DE2457488C3 - Elektrische Verbindung zwischen Bauelementen aus verschiedenen Materialien, sowie Verfahren zur Herstellung - Google Patents
Elektrische Verbindung zwischen Bauelementen aus verschiedenen Materialien, sowie Verfahren zur HerstellungInfo
- Publication number
- DE2457488C3 DE2457488C3 DE2457488A DE2457488A DE2457488C3 DE 2457488 C3 DE2457488 C3 DE 2457488C3 DE 2457488 A DE2457488 A DE 2457488A DE 2457488 A DE2457488 A DE 2457488A DE 2457488 C3 DE2457488 C3 DE 2457488C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electrical connection
- auin
- connection according
- resistor
- conductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/01—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate comprising only passive thin-film or thick-film elements formed on a common insulating substrate
- H01L27/016—Thin-film circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N69/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one superconducting element covered by group H10N60/00
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/10—Junction-based devices
- H10N60/12—Josephson-effect devices
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S505/00—Superconductor technology: apparatus, material, process
- Y10S505/825—Apparatus per se, device per se, or process of making or operating same
- Y10S505/873—Active solid-state device
- Y10S505/874—Active solid-state device with josephson junction, e.g. squid
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S505/00—Superconductor technology: apparatus, material, process
- Y10S505/825—Apparatus per se, device per se, or process of making or operating same
- Y10S505/881—Resistance device responsive to magnetic field
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Description
25. Elektrische Verbindung nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden ersten
Elemente voneinander verschiedene Zusammensetzung haben und das dritte Element eine in beiden
ersten Elementen stabile Phase bildet
26. Elektrische Verbindung nach Anspruch 25,
dadurch gekennzeichnet, daß das dritte Element in
beiden ersten Elementen in stöchiometrischer Zusammensetzung auftritt
27. Elektrische Verbindung nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden ersten
Elemente voneinander verschiedene Zusammensetzung haben, daß das dritte Element aus mehreren
Verbindungen bzw. Phasen besteht und daß die ersten und zweiten Elemente jeweils mindestens
ι ο eine Verbindung bzw. Phase des dritten Elements als stabile Phase enthalten.
28. Elektrische Verbindung nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, daß die im ersten und
zweiten Element vorliegenden Verbindungen bzw.
is Phasen des dritten Elements in stöchiometrischer
Zusammensetzung vorliegen.
29. Elektrische Verbindung nach einem der Ansprüche 25 bis 28, dadurch gekennzeichnet daß
die beiden ersten Elemente und das dritte Element
jeweils in einer der folgenden Kombinationen
auftreten:
Sl
52
Pb-In (8 Gew.-%)-Au
(3 Gew.-%)
Pb-In (8 Gew.-%)-Au
(3 Gew.-%)
Aulri2
Pb-In (3 Gew.-o/o)
Pb-In(8Gew.-o/o)-Au
(3 Gew.-%)
Pb-In(8Gew.-%)-Au (8 Gew.-%)
AuIn
Aulri2
Aulri2
Pb-In (8 Gew.-o/o)-Au (8 Gew.-%)
30. Elektrische Verbindung nach einem der Ansprüche 1 bis 17 oder 22 bis 29, dadurch
gekennzeichnet, daß die Verbindung (26) zwischen Anschlüssen (24) der Schaltplättchen (Chips) und
den Anschlüssen (20) von Moduln (18) hergestellt werden, auf welche die Chips montiert sind.
31. Elektrische Verbindung nach Anspruch 30, dadurch gekennzeichnet, daß bei supraleitenden
Schaltungen die Anschlüsse (20,24) der Moduln und der Chips aus Pb-In—Au-Mischkristallen bestehen
und die Verbindungen (26) aus der intermetallischen Verbindung AuIn in sehr dünner Schicht
32. Elektrische Verbindung nach Anspruch 31, dadurch gekennzeichnet daß die Verbindungen (26)
aus AuIn2 bestehen.
33. Elektrische Verbindung nach Anspruch 31 ode,r 32, dadurch gekennzeichnet daß in die
Verbindung (26) eine sehr dünne Zwischenschicht (M) eingebaut ist
Die Erfindung betrifft elektrische Verbindungen zwischen Bauelementen aus verschiedenen Materialien,
insbesondere elektrische Kontakte in supraleitenden Schaltungen; außerdem wird ein Herstellungsverfahren
für derartige Verbindungen angegeben.
Elektrische Kantakte werden in vielen herkömmli- y,
chen Schaltkreisen verwendet beispielsweise in Form metallurgischer Verbindungen zur Kontaktierung von
Moduln und Schaltplättchen (Chips) in integrierten monolithischen Schaltkreisen.
In supraleitenden Schaltkreisen spielt richtige Wahl ho
der Kontaktierung eine besondere Rolle, da durch sie Stabilität und Reproduzierbarkeit der Schaltkreise
maßgeblich beeinflußt werden können; dies gilt insbesondere für die Kontakte zu den auch in
supraleitenden Schaltkreisen notwendigen Widerständen und für des Verbindung von supraleitenden
Leiterzügen untereinander. Beispielsweise erfordern in Schaltkreisen mit Tutmelkontaktelementen die Übertragungsleitungen Impedanzabschlußwiderstände. Ein
derartiger Schaltkreis wird im US-Patent 37 58 795 beschrieben. Dort wird ein Schaltkreis mit Josephron-Kontakten zum Einspeisen von Strom in eine
supraleitende Übertragungsleitung verwendet die mit einem geeigneten Widerstandsmaterial abgeschlossen
ist Diese Übertragungsleitung liefert Stetersignale für andere Josephson-Kontakte. Die Widerstände sind
dabei oft als Dünnschicht widerstände ausgebildet
Die Herstellung von Dünnschichtwiderständen ist an sich sehr schwierig, ganz besonders aber for den Fall
von supraleitenden Schaltkreisen. Die Widerstände müssen bezüglich Allerungserscheinunf»en, Herstellung
und wiederholter Abkühlung von höherer Temperatur auf supraleitende Temperaturen stabil sein. Um die
notwendigen Schaltkreistoleranzen einzuhalten, darf der Wert des Widerstands nur um einen kleinen
Prozentsatz (ungefähr 1%) schwanken. Diese Stabilität muß gewährleistet sein, wenn die Schaltkreise bei
beliebigen Temperaturen gelagert werden, wenn sie bei höheren Temperaturen (beispielsweise 100° C) hergestellt
werden und wenn sie wiederholt zwischen Zimmertemperatur und Arbeitstemperatur (d. h. cryogenen
Temperaturen) abgekühlt werden.
Die Widerstände müssen auch reproduzierbar sein, d. h. die verschiedenen Fabrikationslose müssen denselben
Widerstandswert aufweisen. Bei der Arbeitstemperatur der Schaltkreise dürfen die Widerstandswerte nur
innerhalb eines gewissen Herstellungstoleranzbereichs liegen, der beispielsweise 5% oder weniger ausmacht.
Die Reproduzierbarkeit der Widerstandswerte stellt ein schwieriges Problem dar. Der Widerstand von
Dünnschichtmaterialien hängt von Fehlstellen ab, von Phononenstreuung, von der Dicke und von Oberflächeneffekt«!.
Zu den Fehlstellen gehören unbesetzte Gitterplätze, Versetzungen, Konigrenzen und Verunreinigungen
im Widerstandsmaterial. Reproduzierbare Widerstände können nur erhalten werden, wenn die
Korngrenzen bei der Herstellung des Widerstands reproduzierbar sind Ist die mittlere freie Weglänge der
Elektronen im Widerstand kleiner als die Korngrenze und kleiner als die Dicke des Materials, so spielen diese
Effekte für die Reproduzierbarkeit der Widerstandswerte keine so große Rolle. Die Streuung von
Elektronen an Fehlstellen ist dann jedoch wichtig und muß unbedingt berücksichtigt weden, um reproduzierbare
Widerstände zu erhalten.
Der Widerstandsbereich, der mit Hilfe von diesen Dünnschichtwiderständen abgedeckt werden kann,
stellt ebenfalls einen wichtigen Gesichtspunkt dar. Die zur Auslegung von supraleitenden Schaltkreisen notwendigen
Widerstandswerte müssen in ihm enthalten sein. Für Josephson-Schaltkreise mit Bleilegierungen als
supraleitenden Materialien liegen die gewünschten Widerstandswerte in vielen Fällen bei ungefähr
0.05-2 Ohm/Flächeneinheit. Die Einheit Ohm/Flächeneinheit
bedeutet (Widerstand). (Breite)/Länge und ist
gleichbedeutend mit spezifischem Widerstand/Dicke der Schicht
Beim Entwurf von Schaltkreisen mit Josephson-Kontakten ist es weiterhin wünschenswert, über Materialien
zu verfügen, die auch bei geringen Substrattemperaturen reproduzierbar niedergeschlagen werden können.
So werden beispiesweise oft Grundplatten mit Nb-Zusätzen verwendet Diese Grundplatten werden mit einer
Oxidschicht überzogen und danach die Tunnelschaltkreise (einschließlich der Widerstände) niedergeschlagen.
Wenn die Temperatur, bei der die Dünnschichtwiderstände hergestellt werden, zu hoch ist (ungefähr
1500C), so dring: Sauerstoff vom Oxidisolator in die
Nb-Grundplatte ein. Dadurch wird die kritische Temperatur der supraleitenden Grundplatte verändert,
außerdem auch die Dicke der Oxidisolationsschicht. Diese Dickenänderung der Isolationsschicht ändert die
charakteristische Impedanz der Übertragungsleitungen, die auf der Isolationsschicht niedergeschlagen werden.
