DE3023672A1 - Verfahren und vorrichtung zur verdampfung eines kathodenmaterials mittels eines lichtbogens - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zur verdampfung eines kathodenmaterials mittels eines lichtbogens

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Description

  • Beschreibung
  • Verfahren und Vorrichtung zur Verdampfung eines Kathodenmaterials mittels eines Lichtbogens Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Verdampfung eines Kathodenmaterials mittels eines Lichtbogens sowie eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.
  • Für viele Anwendungen, beispielsweise in bestimmten Lasertypen und in der Lichtbogenchemie, erzeugt man mittels eines zwischen einer Anode und einer Kathode brennenden Lichtbogens Metallatom- und Metallionenplasmen. Die Metallatome und Metallionen werden dabei durch den Lichtbogen aus der Kathode freigesetzt.
  • Bei bekannten Anordnungen ist der Kontaktbereich zwischen Kathode und Lichtbogen jedoch sehr begrenzt, so daß die Erzeugung des Metallatom- und Metallionenplasmas nur in einem räumlich sehr eng begrenzten Bereich erfolgt.
  • Es ist Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren vorzuschlagen, mit dessen Hilfe mittels eines Lichtbogens in wesentlich effektiverer Weise aus einer Kathode Metallatome und Metallionen zur Erzeugung entsprechender Plasmen freigesetzt werden können.
  • Diese Aufgabe wird bei einem Verfahren der eingangs beschriebenen Art erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß man die Kathode in ein Magnetfeld bringt, dessen Magnetfeldlinien an der Oberfläche der Kathode bogenförmig verlaufen und einen magnetischen Tunnel bilden und daß man im kathodenseitigen Ansatzpunkt des Lichtbogens das Magnetfeld B und/oder die Lichtbogenstromstärke i und/oder den Druck PF derart wählt, daß der kathodenseitige Ansatzpunkt entgegen der Richtung der Lorentz-Kraft verschoben wird (retrograde motion).
  • Die Möglichkeit, daß sich der kathodenseitige Ansatzpunkt eines Lichtbogens unter bestimmten Bedingungen entgegen der Richtung der Lorentz-Kraft bewegt, ist an sich bereits bekannt. Es hat sich jedoch nunmehr überraschenderweise herausgestellt, daß diese Bewegung des kathodenseitigen Ansatzpunktes entgegen der Richtung der Lorentz-Kraft durch eine bestimmte Anordnung des Magnetfeldes gelenkt werden kann. Der kathodenseitige Ansatzpunkt bewegt sich nämlich bei einer Magnetfeldausbildung, bei der die Magnetfeldlinien auf der Kathodenoberfläche einen sogenannten magnetischen Tunnel" ausbilden, längs dieses Tunnels in seinem Inneren, so daß der gesamte Lichtbogen im Inneren des Tunnels unmittelbar angrenzend an die Kathodenoberfläche geführt ist, falls der magnetische Tunnel sich ebenfalls parallel zur Kathodenoberfläche erstreckt. Auf diese Weise erhält man gegebenenfalls sehr lange Bereiche des Lichtbogens in unmittelbarer Nachbarschaft des Kathodenmaterials, und die Freisetzung von Metallatomen und Metallionen aus der Kathodenoberfläche kann über einen erheblichen Teil der Bogenlänge erfolgen, also über einen räumlich wesentlich größeren Bereich als bei bisher bekannten Verfahren.
  • Um den Effekt der retrograde motion zu erzielen, wird gemäß der Erfindung so verfahren, daß man das Magnetfeld B, die Stromstärke i des Bogens und den Druck PF am kathodenseitigen Ansatzpunkt derart wählt, daß die folgende Beziehung gilt: x > Y (1), wobei folgende Definitionen gelten: und wobei a und PK Materialkonstanten des Kathodenmaterials und F eine Konstante der verwendeten Elektrodengeometrie ist, während PF den Gasdruck im kathodennahen Bereich angibt.
