DE3013142A1 - Verfahren zur herstellung eines fotoempfaengers mt einem multichroitischen farbstreifenfilter - Google Patents

Verfahren zur herstellung eines fotoempfaengers mt einem multichroitischen farbstreifenfilter

Info

Publication number
DE3013142A1
DE3013142A1 DE19803013142 DE3013142A DE3013142A1 DE 3013142 A1 DE3013142 A1 DE 3013142A1 DE 19803013142 DE19803013142 DE 19803013142 DE 3013142 A DE3013142 A DE 3013142A DE 3013142 A1 DE3013142 A1 DE 3013142A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
filter
photoresist
photoreceptor
photo receiver
strip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19803013142
Other languages
English (en)
Inventor
Heinz 8000 München Fuhrmann
Dieter Dr. 8025 Unterhaching Giglberger
Ulrich Ing.(grad.) 8122 Penzberg Krekeler
Wolfgang Ing.(Grad.) Ruf
Otto Dipl.-Phys. Dr. 8000 München Stemme
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agfa Gevaert AG
Original Assignee
Agfa Gevaert AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Gevaert AG filed Critical Agfa Gevaert AG
Priority to DE19803013142 priority Critical patent/DE3013142A1/de
Priority to EP81102285A priority patent/EP0037529A1/de
Priority to JP4949981A priority patent/JPS56153764A/ja
Publication of DE3013142A1 publication Critical patent/DE3013142A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/28Interference filters
    • G02B5/285Interference filters comprising deposited thin solid films
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/201Filters in the form of arrays
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Color Television Image Signal Generators (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Description

