DE2847453C2 - Verfahren zum Herstellen trübungsfreier, elektrisch leitfähiger SnO↓2↓-Schichten auf alkalireichem Glas - Google Patents

Verfahren zum Herstellen trübungsfreier, elektrisch leitfähiger SnO↓2↓-Schichten auf alkalireichem Glas

Info

Publication number
DE2847453C2
DE2847453C2 DE19782847453 DE2847453A DE2847453C2 DE 2847453 C2 DE2847453 C2 DE 2847453C2 DE 19782847453 DE19782847453 DE 19782847453 DE 2847453 A DE2847453 A DE 2847453A DE 2847453 C2 DE2847453 C2 DE 2847453C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
alkali
layer
glass
layers
free
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE19782847453
Other languages
English (en)
Other versions
DE2847453B1 (de
Inventor
Paul Hinz
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Schott AG
Original Assignee
Jenaer Glaswerk Schott and Gen
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jenaer Glaswerk Schott and Gen filed Critical Jenaer Glaswerk Schott and Gen
Priority to DE19782847453 priority Critical patent/DE2847453C2/de
Priority to JP11580379A priority patent/JPS5562826A/ja
Priority to GB7935040A priority patent/GB2035979A/en
Priority to BE6/46985A priority patent/BE879744A/fr
Priority to NL7907950A priority patent/NL7907950A/nl
Priority to FR7926999A priority patent/FR2440341A1/fr
Publication of DE2847453B1 publication Critical patent/DE2847453B1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2847453C2 publication Critical patent/DE2847453C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • C03C17/25Oxides by deposition from the liquid phase
    • C03C17/253Coating containing SnO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/211SnO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/24Doped oxides
    • C03C2217/241Doped oxides with halides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/11Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/112Deposition methods from solutions or suspensions by spraying

