DE2541899C3 - Feldemissions-Elektronenquelle - Google Patents
Feldemissions-ElektronenquelleInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Feldemissions-Elektronenquelle mit einer in einer Vakuumkammer angeordneten
Feldemissionsspitze, mit einer von der Feldemissionsspitze beabstandeten Anode und mit einer
Verdampfungsquelle.
Eine Feldemissions-Elektronenquelle weist eine FeIdemissicnsspitze
und eine von der Feldemissionsspitze beabstandete und ihr gegenüberliegende Anode auf. Die
zwischen der Feldemissionsspitze und der Anode auftretende Spannungsdifferenz bewirkt, daß Elektronen
aus der Feldemissionsspitze austreten und beschleunigt werden. Die angelegte Spannung liegt in der
Größenordnung von 3 bis 5 KV. Normalerweise liegt die Anode an Masse und an die Feldemissionsspitze
wird eine negative Hochspannung gelegt. Die Feldemissionsspitze befindet sich in einer Vakuumkammer, in der
ein Ultrahochvakuum in der Größenordnung von 1,3 · 10~9 mbar herrscht, so daß die Feldemissionsspitze
stabile Betriebsbedingungen besitzt und über einen langen Zeitraum hinweg arbeitet. Die Feldemissionsspitze ist eine geätzte Spitze, bei der zur Emission von
Elektronen kein Heizdraht erforderlich ist. Der Durchmesser der Spitze ist sehr klein, beispielsweise
0,2 μηι oder kleiner. Die Feldemissionsspitze ist aus
einem Material, beispielsweise Wolfram usw., hergestellt, das eine geringe Austrittsarbeit für Elektronen
aufweist.
Die beschriebenen Feldemissions-Elektronenquelle hat den Vorteil, daß mit ihr ein Elektronenstrahl hoher
Elektronendichte erzeugt werden kann. Es treten jedoch Instabilitäten auf Grund der in der Vakuumkammer
enthaltenen großen Zahl an Gasmolekülen auf, die aus der inneren Oberfläche der Vakuumkammer und
der Anodenoberfläche, in denen die Gasmoleküle eingeschlossen sind, oder an denen sie anhaften,
austreten, wenn die von der Feldemissionsspitze emittierten Elektronen während des Betriebs des
Elektronen-Mikroskops auf diese Flächen auftreffen. Als Folge davon ist es nicht möglich, daß das
Elektronen-Mikroskop über einen langen Zeitraum hinweg stabil arbeitet. ]e größer der von der
Feldemissions-Elektronenquelle abgegebene Strahlstrom ist, umso mehr tritt dieser nachteilige Vorgang in
Erscheinung. Beispielsweise ist bei einer in einem Rasterelektronen-Mikroskop verwendeten Feldemissions-Elektronenquelle
bei der die von der Feldemissionsspitze emittierten Scrahlströme groß sind und
beispielsweise 10 bis 20 μΑ betragen, der Zeitraum, bei dem das Mikroskop stabil arbeitet, sehr kurz und dauert
nur einige Minuten. Es gibt zwar Möglichkeiten und Verfahren, beispielsweise durch Ausheizen, den Gasaustritt
aus den Oberflächen der Vakuumkammer und der
Anode bei Auftreffen von Elektronen zu verringern. Diese Verfahren bzw. der Ausheizvorgang muß jedoch
eine relativ lange Zeit hindurch ausgeführt werden, um die Gase von den Oberflächen abzupumpen, so daß
diese Verfahren praktisch nicht angewandt werden können.
Aus der US-PS 37 66 427 ist eine Feldemissions-Elektronenquelle
beschrieben, bei der die Verdampfungsquelle an einer Stelle angeordnet ist, von der aus die
Bedampfimg der Vakuum-Innenfläche bzw. der Innenfläche einer Abschirmelektrode möglich ist Bei der
bekannten Elektronenquelle kann jedoch die Anode nicht mit einem von der Verdampfungsquelle abgedampften
Material bedampft werden.