Dies wiederum ändert die elektrischen Charakteristiken des Schaltkreises. Aus diesem Grund ist es nicht
wünschenswert, Widerstände mit Materialien zu verwenden,
die im allgemeinen eine hohe Temperatur bei der Herstellung erfordern, um reproduzierbar und stabil
zu sein (wie z. B. hochschmelzende Materialien).
Ein Problem, das bei der Herstellung von Kontakten oder Widerständen auftritt ist die Interdiffusion, d. h.,
die beiden Materialien und die zur Herstellung des Kontakts dazwischen angebrachte metallurgische Verbindungen
beginnen ineinander zu diffundieren. Dies ändert die Zusammensetzung der Materialien und damit
auch den elektrischen Widerstandswert des niedergeschlagenen Widerstands. Im Fall von Kontakten kann
die lnterdiffusion auch die Qualität der Verbindung verändern. Außerdem kann diese Diffusion auch
Auswirkungen auf die Elektroden der Tunnelkontakte besitzen, die mit dem Widerstand verbunden sind. Die
Eigenschaften der Tunnelkontakte erfahren dadurch möglicherweise eine beträchtliche Änderung und
können zu weiteren Schaltkreisproblenien führen. Diese Schwierigkeit tritt besonders bei großen, HKlil gepackten
Matrizen von Josephson-Kontakten auf.
Eine lnterdiffusion kann bei Zimmertemperatur oder auch bei der Betriebstemperatur erfolgen. Im Fall von
supraleitenden Schaltungen sollte die lnterdiffusion bei Zimmertemperatur sehr klein sein und ungefähr bei 0
Prozent liegen. Es ist dann auch nicht damit zu rechnen, daß die lnterdiffusion bei der Arbeitstemperatur · _,i
supraleitenden Schaltungen ein ernstes Problem darstellt da diese ja im cryogenen Bereich liegt. Die
lnterdiffusion ist ein thermisch aktivierter Prozeß, so daß der Betrieb der Schaltkreise bei cryogenen
Temperaturen sicher nicht zu ernsthaften Interdiffusionsproblemen führt.
Die lnterdiffusion sollte auch bei den Temperaturen im Herstellprozeß der Schaltkreise minimal sein, ebenso
ν/'* bei den Temperaturen, die für andere Herstellungsschritte
verwendet werden, (wie z. B. der Anpassung und der Stabilisierung der elektrischen Kennwerte).
Widerstände oder Kontakte werden beispielsweise oft in einem frühen Stadium des Heriieüungsprozesses
einer supraleitenden Schaltung niedergeschlagen. Daraus folgt, daß diese Materialien auch höheren
Temperaturen widerstehen müssen, wie beispielsweise denjenigen, die in späteren Temperschritten auftreten.
Aus diesem Grund muß die lnterdiffusion bei den Herstelltemperaturen kontrolliert werden.
Zusätzlich zu den Interdiffusionsproblemen erleiden die Widerstände und Kontakte in der Schaltung oft
Änderungen ihrer Stabilität infolge von auftretenden Strukturänderungen in den Materialien. So können
beispielsweise Fehlstellen im Material sich zu Haufen vereinigen oder aber zu Korngrenzen wandern. Um
Spannungszustände im Material auszugleichen, kann auch eine Rekristallisation auftreten oder es können die
Korngrenzen wandern, wodurch die Art und Dichte der Fehlstellen im Material verändert wird. Die Spannungen
können auf Unterschiede des thermischen Ausdehnungskoeffizienten zurückzuführen sein oder aber auf
den Wachstumsprozeß, währenddessen Fehlstellen, Versetzungen, unbesetzte Gitterplätze usw. zum spannungsausgleich
im Material wandern.
Die Stabilität ist ein sehr wesentlicher Gesichtspunkt bei Widerständen, die in Tieftemperaturschaltungen
(cryogenen Schaltkreisen) eingesetzt werden sollen. Bekannte Materialien, aus denen Widerstände gebaut
werden, wie z. B. Nickel—Chrom, Pb-Ag und Cu-Au
können beispielsweise bei sehr tiefen Temperaturen wie 42° K nicht verwendbar sein.
Im bekannten Stand der Technik sind bisher noch keine Versuche unternommen worden, die treibenden
Kräfte für die lnterdiffusion zwischen verschiedenen Materialien, die in Schaltungen aufeinandertreffen, zu
verringern. Ebensowenig wurden die besonderen Probleme betrachtet und gelöst die in supraleitenden
Schaltungen auftreten, bei denen ein sehr großer Unterschied zwischen Herstelltemperatur, Zimmertemperatur
und Betriebstemperatur besteht
Die vorliegende Erfindung stellt sich daher die Aufgabe, elektrische Verbindungen zwischen Bauelementen
aus verschiedenen Materialien vorzuschlagen, bei denen keine oder nur eine sehr geringe Interdiffusion
auftritt; dabei solle.ri in supraleitenden Schaltkrei- -,
sen die Bauelemente so beschaffen sein, daß sie
gleich;jitig die weiteren, für den Schaltungsaufbau
notwendigen Parameter (z. B. Widerstandst—eich,
Stabilität, Reproduzierbarkeit) aufweisen.
Diese Aufgabe wird durch die im Patentanspruch 1 ι π
gekennzeichnete Erfindung gelöst. Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteranspüchen gekennzeichnet.
Die technische Lehre der Erfindung läßt sich foigendermaßen kurz zusammenfassen. Zur Reduzierung
der Interdiffusion zwischen den zu verbindenden ι > Materialien sollen sich diese Materialien im thermodynamischen
Gleichgewicht befinden und Mischkristalle enthalten, die in beiden zu verbindenden Materialien in
stabiler Form vorliegen. Bei den Mischkristallen (oder den Zwischenphasen) handelt es sich um Systeme mit _'n
mehreren Komponenten.
Ein besonders gutes Beispiel hierfür bilden die intermetallischen Verbindungen, die zum Kontaktieren
zweier metallischer Materialien verwendet werden.
Als besonderes Ausführungsbeispiel werden wider- r> standsbehaftete Verbindungen für supraleitende Übertragungsleitungen
in Josephson-Koritaktschaltungen beschrieben. Diese widerstandsbehafteten Verbindungsleitungen
bestehen aus intermetallischen Verbindungen oder Mischkristallen, die bei den interessieren- w
den Temperaturen nicht supraleitend sind und die in den supraleitenden Übertragungsleitungen in stabilen Phasen
vorliegen.
Zur Erzielung stabiler Kontakte schlägt die Erfindung weiterhin vor, Dünnschichtwiderstände mit Hilfe einer r>
Schichttechnik herzustellen, in der Metallschichten übereinander niedergeschlagen werden; dabei entstehen
nichtsupraleitende Verbindungen, die einen geeigneten Widerstandswert für die Kontakte zu supraleitenden
Übertragungsleitungen aufweisen. Diese Verbin- 4<> düngen liegen in den Übertragungsleitungen als stabile
Phasen vor, so daß die Widerstände und die Übertragungsleitungen im thermodynamischen Gleichgewicht
mit minimaler Interdiffusion sind. Die durch die Erfindung bewirkte Verringerung der Interdiffusion 4->
zwischen verschiedenen Materialien ergibt Kontakte und Dünnschichtwiderstände sehr großer Stabilität.
Diese lassen sich überall dort einsetzen, wo Kontakte und Anschlüsse zwischen verschiedenen Materialien
hergestellt werden müssen, beispielsweise für die "><> Zuführungsleitungen von Schaltkreisplättchen (Chips).
Mit besonderem Vorteil werden die erfindungsgemäßen Kontakte jedoch in supraleitenden Schaltkreisen
eingesetzt, so beispielsweise für die Anschlußbahnen eines supraleitenden Chips oder innerhalb einer -,5
Schaltung zum Verbinden von supraleitenden Leitungen und normalleitenden Widerständen, die entsprechend
der Erfindung aufgebaut sind. Neben der eigentlichen Alterungsbeständigkeit und Stabilität der Kontakte
selbst wird dadurch auch die Stabilität des gesamten Schaltkreises günstig beeinflußt
Wird in der vorliegenden Beschreibung ein Material als normalleitend bezeichnet, (d. h. nicht supraleitend),
so bezieht sich dies auf die Materialeigenschaften bei der, interessierenden Temperaturen. Beispielsweise &5
liegt die Betriebstemperatur eines typischen Schaltkreises mit Josephson-Kontakten bei der von flüssigem
Helium (4,20K); somit wäre in dieser Sprechweise ein
Material, das nur bei Temperaturen kleiner als 4,2° K supraleitend ist, ein normalleitendes Material bei den
interessierenden Temperaturen (d. h. bei den Temperaturen, bei denen das Gerät mit diesem Material benutzt
wird).