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Aufbringen elektrisch leitender Schichten auf alkalireichem Glas.
Unter alkalireichem Glas wird ganz bevorzugt Floatglas oder ein auf andere Weise als durch Floaten hergestelltes Glas mit ähnlichem Na-Gehalt wie Floatglas verstanden. Das bevorzugte Verfahren zum Aufbringen von elektrisch teitfähigen SnO2-Schichten ist Jas Sprühverfahren. Man geht dabei so vor, daß SnCU in einem Lösungsmittel zusammen mit Flußsäure auf die ca. 6000C heiße Glasscheibe gesprüht wird, worauf sich eine mit Fluor dotierte SnOrSchicht ausgebildet. Die so erhaltenen Schichten haben Widerstände von 10-30Ω/α oder mehr und IR-Reflextionen von 80—70% oder weniger. Die Schicht ist völlig trübungsfrei auf Glassubstraten mit niedrigem Alkaligehalt, wie z. B. Glas mit etwa 4% Alkali. Sie ist getrübt auf stärker alkalihaltigem Glas vom Floatglastyp mit etwa 12% Alkali. Die Ursache des Trübwerdens ist eine NaCl-Bildung aus dem Na des Glases mit den Cl' der Sprühlösung.
Gerade bei den am Band (Float oder anders) hergestellten Flachgläsern, die fast ausnahmslos vom Floatglas-Typ sind, besteht nun ein erhebliches Interesse an elektrisch leitfähiger, IR-reflektierender Beschichtung. Nach dem heutigen Stand der Technik wird eine trübungsfreie Schicht dann erhalten, wenn die Glasscheibe vor dem Erhitzen auf ca. 6000C in eine Lösung von Kieselsäuremethylester eingetaucht und gleichmäßig herausgezogen wird. Nach dem Erhitzen hat sich eine gegen Alkali sperrende SiOj-Schicht ausgebildet.
Für die Herstellung trübungsfreier elektrisch leitfähiger Zinndioxidschichten im Sprühverfahren ist bereits das Aufbringen einer Sperrschicht aus Metalloxiden, wie z. B. Oxiden von Silber, Aluminium, Antimon, Kupfer, Eisen. Kobalt, Nickel, Thallium oder Zink vorgeschlagen worden (US-PS 26 17 741, 26 17 742 und 26 17 745). Dabei wird jedoch (US-PS 26 17 742) die Möglichkeit der Verwendung einer Zinndioxid-Sperrschicht ausdrücklich ausgeschlossen.
Andererseits gibt es die Möglichkeit, mit dem chlorfreien uibutylzinndiazetat oder ähnlichen Verbindungen unmittelbar — d. h. ohne Sperrschicht — Floatglas zu beschichten. Hier erhalt man trübungsfreie Schichten, die aufgrund ihrer schlechten Leitfähigkeit jedoch uninteressant sind. Versucht man die Leitfähigkeit durch Dotieren mit HF zu verbessern, so fallen in der Lösung schwer lösliche Alkyl-Zinn-Fluoride aus. Die Schwerlöslichkeit dieser Verbindungsklasse ist bekannt. Diese schwerlösliche Verbindungsklasse bildet sich immer dann, wenn Organozinnverbindungen mit dem Fluor-Ion F' zusammenkommen. Wenn auch in der
in britischen Patentschrift 9 65 792 in Tabelle I »Lösungen« aufgeführt sind, die, wie z. B. No. 6—8, Dibutylzinnoxid, Ammoniumazetat, Flußsäure in Alkohoi, n-Propanol und wenig Salzsäure enthalten, so zeigte die Nacharbeitung, daß Suspensionen und keine Lösungen vorliegen.
Unter den teuren C-F-Verbindungen, die diese störende Reaktion nicht zeigen, ist Trifluoressigsäure noch die billigste. Eine F'-Dotierung, die ja b'.i ca. 6000C geschieht, kann gemäß dem Stand der Technik auch mit Trifluoressigsäure durchgeführt werden. Man erhält so zwar trübungsfreie Schichten mit guter Leitfähigkeit, doch sind die Kosten der Organozinn-Verbindung etwa doppelt so hoch wie die des SnCl4, und die Trifluoressigsäure ist etwa lOmal so teuer wie HF. Da bei jedem Sprühverfahren nur ein geringer Teil des Sprühgutes in Schicht umgesetzt wird, ist der Preis einer solchen Sprühlösung eine sehr entscheidende Größe.
Einen partiellen Fortschritt, der die Trifluoressigsäure und ihre Kosten eliminiert, das Dibutylzinnoxid mit seinen gegenüber SnCU immer noch doppelt so hohen Kosten aber beibehält, zeigt die DE-OS 28 06 468 auf, wonach die organische Zinnverbindung — offenbart wird nur Dibutylzinnoxid — als Pulver aufgesprüht wird. Die zur Erzielung einer hinreichend guten Leitfähigkeit erforderliche F'-Dotierung kann mit billiger HF erfolgen, insbesondere wenn man diese erst unmittelbar vor der Sprühdüse zumischt.
Will man demnach die wirtschaftlich optimale Beschichtung — insbesondere am Floatband — erreichen, so kommt einzig und allein die Verwendung einer SnCU-Lösung in Betracht. Dieses wiederum erfordert auf alkalireichem Glas den Einsatz einer durch Sprühen aufzubringenden — am Band nicht anders möglich — Sperrschicht.
Bei dem in der bereits erwähnten US-PS 2 61 741 vorgeschlagenen Aufbringen einer (nicht aus Zinndioxid bestehenden) Sperrschicht ist ein Wiederaufheizen der Scheibe vor der SnO2-Belegung auf durchaus kritische Temperaturen erforderlich. Dies ist jedoch aus zeitli chen und Energie-Gründen sehr unövionomisch. Auch wird in der zitierten US-Patentschrift darauf verwiesen, daß beide Seiten eines Flachglases mit einer Sperrschicht belegt werden sollen, um ein Verwerfen während der Aufbringung der L'itfähigen Schicht zu vermeiden. Das wiederum ist auch aufwendig und undurchführbar in einem Floatprozeß.
Ziel der Erfindung war es daher, ein Verfahren zu entwickeln, das keinen der Nachteile des Standes der Technik mehr aufweist, das »on line« arbeitet und sowohl für die Beschichtung geschnittener Scheiben als auch für ein Bändveffähfen geeignet ist, das nur ein einmaliges Aufheizen der Scheibe benötigt bzw. mit der mitgeführten Wärme eines kontinuierlichen Bandes auskommt, und das im wesentlichen die billigst mögliche Sprühlösung aus SnCU und HF zum Aufbau der leitfähigen Schicht benötigt, während nur für eine sehr kurze vorgeschaltete Sprühperiode mittels einer Dibutylzinnoxid-Lösung eine dünne Sperrschicht gegen
Alkali aufgebaut wird.
Dieses Ziel wird mit einem Verfahren gemäß den Patentansprüchen erreicht. Bei diesem Verfahren wird also das auf etwa 630°C erhitzte alkalireiche Glas mit einer Lösung eines Dialkylzinnoxids — aus ökonomischen Gründen ist Dibutylzinnoxid bevorzugt — nur so kurz besprüht, daß sich eine sehr dünne, gegen Alkali sperrende SnCVSchicht ausbildet, und danach wird direkt und ohne Wiederaufheizung aus einer zweiten Düse mit an sich bekannter HF-dotierter SnCU-Lösung weiter gesprüht, bis eine trübungsfreie SnOrSchicht mit etwa20Q/O entstanden ist
Zur erfindungsgemäßen Problemlösung mußten eine Reihe von Vorurteilen überwunden werden. Hinsichtlich der dünnen SnO2-AIkalisperrschicht war zu erwarten daß Alkali bei den hohen Temperaturen von >600°C in die SnOrSchicht einwandert und mit dem nachfolgenden SnCU reagiert, was dem oben zitierten Stand der Technik zu entnehmen ist Weiterhin ist bekannt, daß durr-h Alkalieinwanderung die Leitfähigkeit der SnC^-Schicht »vergiftet« wird. Überraschenderweise ist jedoch die Leitfähigkeit ebenso gut wie auf alkaliarmen Glas, und es gibt keine Trübungen. Es sind keinerlei Hinweise bekannt, daß SnCh sich so völlig anders verhält als die zahlreichen, oben angegebenen Oxide anderer Metalle. Das gilt insbesondere für so dünne Schichten, wie sie aus einem Sprühvorgang extremer Kürze resultieren, der nicht zu einem wesentlichen Temperaturabfall der Glasscheibe führt, so daß ohne Wiederaufheizen weiterbeschichtet werden kann. Ein weiterer Vorteil ist darin zu sehen, daß trotz zweier Sprühlösungen eine einheitliche SnO2-Schicht resultiert. Nach dem Stand der Technik entstehen stets Schichtpakete aus Sperrschicht und Leitschicht mit all den möglichen chemischen und op-sehen Grenzflächenproblemen.
Die gemäß der Erfindung erhaltenen SnO2-Schichten sind zwar trübungsfrei, zeigen jedoch wegen geringfügiger Schwankungen der Schichtdicke — im Gebiet der Interferenzschichtdicke — ein deutliches Farbenspiel. Dies kann dadurch stark zurückgedrängt werden, daß die Alkalisperrschicht aus der Dialkylzinnoxid- Lösung dicker als erforderlich gemacht wird, indem lediglich die Beschichtungszeit verlängert wird. Unmittelbar anschließend wird mit der HF-haltigen SnCl4-Lösung weiter gesprüht. Die erhaltenen dickeren Schichten sind deutlich farbhomogener.
ϊ Die Erfindung wird durch die nachstehenden Beispiele erläutert, wobei die wechselseitig voneinander abhängigen Konzentrationen und Sprühzeiten in weitem Rahmen variiert werden können. Durch wenige Handversuche ist die jeweils geeignete Kombiration
ίο festlegbar.
Beispiel 1
Eine 6300C heiße Floatglasscheibe wird zuerst aus einer Düse 3 Sekunden lang besprüht mit:
LciungA: 120 g DB TO (Dibutylzinnoxid)
200 m Aceton
400 ml Methanol
30 ml Essigsäure (98%ig).
Es entsteht eine gering leitende dünne SnO2-Schicht, auf die unmittelbar und ohne Wiederaufheizen weiter gesprüht wird über 8 Sekunden mit:
Lösung B: 200 ml SnCl,
780 ml Methanol
-3 20 ml HF (40%).
Es entsteht eine k'are, trübungsfreie Schicht mit R = 20ii/G. Durch Änderung der Konzentration in Lösung B und der Sprühzeit werden Werte zwischen so R = 20-1000n/D eingestellt
Beispiel 2
Eine 630° C heiße Floatglasscheibe wird wie in Beispiel 1 mit Lösung A beschichtet, jedoch wird die
J5 Sprühzeit verdreifacht auf 9 Sekunden, so daß eine dicke, wenig leitende SnO2-Schicht entsteht. Auf diese wird entsprechend Beispiel 1 mit Lösung B weiter beschichtet Es entsteht eine klare, trübungsfreie Schicht mit R = 20n/D, die jedoch infolge der dicken Unterschicht aus dem Interferenzgebiet herauskommt und farbhomogener ist als die Scheibe gemäß Beispiel 1, bei der geringfügige Schichtdickenschwankungen deutlich an Hand der Interferenzfarben erscheinen.