Da die von der Feldemissionsspitze abgegebenen Elektronen aber gerade auf die Anode mit relativ
großer Energie auftreffen, ist der Anteil der während des Betriebs von der Anode abgegebenen Gasmoleküle
besonders groß.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Feldemissions-Elektronenquelle und ein Verfahren zum
Betreiben einer Feldemissions-Elektronenquelle zu schaffen bzw. anzugeben, mit der bzw. mit dem das
Freisetzen von Gasmolekülen während des Betriebs noch besser verhindert werden kann, so daß dadurch die
Standzeiten der Feldemissions-Elektronenquelle wesentlich erhöht werden und ein noch stabilerer Betrieb
der Elektronenquelle möglich wird.
Diese Aufgatte wird erfindungsgemäß durch die im kennzeichnendem Teil des Anspruchs 1 angegebenen
Merkmale bzw. durch die im kennzeichnenden Teil des Anspruchs 12 abgegebenen Maßnahmen gelöst.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unterans|iriichen angegeben.
Auf Grund der Tatsache, daß die Verdampfungsquelle erfindungsgenläß in der Nähe der Feldemissionsspitze
angeordnet ist und der Anode direkt gegenüberliegt, ist es mit der vorliegenden Erfindung möglich, auch die
Anode wirkungsvoll mit einem Material zu bedampfen, das ein Austreten der Gasmoleküle beim Auftreffen der
Elektronen auf die Anode auch aus der Anode wirkungsvoll verhindert. Dadurch ergibt sich eine
wesentlich längere Lebensdauer der Elektronenquelle, die über einen wesentlich größeren Zeitraum hinweg
stabil und mit konstantem Elektronenstrahl betrieben werden kann.
Die Erfindung wird nachstehend anhand der Zeichnungen beispielsweise näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1 eine schematische Darstellung eines Rasterelektronen-Mikroskops,
bei dem die erfindungsgemäße Feldemissions-Elektronenquelle verwendet wird,
F i g. 2 einen Querschnitt durch die erfindungsgemäße Feldemissions-Elektronenquelle,
Fig. 3 einen Ausschnitt der erfindungsgemäßen Feldemissions-Elektronenquelle in vergrößerter Darstellung,
und
Fig.4 einen Ausschnitt der Feldemissions-Elektronenquelle
gemäß einem abgewandelten Ausführungsbeispiel der Erfindung, in vergrößerter Darstellung.
Das in Fig. 1 dargestellte Rasterelektronen-Mikroskop besitzt einti Feldemk'kms-Elektronenquelle, ein
Elektronen-Linsensystem und eine Nachweiseinrichtung mit einer Bildwiedergabevorrichtung. Die Feldemissions-Elektronenquelle
besteht aus einer Vakuumkammer 101, einer in der Vakuumkammer 101 angeordneten Feldemissionsspitze 102 als Elektronenquelle,
einer von der Feldemissionsspitze 102 beabstandcten Anode 103. einer in der Nähe der Feldemissionsspitze
102 angeordneten Verdampfungsquelle 104, einer ersten zwischen der Feldemissionsspitze 102 und der
Anode 103 liegenden Spannungsquelle 105, deren Spannung die Elektronen von der Feldemissionsspitze
102 auf die Anode 103 hin beschleunigt, und aus einer
zweiten, mit der Verdampfungsqulelle 104 in Verbindung
stehenden Stromquelle 106, die den Strom für die Verdampfung bereitstellt Die Feldemissions-Elektronenquelle
weist ferner ein Isolierteil 107, eine Abschirmplatte 108 und eine dritte Spannungsquelle 109 auf. Der
isolierteil 107 haltert die Feldemissionsspitze 102 und
die Verdampfungsquelle 104 in Vakuumraum 101 und isoliert diese Bauteile elektrisch von der Vakuumkammer
lOl.Die Abschirmplatte 108 ist so angebracht, daß sich das von der Verdampfungsquelle 104 abgedampfte
Verdampfungsmaterial nicht auf die Oberfläche des Isolierteiles 107 absetzen kann. Eine aus der dritten
Spannungsquelle 109, einem Widerstand 110 und einem
Schalter 111 bestehende Schaltung wird eingeschaltet und heizt die Feldemissionsspitze 102 auf, bevor eine aus
der ersten Spannungsquelle 105 und einem Schalter 112
bestehende Schaltung eingeschaltet wird, die das Elektronenmikroskop in Funktion setzt, so daß reaktionsfähige
Gase, die in der Feldemissionsspitze 102 eingelagert sind oder an ihr anhaften, abgedampft
werden.