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nun anhand von Zeichnungen näher beschrieben. Es zeigt
F i g. 1 einen Schaltkreis mit Josephson-Tunnelkontakten,
der Verbindungsleitungen und Abschlußwiderstände umfaßt,
Fig.2A und 2B eine Aufsicht bzw. ein Querschnitt
eines Teils der elektrischen Schaltung in F i g. 1 mit den darin enthaltenen metallurgischen Kontakten,
Fig. 3 die Konzentration an In in der Pb-In-Phase
einer Pb-In —Au-Legierung, aufgetragen über der
Au-Konzentration,
F i g. 4 einen Teil eines ternären Phasendiagramms für ein Pb-In —Au-Legierunessystem,
F i g. 5A und 5B Seitenansichte zur Darstellung, wie Zwischenphasen (Mischkristalle) in einem Pb- In — Au-System
hergestellt werden können,
F i g. 6A und 6B eine weitere Technik zur Herstellung besonders stabiler Phasen eines Systems Pb- In—Au,
F i g. 7A unf 7B zwei strukturmäßig verschiedene, metallurgisch jedoch äquivalente Verbindungen für die
Leiter S1 und S 2 derart, daß die Interdiffusion minimal
ist,
F i g. 8A und 8B zwei Möglichkeiten zur Herstellung von Verbindungen zwischen einem Schaltkreisplättchen
und einem Modul, so daß die metallurgischen Eigenschaften der Verbindungsleitungen eine Interdiffusion
zwischen den elektrischen Leitungen auf dem Schaltkreisplättchen und dem Modul so gut wie ausschließen.
In F i g. 1 ist ein Schaltkreis mit einem Josephson-Kontakt
JTD dargesellt, der aus mit einem Supraleiter 10 verbundenen supraleitenden Elektroden besteht. Der
Supraleiter 10 ist mit einer Stromquelle verbunden, die einen Strom /^durch den Josephson-Kontakt liefert. An
die Elektroden des Josephson-Kontakts angeschlossen sind supraleitende Leitungen 51 und 52. Diese
Leitungen können eine supraleitende Übertragungsleitung darstellen, wie es beispiesweise aus der US-PS
37 58 795 bekannt ist Ein Widerstand R dient zum Abschluß der Leitungen 51 und 52 Entsprechend der
genannten US-PS kann der Wert des Widerstands R so gewählt werden, daß in der aus 51 und 52 gebildeten
supraleitenden Schleife Reflexion praktisch unterdrückt werden, wenn JTD von seinem supraleitenden zum
normalleitenden Zustand umschaltet.
Eine Steuerleitung 12 ist mit einer Stromquelle ve -bunden, die einen Steuerstrom /c liefert Der Strom in
der Leitung 12 kann bekanntlich zur Änderung des maximal zulässigen Josephson-Stroms benutzt werden,
der durch JTD tunnelt Auf diese Weise kann der Josephson-Kontakt von seinem supraleitenden zum
normalleitenden Zustand umgeschaltet werden, um damit einen Stromimpuls in die supraleitende Übertragungsleitung
aus 51 und 5 2 abzugeben.
Die F i g. 2A und 2B zeigen den Abschlußwiderstand R der Supraleiter 51 und 52 im Schaltkreis der F i g. 1.
Die Supraleiter 51 und 52 bilden einen elektrischen Kontakt mit dem Widerstand Λ 51 und 52 sind ebenso
wie der Widerstand R über einer Isolierschicht 14 niedergeschlagen, die ihrerseits auf einer supraleitenden
Grundplatte 16 gebildet wurde. In einem typischen Josephson-Schaltkreis besteht die Grundplatte 16 aus
Nb, die Isolierschicht 14 aus Nb-Oxid, beispielsweise
bO Über der Nb-Oxidschicht kann ein weiterer
Isolator, wie SiO angeordnet sein. Der Josephson-Kontakt besitzt weiterhin Elektroden aus einer Bleilegierung, beispielsweise Pb-In —Au. Die Supraleiter 51
und 52 können ebenfalls aus diesen Bleilegierungen aufgebaut sein.
Die Fig. 2B zeigt einen Querschnitt der in Fig. 2A
dargestellten Struktur. Ersichtlich wird der Widerstand R direkt auf das Substrat 14 aufgebracht und danach die
Supraleiter 51 und 52 zur Herstellung eines elektrischen Kontakts mit dem Widerstand R.
Bei einer bevorzugten Herstellungsweise dieser Schaltung wird der Widerstand R auf der Isolierschicht
14 über der Grundplatte niedergeschlagen und danach die Grundelektode des Josephson-Kontakts hergestellt.
Daraufhin wird die Tunnelgrenzschicht gebildet und anschließend die Gegenelektrode aufgebracht. Im
folgenden Schritt werden die Übertragungsleitungen hergestellt, dann die Isolierung aufgebracht und
schließlich die Steuerleitung erzeugt. Hierbei können konventionelle Niederschlagsmethoden verwendet
werden, wie z. B. Aufdampfen oder Kathodenzerstäuben. Gemäß der vorliegenden Erfindung besteht der
Widerstand R aus einem Multikomponenten-System, welches aus einer stabilen Phase der in den Supraleitern
51 und 52 enthaltenen Materialien besteht. Der Widerstand R besteht also aus einem Material, das sich
thermodynamisch im Gleichgewicht mit 51 und 52 befindet Thermodynamisches Gleichgewicht zwischen
zwei Materialien heißt hier im Sinne der Erfindung, daß zwischen ihnen keine atomaren Migrationsvorgänge in
größerem Umfang auftreten. Effekte höherer Ordnung, beispielsweise Oberflächenenergien, elastische Energien, Entropie usw. werden für die vorliegende
Betrachtung vernachlässigt.
Das Material des Widerstands R umfaßt weiterhin einen Mischkristall, der als stabile Phase in 51 und 52
vorliegt Dieser Mischkristall ist ein Multikomponentensystem und kann beispielsweise aus intermetallischen
Verbindungen bestehen. In einigen Fällen besteht der Widerstand R aus zwei Materialien, die in 51 und 52
stabile Phasen bilden. Die Verwendung von mehrfachen Phasen im Widerstand R erlaubt die Variation der
Widerstandswerte. Außerdem kann die Reproduzierbarkeit der Widerstandswerte und die Stabilität
verbessert werden.
Entsprechend der vorliegenden Erfindung werden solche Mischkristalle herangezogen, die in den Phasendiagrammen der Materialien deutlich hervortreten.
Durch diese Definition werden Elemente und andere Bestandteile ausgeschlossen, die in anderen Materialien
nur in mikroskopischen Mengen vorhanden sind (beispiesweise können Pb-Cu-Systeme existieren, bei
denen das Cu nur in mikroskopischen Mengen in benachbarten Pb-Leitungen vorhanden ist). Wenn der
Widerstand R die oben beschrier/enen Bedingungen
erfüllt, ist er stabil und weist mit den Supraleitern 51
und 52 nur eine minimale Interdiffusion auf. Die Erklärung hierfür ist, daß die treibende Kraft für die
Interdiffusion verschwindend klein wird, wenn der Widerstand R aus einem Multikomponenten-System
besteht, das in 51 und 52 stabile Phasen bildet
In der folgenden Beschreibung brauchen die Leiter
51 und 52 nicht supraleitend zu sein und es ist auch
nicht erforderlich, daß das Material R ein Widerstand ist Die folgenden Beispiele beschreiben also allgemein
elektrische Kontakte zu einem Material (mit R bezeichnet), bei denen eine minimale h.terdiffusion
auftritt Beispiele werden für Supraleiter und für
Nichtsupraleiter gegeben. Ist R ein Widerstand für
einen suprale'.'enden Schaltkreis, sollte er selbst nicht
supraleitend sein, um bei den cryogenen Betriebstemperaturen einen Widerstand aufzuweisen. Wenn das
-, Material R nicht als Widerstand verwendet werden soll, braucht diese Bedingung natürlich nicht erfüllt zu sein.
Die elektrischen Kontakte und Widerstände der vorliegenden Erfindung besitzen in den gewünschten
Temperaturbereichen die interessierenden stabilen
in Kennwerte. Wird beispielsweise ein supraleitender
Schaltkreis verwendet, so liegen die gewünschten Temperaturbereiche zwischen den cryogenen Temperaturen und ungefähr 100° C.
Da als Beispiele oft Legierungen mit Pb, In und Au
π verwendet werden, sollen zuerst Systeme beschrieben
werden, die aus diesen Materialien bestreben. Die folgende Beschreibung erläutert daher einige Einzeineiten der metallurgischen Probleme mit binären and
ternären Systemen aus diesen Elementen.
F i g. 3 zeigt die In-Konzentration in der Pb-In-Phase von dünnen Schichten aus Pb-In—Au-Legierungen
als Funktion der gesamten Au-Konzentration in den dünnen Schichten. Diese Kurve wurde ebenso wie das
ternäre Phasendiagramm von F i g. 4 durch Analyse der
Beugungsfiguren von In + Pb + Au + Pb und
In + Au + Pb-Filmen erhalten, die nacheinander (mit konventionellen Methoden) auf einem Substrat niedergeschlagen wurden (das Pluszeichen soll andeuten, daß
die Dünnschichten in dieser Reihenfolge niedergeschla
gen wurden) und dann bei 75° C während zwei Stunden
getempert oder bei Zimmertemperatur 6 Wochen lang nach dem Niederschlag gelagert wurden. Die Filmlegierungen mit 8 Gewichtsprozent In und bis zu ungefähr 6
Gewichtsprozent Au enthalten Pb-In als Mischkristall
phase und eine Auln2-Phase Wird jedoch die Au-Kon
zentration über 6 Gewichtsprozent (bis ungefähr 12 Gewichtsprozent) erhöht, so zeigte die Röntgenbeugung das Vorhandensein einer zusätzlichen Phase
(AuIn). In diesem Bereich mit drei Phasen blieb die
Zusammensetzung jeder Phase in Übereinstimmung mit der Phasenregel konstant Die Untersuchung der
relativen Linienintensitäten in den Beugungsmaxima zeigte, daß der Anteil von AuIn auf Kosten von AuIn2
zunahm, wenn die Au-Konzentration von ungefähr 6 auf
12 Gewichtsprozent erhöht wurde.
In Fig.3 nimmt die In-Konzentration der Pb-InPhase linear von ungefähr 8 Gewichtsprozent mit
steigender Au-Konzentration ab. Die dritte Phase (AuIn) erscheint, wen die In-Konzentraion der Pb-In-
Phase ungefähr 03 Gewichtsprozent beträgt Die
In-Konzentration in der Pb-In-Phase in dem Zweiphasenbereich kann ungefähr aus der Beziehung
abgeschätzt werden, wobei die Konzentration C in Gewichtsprozent angegeben ist und Co die Indiumkonzentration der Legierung bedeutet
Fig.4 zeigt einen Ausschnitt aus einem ternären
Phasendiagramm des Pb- In—Au-Systems in einem
Bereich mit hoher Pb-Konzentration Dieses Diagramm gibt die möglichen Phasen an, die bei verschiedenen
Zusammensetzungen und Temperaturen vorliegen. Es stellt nur einen kleinen Teil des vollständigen Phasen
diagramms dieses ternären Systems dar, doch reicht
dieser zur Besprechung der in der vorliegenden Erfindung verwendeten Legierung aus.