  • Verfahren zur Herstellung eines Fotoempfängers mit einem
  • multichroitischen Farbstreifenfilter Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Fotoempfängers mit einem multichroitischen Farbstreifenfilter.
  • Die Herstellung von multichroitischen Filterstreifen für Fotoempfänger zum Zwecke der Chiffrierung bzw. Dechiffrierung zur Erzeugung bzw. zur Wiedergabe von Farbbildern ist bisher nicht zufriedenstellend gelöst.
  • So ist z. B. ein Farbstreifenfilter mit bis zu 80 Farbfilterstreifen pro mm, bestehend aus abwechselnd nebeneinanderliegenden Einzelfiltern aus den Farben blau, grün und rot - in Transmission gesehen - bisher nicht auf dem Weltmarkt erhältlich.
  • Die Problematik liegt in der hohen Streifendichte, wobei die Farbstreifen äußerst kantenscharf sein müssen.
  • Farbcodierungen über Absorptionsfilter, die durch Einfärbungen von Fotoresist-Schichten oder auf fotografischem Wege hergestellt werden, haben den Nachteil, daß sie hohe Lichtverluste erzeugen und die Filter kurven nicht steilflankig genug sind bzw. daß das Auflösungsvermögen nicht ausreicht, um kantenscharfe Konturen zu erzeugen.
  • Interferenzschichtfilterüberzüge auf separaten Substraten, die mit speziellen Fotoresistschichten (Ätzmaske) partiell abgedeckt werden, so daß die freiliegenden Schichten durch Ionensprühätzen entfernt werden können, sind nicht genügend kantenscharf, um einwandfreie Chiffrierung zu erlauben, da die Ätzmaske sehr stark aufgetragen werden muß, weil auch sie teilweise durch den Ätzprozeß abgebaut wird. Außerdem lassen sich nur solche Aufdampfsubstanzen auftragen, die eine hohe Ionenätzrate aufweisen. Diese Schichtsubstanzen sind aber ausnahmslos sehr weich und auch gegen chemische Umwelteinflüsse nicht ausreichend stabil.
  • Die Anwendung des Ionensprühätzverfahrens auf unmittelbar auf dem Fotoempfänger angeordnete Überzüge zur Entfernung der unerwünschten Bereiche ist nicht durchführbar, weil der Fotoempfänger-Chip durch den Iononbeschuß zerstört würde.
  • Es ist das Ziel der Erfindung, ein Verfahren zu schaffen, mit dem Fotoempfänger deckungsgerecht mit konturenscharfen, absorptionsfreien multichroitischen Farbstreifenfiltern mit seht steilflankigen spektralen Transmissionsverläufen hergestellt werden können.
  • Gemäß der Erfindung wird dies dadurch erreicht, daß die ineinandergeschachtelten Filterstreifensysteme in aufeinanderfolgenden Verfahrensstufen jeweils unter Beschichten des Substrates mit Fotolack, Aufbelichten einer jedem Streifensystem zugeordneten Maske, Entwickeln des Fotolacks, Aufdampfen der gewünschten Interferenzschichten für die betreffende Filter farbe und anschließendem Ablösen des verbliebenen Fotolacks aufgebracht werden.
  • Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen und der Beschreibung, worin im folgenden anhand der Zeichnung ein Ausführungsbeispiel erörtert wird. Es zeigen Fig. 1 schematisch den Aufbau des ersten Streifensystems, Fig. 2 schematisch den Aufbau des zweiten Streifensystems, Fig. 3 schematisch den Aufbau des dritten Streifensystems, Fig. 4 die Filterkurve für das grüne Streifensystem, Fig. 5 die Filterkurve für das rote Streifensystem, Fig. 6 die Filterkurve für das blaue Streifensystem und Fig. 7 schematisch eine Anordnung mit überlappenden Farbfilterstreifen.
  • Für die Aufbringung der Filterstreifensysteme sind nach geeigneten Vorlagen zunächst Chrommasken anzufertigen, die auf mit Fotolack beschichteten planparallel gearbeiteten Glassubstraten oder bei geeigneter Justierung direkt auf die Oberfläche des Fotoempfängers durch Belichten abgebildet werden. Wie aus Fig. 1 ersichtlich, entstehen nach Entwickeln des Fotolacks freibleibende Fenster im Rastermaß des gewünschten Filterstreifens, beispielsweise 13 u breite und 100 u lange Felder.
  • Das so maskierte Substrat bzw. der so maskierte Fotoempfänger wird in eine Hochvakuumanlage gegeben und mit den gewünschten Interferenzschichten für zunächst eine Farbe (z.B.
  • Filter I, grün) bedampft. Fotolack und Substrat werden gleichmäßige mit den Filterschichten belegt, wobei sich die Filterschicht jedoch nur mit den freiliegenden Bereichen des Glassubstrates äußerst haftfest verbindet.
  • Nach Entnahme aus der Vakuumanlage wird der Fotolack mit der daraufliegenden Filterschicht durch Aufquellen mit organischen Lösungsmitteln, vorzugsweise Dimethylketon abgehoben.
  • Die Kantenschärfe der auf dem Glassubstrat zurückbleibenden Farbstreifenfilter beträgt etwa 0,1 u.
  • Das Farbstreifenfilter mit der Filterschicht I (grün) wird sodann wie in Fig. 2 dargestellt, erneut mit Fotolack beschichtet und die Chrommaske II, die in einer geeigneten Einrichtung des sogenannten Maskeliners über entsprechende Justierhilfen dem entsprechenden Rastermaß des Farbstreifensystems I auf + 0,15 u genau zujustiert wird, durch Belichtung abgebildet.
  • Das entwickelte Substrat wird erneut, jedoch mit Filterschicht II (rot) bedampft. Durch Abheben des Fotolacks mit Lösungsmittel werden nunmehr die gewünschten Farbstreifenfilter II freigelegt.
  • In einer weiteren Arbeitsfolge wird in analoger Weise, wie Fig. 3 zeigt, das Filter mit Farbfilterschicht III komplettiert.
  • Der spektrale Verlauf der Farbstreifenfilter im Bereich 400 bis 800 nm ist, wie die Figuren 4, 5 und 6 zeigen, den in der Farbmetrik festgelegten Spektralwertkurven angeglichen.
  • Es ist aber auch möglich, durch Verschiebung der Spektralwertkurven Mängel in der spektralen Emprindlichkeit des Fotoempfängers zu kompensieren, beispielsweise mangelnde Blauempfindlichkeit durch Versatz der zugeordneten Filterkurve in Richtung auf die längeren Wellenlängen hin auszugleichen.
  • Wenn die Farbstreifenfilter auf einen separaten Glasträger aufgedampft werden, wird Ausschuß von kostspieligen Fotosensoren vermieden, und es ist optimale Anpassung der Interferenzschichtsysteme möglich. Die Abmessungen der Farbstreifen werden so gewählt, daß sie etwa um Faktor 8 länger sind als die Fotoempfänger. Dadurch wird es möglich, bei eventuellen Störstellen in den Filtern (Pinholes) diesen durch Justage auszuweichen.
  • Für die Massenfertigung lohnt es sich jedoch, unter Umgehung zusätzlicher Justiervorrichtungen die Fotoempfänger direkt zu beschichten, und zwar zweckmäßig bereits die Beschichtung auf dem Wafer vorzunehmen.
  • Durch die beschriebene Abhebetechnik ist hohe Kanten- und Trennschärfe der Filterstreifen möglich. Zweckmäßig werden Positivtacke verwendet, die mindestens 1u stark auDgetragen werden. Um eine Beeinflussung durch den Ablösevorang zu vem#iden, werden chemisch und mechanisch äußerst stabile Aufdampfsubstanzen, beispielsweise als hochbrechende Materialien Ta205, TiO2, CeO2, ZnS und dergleichen bzw.
  • als niederbrechende Materialien MgF2, Silo2 ThoO2 und dergleichen-verwendet.

