DE2706358A1 - Photopolymerisierbare masse - Google Patents
Photopolymerisierbare masseInfo
- Publication number
- DE2706358A1 DE2706358A1 DE19772706358 DE2706358A DE2706358A1 DE 2706358 A1 DE2706358 A1 DE 2706358A1 DE 19772706358 DE19772706358 DE 19772706358 DE 2706358 A DE2706358 A DE 2706358A DE 2706358 A1 DE2706358 A1 DE 2706358A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- photoinitiator
- composition according
- photopolymerizable composition
- photopolymerizable
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 31
- -1 monocyclic carbocyclic aryl radicals Chemical class 0.000 claims description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 20
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 claims description 5
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 claims description 3
- WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N methyl Chemical compound [CH3] WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 claims 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- UIJGNTRUPZPVNG-UHFFFAOYSA-N benzenecarbothioic s-acid Chemical compound SC(=O)C1=CC=CC=C1 UIJGNTRUPZPVNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 3
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- GNFLKHGTZDQRBL-UHFFFAOYSA-N s-(4-methylphenyl) 4-(1,3-benzoxazol-2-yl)benzenecarbothioate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1SC(=O)C1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 GNFLKHGTZDQRBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMGHFAGCHUDSMG-UHFFFAOYSA-N s-(4-methylphenyl) benzenecarbothioate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1SC(=O)C1=CC=CC=C1 KMGHFAGCHUDSMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QISOBCMNUJQOJU-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1h-pyrazole-5-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C=1NN=CC=1Br QISOBCMNUJQOJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUKUURHRXDUEBC-KAYWLYCHSA-N Atorvastatin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C1=C(C=2C=CC(F)=CC=2)N(CC[C@@H](O)C[C@@H](O)CC(O)=O)C(C(C)C)=C1C(=O)NC1=CC=CC=C1 XUKUURHRXDUEBC-KAYWLYCHSA-N 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001504 aryl thiols Chemical class 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- RNOOHTVUSNIPCJ-UHFFFAOYSA-N butan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CCC(C)OC(=O)C=C RNOOHTVUSNIPCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 150000007970 thio esters Chemical class 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F299/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
- C08F299/02—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates
- C08F299/04—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from polyesters
- C08F299/0407—Processes of polymerisation
- C08F299/0421—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F299/0428—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F299/0435—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/02—Printing inks
- C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
- C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/122—Sulfur compound containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S525/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
- Y10S525/92—Polyurethane having terminal ethylenic unsaturation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
Description
PATENTANWÄLTE
OG 3 58 DiHng.Wolff
H.Bartels
Dipl.-Chem. Dr. Brandes Dr.Hng.Held
Dipl.-Phys. Wolff
« 8 München 22, ThierschstraBe
Tel.(089)293297 Telex 0523325 (patwo d)
Telegrammadresse: wolffpatent münchen
(BLZ 60010070)
(BU 60070070)
außer samstags
20. Januar 1977
Reg.Nr. 125
Eastman Kodak Company, 343 State Street, Rochester,
Staat New York, Vereinigte Staaten von Amerika
709833/0874
l'hotopolyincrisierbare Masse.
Die Erfindung betrifft eine photopolymerisierbare oder photohärtbare
Masse, die sich für Beschichtungszwecke eignet und als Formmasse zur Herstellung von Formelementen verwenden läßt,
mit mindestens einer photopolymerisierbaren oder photohärtbaren, äthylenisch ungesättigten Verbindung. Ganz speziell betrifft
die Erfindung photopolymerisierbare oder photohärtbare Massen mit einer oder mehreren photopolymerisierbaren oder photohärtbaren
oder photovernetzbaren, äthylenisch ungesättigten Verbindungen und einem Photoinitiator.
