DE3151542A1 - Vorrichtung zum messen von deformationen - Google Patents
Vorrichtung zum messen von deformationenInfo
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Description
Anatoly Prokopievich BYKOV Zhukovsky Moskovskoi oblasti, UdSSR
Vorrichtung zum Messen von Deformationen
Die Erfindung bezieht sich auf die Meßtechnik, und sie
betrifft insbesondere Vorrichtungen zur Messung von Deformationen
.
Die Erfindung kann als ein mustergültiges Mittel bei der
metrologischen Eignungsprüfung tensometrischer Deformationswandler sowie als ein Instrument für die Untersuchung der
Deformationen bei Festigkeits-, Elastizitäts- und anderen Prüfungen von Probestücken eingesetzt werden.
Die ständige Vervollkommnung tensometrischer Deformationswandler erfordert die Entwicklung entsprechend präziser
Mittel für ihre metrologische Prüfung. Die Entwicklung von Berechnungsmethoden in der Festigkeits- und Elastizitätstheorie
erfordert ihrerseits auch die Entwicklung einer Vorrichtung für eine präzise Messung des jeweiligen Deformationsfeldes
der Oberfläche eines Probestückes mit dem Ziel einer experimentellen Nachprüfung entsprechender
mathematischer Modelle.
β 4 · ·
β T * ·
Bekannte Verfahren und Vorrichtungen für die Messung von Deformationen beruhen auf der Registrierung der relativen
Verschiebung von Markierzeichen, beispielsweise in Form von linearen Streumitteln, die an der Oberfläche des
zu untersuchenden Probestückes angebracht sind, beziehungsweise auf der Registrierung der Änderung der Periode eines
Beugungsgitters, das auf die Oberfläche des Probestückes aufgebracht wird. Diese Vorrichtungen weisen ein Registriergerät
auf, dessen Konstruktion die erforderliche Empfindlichkeit und die Genauigkeit nicht gewährleistet.
Aus der US-PS 3 628 866 ist eine Vorrichtung zur Messung der Deformation bekannt, die einen Laser, der mit einem
optischen System zur Ausbildung von Lichtbündeln verbunden ist, ein Markierzeichen in Form eines Abschnittes eines
Beugungsgitters, das auf die Oberfläche des zu untersuchenden Probestückes aufgebracht ist, und ein Registriergerät
aufweist, das aus einem Aufnahmeobjektiv und einem Leuchtschirm besteht, der in der Brennebene des Objektivs aufgestellt ist.
Bei der Messung von Deformationen wird eines von zwei Bündeln am Ausgang des optischen Systems für die Ausbildung der
Bündel auf einen Abschnitt des Beugungsgitters gerichtet. Die infolge der Beugung entstandenen Bündel werden von dem
Aufnahmeobjektiv auf den Leuchtschirm fokussiert. Bei einer Deformation des Probestückes erfolgt die Änderung der
Periode des Beugungsgitters und dadurch eine Änderung des Winkels zwischen den gebeugten Bündeln, die ihrerseits:
eine lineare Verschiebung der fokussierten Bündel am Leuchtschirm hervorruft. Aus der Größe der relativen Verschiebung
der Bündel am Leuchtschirm wird die Deformation des Probestückes
ermittelt.
315Ϊ542
Diese Vorrichtung weist jedoch keine ausreichende Empfindlichkeit und Genauigkeit auf, die durch das Auflösevermögen
und die Aberrationen des Aufnahmeobjektivs eingeschränkt werden.
In der US-PS 4 050 818 ist eine Vorrichtung zur Messung
der relativen Verschiebung von zwei gewählten Objektpunkten beschrieben, die einen Laser, zwei Markierzeichen in Form
von linearen Streuern, die an ausgewählten Punkten der Oberfläche eines Objektes aufgestellt sind und ein aus
einem fotoelektrischen Detektor und einem Meßgerät bestehendes Registriergerät für ein Interferenzbild aufweist,
das infolge der Interferenz des von den Markierzeichen gestreuten Lichtes entsteht= Diese Vorrichtung
kann bei der Messung einer Formänderung eines Abschnittes der Oberfläche zwischen zwei Markierzeichen verwendet werden,
die durch die relative Verschiebung der Markierzeichen ermittelt wird,,
Diese Vorrichtung hat folgende Funktionsweise. Die Markierzeichen
werden mit einem Lichtbündel eines Lasers beleuchtet.
Bei der relativen Verschiebung der Markierzeichen erfolgt eine Verschiebung des Interferenzbildes in bezug
auf den Fotodetektor, dessen elektrisches Signal an das Meßgerät gelangt. Die Größe der relativen Verschiebung
der Markierzeichen kann aus dem bekannten ursprünglichen Abstand zwischen den Markierzeichen, der Wellenlänge des
Laserlichtes und der Anzahl der Interferenzstreifen ermittelt
werden, die durch den Fotodetektor durchgegangen sind.
Diese Vorrichtung weist keine hohe Empfindlichkeit und Genauigkeit
auf, weil bei dem angewandten Verfahren für die
τ» t- Ml Uli IT T
Aufzeichnung im Bereich nur eines Interferenzstreifens eine Genauigkeit von mehr als 0,1 des Streifens nicht zu
gewährleisten ist. Außerdem verursachen die Außenvibrationen beziehungsweise zufällige Verschiebungen der Vorrichtung
in bezug auf das zu untersuchende Objekt eine zusätzliche Verschiebung des Interferenzbildes und folglich
einen Meßfehler.
