DE3031747C2 - Vorrichtung zur Gruppenzüchtung von Einkristallen - Google Patents
Vorrichtung zur Gruppenzüchtung von EinkristallenInfo
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B11/00—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
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Description
dadurch gekennzeichnet, daß
f) der Kühler (8) in Form eines zylindrischen Beti'ters ausgeführt ist, dessen dem zylindrischen
Block (1) zugewandte Begrenzungsfläche die Form einer konkaven Kegelfläche (9) aufweist und an seinem Umfang mit durchgehenden
Bohrungen (10) versehen ist, die in Verlängerung der Bohrungen (2) des Blockes (1)
angeordnet sind und mit diesen gleichen Durchmesser aufweisen.
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Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Gruppenzüchtung von tänkrisullen durch eine gerichtete
Kristallisation der Sciirrelze nach dem Oberbegriff
des Patentanspruchs.
Es ist bereits eine Vorrichtung zur Gruppenzüchtung von Einkristallen durch gerichtete Kristallisation einer
Schmelze bekannt die einen zylindrischen Block aus einem elektrisch leitenden Material (Graphit) aufweist
der mit gleichmäßig über den Umfang verteilten Bohrungen versehen ist, in denen zylindrische Behälter
angeordnet sind, die zur Aufnahme des Impfkristalls und
der zu kristallisierenden Legierung dienea
Die im Unterteil des zylindrischen Blockes angeordneten
Bohrungen sind hierbei miteinander durch einen Hohlraum verbunden, in dem sich ein Impfkristall
befindet und in dem die Bildung und die Auswahl der Kristallkeime gleichzeitig für alle zu züchtenden
Einkristalle stattfinden, d. h. alle Einkristalle wachsen so aus einem Kristallkeim. Um die Orientierung der
Kristalle gleich zu halten, muß man die Parallelität der Bohrungen in dem Bereich einhalten, wo die Behälter
angeordnet sind. Die Vorrichtung weist einen Kühler auf, welcher gleichachsig mit dem zylindrischen Block ss
angeordnet ist und am Boden des Hohlraumes mit dem darin angeordneten Impfkristall anliegt. Am zylindrischen
Block ist kaoxial um diesen herum ein Erhitzer aufgestellt (Journal of the Institute of Metals, 1973.
Band 101. Seite 149,150).
Bei der bekannten Vorrichtung ist es schwer, einen hohen Temperaturgradienten an der Kristallisationsfront zu erzielen, weil die Fläche der Wärmeabführung
— ein Impfkristall — beschränkt ist. Außerdem ist mit der Vergrößerung der Entfernung der Kristallisationsfront
vom Impfkristall und somit mit einer Vergrößerung des Abstandes des Erhitzers vom Kühler eine
Verminderung des Temperaturgradienten zu verzeichnen, die zur Verschlechterung der Qualität der zu
züchtenden Einkristalle führt.
Bei der bekannten Vorrichtung ist außerdem die Kristallisationsfront nicht senkrecht zur Behälterachse,
was durch die radiale Ausrichtung der Wärmeabführung von den unteren Bereichen der Behälter zu dem zentral
angeordneten Impfkristall hervorgerufen wird. Das führt zu einer Verschlechterung der Qualität der
Einkristalle durch das Wachsen von zufälligen, an peripheren Wänden des Behälters entsteheaden Keimen
fan Einkristall. Zudem ist die bekannte Vorrichtung kompliziert im Aufbau.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Vorrichtung zur Gruppenzüchtung von Einkristallen so
zu gestalten, daß bei einfacher Bauweise und einer senkrechten Ausrichtung der Kristallisationsfront zu
der Behälterachse große Temperaturgradienten über der ganzen Höhe der Behälter erreichbar sind.
Diese Aufgabe wird mit der im Patentanspruch beschriebenen Vorrichtung gelöst
Die erfindungsgemäße Vorrichtung läßt hohe Temperaturgradienten sowohl an der Kristallisationsfront als
auch über der gesamten Höhe der Behälter zu, gewährleistet die senkrechte Ausrichtung der Kristallisationsfront
zur Behälterachse und ist einfach im Aufbau. Diese Vorteile ermöglichen es, den Prozentsatz
der Ausbeute an brauchbaren Einkristallen bei einer Großserienproduktion derselben zu erhöhen, den
technologischen Prozeß zu vereinfachen und so die Herstellungskosten für die Einkristalle zu senken.