Ls ist allgemein bekannt, daß sich die verschiedensten ätiiylenisch
ungesättigten Verbindungen, einschließlich Polymeren,durch
Bestrahlung härten lassen. Die Härtung läßt sich dabei erreichen durcii Vermischen einer vergleichsweise geringen Menge eines sogenannten
Photoinitiators mit einer oder mehreren äthylenisch ungesättigten Verbindungen, durcii Erzeugung einer Beschichtung
oder eines Filmes oder einer Folie oder eines Formkörpers aus der Mischung und durch Härtung derselben durch Einwirkung von
Licht. Ganz allgemein hat es sich dabei als vorteilhaft erwiesen, zur Härtung Licht zu verwenden, das einen wirksamen Anteil
von Wellenlängen von 2000 bis 4000 Ä-linheiten aufweist.
Ls ist allgemein bekannt, als Photoinitiatoren Verbindungen, wie Benzoine, Benzophenone, halogenierte Kohlenwasserstoffe
und Disulfide zu verwenden.
Überraschenderweise wurde nun gefunden, daß (. 8-Arylarylcarbotkioesäureester
sowie Bis-S-Arylaryldicarbothioesäurecstcr besonders
wirksame Initiatoren für die Photohärtung, einschließlich Photopolymerisation und Quervernetzung von äthylenisch ungesättigten
photohärtbaren Verbindungen darstellen.
Gegenstand der Erfindung ist somit eine photopolymerisierbare
709833/0874
- Ji -
Hasse mit mindestens einer photohär tba reu, üthyleuiscii ungesättigten
Verbindung und einem Photoinitiator, die dadurch gekennzcicnnet ist, daL sic als Photoinitiator einen S-Arylarylcarbothioesäurces
ter oder einen Bis-S-ArylaryldicarbotiiioesrMirccstcr,
deren Arylrestc aus monocycl ischen , carliocycl ischen
Arylresten bestehen, enthält.
!He Arylrestc der I-.ster können somit beispielsweise aus Arylresten
der lhenylreihc bestehen, z.B. Phenyl resten oder substituierten
Phenylresten. Dies bedeutet, daL die Arylrestc,
z.B. die Phenylreste, durch einen oder mehrere Substituenten substituiert sein können, bei denen es sich um inerte Reste
handelt, d.h. Reste, die nicht in die Reaktion eintreten, durch die die Ister und Diester erzeugt werden. Beispiele für derartige
inerte Substituenten sind Alkyl-, Alkoxy-, Cyano-, Dialkylaiiiino-,
Acylamido-, Aryl-, Aryloxy-, lienzoxazolyl-, Benzothiazolyl- und Benzimidazolylreste sowie llalo^enatome.
Gemäß einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung enthält die photopolymerisierbare Masse als Photoinitiator einen
Lster oder Diester der folgenden Formel:
Ii
worin bedeuten:
R1 und R2
gleich 1 oder 2 und
jeweils ein Wasserstoff- oder Halogenatom oder einen Alkylrest mit bis zu 12 C-Atomen oder einen Alkoxyrest mit bis zu 12 C-Atomen oder einen Phenyl-,
1 2
R und R die gleiche oder eine verschiedene Bedeutung haben können.
709833/0874
Besonders vorteilhafte Photoinitiatoren der angegebenen Formel
sind auf Grund des Verhältnisses von Herstellungskosten zur Wirkungsweise Verbindungen der Formel I, worin bedeuten:
R' ein Wasserstoffatom oder einen kurzkettigen Alkylrest mit
bis zu 4 C-Atomen, insbesondere einen Methylrest,
R ein Wasserstoffatom oder einen kurzkettigen Alkylrest mit
bis zu 4 C-Atomen, insbesondere einen Methyl- oder 2-Benzoxazolylrest und
η gleich 1.
Hie erfindungsgemäß verwendeten Photoinitiatoren lassen sich
nach üblichen bekannten Methoden herstellen, hin Verfahren zur
Herstellung von Estern und Diestern der Formel I ist beispielsweise aus der US-PS 3 26U 736 bekannt. Ein weiteres Verfahren
zur Herstellung der Verbindungen besteht aus der Umsetzung eines Arylcarboxylsäurechlorides oder Aryl-di-carboxylsiiurechlorides
mit einem Arylthiol. Die Ausgangskomponenten, aus denen sich die Lster und Diester herstellen lassen, sind im Handel erhältlich
oder lassen sich nach üblichen bekannten Verfahren herstellen.