Die Feldemissions-Elektronenquelle emittiert Elektronen, die teilweise durch die öffnungen 113 und 114 in
der Anode 103 und in einer zwischen der Elektronenquelle und dem Elektronen-Linsensystem liegenden
Trennwand 115 hindurchgehen, so daß ein Elektronenstrahl 116 gebildet wird, der auf ein Objekt 117 auffällt.
Nachdem der Elektronenstrahl 116 durch die Öffnungen
113 und 114 hindurchgegangen ist, wird er mittels einer
■ Blende 118 und einer Objektivlinse 119 fokussiert und
danach mit einer Ablenkspule 120 abgelenkt, so daß das Objekt 117 mit dem Elektronenstrahl 116 abgetastet
werden kann.
Nachfolgend soll der Grundgedanke der vorliegen-
' den Erfindung im einzelnen erläutert werden. Die Bauteile, die die Feldemissions-Elektronenquelle bilden,
werden normalerweise in einer Luftumgebung hergestellt und die Elektronenquelle wird darüber hinaus auch
in einer Luftumgebung zusammengesetzt. Als Folge davon haften reaktionsfähige Gase an den Bauteilen der
Elektronenquelle an, oder sind in diesen Bauteilen eingeschlossen. Wenn eine derartige Elektronenquelle,
die die Feldemissionsspitze aufweist, durch Anlegen der Betriebsspannung zwischen die Feldemissionsspitze und
die Anode in Ultrahochvakuum in der Größenordnung von 1,3 · 10-8 bis l,3-10"9mbar betrieben wird,
treffen die von der Feldemissionsspitze emittierten Primärelektronen auf die Innenflächen der Vakuumkammer
und auf die Anodenfläche usw. auf. Darüber hinaus treffen auch die durch die Primärelektronen
erzeugten Sekundärelektronen auf diese Oberflächen auf. Daher werden die an den Oberflächen anhaftenden
reaktionsfähigen Gase und die in den Oberflächen eingeschlossenen reaktionsfähigen Gase innerhalb der
Vakuumkammer freigesetzt und der Druck in der Vakuumkammer steigt an. Die Elektronenquelle kann
dann keinen konstanten Elektronenstrom bereitstellen, da reaktionsfähige Gase an der Feldemissionsspitze
anhaften. Dies ist einer der Gründe, weshalb die eine Feldemissionsspitze aufweisende Elektronenquelle über
einen längeren Zeitraum hinweg nicht stabil arbeitet. Gemäß der vorliegenden Erfindung werden aus der die
Feldemissions-Elektronenauelle und die VerdamDfunes-
quelle enthaltenden Vakuumkammer die Gase mit einer Vakuumpumpe abgepumpt und ein Ultrahochvakuum in
der Größenordnung von 1,3 · 10~8 bis 1,3 · 10"9mbar
aufrechterhalten, bevor das Material von der Verdampfungsquelle abgedampft wird. Danach wird eine aus
einer Stromquelle 106, einem Widerstand 124 und einem Schalter 125 bestehendes Schaltung eingeschaltet, um
das Verdampfungsmaterial abzudampfen, das dann auf den Oberflächen der Teile, auf die die Primär- und
Sekundärelektronen auffallen, eine Verdampfungsschicht bilden. Danach wird die die Stromquelle 106
enthaltende Schaltung an Masse gelegt und die die Spannungsquelle 105 enthaltende Schaltung wird
eingeschaltet, um das Elektronenmikroskop in Betrieb zu setzen. Bei diesem Vorgang arbeiten aiso die
Vakuumpumpen auch während des Verdampfungsvorgangs weiter, um Gase aus der Vakuumkammer
abzupumpen. Wenn also die Aufdampfschichten bei Ultrahochvakuum erzeugt werden, verhindern diese, die
Oberflächen der Bauteile bedeckenden Aufdampfschichten, daß die reaktionsfähigen Gase aus den
Oberflächen austreten können. Obgleich die Primär- und Sekundärelektronen auf die aufgedampften Schichten
auftreffen, werden keine reaktionsfähigen Gase freigesetzt, da die aufgedampften Schichten keine
reaktionsfähigen Gase enthalten und sehr rein sind. Als Verdampfungsmaterial können verschiedene Materialien,
die verdampft werden können, verwendet werden, also beispielsweise Gold, Aluminium, Kohlenstoff,
Silber, Titan, Molybdän, Kalium, Palladium, Rhenium, Mangan, Tantal, Nickel, Chrom, Eisen, Ruthenium,
Wolfram, Bor, Kupfer, Platin, Halbleitermaterialien wie Silicium und Germanium, sowie eines oder mehrerer
dieser Materialien enthaltenden Verbindungen oder Stoffe. Darüber hinaus kann auch als zu verdampfendes
Material Edelstahl oder eine Verbndung oder ein Stoff mit Edelstahl verwendet werden.