Weiter sind Vorrichtungen zur Messung von Deformationen bekannt (GB-PS 1 364 607 und 1 454 340 IPC GOIB 11/16),
die einen Laser und ein optisches System für die Ausbildung von Lichtbündeln, die längs der optischen Achse der Vorrichtung
aufgestellt werden, Markierzeichen in Form eines Beugungsgitters, das an der Oberfläche des zu untersuchenden
Probestückes aufgetragen ist, und ein Registriergerät eines Interferenzbildes, das von dem vom Beugungsgitter
gestreuten Licht entsteht, enthalten.
Diese Vorrichtungen haben folgende Funktionsweise. Das optis-che System bildet zwei sich überschneidende Lichtbündel
eines Lasers aus. Im Schnittbereich, der Lichtbündel wird entweder ein transparenter Gitterabdruck, der im
Kontaktverfahren vom Diffraktionsgitter auf der Oberfläche des Probestückes hergestellt wird, oder eine Fotoplatte
mit dem Bild dieses Gitters angeordnet, das mit Hilfe eines Fotoapparates erzeugt wird. Das Registriergerät, in diesem
Fall der Fotoapparat, registriert ein Interferenzbild, das infolge der Interferenz von zwei Beugungsordnungen des
Lichtes entsteht, die zu den unterschiedlichen den Gitterabdruck (die Fotoplatte) beleuchtenden Lichtbündeln gehören.
Die Größe der Deformation wird im Ergebnis durch Dechiffrierung eines Interferogramms ermittelt, das auf
der Fotoplatte aufgezeichnet wird.
— "7 _
Auch, diese bekannten Vorrichtungen weisen jedoch kein
ausreichendes Auflösevermögen und Genauigkeit auf. Zum einen stellt die Herstellung von Gitterabdrücken für das
deformierte Beugungsgitter auf der Oberfläche eines Probestückes einen zeitraubenden Prozeß dar. Dabei wird das
Meßergebnis durch destabilisierende Faktoren wie beispielsweise die Außentemperaturen stark beeinflußt. Zum anderen
wird in der Vorrichtung für die Registrierung des deformierten Beugungsgitters ein Objektiv verwendet, dessen begrenztes
Auflösevermögen und dessen Abberationen die Genauigkeit der Registrierung verringern. Zum dritten wird in den
genannten Vorrichtungen bei der Dechiffrierung der Interferogramme,
die auf Fotoplatten aufgezeichnet sind, eine Genauigkeit erreicht, die in der Regel nicht über 0,1 des
jeweiligen Interferenzstreifens beträgt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zur Messung von Deformationen zu entwickeln, in der die
Konstruktion des Registriergerätes für ein Interferenzbild, das durch die Interferenz des von den Markierzeichen gestreuten
Lichtes entsteht, die Genauigkeit der Messung von Deformationen bei Gewährleistung eines hohen Auflösevermögens
der Vorrichtung wesentlich erhöht.
Die gestellte Aufgabe wird gemäß der Erfindung gelöst, durch eine Vorrichtung zur Messung von Deformationen, wie
sie im Patentanspruch 1 angegeben ist.
Das Vorhandensein eines optischen Frequenzmodulators für
die Verschiebung der Lichtfrequenz vom Laser und zweier Fotodetektoren erlaubt es, eine relative Verschiebung der
Markierzeichen, die auf die Oberfläche des zu untersuchenden
Probestückes aufgetragen sind, in eine Phasendifferenz der
ι t f t «ι ι ι >i it 1
> t* >->^
elektrischen Signale von den Fotodetektoren umzuwandeln, die mit Hilfe eines Phasenmessers mit hoher : Präzision
gemessen werden kann.
Da das Registriergerät in der erfindungsgemäßen Vorrichtung
ein fotoelektrisches ist, wird eine hohe Ansprechgeschwindigkeit der Vorrichtung gewährleistet. Demzufolge können
destabilisierende Faktoren binnen einer kurzen Zeit der Messung keinen spürbaren Einfluß auf die Meßergebnisse ausüben.
Die hohe Arbeitsgeschwindigkeit ermöglicht es außerdem, die erfindungsgemäße Vorrichtung für die Messung von
Deformationen bei dynamischen Prozessen einzusetzen.
Die hohe Empfindlichkeit der erfindungsgemäßen Vorrichtung
gestattet es auch, eine gute Lokalisierung der Messungen zu sichern, weil der Abstand zwischen den Markierζeichen,
der als Basis bei der Messung einer Deformation dient, ausreichend klein gewählt werden kann und auf einer kleinen
Basis eine ausreichend hohe Genauigkeit ermöglicht wird. Die Lokalisierung der Messungen ist bei Prüfungen von ungleichartigen
Probestücken erforderlich.
Der Anschluß eines Elektronenphasenmessers an die Ausgänge der Fotodetektoren sichert der erfindungsgemäßen Vorrichtung
Unempfindlichkeit gegenüber geringen Nebenvibrationen, weil diese Vibrationen gleiche synchrone Phasenänderungen
elektrischer Signale von den Fotodetektoren hervorrufen, und diese Änderungen werden gegenseitig im Elektronenphasenmesser
subtrahiert.
In der erfindungsgemäßen Vorrichtung wird zur Messung der
relativen Verschiebung der Markierzeichen keine Linsenoptik eingesetzt, die die Genauigkeit der Messung einer Formänderung
einschränkt.
Das fotoelektrisch^ Registriergerät gibt außerdem die
Möglichkeit, die Messung zu automatisieren.
In einer Variante der Erfindung enthält der Fotoempfängerblock
einen dritten Fotodetektor? der mit dem dritten Markierzeichen optisch verbunden Ist, das gegenüber dem
ersten oder dem zweiten Markierzeichen in einem Abstand angebracht ist, bei dem die Änderung der Phasendifferenz
der elektrischen Signale von den Fotodetektoren, die
optisch mit dem dritten und dem ersten oder mit dem zweiten Markierzeichen verbunden sind, im gesamten Bereich der
Messungen von Deformationen 360° nicht übersteigt, und die Ausgänge des dritten und ersten oder des zweiten Fotodetektors
sind über einen Umschalter mit dem Elektronenphasenmesser
verbunden.