Die erfindungsgemäß verwendeten Photoinitiatoren eignen sich zum Härten der verschiedensten üblichen bekannten, üthylenisch
ungesättigten Verbindungen und Polymeren, die üblicherweise Photopolymerisationsverfahren unterworfen werden. Zur Herstellung
der photopolymerisierbaren erfindungsgemäßen Massen geeignete
ungesättigte Verbindungen sind beispielsweise aus den US-PS 3 460 105; 2 769 777; 3 386 904; 3 429 795; 3 450 612 sowie
3 814 702 und der I)T-OS 1 813 011 bekannt. Bei den erfindungsgemäß einsetzbaren äthylenisch ungesättigten, photohärtbaren
Verbindungen kann es sich um Monomere oder polymere Verbindungen oder Mischungen hiervon handeln. Der Ausdruck "photohärtbar"
wird dabei im üblichen Sinne gebraucht und bezeichnet Verbindungen, die durch Exponierung mit ultraviolettem Licht polymerisiert und/oder quervernetzt werden können.
709833/0874
Beispiele der besonders üblichen und bekannten äthyleniscli ungesättigten,
photohärtbarcn, monomeren Verbindungen, die erfindungsgemäß
eingesetzt werden können, sind die Derivate der Acrylunti
Methacrylsäure, beispielsweise ihre Lster, Amide und nitrile.
Beispiele für derartige Verbindungen sind Methylmethacrylat,
.Athylmethacrylat, Z-Äthylhexyliuetiiacrylat, Isobutylmcthacrylat,
3utylacrylat, Z-zithyllicxylncrylat, 2-Hydroxyäthylacrylat, 2-lietlioxyiitnylacrylat,
2-llydroxypropylacrylat, Äthylenglykoldiacrylat,
1^-Tetramethylen-bis-methacrylat, Trimethylolpropantriacrylat,
Pentaerythritoltetraacrylat, Alkylmethacrylat, AIk)I-acrylat,
Acrylamid, Acrylnitril sowie Diacctonacrylamid.
Zu den äthylenisch ungesättigten, photohärtbaren Verbindungen
gehören des weiteren beigielswcise sogenannte Acrylat-gekappte
oder mit Acrylatresten abgeschlossene Oligomere, z.B. Acrylatgekappte
Isocyanate und Iipoxyharze.
Weitere ungesättigte Verbindungen^xjdijex*jixiK zur Herstellung der
erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren Massen, sind Vinylacetat,
Vinylchlorid, Vinylidenchlorid, Styrol, Alkylstyrole,
Ilalostyrole sowie IJivinylbenzole. Beispiele für polymere Verbindungen,
die sich zur Herstellung der erfindungsgemäiien photopolymerisierbaren
Massen eignen, sind ungesättigte Polyester sowie CeIluloseacetatcrotonat. Die ungesättigten Polymeren können
einen Teil der photohärtbaren, äthylenisch ungesättigten Verbindung bilden oder aber die photopolymerisierbare Masse kann als
photohärtbare, äthylenisch ungesättigte Verbindung lediglich eine oder mehrere ungesättigte polymere Verbindungen enthalten.
Ungesättigte Polyester für die photopolymerisierbaren Massen der Lrfindung lassen sich beispielsweise herstellen durch Umsetzung
von α,β-ungesättigten Dicarbonsäuren und/oder ihren Anhydriden
mit mehrwertigen Alkoholen. Ein Teil der α,β-ungesättigten
Dicarbonsäuren kann durch gesättigte Dicarbonsäuren oder aromatische Dicarbonsäuren, z.B. Isophthalsäure UlId dergleichen
ersetzt werden.
709833/0874
In vorteilhafter Weise werden als mehrwertige Alkohole zweiwertige
Alkohole verwendet, wie beispielsweise Äthylcnglykol. In vorteilhafter Weise verwendbar sind jedoch auch dreiwertige
und mehrwertige Alkohole, wie beispielsweise 'iriiucthylulpropau.
Auch können Mischungen von zweiwertigen und dreiwertigen oder mehrwertigen Alkoholen verwendet werden. Beispiele für geeignete
αι,β-ungesättigte Dicarbonsäuren und ihren Anhydriden sind
beispielsweise Malein-, Fumar-, Itacon- und Zitraconsäure bzw.
ihre Anhydride.
