DE2412858C3 - Device for correcting the beam strike error in a color cathode ray tube - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Korrektur des temperaturbedingten Fehlers, unter dem ein Elektronenstrahl einer Farbkathodensirahlröhre nach Passieren einer Strahlauswahleinrichtung auf den Farbphosphorschirm auftrifft, mit einer an der Rphre angebrachten, zur magnetischen Korrektur des Elektronenstrahlweges bestimmten elektromagnetischen Einrichtung, deren Spule mit einer Speiseschaltung verbunden ist, die ein von der Temperatur der Strahlauswahleinrichtung abhängiges Steuerelement enthält.The invention relates to a device for correcting the temperature-related error, under which a Electron beam from a color cathode siren tube after passing through a beam selection device on the color phosphor screen hits, with a attached to the tube, for magnetic correction of the electron beam path certain electromagnetic device whose coil is connected to a feed circuit which contains a control element which is dependent on the temperature of the jet selector.

Farbkathodenstrahlröhren sind mit einer Strahlauswahleinrichtung (Maske oder Gitter) versehen, die den Elektronenstrahl nur auf diejenigen Phosphorstellen des Farbphosphorschirmes auftreffen läßt, die Licht der betreffenden Farben emittieren. Durch die in der Färbkathodenstrahlröhre entwickelte Wärme tritt eine thermische Ausdehnung der Strahlauswahleinrichtung ein, die eine Verschiebung der Öffnungen dieser Strahlauswahleinrichtung gegenüber dem Farbphosphorschirm hervorruft. Eine solche thermisch bedingte Ausdehnung bzw. Verzerrung der Strahlauswahleinrichtung hat dann zur Folge, daß der Elektronenstrahl nicht auf die richtigen Farbphosphorelemente des Bildschirmes auftrifft, was eine Verschlechterung der Farbwiederga- be mit sich bringt.Color cathode ray tubes are provided with a beam selection device (mask or grid) which allows the electron beam to strike only those phosphor sites of the color phosphor screen which emit light of the relevant colors. The heat developed in the color cathode ray tube causes thermal expansion of the beam selection device, which causes the openings of this beam selection device to be displaced with respect to the color phosphor screen. Such thermally induced expansion or distortion of the beam selector then means that the electron beam does not hit the correct color phosphor elements of the screen, resulting in a deterioration of color rendition be entails.

Zur Korrektur dieses temperaturbedingten Fehlers lind bereits verschiedene Vorrichtungen bekannt.Various devices are already known for correcting this temperature-related error.

Bei einer bekannten Ausführung wird die Strahlaus-Wahleinrichtung von einer Bimetallhalterung getragen, »odurch sich eine mechanische Verschiebung der Strahlauswahleinrichtung in Abhängigkeit von auftretenden Temperaturänderungen ergibt. Eine derartige Vorrichtung ist verhältnismäßig kompliziert und ge-In a known embodiment, the jet selection device carried by a bimetallic bracket, »or a mechanical displacement of the Beam selection device results in dependence on occurring temperature changes. Such a one Device is relatively complicated and

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stattet keine einwandfreie Kompensation des temperaturbedingten Fehlers im ganzen Bereich des Bildschirmes. does not provide proper compensation for the temperature-related error in the entire area of the screen.

Es ist weiterhin eine Vorrichtung bekannt, bei der zur Korrektur des temperaturbedingten Fehlers verschiedene Permanentmagnete vorgesehen sind, die den Weg des Elektronenstrahles beeinflussen. Hierbei wird die bei Temperaturänderungen auftretende Änderung der Permeabilität eines magnetischen Nebenschlusses ausgenutzt Nachteilig ist jedoch, daß die Stärke der durch diese Permanentmagnete erzeugten Korrektur-Magnetfelder sich nur schwer justieren lassen.Furthermore, a device is known in which, for correcting the temperature-related error, various Permanent magnets are provided which influence the path of the electron beam. Here is the change in the permeability of a magnetic shunt that occurs when the temperature changes However, the disadvantage is that the strength of the correction magnetic fields generated by these permanent magnets difficult to adjust.