Die Einfügung eines dritten Fotodetektors, der optisch
mit dem dritten auf die Oberfläche des zu untersuchenden
Probestückes im obenerwähnten Verfahren aufgetragenen Markierzeichen verbunden ist, in den Fotoempfängerblock
erlaubt es, die Unbestimmtheit in einer ganzen Zahl von Phasenzyklen in dem Fall zu beseitigen, wenn die Änderung
der Phasendifferenz vom ersten und vom zweiten Fotodetektor 360° übersteigt, weil der Elektronenphasenmesser
die Phasendifferenz lediglich im Bereich von 0 bis 360 mißt. In der Variante mit zwei Fotodetektoren ist der Einsatz
eines Elektronenzählers für die Phasenzyklen möglich, es ist dabei aber notwendig, die Signale von Beginn bis zu
Ende der Messungen kontinuierlich nachzuführen, was für viele Anwendungsfälle praktisch unmöglich ist.
Bei der Variante der Vorrichtung mit drei Fotodetektoren
werden vor und nach einer Deformation je zwei Messungen
> ■» ü
; ; 4151542
- 10 -
ausgeführt: Die Messung der Phasendifferenz der Signale vom ersten und zweiten Fotodetektor (genaue Ablesung) und
beispielsweise vom ersten und dem dritten Fotodetektor ("grobe" Ablesung) im Bereich von 0 bis 360 . Aus der
"genauen" und der "groben" Ablesung wird die ganze Zahl der Phasenzyklen einer vollständigen Messung der Phasendifferenz
vom ersten und vom zweiten Fotodetektor gefunden. Man kann sagen, daß der dritte Fotodetektor bei der Deformationsmessung
eine Hilfsrolle spielt.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung in der Variante mit drei Fotodetektoren kann für die Messung verschiedener Abschnitte
der Oberfläche eines Probestückes mittels einer abwechselnden Verschiebung der Vorrichtung aus einer Meß—
position in eine andere eingesetzt werden. Dabei können an der Oberfläche des Probestückes Defekte beziehungsweise
Löcher vorhanden sein, die das optische Signal bei der Versetzung der Vorrichtung aus der einer Meßposition in
die andere unterbrechen. Bei der Variante mit zwei Fotodetektoren ist eine Unterbrechung des optischen Signals
unzulässig, weil dies eine Fehlfunktion des Zählers für die Phasenzyklen verursachen würde.
Weitere Ziele und Vorteile der vorliegenden Erfindung sind aus der nachstehenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen
ersichtlich, die in der Zeichnung veranschaulicht sind; dabei zeigen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung einer erfindungsgemäßen Vorrichtung;
Fig. 2 verschiedene Typen von Markierzeichen auf
der Oberfläche eines zu untersuchenden Probestückes;
Fig. 3 ein Schema der Aufnahmebaugruppe der
Vorrichtung von Fig. 1 für den Fall der
Ausbildung der Markierzeichen in Form
eines auf die Oberfläche des zu untersuchenden
Probestückes aufgetragenen Beugungsgitters
und
Fig. 4 ein Schema der Anbringung von Markierzeichen
auf die Oberfläche des zu untersuchenden Probestückes und des Anschlusses von Fotodetektoren
für eine Ausführungsvariante der Vorrichtung von Fig« 1 mit drei Fotodetektoren.
Die in Fig. 1 dargestellte Vorrichtung zur Messung von Deformationen
enthält hintereinander längs einer optischen Achse 1 einen Laser 2, einen elektrooptischen Frequenzmodulator
3 und ein optisches System 4 zur Ausbildung von zwei Lichtbündeln 5 und 6 aus dem Licht des Lasers 2, die
sich in einem Schnittbereich 7 kreuzen sowie einen Fotoempfängerblock 8 und einen Elektronenphasenmesser 9.
Als Laser 2 dient ein He-Ne-Laser mit einer Leistung von
8 mW. Die Auswahl des Typs und der Leistung des Lasers 2 wird durch die Parameter einer konkreten Aufgabe bestimmt:
Durch die erforderliche Genauigkeit der Messungen, den Typ der Markierzeichen, die Empfindlichkeit der Fotodetektoren
und anderes mehr. Der elektrooptisch^ Frequenzmodulator 3
macht es möglich, die Lichtfrequenz des Lasers 2 um eine Größe von einigen zehn kHz bis 5 MHz zu verschieben. Möglich
ist auch der Einsatz eines akustischen Modulators für die
Verschiebung der Lichtfrequenz.
Das optische System 4 zur Ausbildung der Lichtbündel 5 und 6 enthält einen längs der optischen Achse 1 aufgestellten
Kollimator 10, der aus einem Mikroobjektiv 11 (beispielsweise einer kurzbrennweitigen Linse oder dem Objektiv
eines Mikroskops) und einem Objektiv 12 (beispielsweise einem zusammengeklebten Zweilinsen-Objektiv) besteht,
einen Strahlteiler 13 zum Teilen des kollimierten Lichtbündels 14 in zwei Lichtbündel 15 und 16, der aus einem
Polarisationsstrahlteiler 17 und einem Spiegel 18 zusammengesetzt ist, eine Halbwellenplatte 19, die in einem der
Bündel 15 oder 16 angeordnet ist, und nach zwei Achsen
justierte Spiegel 20 und 21.