Wie bekannt, werden ungesättigte Polyester in der Regel in kombination
mit einem äthylenisch ungesättigten Monomeren, insbesondere Styrol, in den sie löslich sind, verwendet. Derartige
Polyester-Monomer-Lösungen, die erfindungsgemäß eingesetzt werden können, werden in der Regel als ungesättigte Polyesterharze
bezeichnet.
Die optimale Konzentration der S-Arylarylcarbothioes.iureester
und ßis-S-arylaryldicarbothioesäurcester in den photopolymcrisierbaren
Massen der Erfindung hängt von mehreren Variablen ab, bei ^i el sweise dem im Einzelfalle verwendeten Ester, der licstrahlungsdauer,
dem erwünschten Härtungsgrad, der oder den verwendeten äthylenisch ungesättigten Verbindungen und der angewandten
Temperatur. Dies bedeutet, daß die im Einzelfalle optimale effektive Konzentration an Photoinitiator verschieden sein kann.
Ganz allgemein haben sich jedoch Konzentrationen von etwa 0,1 bis etwa 15 Gew.-t, bezogen auf das Gesamtgewicht der photopolymerisierbaren
Masse, d.h. dem Gewicht der ungesättigten Verbindung oder ungesättigten Verbindungen und dem Gewicht an gegebenenfalls
vorhandenen Pigmenten und/oder anderen Additiven, als vorteilhaft erwiesen. Für die meisten Anwendungszwecke,z.B. zur
Erzeugung von Beschichtungen und Filmen und Folien, einschließlich Druckfarben, in welchem Falle ein rascher Härtungsgrad erwünscht
ist, haben sich Photoinitiator-Konzentrationen von etwa 0,5 bis etwa 10 Gew.-t als besonders vorteilhaft erwiesen.
Die erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren Massen können ge-
709833/0874
jeber.enfalls, wie bereits angedeutet, auioer ilen photoliii rtbaren,
üthylenisch ungesättigten Verbindungen nnil Jci.i P'iotoi u i t i ator
noch weitere Zusätze entiialten, Hie sie i'.blicut rwv i s«.- in photo-
po lyue ris ierba reu i-lusst-n des beschriebenen lyps enthalten sind.
i)ies bedeutet, daß den 'Inssr-n ^c jehcnen fa I Is noch übliclie bekannte
Inhibitoren zugesetzt werden können, ι. ι>. Hydrochinon,
p-i«iethuxyphenoi und t-Buty liiydrociiinon, iir.i die il;i rtunjs^esclivi ndi",keit
zu veriinJern und/oder um eine ΙΓμ.,^γγ i.;iorr.; La' ilit;\t
'ic- rbe i zuf iiliri-ii. ^e:; Kciterei: künneii am .la.sscii uuliciie bekannte
i'i^mente uiui/oüer larustotfe, l-'ullstoffe, Anti ox idanti on, iveichniacher,
I luiih i 1 Tsmi ttci , Vorn rbei tun.,si, i 1 fs, ι i 11 e 1 jru· tierleiche η :irc>ct:t iverdcn.
Die erf i ndmvjsgomäP.cn plintopolyiui r i.; u-rba ι cn Massen uioiieu sicii
insbesondere zur üereitun^, von liesciiichtiin^siiiassen, insbesondere
Druckfarl>en, die sicli wiederum zur Herstellung der verschiedensten
Typen von !)rucl:natcr i al i cn eijiien, ιιικΐ die bi i t.\poi;icrui.j
ii'i t ultraviolettem Licnt rascli aarten oder trocknen.
Zunächst soll die Herstellung crf i ndun^s^emai>
verwendbarer l'iiütuinitiatoren
i>c ispielsweise l>esciiricben werden.
liine Miscliun^ aus 1 ,(Ki ;_ fO,»)2 '!oIl1) 1 soul t'ua 1 oy Ich lor id und
^,-^ ü (O,-.j-ll .Mole) p-1 ο luül tliiol in 75 ml lyridin wurde drei
Stunden lang auf kückflulJteinneratur erhitzt. Nach de:! Abkühlen
wurde das Reaktions^cmi sch in ein IIC 1-Ii suasse r-liemiscii gegeben.