  • Bei einer bestimmten Elektrodenanordnung mit bestimmten Materialkonstanten müssen daher lediglich das Magnetfeld B, die Stromstärke des Lichtbogens i und der Gasdruck PF im kathodennahen Bereich so aufeinander abgestimmt werden, daß die retrograde motion auftritt. Man erreicht dann, daß der kathodenseitige Ansatzpunkt bei geeigneter Ausbildung des Magnetfeldes in Form eines magnetischen Tunnels in der beschriebenen Form längs der Kathodenoberfläche verläuft, und zwar bewegt er sich ausgehend vom kleinsten Abstand zwischen Anode und Kathode an der Kathode entgegen der Richtung der Lorentz-Kraft.
  • Es ist weiterhin Aufgabe der Erfindung eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens zu schaffen.
  • Diese Aufgabe wird bei einer Vorrichtung mit einer ausgedehnten Kathode und einer Anode erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß längs eines Oberflächenabschnittes der Kathode ein magnetischer Tunnel ausgebildet ist.
  • Diese Ausgestaltung des Magnetfeldes wirkt als Führung des durch den Effekt der retrograde motion bewegten Lichtbogens und zwingt den Lichtbogen in einen Verlauf längs der Kathodenoberfläche.
  • Vorteilhaft ist es, wenn sich die Kathode im Streufeld eines Magneten befindet, da dieses Streufeld bogenförmige Feldlinien aufweist, die einen magnetischen Tunnel ausbilden.
  • Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung ist vorgesehen, daß die Kathode die Form eines Ringes hat und der magnetische Tunnel längs des Umfanges verläuft.
  • Besonders vorteilhaft ist es dabei, wenn mehrere Kathodenringe in axialer Richtung hintereinander angeordnet sind.
  • Die Anode kann bei einer solchen Anordnung für alle Kathodenringe ein einziger, parallel zur Längsachse der Anordnung verlaufender Stab sein.
  • Die nachfolgende Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen der Erfindung dient im Zusammenhang mit der Zeichnung der näheren Erläuterung. Es zeigen: Fig. 1 eine Teilansicht einer erfindungsgemäßen Plasmaquelle im Längsschnitt und Fig. 2 eine Schnittansicht längs Linie 2 - 2 in Fig. 1.
  • Die in der Zeichnung dargestellte Plasmaquelle umfaßt eine Anzahl ringförmiger Kathoden 1, die koaxial nebeneinander angeordnet und durch zwischen ihre Stirnseite eingelegte Isolierscheiben 2 elektrisch voneinander isoliert sind. Die Kathoden 1 und die Isolierscheiben 2 bilden zusammen ein rohrförmiges Gefäß.
  • Auf der Außenseite sind die ringförmigen Kathoden 1 von ringförmigen Permanentmagneten 3 umgeben, die in axialer Richtung magnetisiert sind. Die Permanentmagnete haben in axialer Richtung etwa dieselbe Ausdehnung wie die Kathoden, sind jedoch diesen gegenüber versetzt angeordnet, so daß ein Luftspalt 4 zwischen benachbarten Permanentmagneten etwa in der Mitte einer ringförmigen Kathode angeordnet ist. Durch die axiale Magnetisierung und den Luftspalt zwischen benachbarten Permanentmagneten befindet sich so die Kathode im Streufeld 5 benachbarter Permanentmagnete. Die Feldlinien dieses Streufeldes verlaufen bogenförmig nach innen und bilden auf der Innenseite der ringförmigen Kathoden 1 einen magnetischen Tunnel 6 aus, der an der Innenseite der Kathoden 1 in einer Axialebene vollständig umläuft. Ein solcher magnetischer Tunnel 6 ist dadurch gekennzeichnet, daß die Magnetfeldlinien aus der Oberfläche der Kathode austreten, oberhalb der Kathodenoberfläche bogenförmig verlaufen und an anderer Stelle wieder in die Kathodenoberfläche eintreten. Der Raum zwischen den Magnetfeldlinien und der Kathodenoberfläche kann dann als magnetischer Tunnel bezeichnet werden.
  • Ferner befindet sich in dem durch die Kathoden und die Isolierscheiben gebildeten rohrförmigen Innenraum 7 eine parallel zur Längsachse desselben verlaufende stabförmige Anode 8, die allen Kathodenringen 1 gemeinsam ist.