Der .Fotoempfängerblock 8 weist zwei fotoelektrische Detektoren
22 und 23 (beispielsweise zwei Fotoelektronenvervielfacher) auf, vor denen Blenden 24 und 25 und ein Objektiv
26 angeordnet sind. Die Ausgänge der Fotodaiektoren 22 und 23 sind mit den Eingängen eines Elektronenphasenmessers 9
angeschlossen. Als Elektronenphasenmesser 9 kann ein beliebiger Phasen-Analog-Wandler beziehungsweise Phasen-Digital-Wandler
eingesetzt werden, der ausreichende Werte für Auflösungsvermögen und Genauigkeit besitzt.
Vor dem Inbetriebsetzen der Vorrichtung werden auf die Oberfläche eines zu untersuchenden Probestückes 27 Markierzeichen
28 und 29 aufgetragen, als solche können folgende Objekte (Fig. 2) dienen:
1) Streuer in Form von dünnen Rißlinien 30 und 31,
die unmittelbar auf der Oberfläche des Probestückes 27 oder auf einer aufgedampften Aluminiumschicht
gezogen werden, wenn ein Probestück aus einem Material mit einer schlechten Lichtreflexion
genommen wird; Streuer in Form von dünnen Glasfaden und anderes mehr;
2) kleine Abschnitte 32 und 33 eines reflektierenden
Beugungsgitters, dessen Periode mit der Breite von Interferenzstreifen im Schnittbereich
7 der Lichtbündel 5 und 6 übereinstimmt;
3) mit den Fotodetektoren 22 und 23 optisch gekoppelte Abschnitte 34 und 35 eines reflektierenden
Beugungsgitters 36, das auf die gesamte zu untersuchende Oberfläche des Probestückes 27 aufgetragen wird. Die Periode des
Beugungsgitters 36 ist ebenfalls auf die Breite von Interferenzstreifen im Schnittbereich 7
abgestimmt=
Dann wird das zu untersuchende Probestück 27 in bezug auf
das optische System 4 so aufgestellt, daß die Markierzeichen 28 und 29 sich im Schnittbereich der Lichtbündel
5 und 6 befinden« Mit Hilfe des Objektivs 26 erfolgt
das Zusammenwirken der Fotodetektoren 22 und 23 mit den Markierzeichen 28 und 29» Hierfür wird durch die Versetzung
des Fotoempfängerblocks 8 in bezug auf das Probestück 27 und des Objektivs 26 in bezug auf die Fotodetektoren
22 und 23 eine solche gegenseitige Lage herbeigeführt, daß das vom Objektiv 26 zu erzeugende Bild
der Markierzeichen 28 und 29 auf die Blenden 24 und 25 der Fotodetektoren 22 bzw. 23 fällt.
Die Markierzeichen, beispielsweise die dünnen Rißlinien
30 und 31, können längs der Richtung der Interferenzstreifen im Schnittbereich 7 orientiert sein. Die Kontrolle
der Genauigkeit der Orientierung erfolgt mit einem
Elektronenstrahl-Oszillografen, an dessen Eingang ein
Signal von einem der Fotodetektoren gegeben wird. Für die Markierzeichen 32 und 33 oder 34 und 35 in Form
von Abschnitten eines Beugungsgitters ist es neben der genannten Orientierung notwendig, die Periode des
Gitters mit der Breite von Interferenzstreifen im Schnittbereich 7 abzustimmen. Das kann mit Hilfe einer Feinjustierung
der Spiegel 20 und 21 gemacht werden, und die Kontrolle der Abstimmung erfolgt mit dem Oszillografen
beziehungsweise visuell bei ausgeschaltetem Modulator 3 nach dem Interferenzbild auf den Markierzeichen
32 und 33 oder auf dem Gitter 36.
Die dargestellte Vorrichtung hat folgende Funktionsweise.
Ein Strahlenbündel des Lasers 2 wird mit dem elektrooptischen Frequenzmodulator 3 moduliert. Am Ausgang
des Modulators 3 entstehen bei dessen Viertelwellenbetrieb zwei Strahlungskomponenten mit gegenseitig orthogonalen
Polarisationsrichtungen und mit unterschiedlichen Frequenzen. Der Kollimator 10 erweitert ein Lichtbündel
nach dem Modulator 3 bis auf den erforderlichen Durchmesser. Mit Hilfe des Polarisationsteilers 13 werden die beiden
Strahlungskomponenten in zwei Bündel 15 und 16 mit gegenseitig
orthogonaler Polarisation und unterschiedlichen Frequenzen geteilt.
Die Halbwellenplatte 19 verändert diePolarisationsrichtung im
Bündel 16 um 90°. Die Lichtbündel 5 und 6 reflektieren
an den Spiegeln 20 und 21 und kreuzen sich miteinander unter Bildung eines Interferenzbildes mit Raumund
Frequenzmodulation der Beleuchtungsstärke (laufendes Beugungsbild) im Schnittbereich 7.
Das elektrisch« Feld E5 und E 6 der Lichtwelle
in den Bündeln 5 und 6 im Koordinaten-System xoy kann
in folgender Form dargestellt werden:
worin E die Spannungs-amplitude des elektrischen Feldes der Lichtwelle ,
&)- \ die Frequenz bzw. die Wellenlänge der Lichtwelle, vom Laser;
S2 die Gcöße der Verschiebung der Licht frequenz im
Modulator (3) und
^ der Winkel zwischen den Bündeln 5 und 6 ist.
Bei der Beugung der Lichtbündel 5 und 6 wird die Intensität des Lichtes im Schnittbereich 7 gleich:
Wenn die lineare Abmessung der Farkierzeichen in
Richtung der oy-A.chse wesentlich geringer ist als die
Breite A eines Interferenzstreifens im Schnittbereich 7 A = 7Γ7~·—JT/ ' dann können die Intensitäten
f/
J4 und J* des von den Markierzeichen 28 und 29 ge-
ff ä>
streuten Lichtes in folgender Form geschrieben werden:
ΠΙ
1 + CoS(Qi+ ψ
^i+ Cos (Qi + -ψ
worin ^4 und W- Koordinaten der Markierzeichen
land 29 sind.