Das Reaktionsprodukt, Uis^S-4-ucthyIphenyl7thioisophthalat wurde
abfiltriert und mit Wasser gewaschen. Der Senkelzpunkt der Verbindung
I η =_; bei 104 bis 1!)6°C. ;)ic Ausbeute war quant i tat i v.
In ents])recliender Weise wurden hergestellt:
S-( I-. lctny lplieny 1) tliiobenzoa t mit einem Schmelzpunkt von
<>8 Dis 7ü°C (quantitative Ausbeute) und S- (4-Methylphcnyl) - 1 - ( 2-bcnr.oxazoly
I) th iobenzoat mit einem Schmelzpunkt von 11>
7 bi.; 10'J0Ll ia
!.)0biger Ausbeute.
709833/0874
i)ic folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher veranschaulichen.
Zu einer Mischung aus einem Polyester eines vergleichsweise ,
geringen Molekulargewichtes aus .^ulcinsiiureaiihydrid und Propylen/
sowie Styrol im Verhältnis von <sü:2Ü wurden 2 uew.-o des zu
testenden Photoinitiators zugegeben. Auf eine Glasplatte wurde dann eine 0,DlO cm dicke Schicht der Polymer-Monomcr-Initiator-Mischung
aufgetragen und durch Bestrahlen mit einer Quecksilberiampc
eine bzw. zwei Minuten lang gehärtet. Nach dem Härten wurden die Filme von der Glasplatte abgestreift und zwei Stunden
mit Dichlormethan extrahiert. Unter diesen bedingungen polymerisiert
die Polymer-Monomcmischung ohne Initiator langsam.
Die Lxtraktion des unpolymcrisicrtcn Anteiles liefert einen Anhaltspunkt
für den Grad der Härtung. i)ie brgebnisse der Versuche
sind in der folgenden Tabelle 1 als Verhältnisse von extrahierbarem Material dargestellt. Das Verhältnis an extrahierbarem
Material ist dabei definiert als das Verhältnis von Prozent extrahierbarem Material in dem unter Verwendung des Photoinitiators
gehärteten Film zu dein cxtraiiierbaren Material des ohne Photoinitiator
gehärteten Filmes. Bei dieser Definition entspriclit demzufolge ein ^crin.jes Verhältnis einem wirksamen Photoinitiator
Zunächst wurde eine photopolymerisierbare Polynieriiiasse aus 15 «
CeIlulosepropionatcrotonat in 2-Hydroxyäthylacrylat hergestellt.
Zu diesem Ausgangsmaterial wurden dann 2 Gew.-*. des zu testenden
Photoinitiators zugegeben. Die Mischungen wurden wiederum auf Glasplatten aufgetragen und 1 Minute lang mit einer Quecksilberlampe
bestrahlt. Nach der Bestrahlung und Härtung wurden die erzeugten Iiliue von der Glasplatte abgezogen und zwei Stunden
lang mit Dichlormethan extrahiert. i)ie hrgebnisse der Versuche
sind in der folgenden Tabelle 2 zusammengestellt.
709833/0874
Zunächst wurde als photopolymcri sierhare Masse eine Masse aus
50 Teilen eines Urethan-Acryloligoiaercn (Lnciunol 10-4627;
Freeman C hem. Corp., USA), 4U Teilen 2-Mcthoxyäthylacrylat und
10 Teilen Neopcntyl^lykoldiacrylat hergestellt. Zu gleichen Anteilen
des Ansatzes wurden jeweils 2 Gew.-i, des zu testender:
Photoini tiators zugesehen. Die Massen wurden dann wiederum auf
Glasplatten aufgetragen und dadurch gehärtet, daß sie jeweils
eine Minute lang mit einer Quecksilbe rl auipc bestrahlt wurden.
Die polymerisieren Filme wurden dann wiederum von den CJasplattcr,
abgezogen und zwei Stunden lang mit Dich! ornictlian extrahiert,
aiii den Prozentsatz an nicut-polyiiicrisiertcn» Material zu bes tiiuii.cn.