Genauer stellt F i g. 4 den Pb-reichen Abschnitt des ■
tertiären Pb—In—Au-Phasendiagramms bei Zimmertemperatur und Normaldruck dar. Es zeigt, daß der
Zweiph?senbereich aus einem Mischkristall Pb-In1 und
aus Aulri2 besteht Ein Dreiphasenbereich, der erscheint,
wenn die Au-Konzentration ungefähr 6 Prozent beträgt, besteht aus einem Mischkristall aus Pb-0,8 Gewichtsprozent In. Die In-Konzentration bleibt ungefähr
konstant für Legierungen mit mehr als ungefähr 6 Gewichtsprozent Au. Die beiden anderen Phasen in
diesem Dreiphasenbereich des ternären Systems sind AuIn und AuW
In den folgend besprochenen Beispielen können die Materialien für 51 und 52 supraleitend oder normalleitend sein. Das mit R bezeichnete Material kann
entsprechend einen Widerstand oder einen elektrischen Kontakt darsteilen. Das Material R braucht auch nicht
mit zwei anderen Leitern 51 und 52 in Verbindung stehen. Es genügt auch ein Kontakt mit einem einzigen
Leiter. Die folgenden Beispiele sind also sehr allgemein und decken verschiedene mögliche Konfigurationen ab,
in denen verschiedene Materialien in Si, 52 und R verwendet werden.
System 1
R besteht aus einem Material A, wobei A sowohl in
51 als auch 52 enthalten ist. 51 und 52 sind identisch.
In diesem Fall ist die treibende Kraft F für die Interdiffusion null Das Material A ist eine stabile Phase,
die sowohl in 51 als auch in 5 2 vorliegt.
Ein Beispiel für dieses Syaem ist 51=52 = Pb-8Gew.-% In-O+ bis zu 6 Gew.-% Au und A = AuIn2.
Da Auln2 bei Temperaturen über 0,3° K normalleitend ist, kann es als Widerstand benutzt werden, wenn die
Materialien 51 und 52 Supraleiter sind und die Betriebstemperatur 4,2% K (flüssiges Helium) beträgt.
Ein weiteres Beispiel ist gegeben durch 51 =52=Pb— ungefähr 5 Gew.-% Mgund A = Mg2Pb.
Hier ist Mg2Pb bei der Betriebstemperatur ein
normalleitendes Metall und eine stabile Phase von 51
und 52. Als normalleitendes Metall kann es als Widerstand in einer supraleitenden Schaltung verwendet werden. Sind jedoch nur reine elektrische Kontakte
erforderlich, so würde ein Mischkristall R=Pb-Mg
genügen, da dieser ebenfalls in 51 und 52 als stabile Phase vorliegt
Ein weiteres Beispielist gegebendurchS 1 = 52 = Pb-28Gew.-% Aa and A=AuPb2 oder AuPb3. Hier sind
sowohl AuPb2 und AuPb3 stabile Phasen in 51 und 52.
Jedoch ist AuPb3 bei ungefähr 4° K ein Supraleiter und kann somit in supraleitenden Schaltungen nur schlecht
als widerstandsbehaftetes Material Verwendung finden. Aus diesem Grund wird AuPb2 als Widerstandsmaterial
vorgezogen.
Ein weiteres Beispiel ist 51 = 52=AuIn oder AuIn2
und R=AuIn + AuIn2. Hier ist R=A + C, wobei C die
in 51 und 52 nicht vorhandene Komponente von R darstellt
In einem weiteren Beispiel wird für 51 = 52 eine Pb-Al—Au-Legierung verwendet und R bildet eine
stabile Phase in der Legierung von 51 und 52. Beispielsweise könnte R=AuAl2 und/oder AuAl sein,
welches in stabiler Form in Pb-Al—Au-Legierungen
vorliegt
Ein weiteres Beispiel schließlich benutzt einen Leiter von Al—4Gew.-% Cu und R=CuAl2, welche ein
kann der Leiter auch zu AI—25 Gew.-% Au gewählt
werden, während die Verbindung R=AuAl2 ist Beide
intermetallische Verbindungen CuAl2 und AuAl2 können
in den erwähnten Leitern als stabile Phase existieren.
Die Leiter 51 und/oder 52 können auch aus Pb — In—Cu-Legierungen bestehen, wenn R=Cugln4 ist,
■-. welches als intermetallische Verbindung in ausgewählten Pb-In—Cu-Legierungen vorkommt Ein ähnliches
Beispiel benutzt R=Agln2 und/ode·· Ag2In, während der
Leiter aus einer Pb-In—Ag-Legierung besteht, welche
entweder beide einzeln oder zusammen in diesen
ι (, intermetallischen Verbindungen enthalten sind.
System 2
ι -ι 51 als auch 52 ist. 51 ist verschieden von 52. In diesem
Fall ist die resultierende treibende Kraft ungleich 0, da A in 51 und 52 etwas verschieden sein kann. Zwischen R
und 51 oder R und 52 tritt keine interdiffusion aus. Im
Gesamtsystem 51 + R + 52 ist die resultierende
in treibende Kraft jedoch nicht 0, es sei denn, A ist genau
stöchiometrisch und damit identisch in 51 und 52. Für viele Anwendungen ist dieses System jedoch sehr gut
brauchbar und die Interdiffusion ist minimal.
2-, 8Gew.-% In—3Gew.-% Au, während 52=supraleitendes Pb - 8 Gew.% In - Gew.-% Au ist
R=A = Auln2. Damit ist A eine Phase, welche sowohl
in 51 als auch 52 vorkommt und stabil ist (siehe F i g. 3
und 4).
jo Ein weiteres Beispiel ist gegeben durch 51 = supraleitendes Pb - 8Gew.-% In — 3Gew.-% Au und 52
(nicht supraleitend)=AuIn + AuIn2. Das Material
R = A = AuIn2. Dieses System wird sich nicht in einem perfekten thermodynamischen Gleichgewicht befinden,
si kann aber zur Herstellung eines Widerstands mit AuIn2
verwendet werden.
System 3
S1 = S 2 und R=A + B, wobei A und B verschiedene
Verbindungen oder Mischkristalle sind. A und B sind sowohl in 51 als auch 52 enthalten.
enthalten sind und beide in 51 und 52 vorkommen. Die
resultierende treibende Kraft wird damit ungefäh; 0 und
die Interdiffusion ist vernachlässigbar.
besteht darin, daß die Widerstandswerte und die
anderen Eigenschaften durch das Vorhandensein der
ίο beiden Phasen in gewissem Rahmen modifiziert werden
können. Außerdem wird die Stabilität vergrößert
Ein Beispiel hierfür ist 51 und 52= Pb — 8Gew.-%
In — 8Gew.-% Au. R=AuIn2 + AuIn. Diese Phasen,
aus denen R besteht liegen in 51 und 52 vor.
System 4
51 #52 und R=A + B, wobei A und B stabile
Phasen sind. Die Phase A liegt in 51 vor und ist dort stabil, während die Phase B in 52 vorliegt und in dieser
Phase stabil ist
Die Frage, ob sich zwischen S1 und R und zwischen
52 und R eine Interdiffusion ergibt, hängt von den Materialien ab, aus denen diese Bestandteile aufgebaut
sind.
Ein Beispiel hierfür ist 5I=AuIn2, 52=AuIn und
R=AuIn2 + AuIaHieristA=AaIr,2undS=AuIn.
Ein weiteres Beispiel ist gegeben durch 51 = Pb —
3Gew.-% In (Mischkristall), 52=AuIn2 (intermetalli-
sehe Verbindung) und R=A + B=Pb - 3Gew.-%
In + AuIn*
Ein ähnliches Beispiel ist durch folgende Zusammenstellung gegeben: Wenn 5I = Pb — 8Gew.-% In —
3 Gew.-% Au und 2?2=Pb - 8 Gew.-% In - 8 Gew.-%
Au ist, so verhindert ein Abschluß A=In2Au -f- AuIn
teilweise die Interdiffusion. Zwischen R und 52 gäbe es
also keine Interdiffusion, zwischen 51 und R dagegen
eine Interdiffusion in geringem Umfang. In diesem speziellen Beispiel sind die stabilen Phasen von 51 die
Mischkristalle AuIn2 und Pb-In1. Die stabilen Phasen
von 52 sind AuIn, Auüfc und der Mischkristall Pb-In.