Claims (2)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur Herstellung trübungsfreier elektrisch leitfähiger Zinndioxidschichten im Sprühverfahren auf alkalireichem Glas, bei dem eine Sperrschicht aus einem Metalloxid durch Aufsprühen einer Lösung einer Metallverbindung in einem organischen Lösungsmittel die etwa 6000C heiße Glasoberfläche und anschließend eine Zinndioxidschicht durch Aufsprühen einer Lösung von Zinntetrachlorid und Flußsäure in einem organischen Lösungsmittel aufgebracht werden, dadurch gekennzeichnet, daß als Sperrschicht eine Zinndioxidschichl durch Aufsprühen eines Dialkylzinnoxids aufgebracht wird und zeitlich unmittelbar darauf folgend und ohne Wiederaufheizung des Glases die zweite Zinndioxidschicht aufgesprüht wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Dialkylzinnoxid Dibutylzinnoxid verwendet wird.
DE19782847453 1978-11-02 1978-11-02 Verfahren zum Herstellen trübungsfreier, elektrisch leitfähiger SnO↓2↓-Schichten auf alkalireichem Glas Expired DE2847453C2 (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19782847453 DE2847453C2 (de) 1978-11-02 1978-11-02 Verfahren zum Herstellen trübungsfreier, elektrisch leitfähiger SnO↓2↓-Schichten auf alkalireichem Glas
JP11580379A JPS5562826A (en) 1978-11-02 1979-09-11 Method of forming cloudless electrically conductive sno2 layer in high alkali contained glass
GB7935040A GB2035979A (en) 1978-11-02 1979-10-09 Method of Applying Electrically Conducting SnO2 Layers on Alkali- Rich Glass
BE6/46985A BE879744A (fr) 1978-11-02 1979-10-30 Procede pour creer sur des verres riches en alcalis, des couches de sn0 electroconductrices et limpides
NL7907950A NL7907950A (nl) 1978-11-02 1979-10-30 Werkwijze voor de bereiding van troebelingsvrije, elektrisch geleidende sno2-lagen op alkalimetaalrijk glas.
FR7926999A FR2440341A1 (fr) 1978-11-02 1979-10-31 Procede pour creer, sur des verres riches en alcalis, des couches de sno2 electroconductrices et limpides