Die Frj',pl>nisse dieser Versuche sind in der folgenden Tabelle 2
zusammengestellt. Aus den erhaltenen Ir^cbnissen ergibt sich,
dali die Thioester effektive Photoinitiatoren für Jrctlian-acrylsysteme
darstellen.
Ls wurden weitere Versuche durchgeführt mit |iiotopol)iacrisicrbaren
Massen aus: 70 Teilen 2-Methoxyäthylacrylat, 10 Teilen
CeI IuI osepropienntcrotonat, 10 Teilen Neoperityl glykoldi acrylat
und 42,5 lcilen Tiu„ (Ti-I'urc R-100) sowie jeweils zwei Gewichtsprozent
Piiotoinitiator.
Von diesen flüssigen Massen wurden dünne Schichten zwischen zwei Glasplatten gebracht, worauf die Schichten durch ein 0,5 Minuten
langes Bestrahlen von beiden Seiten schärtet wurden.
Die gehärteten Filme wurden dann von den Glasplatten abgezogen
und zwei Stunden lang mit Dichlormethan extrahiert.
Die getesteten l'hotoinitiatoren und der Prozentsatz an extrahierbarem
Material nach den Härtungsprozeß ergeben sich aus der folgenden Tabelle 3.
709833/0874
Beispiel | l'notoini tiator | Verhältnis von barem Material |
extrahi er- |
Härtung: 1 ι Ii nute |
Härtun«: 2 Minuten |
||
Vergleich | ohne | I.ü | 1,0 |
1 | S-(4-Methylphenyl)- thiobenzoat |
0,31 | 0,21 |
2 | S-(4-Methylphenyl)- 4-(2-benzoxazolyl)- thiobenzoat |
0,52 | 0,42 |
3 | S-I'henyl-4-(2-beriZoxa- zolyl) thiobenzoat |
0,46 | 0,4 1 |
4 | Bis^S-4 -me thyI1)Heiiyl ~]- thioi sonhthalat |
0,32 | U,24 |
Be i sp i e Nr.
Vergleich 5
Vergleich 8 9
Photoinitiator
% in Dichloriiiethan
extrahierbarc Bestand· tei Ie
ohne
S- (4-i\le thy I phenyl) thiobenzoat
S-(4-Methyl phenyl)-4-(2-benzoxazolyl)-thiobenzoat
Bis(S-4-methylphenyl)thioisophthalat
ohne
S-(4-Methylphenyl)thiobenzoat
S- (4-Mcthylphenyl)-4-(2-benzoxazolyl)-thiobenzoat
Bis(S-4-methylphenyl)thioisoph·
thai at
100 | 3 |
11, | 6 |
10, | 2 |
17, | |
100 | 8 |
15, | 9 |
14, | |
22,9
7Ό9833/0874
Beispiel Nr. |
Photoinitiator | % in Oichlormethan extrahierbare Bestand teile |
Verblei cli | ohne | 100 |
11 | S- (4-M.ct!iylphenyl) thio- benzoat |
8,8 |
12 | S-(4-Methylphenyl)-4- (2-benzoxazolyl)-thio- benzoat |
y»7 |
13 | Bis (S-4-nethylpJienyl)- | 9,2 |
thioisopiitnalat
709833/0874
Claims (8)
- Γ a t e H t a η s ρ r ü c Ii ePhotopolymerisierbare Masse mit einer photohürtbaren, äthylenisch ungesättigten Verbindung und einem l'hotoini tiator, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Photoinitiator einen S-Arylarylcarbothioesäureester oder einen Bis-S-Arylaryldicarbothioesäureester, deren Arylreste aus monocyclischen carbocyclischen Arylresten bestehen, enthält.
- 2. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen Photoinitiator der folgenden Formel enthält:—I η in der bedeuten:η gleich 1 oder 2 undR und R jeweils ein Wasserstoffatom oder einen AlkyLrest mit bis zu 12 C-Atomen, oder einen Alkoxyrest mit bis zu 12 C-Atomen oder ein Ilalogenatom oder einen Plieayl-, Fhenoxy- oder 2-Benzoxazolylrest, wobei gilt, daß R' und R die gleiche oder eine verschiedene Bedeutung haben können.