Damit umfaßt R zwei Phasen, die beide in 52 vorkommen, während nur eine Phase von Λ in Sl
enthalten ist Das ganze aus 51, Λ und 52 bestehende
System ist nur dann stabil, wenn A und B bei gewissen
Zusammensetzungen stabil sind. Wenn dies der Fall ist,
so haben alle Materialien in allen Teilen des Systems dasselbe chemische Potential und es herrscht Gleichgewicht
System 5
R besteht aus zwei Phasen, A, und B. 51 ist
verschieden von 52.51 besteht aus A + C und 52 aus
B+ C
Dieses System ist nur dann im thermodynamischen
Gleichgewicht, wenn die Mischkristalle A und B bei gewissen Zusammensetzungen stabil sind. Wenn A und
B nur in festgelegten stöchiorretrischen Zusammensetzungen auftreten, so herrscht im gesamten System
51 — R—52 thermisches Gleichgewicht
Die Phase A steht im Gleichgewicht mit 51 = A + C,
ebenso mit der Phase R Diese Gleichgewichte sind
jedoch verschieden, so daß einige treibende chemische Potentiale existieren. Deshalb müssen A und B feste
Zusammensetzungen ohne stöchiometrische Bandbreite besitzen, um das gesamte System thermodynamisch ins
Gleichgewicht zu bringen. Dasselbe gilt für den Fall R-A + B und Sl=B + C Systeme die aus Materialien aufgebaut sind, die entsprechend diesen Regeln
ausgewählt wurden, sind thermodynamisch stabil und können für elektrische Kontakte und Widerstände
verwendet werden.
System 6
51 # und R—A + B, wobei A und B Phasen sind,die
miteinander im thermodynamischen Gleichgewicht stehen. Der Leiter 51 besteht aus A und C während der
Leier 52 die Zusammensetzung B + D aufweist.
Wie im Fall 5, steht das gesamte System Si-R-S 2
im thermodynamischen Gleichgewicht, wenn die Phasen A und B innerhalb sehr enger Bereiche ihrer
Bestandteile stabil sind Das heißt die Phasen A und B. die in 51 bzw. 52 vorliegen, müssen stöchiometrisch
sein, damit das gesamte System im Gleichgewicht steht. R steht jedoch nicht im vollständigen thermodynamischen Gleichgewicht mit 51 und 52, da die Phase B
nicht in 51 vorkommt und die Phase A nicht in 5 2.
In den F i g. 5A bis 7B sind verschiedene Möglichkeiten dargestellt, wie für Josephson-Kontaktschaltkreise
geeignete Widerstände bzw. wie Kontakelemente für elektronische Baugruppen hergestellt werden können.
F i g. 5 A zeigt Schichten In, Au und In, die
nacheinander auf einem Substrat 14 niedergeschlagen wurden. Typischerweise haben die In-Schichten eine
Dicke von ungefähr 1000 Λ, die Au-Schicht ist ungefähr
800 Ä dick. Diese Schichten werden in der angezeigten Reihenfolge durch Kathodenzerstäubung oder Auf
dampfen niedergeschlagen. Natürlich können Au und In
auch gleichzeitig aufgedampft werden. Die Diffusion der Schichten erfolgt bei Zimmertemperatur und ergibt
dann die Struktur von F i g. 5B. Dort sind die Phasen AuIn und AuIn2 enthalten.
Die in Fig.5B dargestellte Struktur weist einen spezifischen elektrischen Widerstand auf, der verschieden von dem einer Struktur ist die Au und In im
stöchiometrischen Verhältnis enthält Beispielsweise hat die Struktur in Fig.5B einen höheren spezifischen
Widerstand als AuIn2 (für dieselben Dimensionen)
Wenn die Schichten in F i g. 5A mit einer Au-Konzentration niedergeschlagen werden, die höher ist als AuIn2
so bilden sich im Innern des Films Au-reiche intermetallische Verbindungen, während an den Oberflächen hauptsächlich AuInx auftritt (wenn Au
< 62%) und möglicherweise noch ein wenig elementares In.
Die entsprechend F i g. 5B zusammengesetzte Schicht kann zur Kontaktierung von Pb-In—Au-Schichten in
der früher beschriebenen Weise verwendet werdea Bleibt nach der Bildung von AuIn2 ein kleiner Rest von
In übrig, der nicht reagiert hat so kann dieser in die Pb- In—Au-Schicht diffundieren und läßt damit AuIn2
im Kontakt mit den Pb-In—Au-Schichten. Bleibt
andererseits ein kleiner Rest von Au übrig, der nicht reagien hat so kann dieser in die Pb-In—Au-Schichten eindiffundieren, ohne den spezifischen Widerstand
der AuInrSc'.iichter. zu beeinflussen. Solche Restmengen von Au oder In können auftreten, wenn größere
Mengen dieser Materialien verwendet werden als der Bildung der Verbindung entspricht
in den Widerständen nach den Fig.5A, 5B, 6A und
6B können die intermetallischen Verbindungen von In und Au entsprechend den relativen Beträgen dieser
Materialien variiert werden. Weiterhin kann auch die Reihenfolge des Niederschlags der Schichten verändert
werden Beispielsweise könnte in Fig.6A zuerst In niedergeschlagen werden und danach eine Au-Schicht
Da die relativen Dicken der In- und Au-Schichten die relativen Mengen eines jedesn Materials bestimmen und
damit auch die gebildeten Verbindungen, können auf diese Weise bequem Dünnschichtwiderstände mit
intermetallischen Verbindungen hergestellt werden Aus dem Zweiphasendiagramm des In—Au-Systems
kann noch folgendes entnommen werden:
1. Beträgt der Gewichtsanteil von Au weniger als 46%, so ergibt sich AuIn2 und freies In. Dieses freie In
kann in die Leiter diffundieren, die mit dieser Struktur (dem In—Au-System) im Kontakt stehen, insbesondere
wenn die Leiter aus Legierungen, wie z.B. Pb —
8 Gew.-% In - 3 Gew.-% Au bestehen.
2.
Beträgt der Gewichtsanteil von Au ungefähr 46 bi
62% und der von In ungefähr 54 bis 38%, so ergeben sich die Verbindungen AuIn und AuIn2. Diese können
ebenfalls zum Kontaktieren von Pb-In-Au-Legierungen verwendet werden, da diese Verbindungen dort
ebenfalls als stabile Phasen vorkommen.
3. Wenn der Gewichtsanteil von Gold größer ist al
ungefähr 63% und bis zu ungefähr 80%, so bilden sich bei der gegenseitgen Diffusion von In und Au die
Verbindungen Augin« und AuIn. Diese sind ebenfalls
stabile Verbindungen, die als Widerstände oder Kontakte zu Leitern verwendet werden können, die
diese Verbindungen als stabile Phasen enthalten.
Die F i g. 6A und 6B zeigen andere Reihenfolgen, in denen die Niederschläge aufgebracht werden, um
stabile Phasen von In und Au zu erhalten. In Fig.6A
wird eine Au-Schicht (typischerweise von ungefähr
800 A) auf einem Substrat 14 niedergeschlagen und danach auf der Goldschicht eine In-Schicht von
ungefähr 2000 A Dicke. Da Au und In eine hohe gegenseitige Diffusivität aufweisen, ergibt sich die
Struktur von 6B. Dort liegt eine Schicht der Phase AuIn unter einer Schicht der Phase AuIn2,-
Betragen die Gewichtsteile von Au und In 56- bzw.
44%, so ergibt der Niederschlag der Au- und In-Schichten die in F i g. 6B dargestellten Phasen. Durch
Abweichungen der Au- und In-Mengen vom stöchiometrischen Verhältnis können also verschiedene Phasen
geformt werden (inklusive der Phasen AuIn, Auglru
usw.), die als elektrische Kontakte oder als widerstandsbehaftete Verbindungen verwendet werden können. Ist
beispielsweise die In-Schicht ungefähr 2000 A dick und die Au-Schicht ungefähr 653 A, so ergibt sich die
Verbindung Auln2.
Im Fall von Auln2 gehören zu den Leiterschichten, die
durch Niederschlagstechniken mit diesem Material in elektrischen Kontakt gebracht werden können, solche
der Zusammensetzung^ — 8 Gew.-% In — 3 Gew.-% Au. Diese Kontakte aus Bleilegierungen lassen sich
durch Niederschlag der Legierungen auf der AuIn2-Schicht herstellen. Da AuIn im thermodynamischen
Gleichgewicht mit AuIn2 steht, existiert keine chemische
Treibkraft und die Interdiffusion im System ist damit minimal.
Bei der Verwendung von AulnrWiderständen zusammen mit Pb-In—Au-Schichten ergeben sich
mehrere Vorteile. Infolge der relativ hohen Diffusivitä-.ten (der Diffusionskoeffizienten) von Gold in Indium
und umgekehrt, besteht die Möglichkeit, die Verbindungen HKh dann bei relativ tiefen Temperaturen
herzustellen, wenn die Au- und In-Schichten nacheinander niedergeschlagen werden. Die möglicherweise
schädlichen Auswirkungen von erhöhter Temperatur und von thermisch induzierten Spannungen in den
Schichten, die vor der Herstellung der Widerstandsschicht niedergeschlagen wurden, sollten dadurch sehr
gering bleiben. Beispielsweise kann es notwendig sein, den Widerstand bei verhältnismäßig tiefen Temperaturen (unter ungefähr 1000C) aufzubringen, um entsprechend der früheren Beschreibung eine mögliche
Diffusion von Sauerstoff in eine angrenzende Grundplatte zu verhindern.