Das von den Markierzeichen 28 und 29 auf die Fotodetektoren 22 und 23 gestreute Licht wird vom
Objektiv 26 gesammelt. Die Fotodetektoren 22 und 23 wandeln die Lichtströme (3) in elektrische Signale um,
deren Veränderliche gleich
Cos
(4)
Cos CQi+ 1T- Ht) sind·
Die vollständige Differenz Δ φ1 der Phasen der
elektrischen Signale (4) infolge der Deformation des jeweiligen Probestückes ist offensichtlich gleich
und nach der Deformation
worin *if2. der Abstand zwischen den Markierzeichen 28
und 29 vor der Deformation und
/1 Iy 2 äie absolute Dehnung infolge der Deformation
eines Abschnittes der Oberfläche mit einer Länge von ο I1 a ist.
Die Änderung der Phasendifferenz A Ti 2
Signale (4) infolge der Deformation ist gleich:
und wird mitHUfedes Elektronenphasenmesser 9 gemessen
Wenn ά Ψ, ~ ^271 Radian ist,muß ein Zähler für die
- 4-7
Phasenzyklen vorgesehen werden.
Aus der Formel (5) wird die relative Deformation E des zu untersuchenden Abschnittes der Oberfläche
ermittelt:
e ~ Ύ^ = Tlt* t,2 ' ^
worin A und ^^S als bekannt gelten.
Das Auflösungsvermögen 6) . der
erfindungsgemäßen Vorrichtung läßt sich folgendermaßen bestimmen.
Mit ^i1Z = 10 mm und.A = 0,001 mm (für He-Ke-Laser mit ^. =.0,63 jura ist dabei der Winkel ψαζ AO0) beträgt das Auflösungsvermögen des Elektronenphasenmessers 9 Ulf"* 0,1° ZU 1,7.10"^ rad. Dann
Mit ^i1Z = 10 mm und.A = 0,001 mm (für He-Ke-Laser mit ^. =.0,63 jura ist dabei der Winkel ψαζ AO0) beträgt das Auflösungsvermögen des Elektronenphasenmessers 9 Ulf"* 0,1° ZU 1,7.10"^ rad. Dann
Für die Vorrichtungen, die als Prototyp gewählt folgt λ η
sind j bei den gleichen Werten, von vL und
bei £Jy 3
^-.min — b» J-J-U ?
was um mehr als zwei Größenordnungen schlechter ist als in der erfindungsgemäßen Vorrichtung=
Hervorzuheben ist, daß obwohl in der beschriebenen Vorrichtung für das Zusammenwirken der Fotodetektoren 22 und
23 -mit den Markierζeichen 2 8 und 29 das Objektiv 26 verwendet
wird, an dessen Qualität keine besonderen Anforderungen gestellt werden. Die Zweckbestimmung des Objektivs
26 besteht in diesem Fall darin, eine ausreichende Menge des von den Markierzeichen gestreuten Lichtes zu sammeln
und die Lichtströme von den Markierzeichen auf die entsprechenden Fotodetektoren aufzuteilen.
In dem Fall, daß als Markierzeichen ausreichend kleine Abschnitte 32 und 33 eines reflektierenden Beugungsgitters,
die nach beliebigen Verfahren auf die zu
untersuchende Oberfläche aufgetragen werden, verwendet werden, wirkt jedes Markierzeichen'als ein Satz von gleichphasigen
linearen Streuern, wodurch die Leistung des optischen Nutzsignals vergrößert wird.
In Fig. 3 ist ein Schema des Empfängerteils der Vorrichtung für die Variante abgebildet, bei der als Markierzeichen
genügend kleine Abschnitte 34 und 35 des reflektierenden Beugungsgitters 36 dienen, das auf die gesamte zu
untersuchende Oberfläche des Probestückes 27 aufgetragen ist.
Infolge der Beugung der Lichtbündel 5 und 6 am Gitter 36 entstehen die Bündel 37, 38 39, ..., die den unterschiedlichen
Beugungsordnungen entsprechen. Immer kann man den Winkel zwischen den Bündeln 5 und 6 so wählen, daß beispielsweise
das Bündel 37 für die Ordnung "+1" der Beugung des Bündels 5 und das Bündel 38 für die Ordnung "-1" der
Beugung des Bündels 6 parallel zueinander verlaufen. Diese Ordnungen interferieren miteinander. Das Interferenzbild
wird von zwei Fotodetektoren 22 und 23 mit ausreichend kleinen Eintrittsblenden 24 und 25 registriert, die in einem
Abstand voneinander im Bereich der geometrischen Trennung der Beugungsordnungen aufgestellt sind.
Infolge einer Deformation des Probestückes 27 verändert sich die Periode des Beugungsgitters 36,wodurch ein kleiner
Winkel zwischen den Bündeln 37 und 38 auftritt, was zur Entstehung eines Interferenzbildes 40 mit einer Endbreite der
Interferenzstreifen in der Ebene der Blenden 24 und 25 führt.