- 3. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daiS sie einen Photoinitiator der angegebenen Formel enthält, in der bedeuten:η gleich 1,R1 ein Wasserstoffatom oder einen kurzkettigen Alkylrest mitbis zu 4 C-Atomen und 2 R ein Wasserstoffatom oder einen kurzkettigen Alkylrest mit bis zu 4 C-Atomen oder einen 2-Benzoxazolylrest.
- 4. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die photohärtbare, äthylenisch ungesättigte Verbindung aus ei-709833/0674ORIGINAL INSPECTEDnem Acrylsäurederivat oder einem ungesättigten Polyesterharz besteht.
- 5. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie den Photoinitiator in einer Konzentration von 0,1 bis 15 Gew.-^, bezogen auf das Gewicht der Masse, enthält.
- 6. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie den Photoinitiator in einer Konzentration von 0,5 bis 10 Gew.-I, bezogen auf das Gewicht der Masse, enthält.
- 7. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen Photoinitiator der folgenden Formel enthält:worinR und R jeweils für ein Wasserstoffatom oder einen Methylrest stehen.
- 8. Photopolymerisierbare Masse nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß sie 0,5 bis 10 Gew.-I des Photoinitiators enthält und daß die photohärtbare, äthylenisch ungesättigte Verbindung aus einem Acrylsäureester oder einem ungesättigten Polyesterharz besteht.703833/0174
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/658,328 US4012302A (en) | 1976-02-17 | 1976-02-17 | Photocurable compositions containing s-aryl arylcarbothioic acid esters as photoinitiators |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2706358A1 true DE2706358A1 (de) | 1977-08-18 |
Family
ID=24640791
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19772706358 Pending DE2706358A1 (de) | 1976-02-17 | 1977-02-15 | Photopolymerisierbare masse |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4012302A (de) |
JP (1) | JPS5298789A (de) |
DE (1) | DE2706358A1 (de) |
FR (1) | FR2341597A1 (de) |
GB (1) | GB1542830A (de) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4264709A (en) * | 1977-08-01 | 1981-04-28 | Eastman Kodak Company | Synergistic photoinitiators for ultraviolet curable resins |
US4234676A (en) * | 1978-01-23 | 1980-11-18 | W. R. Grace & Co. | Polythiol effect curable polymeric composition |
US4308119A (en) * | 1979-02-21 | 1981-12-29 | Panelgraphic Corporation | Abrasion-resistant optical coating composition containing pentaerythritol based polyacrylates and cellulose esters |
DE2936039A1 (de) * | 1979-09-06 | 1981-04-02 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Wasserdispergierbare, durch strahlen vernetzbare bindemittel aus urethanacrylaten, ein verfahren zu ihrer herstellung sowie die verwendung dieser bindemittel in waessriger dispersion auf dem anstrich-, druckfarben- und textilsektor |
US4399192A (en) * | 1980-01-07 | 1983-08-16 | Panelographic Corporation | Radiation cured abrasion resistant coatings of pentaerythritol acrylates and cellulose esters on polymeric substrates |
US4302527A (en) * | 1980-08-21 | 1981-11-24 | Eastman Kodak Company | Photoreactive compositions comprising a light sensitive compound and another compound with reactive site |
US4422972A (en) * | 1980-08-21 | 1983-12-27 | Eastman Kodak Company | Novel light-sensitive compounds and photoreactable compositions comprising same |
US4373007A (en) * | 1980-11-03 | 1983-02-08 | Panelgraphic Corporation | [Non-photoinitialio] non-photocatalyzed dipentaerythritol polyacrylate based coating compositions exhibiting high abrasion resistance |
