DE2843261C2 - Verfahren zum Wärmebehandeln von Halbleiterbauelementen - Google Patents
Verfahren zum Wärmebehandeln von HalbleiterbauelementenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Wärmebehandeln
von Halbleiterbauelementen, die in ein Quarzglasrohr eingebracht werden, bei Temperaturen
oberhalb 12000C, wobei ein Gasstrom durch das Quarzglasrohr geleitet wird.
Verfahren dieser Art werden seit langem auf dem Gebiet der Herstellung von Halbleiterbauelementen
ausgeübt, sei es beispielsweise zum Eindiffundieren von Dotiermittel in Silizium-Scheiben Of1Sr zum Abscheiden
von dotierten epitaktischen Schienten aus Silizium-Scheiben. Es wurde festgestellt, daß die verwendeten
Quarzglasrohre sich plastisch sehr wesentlich bei den zur Anwendung kommenden hohen Temperaturen
verformen. Die Folge solcher Verformungen ist, daß mit Halbleiterscheiben beschichtete Trägerhorden nicht
mehr in das Quarzglasrohr eingebracht werden können, so daß ein häufiges Auswechseln von verformten
Quarzglasrohren gegen neue, unverformte Rohre unvermeidlich ist.
Um die vorgenannten Mangel der Gefahr einer störenden Verformung zu beheben, sind aus der DE-PS
17 71 077 Quarzglasrohre für die Durchführung halbleitertechnologischer Verfahren bekannt, die auf der
Außenoberfläche einen Überzug aus einer zusammenhängenden, feinkristallinen Cristobalit-Schicht aufweisen.
Quarzglasrohre dieser Art haben sich seit vielen Jahren bewährt. Die Herstellung solcher Quarzglasrohre
erfordert jedoch eine zusätzliche Behandlung normaler Quarzglasrohre.
Die Gefahr der Verformung von Quarzglasrohren suchte man auch schon dadurch zu umgehen, daß man
an deren Stelle Rohre aus Silizium oder Siliziumcarbid verwendet hat (DE-AS 22 53 411).
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Nutzungsdauer von Quarzglasrohren bei der Durchführung
halbleitertechnologischer Verfahren zu verlängern, gleichgültig, ob diese Rohre ohne oder mit einem
formstabilisierend wirkenden Überzug zum Einsatz
gelangen.
Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren der eingangs charakterisierten Art erfindungsgemäß dadurch gelöst,
daß zumindest während der Zeit, in der die Tensperatur
von 12000C überschritten wird, im Innern des
Quarzglasrohres ein Druck aufrechterhalten wird, der 4 · 102 bis 1463 · 102 Pa höher ist als der Druck auf die
Außenoberfläche des Quarzglasrohres im erhitzten Rohrbereich. Vorzugsweise wird ein Innendruck im
Quarzglasrohr aufrechterhalten, der 53 - 102 bis 213 · 102 Pa höher ist als der Druck auf die Außenoberfläche
des Quarzglasrohres im erhitzten Rohrbereich.
Das erfindungsgemäße Verfahren hat den Vorteil, daß auch normale Quarzglasrohre für die Durchführung
halbleitertechnologischer Verfahren einsetzbar werden, weil durch den Innenüberdruck ein Kollabieren des
Rohres bei den hohen Arbeitstemperaturen von beispielsweise 12800C sicher vermieden wird. Es
ermöglicht sogar, die Wandstärke der Quarzglasrohre
zu vermindern, so daß eine Einsparung an hochwertigem Quarzglas erzielt wird, die bis zu 30% betragen
kann.
Um ein unkontrolliertes Aufblähen der Quarzglasrohre zu vermeiden, hat es sich als vorteilhaft erwiesen,
solche Rohre aus Quarzglas zu verwenden, deren Außenoberfläche in an sich bekannter Weise formstabilisierend
behandelt ist, beispielsweise wie in den DE-PS 1696061, DE-PS 1771077 oder DE-PS 2038564
beschrieben.
Anhand der schematischen Figur wird das Verfahren nach der Erfindung beschrieben.
In dem Ofen 1 befindet sich das Quarzglasrohr 2. Im Rohr 2 sind auf einer Trägerhorde 3 die mit Wärme zu
behandelnden Scheiben 4, wie Silizium-Scheiben, angeordnet. Die Horde 3 mit den Scheiben 4 wird in das
Rohr 2 nach Abnahme der Kappe 5 ein- und ausgebracht. In das Rohr 2 wird, wenn mittels des Ofens
1 eine Temperatur von über 12000C im Innern des Rohres erreicht ist, ein Gasstrom, wie Sauerstoffstrom,
angedeutet durch den Pfeil 6, eingeleitet; er verläßt das Rohr wieder, wie durch Pfeil 7 angedeutet. Mittels des
Ventils 8 wird der Druck innerhalb des Rohres 2 so reguliert, daß er im Innern des Rohres 4 · 102 bis
1463 ■ 102 Pa höher ist als außerhalb des Rohres an der
so Stelle 9. Nach Beendigung des Wärmebehandlungsprozesses wird nach genügender Abkühlung die Kappe 5
vom Rohr 2 entfernt, die Trägerhorde 3 mit den Scheiben 4 dem Rohr entnommen und das Rohr danach
mit einer neuen Trägerhorde mit wärmezubehandelnden Scheiben beschickt. Das Rohr 2 verbleibt während
dieser Entnahme und Beschickung im Ofen 1. Die Kappe 5 wird mittels der Feder 10 auf dem Rohr 2
festsitzend gehalten.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (3)
1. Verfahren zum Wärmebehandeln von Halbleiterbauelementen,
die in ein Quarzglasrohr eingebracht werden, bei Temperaturen oberhalb 12000C,
wobei ein Gasstrom durch das Quarzglasrohr geleitet wird, dadurch gekennzeichnet,
daß zumindest während der Zeit, in der die Temperatur von 1200°C überschritten wird, im
Innern des Quarzglasrohres (2) ein Druck aufrechterhalten wird, der 4 · 102 bis 146,3 · 102 Pa
höher ist als der Druck auf die Außenoberfläche des Quarzglasrohres (2) im erhitzten Rohrbereich.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß ein Innendruck im Quarzglasrohr (2) aufrechterhalten wird, der 53 · 102 bis 213 · 102 Pa
höher ist
3. Durchführung des Verfahrens nach den Ansprüchen 1 oder 2 mit einem Quarzglasrohr,
deren Außenoberfläche formstabilisierend behandelt ist.
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