Bei einer weiteren bekannten Vorrichtung ist zur magnetischen Korrektur des Elektronenstrahlweges «ine elektromagnetische Einrichtung an der Farbkathodenstrahlröhre vorgesehen, deren Spule mit einer Speiseschaltung verbunden ist die ein von der Temperatur der Strahlauswahleinrichtung abhängiges Steuerelement enthält. Durch diese elektromagnetische Einrichtung wird somit ein temperaturabhängiges magnetisches Korrekturfeld erzeugt, das die temperaturbedingte Ausdehnung bzw. Verzerrung der Strahlauswahleinrichtung kompensiert. Diese Vorrichtung gewährleistet bereits eine verhältnismäßig gute Korrektur de;, temperaturbedingten Auftreff-Fehlers des Elektronenstrahles. Another known device is for magnetic correction of the electron beam path «An electromagnetic device on the color cathode ray tube provided, the coil of which is connected to a feed circuit which depends on the temperature Contains control dependent on the beam selector. Through this electromagnetic device a temperature-dependent magnetic correction field is thus generated, the temperature-dependent Expansion or distortion of the beam selection device compensated. This device already ensures a relatively good correction de ;, temperature-related Impact error of the electron beam.

Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung der letztgenannten Art dahin weiterzuentwickein, daß eine noch exaktere Korrektur des Auftreff-Fehlers erzielt wird.The invention is now based on the object of a To further develop the device of the latter type, that an even more exact correction of the landing error is achieved.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Speiseschaltung ein von der Umgebungstemperatur der Farbkathodenstrahlröhre abhängiges weiteres Steuerelement enthält und den der Spule zugeführten Strom in Abhängigkeit von der Differenz der von beiden Steuerelementen festgestellten Temperaturen ändert.This object is achieved according to the invention in that the feed circuit depends on the ambient temperature the color cathode ray tube dependent further control element and the coil fed Current as a function of the difference between the temperatures detected by the two control elements changes.

Wird adf diese Weise auch die — vielfach sehr unterschiedliche — Umgebungstemperatur der Farbkathodenstrahlröhre berücksichtigt, so wird eine praktisch ideale Korrektur des temperaturbedingten Strahlauftreff-Fehlers erreicht.Will adf this way also - often very different - Taking into account the ambient temperature of the color cathode ray tube, one becomes practical ideal correction of the temperature-related beam impact error achieved.

Die Erfindung wird nachstehend an Hand der F i g. l bis 9 der Zeichnung beispielsweise erläutert. Es zeigtThe invention is illustrated below with reference to FIGS. 1 to 9 of the drawing explained for example. It shows

F i g. 1 eine Rückansicht einer Farbkathodenstrahlröhre mit den elektromagnetischen Einrichtungen, die in der Strahlauftreffkorrektureinrichtung gemäß der Erfindung verwendet werden,F i g. 1 is a rear view of a color cathode ray tube with the electromagnetic devices which are used in the beam strike correction device according to the invention,

F i g. 2 ein Beispiel einer elektromagnetischen Vorrichtung, die bei der Erfindung verwendet wird, und das von dieser erzeugte Magnetfeld,F i g. Fig. 2 shows an example of an electromagnetic device used in the invention, and fig magnetic field generated by this,

F i g. 3 einen Teil eines weiteren Beispiels der elektromagnetischen Vorrichtung, die bei der Erfindung verwendet wird,F i g. 3 part of another example of the electromagnetic Apparatus used in the invention

F i g. 4 und 5 Diagramme zur Erläuterung der Kompensation des Auftreffehlers von Elektronenstrahlen mittels der Erfindung,F i g. 4 and 5 are diagrams for explaining the compensation of the incident error of electron beams by means of the invention,

F i g. 6 eine graphische Darstellung zur Erläuterung des Auftreffehlers von Elektronenstrahlen, der in einer Kathodenstrahlröhre hervorgerufen wird,F i g. 6 is a graph showing the incident error of electron beams occurring in a Cathode ray tube is caused,

F i g. 7 ein Schaltbild eines Beispiels eines Stromversorgungskreises, der in der Strahlauftreffehlerkorrektureinrichtung gemäß der Erfindung verwendet wird, undF i g. 7 is a circuit diagram showing an example of a power supply circuit; which is used in the beam strike error correction device according to the invention, and

F i g. 8 und 9 Diagramme, aus denen die Stromänderungen in der elektromagnetischen Vorrichtung hervorgehen, die in der Strahlauftreffehlerkorrektureinrichtung gemäß der Erfindung verwendet wird.F i g. 8 and 9 are diagrams showing the changes in current in the electromagnetic device, which is used in the beam strike error correction device according to the invention.