Die Dicke der aufgedampften Schicht hängt von der Energie der beschleunigten Elektronen und dem
Verdampfungsmaterial ab und wird so gewählt, daß die beschleunigten Elektronen nach Durchgang durch die
aufgedampften Schichten die Oberflächen der Bauteile nicht erreichen. Im Falle, daß das Verdampfungsmaterial
beispielsweise Gold, Nickel oder Edelstahl ist, ist die aufgedampfte Schicht beispielsweise mindestens 0,3 μπι
dick.
Darüber hinaus ist es vorteilhaft, die aufgedampften Schichten über einen relativ langen Zeitraum hinweg
auszubilden. Denn die Verdampfungsquelle dampft zu Beginn des Verdampfungsvorganges das Material mit
darin enthaltener, reaktionsfähiger. Gasen ab, so daß die aufgedampften Schichten, die sich zu Beginn des
Verdampfungsvorgangs bilden, reaktionsfähige Gase enthalten und nicht rein sind. Nachdem die von der
Verdampfungsquelle abgegebenen reaktionsfähigen Gase von der Vakuumpumpe abgepumpt worden sind,
enthalten die danach erzeugten, aufgedampften Schichten keine reaktionsfähigen Gase mehr und sind daher
rein. In diesem Falle wird als Verdampfungsmaterial beispielsweise Nickel, Chrom, Eisen, Edelstahl, Titan,
Mangan, Molybdän, Palladium, Rhenium, Ruthenium und Wolfram verwendet Diese Materialien können
über einen langen Zeitraum hinweg, beispielsweise 30 Minuten lang oder langer, verdampft werden und die
Verdampfungstemperatur dieser Materialien ist geringer als deren Schmelzpunkt.
Im Falle, daß als Verdampfungsmaterial ein magnetisches Material, beispielsweise Nickel oder Eisen,
verwendet wird, tritt ein Astigmatismus am Elektronenstrahl auf, wenn die aufgedampften, aus magnetischem
Material bestehenden Schichten ungleichmäßig sind. Um diesen Schwierigkeiten aus dem Weg zu gehen,
'. werden nicht-magnetische Materialien verwendet, also
beispielsweise Edelstahl, Gold, Aluminium, Kupfer, Molybdän, Ruthenium, Palladium, Silber, Rhenium,
Platin, Wolfram, Titan, Tantal, Germanium und Silicium usw.
in Anhand der Fig. 2 soll nachfolgend der Aufbau der
Feldemissons-Elektronenquelle gemäß der vorliegenden Erfindung im einzelnen erläutert werden. Die
Vakuumkammer 101 besitzt einen Wandteil 201, einen oberen Teil 202 und einen unteren Teil 203, die unter
ι > Verwendung von Dichtungen 204 und 204 luftdicht
miteinander verbunden sind. Die Vakuumkammer 101 wird ständig über eine Vakuumleitung 206 mittels einer
(nicht dargestellten) Vakuumpumpe, die beispielsweise eine Ionenpumpe sein kann, evakuiert. Der Isolierteil
:u 107 weist eine mit der Feldemissionsspitze 102 in
Verbindung stehende Elektrode 207 und mit der Verdamplungsquelle 104 über Verbindungsteile 210 in
Verbindung stehende Elektrode 208 auf. Diese Elektroden 207 und 208 haltern die Feldemissionsspitze 102
j. bzw. die Verdampfungsquelle 104. Darüber hinaus ist
der Isolierteil 107 mit dem oberen Teil 202 luftdicht verbunden und trennt die Elektroden 207 und 208
elektrisch vom oberen Teil 202. Die Anode 103 ist mittels Schrauben 209 am unteren Teil 203 der
i" Vakuumkammer fest angebracht. Die Spannung der
Anode 103 ist gleich der an den Wänden der Vakuumkammer 101 anliegenden Spannung, die
üblicherweise das Massepotential ist. Die Anode 103, die als Platte ausgebildet sein kann, besitzt eine Öffnung
>". 113, durch die der von der Elektronenquelle kommende
Elektronenstrahl hindurchtritt. Die Abschirmplatte 108 ist mittels eines Verbindungsteils 211 an einer der
Elektroden 208 befestigt. Die andere Elektrode 208 sollte nicht mit der Abschirmplatte 108 verbunden sein,
so daß durch diese Elektrode Strom für die Verdampfung fließen kann.