Ein weiterer möglicher Vorteil bei der Verwendung von AuIn2-Widerständen liegt im Vorhandensein von
überschüssigem In im System. Ist die In-Konzentration
größer, als dies dem stöchiometrischen Verhältnis von AuIn? entspricht, so bleibt unterhalb von 154°C reines In
im thermischen Gleichgewicht mit AuIn2. In diesem Fall
ist zu erwarten, daß ein kleiner Überschuß von In im Widerstand sehr leicht in die Pb-In—Au-Legierungsschichten der Zwischenverbindungen diffundiert, ohne
dabei einen Kontaktwiderstand hervorzurufen oder die supraleitenden Kennwerte dieser Verbindungsleitungen
zu ändern.
Wie erwähnt, können Auln2-Schichten durch schrittweises Aufdampfen von ungefähr 54% In und 46% Au
erzeugt werden. Der Druck während dem Niederschlagsprozeß kann in der Größenordnung von 10~7
Torr liegen und die Substrate bleiben während des Niederschlags auf einer Temperatur von ungefähr 75° C.
Typischerweise werden Niederschlagsgeschwindigkeiten von ungefähr I bis loA/sec verwendet und die
gesamte Schichtdick liegt bei ungefähr 2600 A.
Beugungsuntersuchungen an einem zusammengesetzten Widerstand mit 55% In und 45% Au zeigen das
Vorhandensein von ungefähr 3% freiem Indium zusätzlich zur Verbindung AuIn2. Dieses überschüssige
Indium wird jedoch, wie früher beschrieben in die anstoßenden elektrischen Kontaktschichten diffundieren.
Der spezifische Widerstand/Fläche von Einphasen-AutarSchichten (ungefähr 2600 A dick) bei 4,20K
beträgt ungefähr 0,1 Ohm/Fläche ± 15%. Eine Variation von ±15% kann nicht als wesentlich angesehen
ίο werden, wenn die vielen verschiedenen Bedingungen
beim Niederschlag der einzelnen Proben und die Variationen in der Probengeometrie berücksichtigt
werden. Bei einem Zweiphaxenwiderstand mit AuIn und AuIn2 und einer Dicke von ungefähr 2600 A beträgt der
spezifische Widerstand ungefähr 0,2 Ohm/Fläche. Im
Fall eines Zweiphasenwiderstandes aus Auglm und AuIn
mit einer Dicke von ungefähr 2600 A betrage der spezifische Widerstand ungefähr 0,4 Ohm/Fläche. Es ist
also möglich, verschiedene Widerstandswerte zu erhal
ten, indem Widerstände mit verschiedenen und/oder
multiplen Phasen verwendet werden. Außerdem kann der Wert eines Zweiphasenwiderstands durch Änderung seiner Phasen variiert werden. So besitzt ein
Widerstand aus AuIn + Äugln» einen höheren spezifi
sehen Widerstand als ein Widerstand der Zusammenset
zung AuIn2 + AuIn.
Der Wert eines Dünnschichtwiderstands gemäß der vorliegenden Erfindung läßt sich auch durch Variieren
der Niederschlagsgeschwindigkeit der Au-Schicht än
dem, die auf einer In-Schicht aufgebracht wird oder
entsprechend durch Änderung der Niederschlagsgeschwindigkeit einer In-Schicht, die auf einer Au-Schicht
erzeugt wird. Schließlich kann der Widerstandswert dieser zusammengesetzten Widerstände durch Ände
rangen der Substrattemperatur während des Nieder
schlagsprozesses geändert werden. Diese In-Au-Widerstände lassen sich somit bei Substrattemperaturen von typisch ungefähr 100°C niederschlagen und
weisen im allgemeinen eine Dicke von ungefähr 4000 A
Werden diese so erzeugten Schichten von AuIn2 zwei
Stunden lang bei 100°C getempert, so nimmt der Widerstand um weniger als 3% ab. In der Schichtzusammensetzung oder der Struktur treten keine wesent-
liehen Änderungen auf. Nach dem Tempern eines Widerstands mit einer oben liegenden Pb- In—Au-Schicht zeigte die Beugungsanalyse, daß in diesem
System die chemische Teibkraf I für Interdiffpsion 0 ist.
Dünne Schichten von AuIn2 können somit in Betracht
gezogen werden, um Pb-In—Au-Legierungsschichten,
die als Verbindungsleitungen in Josephson-Kontaktschaltungen verwendet werden, widerstandsmäßig
abzuschließen. Experimentell gemessene Werte der Widerstände von Auln2-Schichten bei 4,2° K lagen bei
ν-, ungefähr 0,1 Ohm/Fläche, ihr Widerstandsverhältnis Rwe'K/RirK betrug ungefähr 4,5. Nimmt man die
durchschnittliche Filmdicke des Widerstands (ungefähr 2600 A) zur Abschätzung des spezifischen Widerstands,
so ergibt sich dieser bei 4,2° K zu ungefähr 2,6
Mikro-Ohm-cm. Dieser Wert steht in Übereinstimmung mit den Daten für massive Proben von AuIn2, wenn
berücksichtigt wird, daß der spezifische Widerstand des Dünnschichtleiters bei tiefen Temperaturen infolge der
Abmessungen, des Vorhandenseins von Korngrenzen,
bi von Fehlstellenkonzentration usw. größer ist als im Fall
von massiven Proben.
In den Fig.5B und 6B sind die aus Au —In-Verbindungen bestehenden Anschlüsse als Schichten daree-
stellt, & h, die AuIn und AulnrVerbindungen haben sich
schichtförmig angeordnet Wird das Gold und das Indium ursprünglich als Schicht niedergeschlagen, so
besteht eine gewisse Wahrscheinlichkeit für derartige zusammengesetzte Schichten; dieser Fall ist jedoch s
idealisiert Die Verbindungen AuIn und Auln2 werden
eher innerhalb des zusammengesetzten Widerstands oder des Kontaktbereichs verteilt sein. Dadurch ändert
sich jedoch das hier beschriebene Prinzip nicht
Die Fig. 7A und 7B zeigen eine andere Struktur für ι ο
elektrische Anschlußverbindungen oder widerstandsbehaftete Abschlüsse. Hier sind die Leiter 51 und 52 in
elektrischem Kontakt mit einer Struktur R, die aus den Phasen A und B besteht Die Anschlüsse sind so
ausgestaltet, daß 51 und 52 mit der Phase A von R in
Kontaktstellen.
In F i g. 7B ist eine zur F i g. 7A analoge Ausführungsform dargestellt und die Anordnung der verschiedenen
Schichten auf dem Substrat 14 angegeben. Die Strukturen der Fig.7A und 7B sind metallurgisch
äquivalent Die Verbindung R besteht aus einer ersten Schicht der Phase B, auf die eine zweite Schicht der
Phase A niedergeschlagen wird. Die Dicken dieser
beiden Schichten sind nicht kritisch, insbesondere können beide ungefähr gleich dick sein. Beim Aufdiimpfen der Leiter 51 und 52 wird der Kontakt zur Schicht
der Phase A erzeugt
In diesen Beispielen liegt die Phase Λ in 51 und 52
vor, die Phase B ist jedoch in 51 und 5 2 nicht enthalten. Sind jedoch die Phasen A und B gegenseitig im
thermischen Gleichgewicht so findet zwischen A und
51 und zwischen A und 52 keine resultierende Diffusion statt Die Phase wird sich nämlich in der
Verbindung R nicht ändern, ds sie iut 51 und 52 im
Gleichgewicht steht
Für die Phase A kann beispielsweise Aulri2 verwendet
werden, für die Phase B AuIn. Die Leiter 51 und 52
bestehen, wie früher beschrieben, aus Pb — 8 Gew.-%
In 3 Gew.-% Au-Legierungen.
Da die Phase B nicht im Kontakt mit 51 und 52 steht,
kann sie aus jedem Material bestehen, welches im Verhältnis zur Phase A stabil ist (d. h. für das bei den
interessierenden Temperaturen keine Diffusion zwischen A und B auftritt). Besteht die Phase A
beispielsweise aus AuIn2 und 51 aus Pb — 8 Gew.-% In
— 3 Gew.-% Au1 so kann die Phase B ein hochschmelzendes Material (beispielsweise Ti) sein, welches bei der
Betriebstemperatur nicht mit der Phase A reagiert; die Phase B kann aber auch wie im früher beschriebenen
Fall aus AuIn bestehen.
Elektrische Zwischenverbindungen
und äußere Anschlüsse
Die vorliegende Erfindung kann auch zur Herstellung von elektrischen Verbindungen zwischen Lettern
verwendet werden, so insbesondere bei der Verdrahtung von supraleitenden Bauelementen. Der Einsaz von
aus mehreren Komponenten bestehenden stabilen Phasen, die in den zu verbindenden Materialien stabil
sind, verringert die Interdiffusionsprobleme auf ein t>o
Minimum.
F i g. 8A zeigt einen Schaltkreismodul 18, an dessen
Rand ein Leiterzug 20 angebracht ist Der Modul 18 soll mit den Schaltkreisplättchen (Chips) 1, 2 und 3
verbunden werden, die auf einem geeigneten Substrat 22 angeordnet sind. Die einzelnen Chips können
natürlich auch auf separaten Substraten liegen. Die Chips 1—3 können beispielsweise supraleitende Schaltungen mit Josephson-Tunnelkontakten enthalten.