Fig 1 ist mit 1 eine von ihrer Rückseite gesehene ^kathodenstrahlröhre, mit 2 ihr trichterförmigerFig. 1 is 1 viewed from its rear side ^ cathode ray tube, with 2 you funnel-shaped

-TfflH 3 ihr ^{Hak> mit 4 mre Ablenkwicklun}g ^und mit-TfflH 3 your hook ^{> with 4 mre deflection winding and} with

·„ Hochspannungsanschluß bezeichnet, der eine An-· "High-voltage connection, which is an

" ...—.» ο··hält"...—.» ο ·· lasts

^^äß der Erfindung sind um wen Umfang des •Sförmigen Teils 2 z. B. an der Außenseite zwei 'fktromagnetische Einrichtungen angeordnet, die Xrahlablenkfelder bilden, um einen Elektronenhhveg zu kompensieren. Jede der elektrc magneti- *h Finrichtungen 8 besteht aus einem Magnetkern 6 onem Material mit geringer Koerzitivkraft wie ^a°R Siliziumstahl der 3 Gewichtsprozent Silizium ent-Lt und plattenförmig ausgebildet ist. Der plattenför-• e Magnetkern 6 ist an seinen oeiden Enden gebon und Spulen 7 sind auf die gebogenen Enden und, es notwendig ist, auf den mittleren Teil des Ma-^W<rtkerns 6 gewickelt. Zwei auf diese Weise gebildete lpktromagnetische Einrichtungen 8 sind an der Farbrfthodenstrahlröhre _{t an} der Außenseite horizontal «nleordnet. so daß die gebogenen Enden des Magnetk _{fe an} den Ecken des trichterförmigen Teils 2 an-.Lrdnet sind. Die jeweiligen Spulen 7, d.e auf die Maetkerne 6 gewickelt sind, sind miteinander in Reihe !«ehaltet mit einem Stromversorgungskreis 9 verbun-5 η Damit werden, wie später beschneben wird, die Jeweiligen Spulen 7 mit einem Strom versorgt, du sich r Abhängigkeit von der Lageverschiebung von Schlt-η oder öffnungen, durch die Elektronenstrahlen eine Qtrahlauswahleinrichtung wie ein Gitter oder eine Maske durchlaufen, ändert, die durch thermische Expansion nder Kontraktion der Strahlauswahleinnchtung bezug Ürhder entsprechenden Phosphorscheiben hervorgerufen werden kann. Durch die Versorgung der Spulen 7 mit solch einem Strom wird ein Magnetfeld Hi, dessen Flußdichte sich in Abhängigkeit von der Änderung des Stroms ändert, an den gebogenen Enden der Kerne 6, und ein Magnetfeld Hi an dem mittleren Teil der Kerne 6 erzeugt, wie F i g. 2 zeigt. Wenn daher der Elekonenstrahl, der von dem Hauptablenkfeld abgelenkt wird das von der Ablenkwicklung erzeugt wird, einen solchen Strahlweg nimmt, daß er auf dem Bildschirm an einer Stelle auf seiner Diagonallinie auftrifft, verlauft das Magnetfeld Hi im wesentlichen senkrecht zu dem Strahlweg während, wenn der Elektronenstrahl einen solchen Strahlweg nimmt, daß er auf dem Bildschirm an Stellen links und rechts von seiner Mitte auf trifft, das Maenetfeld Hi im wesentlichen senkrecht zu diesem Strahlweg verläuft Das den Strahlweg korrigierende Magnetfeld wirkt daher unabhängig davon, an welcher Stelle der Elektronenstrahl auftrifft, auf diesen.^^ äß the invention are around whom the scope of • S-shaped part 2 z. B. arranged on the outside two 'fktromagnetische devices, which form Xrahlablenkfelder to compensate for an electron path. Each of the electrical magneti * h fin devices 8 consists of a magnetic core 6 onem material with low coercive force such as ^a ° R silicon steel which contains 3 percent by weight silicon and is plate-shaped. The plate-• e magnet core 6 is gebon at its ends and oeiden coils 7 are wound on the bent ends and, it is necessary on the central portion of the ma- ^{W <rtkerns.} 6 Two electromagnetic devices 8 formed in this way are arranged _{horizontally on} the outside of the color ray tube. so that the bent ends of the Magnetk _{fe at} the corners of the funnel-shaped part 2-.Lrdnet are. The respective coils 7, de wound on the Maetkerne 6, are connected in series, "ehaltet with a power supply circuit 9 verbun-5 η This is beschneben later be the Respective coils 7 supplied with a current, you yourself r depending on the shift in position of Schlt-η or openings through which electron beams pass through a beam selection device such as a grid or a mask changes, which can be caused by thermal expansion and contraction of the beam selection device with respect to the corresponding phosphor disks. By supplying the coils 7 with such a current, a magnetic field Hi, the flux density of which changes depending on the change in the current, is generated at the bent ends of the cores 6, and a magnetic field Hi is generated at the central part of the cores 6, such as F. i g. 2 shows. Therefore, if the electron beam deflected by the main deflection field generated by the deflection winding takes such a beam path that it hits the screen at a point on its diagonal line, the magnetic field Hi is substantially perpendicular to the beam path during when the The electron beam takes such a beam path that it strikes the screen at points to the left and right of its center, the Maenet field Hi is essentially perpendicular to this beam path. The magnetic field correcting the beam path therefore acts regardless of where the electron beam strikes this.