Fig.3 zeigt in vergrößerter Darstellung einen Ausschnitt der erfindungsgemäßen Feldemissions-Elektronenquelle.
Die den Bauteilen von F i g. 2 entspre-
j"> chenden Bauteile sind mit den gleichen Bezugszeichen
versehen. Ein Heizfaden 301 haltert die Feldemissionsspitze 102. Die beiden Enden des Heizfadens 301 sind
mit den Elektroden 207 verbunden. Der Heizfaden 301 heizt die Feldemissionsspitze 102 auf, wenn die
•ίο Heizschaltung eingeschaltet wird. Die Verdampfungsquelle 104 besitzt einen aus den zu verdampfenden
Material hergestellten Draht, beispielsweise einen Draht aus Nickel, Edelstahl usw. Der als Verdampfungsquelle
104 dienende Draht ist schleifenförmig oder
so spulenförmig ausgebildet, um gleichmäßige Aufdampfschichten
zu erzeugen. Die Enden des Drahtes sind mit den Elektroden 208 verbunden, Ober die Strom zur
Verdampfung zugeführt wird. Vorzugsweise soll der Mittelpunkt der Schleife oder der Spule auf der Achse
Mi der Spitze 102 liegen. Der Draht kann auch eine Litze
sein, d. h. aus mehreren dünneren Drähten bestehen, wobei die einzelnen Litzendrähte aus unterschiedlichen
Verdampfungsmaterialien bestehen. Bei der Verdampfungsquelle 104 dieser Ausführungsform wird ein Draht
von 0,8 mm Durchmesser aus Edelstahl verwendet durch den 30 Minuten lang ein Strom von 9 A fließt, so
daß gleichmäßige Aufdampfschichten mit einer Dicke von etwa 03 μπι entstehen. Der Draht kann jedoch auch
in Form einer Halbschleife ausgebildet sein, wenn der Astigmatismus des Elektronenstrahls, der auf Grund
ungleichmäßiger Aufdampfschichten entsteht, klein ist. Bei dem vorliegenden Ausführungsbeispiel wird der
Draht selbst als Verdampfungsquelle verwendet. Jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese Ausführungsform
beschränkt. Es ist vielmehr auch möglich, übliche Verdampfungsquellen, beispielsweise eine korbförmige
Verdampfungsquelle zu verwenden, in der das Verdampfungsmaterial enthalten ist.