Die Aufteilung der Lichtintensität X im Interferenzbereich
wird durch eine sich etwas von der Formel (2) unterscheidende Formel ausgedrückt:
worin d die Periode des Beugungsgitters 36 ist. Wenn die Koordinaten der Zentren der Blenden 24
und 25 If1 bzw. Ug gleich sind, so beträgt die Differenz
Αφ der Phasen der elektrischen Signale von
den Fotodetektoren 22 und 23 gemäss (6)
Bezeichnen W0 und CLj die Perioden des
Beugungsgitters 36 vor bawo nach einer Deformation des
Probestückes, dann ist die Veränderung Δ ψ 12 der
Phasendifferenz der elektrischen Signale von den Fotodetektoren 22 und 23 infolge der Deformation des Gitters
36 gleich
Die relative Deformation £. - —1-—£ wird aus
den bekannten Größe^s^ g und (Z0 und der gemessenen
Phasendifferenz Δγι% gemäß (7) aus der folgenden
Formel ermittelts
Wie oben erwähnt, dienen als Marki.erzeich.en in diesem Fall
kleine Abschnitte 34 und 35 des Beugungsgitters 36, von denen der Lichtstrom.zu den Fotodetektoren 22 bzw. 23 gelangt.
Für das Zusammenwirken der Fotodetektoren mit den Markierzeichen wird in dieser Variante der Vorrichtung
kein Objektiv eingesetzt. Die Blenden 24 und 25 sind miteinander starr zu verbinden. Dadurch wird die Unveränderlichkeit
des Abstandes zwischen ihnen gesichert, der als Basis bei der Messung der Deformation dient und es wird
dadurch auch die Unempfindlichkeit gegenüber geringen Nebenvibrationen und Verschiebungen der Vorrichtung in
bezug auf das Probestück gewährleistet.
Bei der zu betrachtenden Variante der Vorrichtung kann ein
sehr hohes Auflösungsvermögen und eine Genauigkeit bei der Messung der Deformation erreicht werden, weil die
Leistung des Uutzsignals (und das Signal-Rausch-Verhältnis)
bei sonst gleichen Bedingungen in dieser Variante bedeutend höher ist als bei Ausführung der Markierzeichen
beispielsweise in Form von einzelnen linearen Streuern . Diese Variante der Vorrichtung erlaubt es
außerdem, das ganze Feld der Deformation eines Probestückes mittels paralleler Ablenkung der Vorrichtung
in Bezug auf das zu untersuchende Probestück zu messen. In Fig. 4 ist eine AusführungsVariante der Vorrichtung
abgebildet, deren Fotoempfängerblock 8 einen dritten, zusätzlichen Fotodetektor 41 mit einer Aufnahmeblende
42 enthält, der mittels des Objektivs 26 optisch mit einem dritten Markierzeichen 43 auf der Oberfläche
des Probestückes 27 verbunden ist, das beispielsweise in einem Abstand ^f j von dem ersten Markierzeichen
28 angebracht ist. An die Ausgänge der Fotodetektoren 41 und 23 ist über einen Umschalter 44 jeweils einer der Eingänge
des Elektronenphasenmessers 9 angeschlossen.
Als Umschalter 44 wird ein elektrischer Zweistellungskippschalter eingesetzt, möglich ist aber auch
die Verwendung eines beliebigen anderen Umschalters, darunter eines Elektronenschalters.
Die Funktionsweise der Vorrichtung in der Variante
mit drei Fotodetektoren ist ähnlich der Funktionsweise
der Vorrichtung in der Hauptvariante mit zwei Fotodetektoren. Es ist lediglich notwendig, das Verfahren zur Beseitigung
der Unbestimmtheit in einer ganzen Zahl von Phasenzyklen der Phasendifferenz von den Fotodetektoren
22 und 23 sowie die Auswahl des Abstandes zwischen dem ersten 28 und dem dritten 43 Markierzeichen zu deuten.
Wenn bekannt ist, daß die relative Deformation S des zu untersuchenden Probestückes 27 im voraus einen
gewissen Wert £ ftiat nicht übersteigt, so gilt gemäß
den Formel (6) bei Δ ψ £ 2 Ti
Dann wird die Veränderung der Phasendifferenz vom
ersten lind dritten Fotodetektor 22 und 41 gemäß' der
Gleichung (5).
gleich- ■_
Die Veränderung άψι g. der Phasendifferenz
der Signale vom ersten und zweiten Fotodetektoren 22
und 23 kann in folgender Form geschrieben werden:
worin /v eine ganze Zahl von Phasenzyklen und
Ty 2 ^-ie voin Phasenmesser 9 zu messende Phasen
differenz ist, ^1 2 - 0 ±271
Unter der Annahme, daß die Deformation des Probestückes
27 am Abschnitt £I1 ζ nicht gleichartig ist,
gilt die folgende angenäherte Gleichheit:
Woraus Ai mittels Abrundung bis zur nächsten
ganzen Zahl gefunden wird!
wobei LhIi [ZJ die Funktion eines ganzen Teils der
Zahl 1 ist.
Hierdurch wird aus den gemessenen Werten ψι^ι
und Δ ψ /,3 zuerst gemäß der Formel ( )) die Zahl
A/ der Phasenzyklen und dann gemäß der Formel (B) die
vollständige Änderung der Phasendifferenz Δ γ/, 2. und
zuletzt die relative Deformation B- des Abschnitts
der Oberfläche mit einer Grosse £ 1 g gemäß der Formel
(G) ermittelt.