  • Im Betrieb der erfindungsgemäßen Plasmaquelle werden die Anode 8 und alle Kathoden 1 in nicht dargestellter Weise mit einer geeigneten Spannungsquelle verbunden. Dadurch entsteht zwischen der Anode 8, die im Innenraum 7 außer der Mitte anqeordnet ist, und der Kathode ein Lichtbogen 9#, und zwar an der Stelle des kleinsten. Abstandes. zwischen# Anode und. Ringkathode.
  • Bei geeigneter Wahl des von den Permanentmagneten erzeugten Magnetfeldes B, des Lichtbogenstromes i und des Druckes PF im Bereich des kathodenseitigen Ansatzpunktes des Lichtbogens tritt der Effekt der retrograden Bewegung auf, d.h. der kathodenseitige Ansatzpunkt wandert entgegen der Richtung der Lorentz-Kraft an der Innenwand der jeweiligen Kathode 1 entlang. Die Wanderung erfolgt dabei im Inneren des magnetischen Tunnels 6. Dieser führt nicht nur an den kathodenseitigen Ansatzpunkt des Lichtbogens, sondern er zwingt den sich daran anschließenden Bereich des Lichtbogens ebenfalls in das Innere des magnetischen Tunnels. Aufgrund dieser Effekte erhält man schließlich eine Lichtbogenkonfiguration, wie sie in Fig. 2 dargestellt ist. Der Lichtbogen geht von der Anode aus, nähert sich bald der Innenfläche der Kathode 1 und verläuft dann an dieser Kathodeninnenfläche entlang über einen erheblichen Teil des Kathodenumfanges. Die Länge dieses Lichtbogens hängt von der Spannung zwischen Anode und Kathode ab, denn bei Überschreiten einer bestimmten Länge des Lichtbogens reißt dieser ab.
  • Nach dem Abreißen bildet sich sofort an der Stelle des kleinsten Abstandes zwischen Kathode und Anode erneut ein Lichtbogen aus, der wieder im magnetischen Tunnel über einen wesentlichen Teil des Kathodenumfanges geführt wird.
  • Ein solcher an die Innenseite der Ringkathode angeschmiegter Lichtbogen bildet sich zwischen der Anode und jeder Kathode aus. Auf diese Weise erhält man im Inneren des durch die Kathodenringe und die Isolierscheiben gebildeten rohrförmigen Gefäßes eine Vielzahl von Bereichen, in denen Lichtbogen in engem Kontakt mit der Kathodenfläche stehen. Längs dieser Bereiche erfolgt die Plasmaerzeugung, d.h. man erzielt mit dieser Anordnung eine wesentlich verstärkte Plasmaerzeugung im Vergleich mit herkömmlichen Vorrichtungen, bei denen der Lichtbogen lediglich im Bereich des anodenseitigen Ansatzpunktes mit der Kathode in Berührung trat.
  • Um statt der üblicherweise erreichten Lorentz-Verschiebung des Lichtbogens im kathodenseitigen Ansatzpunkt die gewünschte retrograde motion zu erreichen, müssen das Magnetfeld im anodenseitigen Ansatzpunkt, der Druck im Bereich des anodenseitigen Ansatzpunktesund der Strom des Lichtbogens bestimmte Bedingungen erfüllen. Wenn zwischen dem Magnetfeld B, der Lichtbogenstromstärke i und dem Druck PF im Bereich des kathodenseitigen Ansatzpunktes die Beziehung gilt, dann bewegt sich der kathodenseitige Ansatzpunkt entgegen der Richtung der Lorentz-Kraft, man erhält also eine retrograde Bewegung.
  • In dieser Beziehung sind a und PK Materialkonstanten des Kathodenmaterials, die Größe g ist im wesentlichen eine Konstante der verwendeten Geometrie und umfaßt unter anderem den Elektrodenabstand sowie den Strömungswiderstand des Bogens im Gas.
  • Im folgenden werden für einige Werte von # die zugehörigen Werte der Materialkonstanten a und PK für verschiedene Kathodenmaterialien angegeben: Tabelle 1 Metall Hg 5,51 Zn 117 Pb 38,-5 Al 706 Sn 181 Ni 416 Ti 415 Mo 445 Tabelle 2 Metall Hg 0,041 Zn 2,03 Pb 0,445 Al 3,81 Sn 1 ,10 Ni . 1,95 Ti 2,34 Mo . 1,61 Bei einer gegebenen Anordnung mit gegebenem Kathodenmaterial genügt es also, entweder das Magnetfeld B groß genug und/oder den Lichtbogenstrom i und/oder den Druck PF klein genug zu wählen, um den Effekt der retrograden Bewegung zu erzielen.
  • L e - @i@