In Fig.4 ist eine abgewandelte Elektronenquelle
gemäß der vorliegenden Erfindung dargestellt. Die Bezugszeichen entsprechen denen von F i g. 2. Bei der
Ausführungsform gemäß F i g. 4 ist ein zylinderförmiges Abschirmteü 401 an der Abschärmplatte 1OS befestigt
und um die Feldemissionsspitze 102 herum angeordnet, wodurch verhindert wird, daß sich Verdampfungsmate-
rial auf der Oberfläche der Feldemissionsspitze 102 absetzt. Der Abschirmteil 101 wird aus folgendem
Grunde verwendet: Wenn Nickel, Molybdän, Ruthenium, Tantal, Wolfram, Rhenium und Bor usw. als
Verdampfungsmaterial verwendet wird, so reagieren diese Materialien bei Anlagerung an die Feldemissionsspitze
102 mit dieser, so daß die Feldemissionsspitze 102 zerstört wird. Um dies zu vermeiden, wird der
Abschirmteil 401 verwendet. Darüber hinaus wird der
ίο Astigmatismus des Elektronenstrahles verringert, wenn
der Abschirmteil aus magnetischem Abschirmmaterial hergestellt wird. Wenn Verdampfungsmaterialien, die
nicht mit der Spitze 102 reagieren, verwendet werden, ist der Abschirmteil 101 nicht erforderlich, weil das der
Spitze anhauende Verdampfungsmaierial durch die
Aufheizung der Spitze entfernt wird.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (12)
1. Feldemissions-Elektronenquelle mit einer in einer Vakuumkammer angeordneten Feldemissionsspitze,
mit einer von der Feldemissionsspitze beabstandeten Anode, und mit einer Verdampfungsquelle, dadurch gekennzeichnet, daß die
Verdampfungsquelle (104) in der Nähe der Feldemissionsspitze (102) und derart angeordnet ist, daß bei
Betrieb der Verdampfungsquelle (104) eine aufgedampfte Schicht auf der Räche der Anode (103)
entsteht
2. Feldemissions-Elektronenquelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Verdampfungsquelle
(104) einen Draht aufweist, dessen Enden mit einer Stromquelle (106) in Verbindung
stehea
3. Feldemissions-Elektronenquelle nach einem der Ansprüche 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß der
Draht schleifen- bzw. spulenförmig ausgebildet ist
4. Feldemissions-Elektronenquelle nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der
Mittelpunkt der Spule auf der Achse der Feldemissionsspitze (102) liegt
5. Feldemissions-Elektronenquelle nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das
Verdampfungsmaterial aus einer Gruppe ausgewählt wird, die Nickel, Chrom, Eisen, Edelstahl,
Ruthenium, Wolfram, Titan, Mangan, Molybdän, Palladium, Rhenium sowie Verbindungen und
Stoffen enthält, welche wenigstens eines dieser Materialien enthalten.
6. Feldemissions-Elektronenquelle nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die
Verdampfungsquelle (104) aus nicht-magnetischem Material besteht.
7. Feldemissions-Elektronenquelle nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das nicht-magnetische
Material aus einer Gruppe ausgewählt wird, die Edelstahl, Gold, Aluminium, Kupfer,
Molybdän, Ruthenium, Palladium, Silber, Rhenium, Platin, Wolfram, Titan, Tantal, Germanium, Silicium
sowie Verbindungen und Stoffe enthält, die wenigstens eines der Materialien enthalten.
8. Feldemissions-Elektronenquelle nach wenigstens einem der Ansprüche 2 bis 7, dadurch
gekennzeichnet, daß der Draht aus einem Material besteht, das aus einer Gruppe ausgewählt ist, welche
Nickel, Chrom, Eisen, Edelstahl, Ruthenium, Wolfram, sowie Verbindungen bzw. Stoffe enthält, die
wenigstens eines dieser Materialien aufweisen.
9. Feldemissions-Elektronenquelle nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch
gekennzeichnet, daß die Feldemissionsspitze (102) und die Verdampfungsquelle (104) auf einem
Isolierteil (107) gehaltert sind und daß eine Abschirmplatte (108) vorgesehen ist, die verhindert,
daß sich das von Verdampfungsquelle (104) abgegebene Verdampfungsmaterial auf dem Isolierteil (107)
absetzt.
10. Feldemissions-Elektronenquelle nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß ein zylinderförmiges,
um die Feldemissionsspitze (102) herum angeordnetes Abschirmteil (401) vorgesehen ist, das
verhindert, daß sich Verdampfungsmaterial auf der Oberfläche der Feldemissionsspitze (102) absetzt.
11. Feldemissions-Elektronenquelle nach Anspruch
10, dadurch gekennzeichnet, daß das zylinderförmige Abschirmteil (401) aus magnetischem
Material hergestellt ist
12. Verfahren zum Betreiben einer Fsldemissions-Elektronenquelle
nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet daß nach dem
Evakuieren der Vakuumkammer und vor dem Anlegen einer Gleichspannung zwischen der Feldemissionsspitze
und der Anode bei evakuierter Vakuumkammer von der Verdampfungsquelle Material abgedampft wird, um eine schützende
Aufdampfschicht auf der Oberfläche der Anode zu bilden.
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