Claims (10)

  1. Ansprüche 1. Verfahren zur Herstellung eines Fotoempfängers mit einem multichroitischen Farbstreifenfilter, dadurch gekennzeichnet, daß die ineinandergeschachtelten Filterstreifensysteme in aufeinanderfolgenden Verfahrensstufen jeweils unter Beschichten des Substrates mit Fotolack, Aufbelichten einer jedem Streifensystem zugeordneten Maske, Entwickeln des Fotolacks, Aufdampfen der gewünschten Interferenzschichten für die betreffende Filter farbe und anschließendem Ablösen des verbliebenen Fotolacks aufgebracht werden.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Fotolack mit den darauf liegenden, über flüssigen Filterschichten durch Aufquellen mit organischen Lösungsmitteln, vorzugsweise Dimethylketon, abgehoben wird.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Fotolack Positivlack in einer Schichtstärke von wenigstens 1 u verwendet wird.
  4. 4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzeugung der Filterschichten chemisch und mechanisch stabile Aufdampfmaterialien, z.B. hochbrechende Materialien wie Ta205, TiO2, CeO2, ZnS und dergleichen bzw. niederbrechende Materialien wie MgF2, Silo2, ThoO2 und dergleichen verwendet werden.
  5. 5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als Substrat eine planparallele Glasplatte verwendet und nach Aufbringung des Streifenfilters mit dem Fotoempfänger unter Justierung verbunden wird.
  6. 6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als Substrat der Fotoempfänger verwendet wird.
  7. 7. Fotoempfänger mit einem multichroitischen Farbstreifenfilter, dadurch gekennzeichnet, daß der Farbstreifenfilter auf eine planparallele Trägerplatte aufgedampft ist, daß die Länge der Filterstreifen größer als die Breite der wirksamen Fläche des Fotoempfängers ist und daß die Trägerplatte mit dem Fotoempfänger verbunden ist.
  8. 8. Fotoempfänger mit einem multichroitischen Farbstreifenfilter, dadurch gekennzeichnet, daß der Farbstreifenfilter auf die Oberfläche des Fotoempfängers in mehreren Verfahrensstufen aufgedampft ist.
  9. 9. Fotoempfänger nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß bei aneinander unmittelbar anschließenden lichtempfindlichen Bereichen die Filterstreifen einander so weit überlappen, daß der Grenzbereich zwischen zwei benachbarten lichtempfindlichen Bereichen des Fotoempfängers durch einen Filterbereich gesperrter Transparenz abgeschirmt ist.
  10. 10. Fotoempfänger nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Länge der Filterstreifen des Farbstreifenfilters größer als die Breite der wirksamen Fläche des Fotoempfängers ist.
DE19803013142 1980-04-03 1980-04-03 Verfahren zur herstellung eines fotoempfaengers mt einem multichroitischen farbstreifenfilter Withdrawn DE3013142A1 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19803013142 DE3013142A1 (de) 1980-04-03 1980-04-03 Verfahren zur herstellung eines fotoempfaengers mt einem multichroitischen farbstreifenfilter
EP81102285A EP0037529A1 (de) 1980-04-03 1981-03-26 Verfahren zur Herstellung eines Fotoempfängers mit einem multichroitischen Farbstreifenfilter
JP4949981A JPS56153764A (en) 1980-04-03 1981-04-03 Methdo of manufacturing photoelectric converter with multicolor stripe filter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19803013142 DE3013142A1 (de) 1980-04-03 1980-04-03 Verfahren zur herstellung eines fotoempfaengers mt einem multichroitischen farbstreifenfilter

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3013142A1 true DE3013142A1 (de) 1981-10-08

Family

ID=6099305

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19803013142 Withdrawn DE3013142A1 (de) 1980-04-03 1980-04-03 Verfahren zur herstellung eines fotoempfaengers mt einem multichroitischen farbstreifenfilter

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPS56153764A (de)
DE (1) DE3013142A1 (de)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3509198A1 (de) * 1984-03-14 1985-11-14 Canon K.K., Tokio/Tokyo Farbfilter
DE3940640A1 (de) * 1989-12-08 1991-06-20 Nokia Unterhaltungselektronik Verfahren zum herstellen einer substratplatte fuer eine fluessigkristallzelle mit schwarzmatrixbereichen
DE4024200A1 (de) * 1990-07-31 1992-02-06 Ideal Standard Verfahren zur oberflaechengestaltung von sanitaerarmaturen
DE4407067A1 (de) * 1994-03-03 1995-09-07 Balzers Hochvakuum Dielektrisches Interferenz-Filtersystem, LCD-Anzeige und CCD-Anordnung sowie Verfahren zur Herstellung eines dielektrischen Interferenz-Filtersystems und Verwendung des Verfahrens
US6238583B1 (en) * 1997-07-02 2001-05-29 Balzers Hochvakuum Ag Process for production of a structure of color filter layer system regions