Die Chips 1—3 besitzen Leiterzüge 24, die mit dem Leiter 20 über Anschlußverbindungen 26 verbunden
werden sollen.
Im Fall eines supraleitenden Schaltkreises besteht der
Leiter 20 beispielsweise aus Pb-ungefähr 5 Gew.-% In
oder Pb - 8 Gew.-% In — 3 Gew.-% Au. Der Leiter 24
auf dem Schaltkreisplättchen könnte aus Pb — 8Gew.-% In — 3Gew.-% Au bestehen. Geeignete
Verbindungsleitungen 26, bei denen keine Interdiffusion in dem aus den Leitern 20, 24 und 26 bestehenden
System auftritt könnten aus AuIn2 oder Pb — 5 Gew.-%
In bestehen. AuIn2 ist eine intermetallische Verbindung,
während Pb — 5 Gew.-% In ein Mischkristail aus Pb und In ist Besteht der Leiter 20 aus Pb — 3 Gew.-% In,
so ist die AnschluBverbindung 26 aus AuIn2 thermodynamisch stabil im Verhältnis zum Leiter 20 und es tritt
keine Diffusion zwischen dem Leiter 20 und der AnschluBverbindung auf. Damit sich eine supraleitende
Anordnung aus den Leitern 20,24 und den Anschlußverbindungen 26 ergibt, müssen die AuIn oder AuIn2-Schichten sehr dünn sein (dünner als ungefähr 100 A).
Die Herstellung dieser Materialien wurde früher beschrieben und läßt sich an Hand der Kurve von F i g. 3
und des ternären Phasendiagramms in F i g. 4 verstehen.
In F i g. 8B ist eine Abwandlung der Anordnung von F i g. 8A dargestellt in der eine Zwischenschicht M in
die Anschlußverbindungen 26 eingefügt wurde. Mit dieser Schicht soll die Belastbarkeit der Verbindung
zwischen dem Modul 18 und den verschiedenen Schaltkreisplättchen verstärkt werden. Die Zwischenschicht sollte aus einem Material bestehen, das bei den
interessierenden Temperaturen hinsichtlich der Diffusion stabil ist
— 8Gew.-% In — 3Gew.-% Au bestehen und der
Leiter 20 aus demselben Material oder aus Pb — 5Gew.-% In. Das Material A besteht aus Pb -5 Gew.-% In, die Schicht Maus AuIn2.
In einem weiteren Beispiel besteht das Material M aus AuIn und das Material A aus AuIn2. Besteht die Schicht
Maus AuIn2 und die Schichten A aus Pb — 5 Gew.-% In,
so wird zweckmäßig der Leiter 20 aus Pb — 5 Gew.-%
In hergestellt Soll die Verbindung supraleitend sein, so muB die Schicht M in allen Fällen sehr dünn gewählt
werden (ungefähr 100 A oder weniger), wenn sie aus
normalem Material, wie z. B. AuIn oder AuIn2 besteht
Die Verbindung 26 >st dann infolge des Proximity-Effekts supraleitend
Wenn das Material in den Schichten A aus AuIn2
besteht können die Verbindungen zwischen den Chips und dem Schaltkreismodul 18 durch thermische
Verfahren hergestellt werden. Auch wenn das Material der Schichten A aus einer lötbaren Verbindung wie Pb
— 3 Gew.-% In besteht können thermische Verfahren
zur Befestigung des Chips am Schaltkreismodul 18 verwendet werden. Die Dünnschichtwiderstände aus
intermetallischen Verbindungen weisen einen spezifischen Widerstand auf, der für Schichtdicken unterhalb
von ungefähr 1300 A unabhängig von der Schichtdicke ist So besitzen Dünnschichtwiderstände mit In- und
Au-Verbindungen und einem Au-Gehalt von ungefähr 46 bis 56 Gewichtsprozent diesen invarianten spezifischen Widerstand. Dies deutet darauf hin, daß in
Widerständen mit weniger als ungefähr 1300 A Dicke die mittlere freie Weglänge für Elektronenstreuung
konstant ist Dieses Ergebnis steht im Gegensatz zu dem, was man normalerweise erwartet; für Anwendun-
in elektronischen Schaltkreisen ist dieses Verhalten )ch höchst erwünscht Es bedeutet nämlich, daß die
roduzierbarkeit des Schichtwiderstands von Widerdert, deren Dicke in dem Beeich des konstanten
dfiscben Widerstands liegt nur durch die Dimension Widerstands bestimmt wird und nicht durch
ndwelche Änderungen sonstiger Schichtkennwerte Tund von Änderungen der Dimension,
ie vorliegende Erfindung gibt ein Verfahren zur bindung von ungleichen Materialien, so daß
zwischen diesen Materialien keine Interdiffusion auftritt Daraus ergibt sich eine hohe thermodynamisdie
Stabilität und die Anwendbarkeit dieses Verfahrens für einen weiten Bereich von Anwendungen. Besonders
vorteilhaft ist es in supraleitenden Schaltkreise, wo supraleitende Schaltplättchen fest verbunden werden
müssen oder wo AbschluBwiderstände an supraleitende Leitungen angeschlossen werden müssen. Gemäß der
Erfindung müssen in jedem der zu verbindenden Materialien gemeinsame stabile Phasen vorhanden sein.
Claims (24)
1. Elektrische Verbindung zwischen Bauelementen aus verschiedenen Materialien, dadurch
gekennzeichnet, daß mindestens zwei miteinander zu verbindende Bauelemente aus einer oder
mehreren Verbindungen bzw. Mischkristallen bestehen und daß mindestens eine Verbindung bzw. ein
Mischkristall eines Bauelements als stabile Phase im anderen Bauelement vorhanden ist ι ο
2. Schaltung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Bauelemente zwei elektrische
Verbindungsleitungen sind.
3. Schaltung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Bauelemente eine Verbindungslei- ;ϊ
tung und ein Widerstand sind.
4. Elektrische Verbindung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
Verbindungen bzw. Mischkristalle aus Metallen bestehen
5. Elektrische Verbindung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
Verbindungen bzw. Mischkristalle aus Legierungen bestehen.
6. Elektrische Verbindung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
Verbindungen bzw. Mischkristalle aus intermetallischen Verbindungen bestehen.
7. Elektrische Verbindung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein 3η
Leiter aus supraleitendem Material besteht
8. Elektrische Verbindung nach einem der Ansprüche 3 oder 7, dadutih gekennzeichnet, daß
der erste als Widerstand ausgebildete Leiter aus einer intermetallischen Verbi: Jung besteht und der
zweite Leiter diese intermetallische Verbindung als stabile Phase enthält
9. Elektrische Verbindung nach Anspruch 3 und 7, dadurch gekennzeichnet, daß der erste als Widerstand ausgebildete Leiter aus einem Mischkristall
mit mehreren Komponenten besteht und der zweite Leiter diesen Mischkristall als stabile Phase enthält
10. Elektrische Verbindung nach einem der Ansprüche 1 bis 3 dadurch gekennzeichnet, daß bei
supraleitenden Schaltungen mit Josephson-Elementen der erste Leiter ein supraleitendes Material und
der zweite Leiter ein aus einem Mischkristall oder einer intermetallischen Verbindung bestehender
Widerstand ist und daß der Mischkristall b::w. die intermetallische Verbindung als stabile Phase im
supraleitenden Leiterzug enthalten ist
11. Elektrische Verbindung nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet, daß der als Widerstand ausgebildete zweite Leiter aus einer dünnen Schicht
besteht, deren Dicke weniger als ungefähr 1300 A r, beträgt
12. Elektrische Verbindung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß der supraleitende
Leiter aus einer Bleilegierung besteht.
13. Elektrische Verbindung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Supraleiter aus
einer Pb- In—Au- Legierung besteht und der Widerstand aus der Verbindung AuIn.
14. Elektrische Verbindung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Widerstand aus t>5
AuIn und AuIn2 besteht
15. Elektrische Verbindung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Widerstand aus
einer Verbindung mit In und Cu besteht und daß diese Verbindung in dem aus einer Bleilegierung
bestehenden Supraleiter als stabile Phase enthalten ist.
16. Elektrische Verbindung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Widerstand aus
einer Verbindung von In und Ag besteht ir-.d daß der
aus einer Bleilegierung bestehende Supraleiter diese Verbindung als stabile Phase enthält
17. Elektrische Verbindung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Widerstand aus
mehreren Mischkristallen oder Verbindungen besteht, die als stabile Phasen im Supraleiter enthalten
sind.
18. Herstellungsverfahren für elektrische Verbindungen nach einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch
gekennzeichnet, daß der erste als Widerstand ausgebildete Leiter durch folgende Schritte hergestellt wird:
Niederschlag einer ersten Schicht mit einem ersten
Material auf einem Substrat
Niederschlag einer zweiten Schicht mit einem
zweiten Material auf die erste Schicht,
Interdiffusion des ersten und zweiten Materials zur
Ausbildung einer stabilen Phase und einer stabilen
Fehlstellenstruktur und
daß anschließend der zweite Leiter zur Herstellung
der elektrischen Verbindung auf dem ersten Leiter
niedergeschlagen wird.
19. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß das erste und zweite Material
ein Metall ist und die Diffusion eine intermetallische Verbindung ergibt
20. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten und zweiten
Materialien zur Bildung einer Verbindung interdiffundieren.
21. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet daß der Widerstand aus einer
intermetallischen Verbindung hergestellt und bis zu einer Dicke niedergeschlagen wird, die kleiner ist als
die maximale Dicke, bis zu der der spezifische Widerstand unabhängig von der Dicke bleibt
22 Elektrische Verbindung nach einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß ein
erstes und ein zweites Bauelement (Si, S2; Fig. 5)
mit einem dritten Bauelement (R) verbunden sind und daß in jedem der ersten Bauelemente mindestens eine Komponente des dritten Elements als
stabile Phase vorliegt.
23. Elektrische Verbindung nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden ersten
Elemente gleich sind und die Verbindung bzw. Verbindungen des dritten Elements als stabile Phase
enthalten.
24. Elektrische Verbindung nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden ersten
Elemente (Sl und 52) und das dritte Element (R)
jeweils in einer der folgenden Kombinationen auftreten:
Pb-In(8Gew.-°/o)-Au AuIn2
(0... 6 Gew.-o/o)
Pb-Mg (~5Gew.-°/o) Mg2Pb
Fortsetzung
Si=S2
Pb-Mg (~5Gew.-%)
Pb-Au (28 Gew.-%)
AuIn oder AuIm
Pb-AI-Au
Al-Cu (4 Gew.-%)
Al-Au (-?5Gew.-%)
Pb-In-Cu
Pb-In—Ag
Pb-In(8Gew.-%)-Au
(8 Gew.-%)
Pb-Mg
AuPbi oder AuPbj
Au!n+Aulri2
AuAb und/oder AuAl
CuAl3
AuAl2
Cu9In4
Agln2 und/oder Ag2ln
AuIn2-HAuIn
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US429461A US3913120A (en) | 1973-12-28 | 1973-12-28 | Thin film resistors and contacts for circuitry |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2457488A1 DE2457488A1 (de) | 1975-07-03 |
DE2457488B2 DE2457488B2 (de) | 1978-11-09 |
DE2457488C3 true DE2457488C3 (de) | 1979-07-12 |
Family
ID=23703354
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2457488A Expired DE2457488C3 (de) | 1973-12-28 | 1974-12-05 | Elektrische Verbindung zwischen Bauelementen aus verschiedenen Materialien, sowie Verfahren zur Herstellung |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US3913120A (de) |
JP (1) | JPS551682B2 (de) |
CA (1) | CA1023872A (de) |
DE (1) | DE2457488C3 (de) |
FR (1) | FR2256546B1 (de) |
GB (1) | GB1492580A (de) |
IT (1) | IT1027857B (de) |
NL (1) | NL7416759A (de) |
SE (1) | SE397020B (de) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4117503A (en) * | 1977-06-30 | 1978-09-26 | International Business Machines Corporation | Josephson interferometer structure which suppresses resonances |
US4210921A (en) * | 1978-06-30 | 1980-07-01 | International Business Machines Corporation | Polarity switch incorporating Josephson devices |
US4274015A (en) * | 1978-12-29 | 1981-06-16 | International Business Machines Corporation | Self-resetting Josephson digital current amplifier |
US4631423A (en) * | 1979-12-20 | 1986-12-23 | International Business Machines Corporation | Ultra high resolution Josephson sampling technique |
US4401900A (en) * | 1979-12-20 | 1983-08-30 | International Business Machines Corporation | Ultra high resolution Josephson sampling technique |
US4360898A (en) * | 1980-06-30 | 1982-11-23 | International Business Machines Corporation | Programmable logic array system incorporating Josephson devices |
GB2102833B (en) * | 1981-07-31 | 1984-08-01 | Philips Electronic Associated | Lead-indium-silver alloy for use in semiconductor devices |
US4459321A (en) * | 1982-12-30 | 1984-07-10 | International Business Machines Corporation | Process for applying closely overlapped mutually protective barrier films |
US4812419A (en) * | 1987-04-30 | 1989-03-14 | Hewlett-Packard Company | Via connection with thin resistivity layer |
DE3844114C3 (de) * | 1987-12-28 | 1999-03-18 | Tanaka Electronics Ind | Verwendung eines Kontaktierdrahtes aus einer Bleilegierung in einer Supraleitervorrichtung |
DE3844879C3 (de) * | 1987-12-28 | 1999-06-24 | Tanaka Electronics Ind | Supraleitervorrichtung mit einem Kontaktierdraht |
US4963852A (en) * | 1989-03-15 | 1990-10-16 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Superconductor switch |
JP2679462B2 (ja) * | 1991-08-06 | 1997-11-19 | 日本電気株式会社 | 超伝導回路とその駆動方法 |
DE10116531B4 (de) * | 2000-04-04 | 2008-06-19 | Koa Corp., Ina | Widerstand mit niedrigem Widerstandswert |
US12022749B2 (en) * | 2020-03-04 | 2024-06-25 | International Business Machines Corporation | Flux bias line local heating device |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2806113A (en) * | 1953-11-21 | 1957-09-10 | Siemens Ag | Electric contact devices |
US3125688A (en) * | 1960-01-11 | 1964-03-17 | rogers | |
US3733526A (en) * | 1970-12-31 | 1973-05-15 | Ibm | Lead alloy josephson junction devices |
US3758795A (en) * | 1972-06-30 | 1973-09-11 | Ibm | Superconductive circuitry using josephson tunneling devices |
US3852795A (en) * | 1973-01-03 | 1974-12-03 | Ibm | Josephson tunneling circuits with superconducting contacts |
-
1973
- 1973-12-28 US US429461A patent/US3913120A/en not_active Expired - Lifetime
-
1974
- 1974-11-07 CA CA213,219A patent/CA1023872A/en not_active Expired
- 1974-11-15 FR FR7441652A patent/FR2256546B1/fr not_active Expired
- 1974-12-05 DE DE2457488A patent/DE2457488C3/de not_active Expired
- 1974-12-06 JP JP13969374A patent/JPS551682B2/ja not_active Expired
- 1974-12-16 GB GB54199/74A patent/GB1492580A/en not_active Expired
- 1974-12-19 SE SE7415973A patent/SE397020B/xx unknown
- 1974-12-20 IT IT30807/74A patent/IT1027857B/it active
- 1974-12-23 NL NL7416759A patent/NL7416759A/xx not_active Application Discontinuation
-
1975
- 1975-07-28 US US05/599,803 patent/US4083029A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2457488A1 (de) | 1975-07-03 |
GB1492580A (en) | 1977-11-23 |
SE397020B (sv) | 1977-10-10 |
SE7415973L (de) | 1975-06-30 |
CA1023872A (en) | 1978-01-03 |
NL7416759A (nl) | 1975-07-01 |
US3913120A (en) | 1975-10-14 |
IT1027857B (it) | 1978-12-20 |
JPS5097895A (de) | 1975-08-04 |
FR2256546A1 (de) | 1975-07-25 |
DE2457488B2 (de) | 1978-11-09 |
JPS551682B2 (de) | 1980-01-16 |
FR2256546B1 (de) | 1976-10-22 |
US4083029A (en) | 1978-04-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2457488C3 (de) | Elektrische Verbindung zwischen Bauelementen aus verschiedenen Materialien, sowie Verfahren zur Herstellung | |
EP0989611B1 (de) | Kurzschlussfestes IGBT modul | |
DE2001515C3 (de) | Flächenhafte Leiterzüge auf einer monolithisch integrierten Halbleiterschaltung und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE68921156T2 (de) | Verbindung von Hochtemperatur-Oxidsupraleitern. | |
DE3150880A1 (de) | "leitende paste und verfahren zu ihrer herstellung" | |
DE2647566A1 (de) | Leiterstreifenstruktur, ihre verwendung und herstellung | |
DE1789106A1 (de) | Halbleiteranordnung | |
EP0193127A1 (de) | Filmmontierter Schaltkreis und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE3833886C2 (de) | Magnetfeldabschirmung mit einem supraleitenden Film | |
DE112005001495B4 (de) | Supraleitendes Fehlerstrom-Begrenzungs-Element und Verfahren zur Herstellung desselben | |
DE3924225A1 (de) | Keramik-metall-verbundsubstrat und verfahren zu seiner herstellung | |
EP0002703B1 (de) | Verfahren zum Herstellen von dünnen metallisch leitenden Streifen auf Halbleitersubstraten und damit hergestellte metallisch leitende Streifen | |
DE2719731A1 (de) | Mehrschichtschaltung | |
DE102004014703A1 (de) | Wärmeverteilermodul und Verfahren zur Herstellung desselben | |
DE2643147A1 (de) | Halbleiterdiode | |
EP0223137B1 (de) | Supraleitender Verbundleiter mit mehreren Leiteradern und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE3413885C2 (de) | ||
DE3850632T2 (de) | Supraleiterelement und Verfahren zu seiner Herstellung. | |
DE3787772T2 (de) | Halbleiterchip mit einer Höckerstruktur für automatische Bandmontage. | |
DE3605425A1 (de) | Duennschichtschaltung und ein verfahren zu ihrer herstellung | |
DE2055606A1 (de) | Dünnschicht Einkristall Bauelement mit Tunneleffekt | |
DE3523808C2 (de) | ||
EP0193128A2 (de) | Filmmontierter Schaltkreis und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE69109054T2 (de) | Supraleitende Einrichtung mit extrem kurzer supraleitender Kanallänge aus oxydisch supraleitendem Material und Verfahren zu deren Herstellung. | |
DE3018510C2 (de) | Josephson-Übergangselement |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |