtsystems ist in Figur 3 gezeigt.
Beispiele 2 bis 6:
Der Versuch nach Beispiel 1 wurde wiederholt, jedoch mit dem Unterschied, daß an die Stelle des Aluminiums für die Schicht 3 (Figur 1) nacheinander Targets aus Titan, Tantal, Chrom, Mangan und Zirkonium eingesetzt wurden. Es ergaben sich in allen Fällen Schichten mit praktisch übereinstimmenden optischen Kurven gemäß Kurve 6 in Figur 4. Auch die elektronenmikroskopischen Aufnahmen entsprachen im wesentlichen denen gemäß Figur 3.
Beispiel 7:
Das Beispiel 1 wurde wiederholt, jedoch mit dem Unterschied, daß an die Stelle des reinen Zinn-Targets ein metallisches Target folgender Zusammensetzung gesetzt wurde: 85% Indium; 10% Blei; B% Zinn. Die Schichtdicken entsprachen wiederum den in der obigen Tabelle genannten Werten. Das Transmissionsverhalten ist in Figur 5 durch die Kurve 7 wiedergegeben. Der Flächenwiderstand R betrug 6,7 Ohm.
Eine Untersuchung mit dem Salzwasser-Sprühtest nach SS DIN 50021 ergab . eine extrem gute Widerstandsfähigkeit. Die Versuchsergebnisse zeigten sich selbst an agressiver Industrieatmosphäre mehrere Monate lagerfähig.
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Claims (8)

  1. 83505
    A η. s ρ τ Ii ehe:
    Verfahren zum Herstellen von Scheiben mit hohem Transmissionsverhalten im sichtbaren Spektralbereich und mit hohem Reflexionsverhalten für Wärmestrahlung durch Beschichtung von transparenten Substraten durch Katodenzerstäubuna mit einer ersten Oxid-Schicht aus der Gruppe Indiumoxid, Zinnoxid und deren Mischoxide, mit einer zweiten Schicht aus Silber mit einer Dicke von 5 bis 15 nm und mit einer weiteren Oxidschicht aus der Gruppe Indiumoxid, Zinnoxid und deren Mischoxide, dadurch gekennzeichnet, daß auf die Silberschicht unmittelbar eine metallische Schicht aus der Gruppe Aluminium, Titan, Tantal, Chrom, Mangan, Zirkonium mit einer Dicke zwischen
    1 und 5 nm aufgebracht wiird, bevor die nachfolgende weitere Oxidschicht aufgestäubt wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Oxidschichten aus der Gruppe In2O3, SnO2 bzw. deren Mischoxide in reaktiver Atmosphäre und daß die metallischen Schichten in neutraler
    Atmosphäre aufgebracht werden.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Oxidschichten aus der Gruppe In2O3* SnO2 bzw. deren Mischoxide mit Gehalten an Bleioxid zwischen
    2 und 15 Gewichtsprozent hergestellt werden.
    83505 - 2
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch "gekennzeichnet» daß als Targets für die Herstellung der Oxidschichten eine Legierung mit 80 bis 90 % Indium, 5 bis 10 % Zinn und 2 bis 15 % Blei verwendet wird.
  5. 5. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß als Targets für die Herstellung der Oxidschichten eine Legierung mit 85 bis 98 % Zinn und 2 bis 15 % Blei verwendet wird.
  6. 6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Targets für die Herstellung der Silberschicht zwischen 0,001 und. 1 % Nickel enthalten.
  7. 7. Scheibe mit hohem Transmissionsverhalten im sichtbaren Spektralbereich und mit hohem Reflexionsverhalten für Wärmestrahlung mit einer ersten Oxidschicht aus der Gruppe Indiumoxid, Zinnoxid und deren Mischoxide, mit einer zweiten. Schicht aus Silber mit einer Dicke von 5 bis 15 nm und mit einer weiteren Oxidschicht aus der Gruppe Indiumoxid, Zinnoxid und deren Mischoxide, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der metallischen Silberschicht (2) und der weiteren Oxid schicht (4) aus der Gruppe Indiumoxid, Zinnoxid und deren Mischoxide eine weitgehend durchoxidierte Schicht (3) aus der Gruppe Aluminium, Titan, Tantal, Chrom, Mangan, Zirkonium der Dicke. 1 bis 5 nm vorhanden ist.
    83505 - 3 -
  8. 8. Scheibe nach Anspruch 7, gekennzeichnet durch einen maximalen Transmissionsgrad im sichtbaren Bereich von mindestens 80 %, vorzugsweise von mindestens 85 % und durch einen maximalen Reflexionsgrad im Wärmestrahlungsbereich (λ = 8u) von mindestens 85 %, vorzugsweise von mindestens 90 %.
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