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19782847453 DE2847453C2 (de) 1978-11-02 1978-11-02 Verfahren zum Herstellen trübungsfreier, elektrisch leitfähiger SnO↓2↓-Schichten auf alkalireichem Glas

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2847453B1 DE2847453B1 (de) 1980-04-30
DE2847453C2 true DE2847453C2 (de) 1982-03-11

Family

ID=6053631

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19782847453 Expired DE2847453C2 (de) 1978-11-02 1978-11-02 Verfahren zum Herstellen trübungsfreier, elektrisch leitfähiger SnO↓2↓-Schichten auf alkalireichem Glas

Country Status (6)

Country Link
JP (1) JPS5562826A (de)
BE (1) BE879744A (de)
DE (1) DE2847453C2 (de)
FR (1) FR2440341A1 (de)
GB (1) GB2035979A (de)
NL (1) NL7907950A (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4337986A1 (de) * 1993-11-06 1995-05-11 Schott Glaswerke Tauchverfahren zur Herstellung transparenter, elektrisch leitfähiger Schichten aus SnO¶2¶ auf Glassubstraten

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1171505A (en) * 1980-07-23 1984-07-24 Katherine V. Clem Conductive elements for photovoltaic cells
US4547400A (en) * 1985-02-25 1985-10-15 Ford Motor Company Method of making infrared reflective glass sheet-I
US4548836A (en) * 1985-02-25 1985-10-22 Ford Motor Company Method of making an infrared reflective glass sheet-II
JP2541269B2 (ja) * 1987-08-27 1996-10-09 日本板硝子株式会社 酸化物薄膜の製造方法
DE3915232C2 (de) * 1989-05-10 1995-09-21 Goldschmidt Ag Th Verfahren zur Herstellung elektrisch leitender, IR-reflektierender fluordotierter Zinnoxidschichten auf der Oberfläche von Gegenständen aus Glas oder Keramik oder von Emailbeschichtungen und Zubereitung zum Aufbringen solcher Schichten
GB2252332A (en) * 1991-01-31 1992-08-05 Glaverbel Glass coated with two tin oxide coatings
US20090214770A1 (en) 2008-02-21 2009-08-27 Dilip Kumar Chatterjee Conductive film formation during glass draw