Zu bemerken ist weiter, daß die Leistung des opti-
• 11
- 22 - .
sehen Ιίιιϊ ζ signals mittels Konzentration des Lichtes
eines Lasers unmittelbar auf den "Markierzeichen wesentlich vergrößert werden kann. Hierfür soll das optische
System etwas abgeändert v/erden, damit anstelle von zwei'
breiten Bündeln an seinem Ausgang mehrere ( je nach der Anzahl der Markierζeichen) Paare von schmalen Bündeln
mit der gleichen Breite von Interferenzstreifen in allen Schnittbereichen der Bündel vorhanden sind. Bei einem
relativ großen Abstand zwischen den Mnrkierzeichen kann
in diesem Fall ein Leistungsvorteil des optischen Mutzsignals
in Höhe von mehreren Ordnungen erreicht werden, was es ermöglicht, einen He-lJe-Laser mit einer Leistung
von 1 mV/ und weniger einzusetzen.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung kann nach der
entsprechenden Modifikation des optischen Systems für die Ausbildung von Lichtbündeln und der Aufstellung eines
zweiten FotoempfängerbIockes 'als Zweikanal-Vorrichtung
ausgeführt werden und für die Messung einer Deformation der Oberfläche eines Probestückes in zwei zueinander
senkrechten Richtungen verwendet werden. Die Teilung der Kanäle erfolgt nach einer Polarisation des von Markierzeichen
gestreuten Lichtes. Auf die Oberfläche des zu untersuchenden Probestückes wird dabei ein zweites
System von Markierzeichen aufgetragen, die in Bezug auf die Markierzeichen des ersten Systems senkrecht orientiert
sind.
Leerseite
Claims (2)
- AnsprücheVorrichtung zum Messen von Deformationen mit einem Laser (2), mit einem in der gleichen optischen Achse (1) aufgestellten optischen System (4) für die Bildung von Lichtbündeln (5 und 6) , mit einem System von auf die Oberfläche eines zu prüfenden Probestückes (27) aufgetragenen Markierzeichen (28, 29 und 43) und einem Registriergerät für ein Interferenzbild, das infolge einer Interferenz des von den Markierzeichen (28, 29 und- 43) gestreuten Lichtes entsteht, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem Laser (2) und dem optischen System (4) für die Bildung von Lichtbündeln (5 und 6) in der gleichen optischen Achse (1) damit ein Modulator (3) für die Verschiebung der Lichtfreguenz des Lasers (2) aufgestellt ist, daß das Registriergerät einen Fotoempfängerblock (8) mit zwei Fotodetektoren (22 und 23), von denen der eine mit einem ersten und der zweite mit einem zweiten Markierzeichen (28 bzw. 29) optisch verbunden ist, sowie einen Elektronenphasenmesser (9) aufweist, der an die Ausgänge der Fotodetektoren (22 und 23) angeschlossen ist.530-(P 88O26-E-61)-DfMy9 ■ *
- 2. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,daß der Fotoempfängerblock (8) einen dritten Fotodetektor (41) enthält, der mit einem dritten Markierzeichen (43) optisch verbunden ist, das in bezug auf das erste (28) oder das zweite Markierzeichen (29) in einem Abstand ( 1-j 3 ) angeordnet ist, das die Änderung der Phasendifferenz für die elektrischen Signale von den Fotodetektoren (22, 23 und 41), die mit dem dritten (43) und dem ersten (28) oder dem zweiten (29) Markierzeichen optisch verbunden sind, im gesamten Bereich der Messung von Deformationen 360 nicht übersteigt und daß die Ausgänge des dritten (41) und des ersten (22) oder des zweiten (23) Fotodetektors über einen Umschalter (44) mit dem Elektronenphasenmesser (9) verbunden sind.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/328,477 US4432239A (en) | 1981-12-08 | 1981-12-08 | Apparatus for measuring deformation |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3151542A1 true DE3151542A1 (de) | 1983-07-07 |
Family
ID=23281152
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19813151542 Ceased DE3151542A1 (de) | 1981-12-08 | 1981-12-28 | Vorrichtung zum messen von deformationen |
Country Status (3)
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---|---|
US (1) | US4432239A (de) |
DE (1) | DE3151542A1 (de) |
FR (1) | FR2520499B1 (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3720303A1 (de) * | 1987-06-19 | 1988-12-29 | Schenck Ag Carl | Probeneinspannvorrichtung fuer pruefmaschinen |
US4836031A (en) * | 1987-11-27 | 1989-06-06 | Carl Schenck Ag | Method and apparatus for measuring deformations of test samples in testing machines |
US4962669A (en) * | 1987-06-19 | 1990-10-16 | Carl Schenck Ag | Method and apparatus for measuring deformations of test samples in a testing machine |
DE19845732A1 (de) * | 1998-10-05 | 2000-04-20 | Zwick Gmbh & Co | Zugprüfmaschine |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4872751A (en) * | 1986-06-03 | 1989-10-10 | Michael Hercher | Non-contact lateral displacement sensor and extensometer system |
GB2192456B (en) * | 1986-07-12 | 1990-07-04 | Stc Plc | Optical sensor |
US4874941A (en) * | 1988-05-11 | 1989-10-17 | Simmonds Precision Products, Inc. | Optical displacement sensor with a multi-period grating |
US4850693A (en) * | 1988-05-23 | 1989-07-25 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Compact portable diffraction moire interferometer |
US5369286A (en) * | 1989-05-26 | 1994-11-29 | Ann F. Koo | Method and apparatus for measuring stress in a film applied to surface of a workpiece |
US5100227A (en) * | 1989-07-21 | 1992-03-31 | Joseph Winocur | Translation insensitive keratometer using moire deflectometry |
US4984883A (en) * | 1989-07-21 | 1991-01-15 | Joseph Winocur | Translation insensitive keratometer using moire deflectometry |
JPH03104842U (de) * | 1990-02-06 | 1991-10-30 | ||
US5349442A (en) * | 1991-09-20 | 1994-09-20 | Eg&G Idaho, Inc. | Hand held phase-shifting diffraction moire interferometer |
US5207203A (en) * | 1992-03-23 | 1993-05-04 | General Motors Corporation | Fuel system |
US5523582A (en) * | 1992-04-30 | 1996-06-04 | Ann F. Koo | Method and apparatus for measuring the curvature of wafers with a laser source selecting device |
US6097477A (en) * | 1994-05-27 | 2000-08-01 | American Research Corporation Of Virginia | Laser speckle strain and deformation sensor using linear array image cross-correlation method for specifically arranged triple-beam triple-camera configuration |
DE4425503C1 (de) * | 1994-07-20 | 1995-07-06 | Guenter Prof Dr Ing Ebi | Verfahren zum gleichzeitigen Messen von Torsionsspannungen sowie Axialspannungen an einer sich drehenden Welle oder einem vergleichbaren Werkstückkörper |
US6055391A (en) * | 1997-02-10 | 2000-04-25 | Xerox Corporation | Vibration detection and control system for printers |
AUPP381698A0 (en) * | 1998-05-29 | 1998-06-25 | University Of Sydney, The | Electro-, magneto- or acousto- optically controlled UV writing set up for bragg grating fabrication |
US6128082A (en) * | 1998-09-18 | 2000-10-03 | Board Of Trustees Operating Michigan State University | Technique and apparatus for performing electronic speckle pattern interferometry |
US6188482B1 (en) | 1998-09-18 | 2001-02-13 | Board Of Trustees Operating Michigan State University | Apparatus for electronic speckle pattern interferometry |
US6267011B1 (en) | 1999-03-31 | 2001-07-31 | Exponent, Inc. | Method and apparatus for determining the true stress and true strain behavior of a ductile polymer |
US6487913B2 (en) * | 2000-12-18 | 2002-12-03 | Eastman Kodak Company | Strain gauge with resonant light modulator |
US6817528B2 (en) * | 2001-07-17 | 2004-11-16 | Honeywell International Inc. | Reflective apparatus and method for optically sensing relative torque employing Moirè fringes |
US7477362B2 (en) * | 2005-09-27 | 2009-01-13 | Nanyang Technological University | Moiré interferometric strain sensor |
KR100870930B1 (ko) * | 2007-05-08 | 2008-11-28 | 주식회사 고영테크놀러지 | 다방향 영사식 모아레 간섭계 및 이를 이용한 검사방법 |
US8600147B2 (en) | 2009-06-03 | 2013-12-03 | The United States of America as represented by the Secreatary of the Navy | System and method for remote measurement of displacement and strain fields |
GB0909512D0 (en) * | 2009-06-03 | 2009-07-15 | Airbus Uk Ltd | Weight measurement apparatus and method |
US9046353B2 (en) | 2011-08-02 | 2015-06-02 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | System and method for remote full field three-dimensional displacement and strain measurements |
US9311566B2 (en) | 2012-08-03 | 2016-04-12 | George Mason Research Foundation, Inc. | Method and system for direct strain imaging |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2003023A1 (de) * | 1969-01-24 | 1970-07-30 | Bendix Corp | Verfahren zur beruehrungsfreien Dehnungsmessung von Werkstuecken |
DE2715052B1 (de) * | 1977-02-02 | 1978-05-24 | Marconi Co Ltd | Laengenmessvorrichtung |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3184969A (en) * | 1963-06-10 | 1965-05-25 | Gen Signal Corp | Liquid level indication system |
CH558000A (de) * | 1973-02-14 | 1975-01-15 | Bbc Brown Boveri & Cie | Verfahren zur erzeugung und auswertung von interferogrammen zwecks messung von oberflaechendeformationen eines objektes. |
US3831436A (en) * | 1973-02-23 | 1974-08-27 | R Sanford | Multi-purpose real-time holographic polariscope |
US3903734A (en) * | 1974-02-11 | 1975-09-09 | Bruce E Douglas | Technique for measuring the complex shear modulus utilizing laser interferometry |
GB1521351A (en) * | 1976-01-19 | 1978-08-16 | Nat Res Dev | Methods and apparatus for measuring variations in distance to a surface |
-
1981
- 1981-12-08 US US06/328,477 patent/US4432239A/en not_active Expired - Fee Related
- 1981-12-28 DE DE19813151542 patent/DE3151542A1/de not_active Ceased
-
1982
- 1982-01-28 FR FR8201341A patent/FR2520499B1/fr not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2003023A1 (de) * | 1969-01-24 | 1970-07-30 | Bendix Corp | Verfahren zur beruehrungsfreien Dehnungsmessung von Werkstuecken |
DE2715052B1 (de) * | 1977-02-02 | 1978-05-24 | Marconi Co Ltd | Laengenmessvorrichtung |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3720303A1 (de) * | 1987-06-19 | 1988-12-29 | Schenck Ag Carl | Probeneinspannvorrichtung fuer pruefmaschinen |
US4821579A (en) * | 1987-06-19 | 1989-04-18 | Carl Schenck Ag | Apparatus for clamping a test sample in a testing machine |
US4962669A (en) * | 1987-06-19 | 1990-10-16 | Carl Schenck Ag | Method and apparatus for measuring deformations of test samples in a testing machine |
US4836031A (en) * | 1987-11-27 | 1989-06-06 | Carl Schenck Ag | Method and apparatus for measuring deformations of test samples in testing machines |
DE3740227A1 (de) * | 1987-11-27 | 1989-06-08 | Schenck Ag Carl | Verfahren und anordnung zur messung von verformungen an proben oder pruefkoerpern in pruefmaschinen |
DE19845732A1 (de) * | 1998-10-05 | 2000-04-20 | Zwick Gmbh & Co | Zugprüfmaschine |
DE19845732C2 (de) * | 1998-10-05 | 2002-02-28 | Zwick Gmbh & Co | Zugprüfmaschine |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2520499B1 (fr) | 1986-01-24 |
US4432239A (en) | 1984-02-21 |
FR2520499A1 (fr) | 1983-07-29 |
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