Anhand der Zeichnung wird ein Ausführungsbeispiel der Erfindung näher erläutert Es zeigt
F i g. 1 die Vorrichtung zur Gruppenzüchtung von Einkristallen teilweise im Längsschnitt und
Die Vorrichtung zur Gruppenzüchtung von Einkristallen hat einen axial verschiebbaren zylindrischen
Block I (Fig. 1. 2). der aus einem elektrisch leitenden
Material, z. B. Graphit besteht Am Umfang des Blockes
1 sind sechs durchgehende Bohrmgen 2 gleichmäßig verteilt angeordnet In jeder Bohrung 2 befindet sich je
ein zylindrischer feuerfester Behälter 3 mit einem Einkristall-Impfkristall 4 und einem Gußblock 5 der zu
kristallisierenden Legierung. Im Unterteil jedes Behälters 3 ist ein mit seiner Stirnseite an der Stirn des
Impfkristalls 4 dicht anliegender zylindrischer wassergekühlter Kühler 6 angeordnet. Koaxial zu dem
zylindrischen Block 1 ist um diesen herum ein Erhitzer 7 angeordnet. Außerdem enthält die Vorrichtung einen
unterhalb des Erhitzers 7 und koaxial dazu angeordneten Kühler 8. der gleichachsig mit dem zylindrischen
Block 1 axial verschiebbar angeordnet ist. Der Kühler 8 hat die Form eines zylindrischen Behälters, dessen dem
zylindrischen B'ock 1 zugewandte Begrenzungsfläche eine konkave Kegelfläche 9 ist. Am Umfang des Kühlers
8 sind sechs durchgehende Bohrungen 10 vorgesehen, die jeweils gegenüber einer der Bohrungen 2 des
zylindrischen Blockes 1 angeordnet sind und diesen nach dem Durchmesser derart entsprechen, daß die
Behälter 3, die in den Bohrungen 2 angeordnet sind, durch die Bohrungen 10 frei durchgehen können.
Mit der Vorrichtung werden Einkristalle in Gruppen in folgender Weise gezüchtet:
Man schaltet den Erhitzer 7 ein, heizt den zylindrischen Block 1 an und schmilzt die Einkristall-Impfkristalle 4 an
den Gußblöcken S des zu kristallisierenden Materials an. Nach dem Anschmelzen werden der Block 1, der
Erhitzer 7 und der Kühler 8 gegenüber den Behältern 3
längs der Mantellinien der Gußblöcke 5 mit einer vorgegebenen Geschwindigkeit synchron verschoben,
wobei die Züchtung der Einkristalle durch die gerichtete Kristallisation der Schmelze verwirklicht wird. Das
Vorhandensein der konkaven Kegelfläche 9 gestattet es, radiale Temperaturgradienten in den Behältern 3
auszugleichen. Das läßt sich dadurch erklären, daß der
Erhitzer 7 eine stärkere Erwärmung derjenigen Seitenteile der Gußblöcke 5 gewährleistet, die dem
Umfang des Blockes 1 zugewandt sind, als derjenigen
Teile der Gußblöcke, die dem Zentrum des Blockes 1
zugewandt sind. Der Kühler 8, der eine konkave Kegelfläche 9 aufweist, gewährleistet gleichzeitig eine
stärkere Wärmeabführung von den dem Umfang zugewandten überhitzten Teilen der Gußblöcke 5.
Durch geeignete Wahl der Tiefe der Auskehlung, die von der Räche 9 gebildet wird, stellt man ein Verhältnis
zwischen Intensität der Seitenerhitzung und der Abkühlung ein, bei dem die Kxistallisationsfront zu der
Achse des Behälters 3 senkrecht ist Dadurch, daß sich der Kühler 8 synchron mit dem Block 1 und dem
Erhitzer 7 bewegt, d. h. sich ständig in ein und demselben
Abstand von der Kristallisationsfront befindet, können höhere Temperaturgradienten sowohl an der Kristallisationsfront
als auch über der gesamten Höhe der Behälter 3 entsprechend der Verschiebung der Kristaüisationsfroiit
erreicht werden. Die Züchtung der Einkristalle erfolgt in einem Inertgas.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
- Patentanspruch:Vorrichtung zur Gruppenzüchtung von Einkristallen durch eine gerichtete Kristallisation der Schmelze, nut:a) einem zylindrischen Block aus einem elektrisch leitenden Material, derb) an seinem Umfang durchgehende Bohrungenaufweistc) Behältern in den Bohrungen zur Aufnahme von Impfkristall und kristallisierender Legierung,d) einem Erhitzer, der koaxial um den zylindrischen Block angeordnet ist,e) einem Kühler, der gleichachsig mit dem ,^ Erhitzer und unterhalb von ihm angeordnet ist,
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3031747A DE3031747C2 (de) | 1980-08-22 | 1980-08-22 | Vorrichtung zur Gruppenzüchtung von Einkristallen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3031747A DE3031747C2 (de) | 1980-08-22 | 1980-08-22 | Vorrichtung zur Gruppenzüchtung von Einkristallen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3031747A1 DE3031747A1 (de) | 1982-03-11 |
DE3031747C2 true DE3031747C2 (de) | 1983-11-03 |
Family
ID=6110215
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3031747A Expired DE3031747C2 (de) | 1980-08-22 | 1980-08-22 | Vorrichtung zur Gruppenzüchtung von Einkristallen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3031747C2 (de) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3223064A1 (de) * | 1982-06-21 | 1983-12-22 | Jürgen 6074 Rödermark Wisotzki | Mehrkammerntiegel zur zuechtung mehrerer einkristalle in einem arbeitsgang |
DE102007026298A1 (de) | 2007-06-06 | 2008-12-11 | Freiberger Compound Materials Gmbh | Anordnung und Verfahren zur Herstellung eines Kristalls aus der Schmelze eines Rohmaterials sowie Einkristall |
GB201112610D0 (en) | 2011-07-22 | 2011-09-07 | Rec Wafer Norway As | Heating a furnace for the growth of semiconductor material |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3580324A (en) * | 1969-03-13 | 1971-05-25 | United Aircraft Corp | Double-oriented single crystal castings |
-
1980
- 1980-08-22 DE DE3031747A patent/DE3031747C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3031747A1 (de) | 1982-03-11 |
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