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2617742A (en) * 1951-12-19 1952-11-11 Pittsburgh Plate Glass Co Electroconductive article and production thereof
US2617745A (en) * 1951-12-19 1952-11-11 Pittsburgh Plate Glass Co Method of producing an electroconductive article
US2617741A (en) * 1951-12-19 1952-11-11 Pittsburgh Plate Glass Co Electroconductive article and production thereof
GB965792A (en) * 1960-01-29 1964-08-06 Pittsburgh Plate Glass Co Transparent electroconductive articles and manufacture thereof

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2617742A (en) * 1951-12-19 1952-11-11 Pittsburgh Plate Glass Co Electroconductive article and production thereof
US2617745A (en) * 1951-12-19 1952-11-11 Pittsburgh Plate Glass Co Method of producing an electroconductive article
US2617741A (en) * 1951-12-19 1952-11-11 Pittsburgh Plate Glass Co Electroconductive article and production thereof
GB965792A (en) * 1960-01-29 1964-08-06 Pittsburgh Plate Glass Co Transparent electroconductive articles and manufacture thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4337986A1 (de) * 1993-11-06 1995-05-11 Schott Glaswerke Tauchverfahren zur Herstellung transparenter, elektrisch leitfähiger Schichten aus SnO¶2¶ auf Glassubstraten

Also Published As

Publication number Publication date
DE2847453B1 (de) 1980-04-30
JPS5562826A (en) 1980-05-12
GB2035979A (en) 1980-06-25
NL7907950A (nl) 1980-05-07
BE879744A (fr) 1980-02-15
FR2440341A1 (fr) 1980-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0114282B1 (de) Verfahren zum Herstellen von Indiumoxid-Zinnoxid-Schichten
EP0120408B2 (de) Verfahren zur Beschichtung eines transparenten Substrates
DE3544840C2 (de)
DE19541937C1 (de) Wärmedämmendes Schichtsystem mit niedriger Emissivität, hoher Transmission und neutraler Ansicht in Reflexion und Transmission
DE956346C (de) Verfahren zum UEberziehen einer schwerschmelzbaren Platte aus Glas od. dgl. mit einer ungleichmaessigen, transparenten, zusammenhaengenden und elektrisch leitenden Schich t
DE3820444C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines gemusterten Dekorationsspiegels
DD149058A5 (de) Verfahren zum kontinuierlichen ablagern einer schicht eines feststoffs
DE2847453C2 (de) Verfahren zum Herstellen trübungsfreier, elektrisch leitfähiger SnO↓2↓-Schichten auf alkalireichem Glas
DE3026200A1 (de) Nichtlinearer widerstand und verfahren zu seiner herstellung
DE2755468B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Cadmium-Stannat-Schichten auf Substraten,vorzugsweise auf Glas,in einem Tauchverfahren
DE3324647C2 (de)
DD292765A5 (de) Verfahren zur herstellung einer reflexionsreduzierenden beschichtung aus lithiumsilikat fuer eine kathodenstrahlroehre
DE4324576C1 (de) Verfahren zur Herstellung einer mit einer Mehrfachschicht versehenen Glasscheibe
KR920018781A (ko) 섬유상 도전성필러 및 그 제조방법
DE69630559T2 (de) Verfahren zum Beschichten von Flachglas
EP0258635B1 (de) Verfahren zum Herstellen einer vorgespannten und/oder gebogenen Glasscheibe, insbesondere einer Sonnenschutzscheibe
AT394546B (de) Verfahren und vorrichtung zum beschichten von glasscheiben oder -bahnen
DE4412318C2 (de) Wärmebehandlung einer mit einer teilreflektierenden Silberschicht versehenen Glasscheibe
DE1066267B (de)
EP0396994B1 (de) Verfahren zur Herstellung elektrisch leitender, IR-reflektierender fluordotierter Zinnoxidschichten auf der Oberfläche von Gegenständen aus Glas oder Keramik oder von Emailbeschichtungen und Zubereitung zum Aufbringen solcher Schichten
DE4128601B4 (de) Beschichtetes Glas und Verfahren zur Herstellung desselben
DE3036049C2 (de)
DE2441862B2 (de) Verfahren zur Herstellung einer transparenten, wärmereflektierenden Schicht aus dotiertem Indiumoxid auf Flachglas
DE4407247A1 (de) Beschichtetes Glas und Verfahren zu seiner Herstellung
AT408978B (de) Verglasungsscheibe mit solarabschirmungseigenschaften und ein verfahren zur herstellung einer solchen scheibe

Legal Events

Date Code Title Description
8339 Ceased/non-payment of the annual fee