JPH0649728B2 (ja) * | 1986-06-19 | 1994-06-29 | 日本ペイント株式会社 | 光重合開始剤 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3386829A (en) * | 1965-03-15 | 1968-06-04 | Eastman Kodak Co | Photoreproduction process utilizing photosensitive thianthrene compositions |
US3827957A (en) * | 1973-01-12 | 1974-08-06 | Scm Corp | Photopolymerizable pigmented vehicles containing chlorosulfonated or alpha-haloalkylated polynuclear ketone initiators |
US3903322A (en) * | 1974-03-07 | 1975-09-02 | Continental Can Co | Photopolymerizable ethylenically unsaturated compounds photoinitiated with benzoyl derivatives of diphenyl sulfide and an organic amine compound |
US3962056A (en) * | 1974-11-21 | 1976-06-08 | Eastman Kodak Company | Photosensitive compositions containing benzimidazole sensitizers |
-
1976
- 1976-02-17 US US05/658,328 patent/US4012302A/en not_active Expired - Lifetime
-
1977
- 1977-02-15 DE DE19772706358 patent/DE2706358A1/de active Pending
- 1977-02-16 JP JP1601377A patent/JPS5298789A/ja active Pending
- 1977-02-17 FR FR7704474A patent/FR2341597A1/fr not_active Withdrawn
- 1977-02-17 GB GB6736/77A patent/GB1542830A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5298789A (en) | 1977-08-18 |
GB1542830A (en) | 1979-03-28 |
FR2341597A1 (fr) | 1977-09-16 |
US4012302A (en) | 1977-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4231579C2 (de) | Alkyl-Bisacylphosphinoxide | |
EP0073413B1 (de) | Acylphosphinoxidverbindungen und ihre Verwendung | |
EP0057474B1 (de) | Acylphosphinoxidverbindungen, ihre Herstellung und Verwendung | |
EP0040721B1 (de) | Acylphosphinverbindungen und ihre Verwendung | |
EP0217205B1 (de) | Copolymerisierbare Fotoinitiatoren | |
EP0108037B1 (de) | Propiophenonderivate als Photoinitiatoren für die Photopolymerisation | |
EP0007468B1 (de) | Photohärtbare Zusammensetzungen | |
EP0262629B1 (de) | Photopolymerisierbare Aufzeichnungsmasse, insbesondere zur Herstellung von Druckplatten und Reliefformen | |
EP0638547B1 (de) | Neue urethangruppenhaltige (Meth)Acrylate | |
DE3114341A1 (de) | Acylphosphinverbindungen, ihre herstellung und verwendung | |
DE3034697A1 (de) | Acylphosphinsulfidverbindungen, ihre herstellung und verwendung | |
DE3023486A1 (de) | Photopolymerisierbare mischungen mit aroylphosphonsaeureestern als photoinitiatoren | |
DE3126433A1 (de) | "neue gemische auf basis von substituierten dialkoxyacetophenonen, ihre verwendung als photoinitiatoren sowie photopolymerisierbare systeme enthaltend solche gemische" | |
EP0073995A1 (de) | Photopolymerisierbare Massen, deren Verwendung für zahnärztliche Zwecke, sowie Verfahren zur Herstellung von Zahnersatzteilen, Zahnfüllungen und Überzügen | |
EP0007508A2 (de) | Acylphosphinoxidverbindungen, ihre Herstellung und ihre Verwendung | |
EP0125206A1 (de) | Flüssiges Photoinitiatorgemisch | |
EP0458741A2 (de) | Strahlenhärtbare lichtstabilisierte Zusammensetzungen | |
CH645655A5 (de) | Oligomeres siloxan-prepolymer, seine herstellung sowie das prepolymer enthaltende zahnfuellmasse. | |
DE2522756A1 (de) | Photopolymerisierfaehige gemische | |
DE69123765T2 (de) | Harzzusammensetzung für optische Formverfahren | |
EP3090722B1 (de) | Durch kettenübertragungspolymerisation härtbare dentalmaterialien | |
DE2541133B2 (de) | Verwendung von N-Nitrosodiarylaminen als Stabilisatoren für photopolymerisierbare Massen | |
DE2706358A1 (de) | Photopolymerisierbare masse | |
EP0074475B1 (de) | Verfahren zur Photopolymerisation von Vinylverbindungen und photopolymerisierbares Material | |
DE2917748A1 (de) | Mit uv-licht polymerisierbare polyaetherurethanmasse |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OHN | Withdrawal |