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3509198A1 (de) * 1984-03-14 1985-11-14 Canon K.K., Tokio/Tokyo Farbfilter
DE3940640A1 (de) * 1989-12-08 1991-06-20 Nokia Unterhaltungselektronik Verfahren zum herstellen einer substratplatte fuer eine fluessigkristallzelle mit schwarzmatrixbereichen
DE4024200A1 (de) * 1990-07-31 1992-02-06 Ideal Standard Verfahren zur oberflaechengestaltung von sanitaerarmaturen
DE4407067A1 (de) * 1994-03-03 1995-09-07 Balzers Hochvakuum Dielektrisches Interferenz-Filtersystem, LCD-Anzeige und CCD-Anordnung sowie Verfahren zur Herstellung eines dielektrischen Interferenz-Filtersystems und Verwendung des Verfahrens
DE4407067C2 (de) * 1994-03-03 2003-06-18 Unaxis Balzers Ag Dielektrisches Interferenz-Filtersystem, LCD-Anzeige und CCD-Anordnung sowie Verfahren zur Herstellung eines dielektrischen Interferenz-Filtersystems
US6238583B1 (en) * 1997-07-02 2001-05-29 Balzers Hochvakuum Ag Process for production of a structure of color filter layer system regions
CH696088A5 (de) * 1997-07-02 2006-12-15 Oerlikon Trading Ag Verfahren zur Herstellung einer Struktur von Filterschichtsystem-Bereichen.

Also Published As

Publication number Publication date
JPS56153764A (en) 1981-11-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69119181T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Filters
DE2617914C2 (de) Verfahren zum Herstellen von Mustern eines dünnen Films auf einem Substrat bei der Herstellung von integrierten Schaltungen
DE69232632T2 (de) Verfahren zur Einfärbung von Spiegelelementen einer deformierbaren Spiegelanordnung
DE69601989T2 (de) Verfahren zur Behandlung eines Substrats zur selektiven Verleihung von wasserabweisenden Eigenschaften, auf einem Substrat geformtes Lichtabschirmelement und Herstellungsverfahren eines Farbfiltersubstrats für ein Bildgerät
DE3752197T2 (de) Photomaske und Herstellungsverfahren dafür
DE3751134T2 (de) Simultanes Ätzen von Mehrschicht- und Bildstrukturen.
DE2658623C2 (de) Aufzeichnungsträger und Verfahren zu seiner Herstellung
DE2057929C3 (de) Transparente Fotomaske
DE69126165T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Farbfilters
DE102004034418A1 (de) Verfahren zur Herstellung struktuierter optischer Filterschichten auf Substraten
DE2703160B2 (de) Verfahren zum Herstellen eines Masters für ein Phasengitter in einem mit Beugung arbeitenden subtraktiven Farbfiltersystem
DE3013142A1 (de) Verfahren zur herstellung eines fotoempfaengers mt einem multichroitischen farbstreifenfilter
DE3147985C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsträgers mit einer mehrfarbigen Feinstruktur
EP0037529A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Fotoempfängers mit einem multichroitischen Farbstreifenfilter
DE4342123B4 (de) Farbfilter, insbesondere für eine Flüssigkristallanzeigeeinrichtung, und Verfahren zu seiner Herstellung
DE69331145T2 (de) Farbbildprojektionsgerät
US4182647A (en) Process of producing stripe filter
DE2835363A1 (de) Verfahren zum uebertragen von strukturen fuer halbleiterschaltungen
DE2123887C3 (de)
DE2646022A1 (de) Lichtstaerkeverteilungs-korrekturfilter sowie dessen herstellverfahren
DE2952230C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsträgers mit einem bei Bestrahlung mit Licht in wenigstens zwei unterschiedlichen Farben erscheinenden Muster
DE19612956A1 (de) Verfahren zur Bildung einer schwarzen Matrix einer Flüssigkristalldisplayvorrichtung
DE1166935B (de) Verfahren zum Erzeugen von Masken auf Halbleiterkoerpern
CH643956A5 (de) Verfahren zur herstellung eines aufzeichnungstraegers mit einer aufzeichnung hoher informationsdichte.
DE2650817A1 (de) Verfahren zur herstellung einer phasenmaske mit amplitudenstruktur

Legal Events

Date Code Title Description
AG Has addition no.

Ref country code: DE

Ref document number: 3036943

Format of ref document f/p: P

8139 Disposal/non-payment of the annual fee