Claims (9)

  1. Patentansprüche : G Verfahren zur Verdampfung eines Kathodenmaterials mittels eines Lichtbogens, d a d u r c h g e k e n n z e i c h -n e t , daß man die Kathode in ein Magnetfeld bringt, dessen Magnetfeldlinien an der Oberfläche der Kathode bogenförmig verlaufen und einen magnetischen Tunnel bilden und daß man im kathodenseitigen Ansatzpunkt des Lichtbogens das Magnetfeld B und/oder die Lichtbogenstromstärke i und/ oder den Druck PF derart wählt, daß der kathodenseitige Ansatzpunkt entgegen der Richtung der Lorentz-Kraft verschoben wird (retrograde motion).
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man das Magnetfeld B, die Stromstärke i des Bogens und/oder den Druck PF am kathodenseitigen Ansatzpunkt derart wählt, daß die folgende Beziehung gilt: x > Y (1), wobei folgende Definitionen gelten: und wobei a und PK Materialkonstanten des Kathodenmaterials und g eine Konstante der verwendeten Anodengeometrie ist, während PF den Gasdruck im kathodennahen Bereich angibt.
  3. 3. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens der Ansprüche 1 und 2 mit einer ausgedehnten Kathode und einer Anode, dadurch gekennzeichnet, daß längs eines Oberflächenabschnittes der Kathode (1) ein magnetischer Tunnel (6) ausgebildet ist.
  4. 4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß sich die Kathode (1) im Streufeld eines Magneten (3) befindet.
  5. 5. Vorrichtung nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode (1) die Form eines Ringes hat und der magnetische Tunnel (6) längs des Umfanges verläuft.
  6. 6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Kathodenringe in axialer Richtung hintereinander angeordnet sind.
  7. 7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Anode (8) für alle Kathodenringe ein einziger parallel zur Längsachse der Anordnung verlaufender Stab ist.
  8. 8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Stab außerhalb der Mitte der hintereinander angeordneten Kathodenringe angeordnet ist.
  9. 9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die ringförmigen Kathoden (1) von Ringmagneten (3) umgeben sind, die in axialer Richtung permanent magnetisiert sind und daß das Streufeld benachbarter Ringmagnete (3) durch eine Ringkathode (1) hindurchtritt und einen magnetischen Tunnel (6) bildet.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999022395A2 (en) * 1997-10-24 1999-05-06 Filplas Vacuum Technology Pte. Ltd. Cathode arc source for metallic and dielectric coatings
DE19924094A1 (de) * 1999-05-21 2000-11-30 Fraunhofer Ges Forschung Vakuumbogenverdampfer

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
AIAA Journal, Vol. 7, No. 8, 1969, S. 1430 bis 1437 *
Ideen des exakten Wissens, 1971, H. 4, S. 281 bis 286 *
The Physics of Fluids, Vol. 13, No. 7, 1970, S. 1747 bis 1750 *

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999022395A2 (en) * 1997-10-24 1999-05-06 Filplas Vacuum Technology Pte. Ltd. Cathode arc source for metallic and dielectric coatings
WO1999022395A3 (en) * 1997-10-24 1999-07-22 Filplas Vacuum Technology Pte Cathode arc source for metallic and dielectric coatings
GB2347147A (en) * 1997-10-24 2000-08-30 Filplas Vacuum Technology Pte Cathode arc source for metlallic and dielectric coatings
US6413387B1 (en) 1997-10-24 2002-07-02 Filplas Vacuum Technology Pte Ltd. Cathode arc source for metallic and dielectric coatings
GB2347147B (en) * 1997-10-24 2002-09-25 Filplas Vacuum Technology Pte Cathode arc source for metlallic and dielectric coatings
DE19924094A1 (de) * 1999-05-21 2000-11-30 Fraunhofer Ges Forschung Vakuumbogenverdampfer
US6361663B1 (en) 1999-05-21 2002-03-26 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. Vacuum arc evaporator
DE19924094C2 (de) * 1999-05-21 2003-04-30 Fraunhofer Ges Forschung Vakuumbogenverdampfer und Verfahren zu seinem Betrieb

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