Wenn der magnetische Widerstand des Magnetkerns 6 niedrig ist, kann ein Magnetfeld Hj, das zwischen den beiden Enden des Magnetkerns 6 erzeugt wird und in Fie 2durch eine gestrichelte Linie gezeigt ist, zu groß werden während die notwendigen Korrekturmagnetfelder Hi und Hi zu klein werden. Es ist daher notwendig für den magnetischen Widerstand des Magnetkerns 6 einen geeigneten Wert zu wählen, so daß das Maenetfeld Hi klein wird, jedoch die den Strahlweg korrigierenden Magnetfelder H. und H₂ relativ groß we, den. Hierzu kann es ausreichen, in der Mitte und an den gebogenen Enden des Magnetkerns 6 Öffnungen aus^ zubilden oder das gebogene Ende des Magnetkerns aus einer magnetischen Platte 6Λ und zwei magnetischen Platten 6ßund 6Caus einem Material mit genneerem magnetischen Widerstand als demjenigen der Platte %A herzustellen, die die Platte 6/4 umfassen, wie F i g. 3 zeigt.When the magnetic resistance of the magnetic core 6 is low, a magnetic field Hj generated between the two ends of the magnetic core 6 and shown by a broken line in Fig. 2 may become too large, while the necessary correction magnetic fields Hi and Hi become too small. It is therefore necessary to select a suitable value for the magnetic resistance of the magnetic core 6 so that the Maenet field Hi becomes small, but the magnetic fields H and H ₂ correcting the beam path are relatively large. To this end, it may be sufficient to make openings of ^ in the middle and at the bent ends of the magnetic core 6 or to make the bent end of the magnetic core from a magnetic plate 6Λ and two magnetic plates 6ß and 6C made of a material with a lower magnetic resistance than that of the plate % A comprising plate 6/4, as shown in FIG. 3 shows.

Bei einer praktischen Ausführungsform des Magnetkerns 6 beträgt seine Breite etwa (5 mm. seine Dicke etwa 0,2 bis 1 mm, seine Länge etwa 150 bis 250 mm entsprechend der Größe der Farbkathodensirahlrolye 1, und der Biegewinkel seines gebogenen Endes betragt etwa 60°. Die Windungszahl der Spulen 7, die auf die Mitte und die gebogenen Enden des Magnetkerns 6 gewickelt sind, beträgt etwa 1000 bis 2500. ^1C An Hand der F i g. 4 und 5 wird nun beschneben, wie die Verschiebung der Elektronenstrahlauftreffstelle auf dem Bildschirm bzw. das fehlerhafte Auftreffen des Elektronenstrahls, das durch die Verschiebung der Schlitze oder öffnungen des Gitters bzw. der Maske '5 relativ zu den entsprechenden Phosphorscheiben her vorgerufen wird, dadurch kompensiert wird, dall der obenerwähnte Strom den Spulen 7 der elektromagnetischen Einrichtung 8 zugeführt wird, um dadurch den Strahlweg korrigierende Magnetfelder zu erzeugen. μ Wenn der Spule 7 kein Strom zugeführt wird und daher kein Korrckturmagnetfeld .Verzeugt wird, verlauft der Elektronensirahl, wie durch die durchgehende Linie Λ in I- ig. 4 gezeigt ist, wenn iedoch die Spule 7 einen Strom erhalt und das Magnetfeld //. das senkrecht zu *5 de. Ze.ehenebene verläuft, erzeugt wird, unterliegt der Strahl 26 einer Kraft in Richtung des Pfeils / :n Mg. * und wird damit so abgelenkt, wie durch die gestrichelte Linie in F i g.4 gezeigt ist. Wenn daher die elektromagnetische Einrichtung 8 nicht vorgesehen ist und keine Verschiebung der Schlitze bzw. Öffnungen des Outers bzw der Maske relativ zu den Phosphorscheiben .mitritt und ein bestimmter Schlitz bzw. eine bestimmte Öffnung 27a richtig angeordnet ist, wie F ig. 5 zeigt, verläuft der Elektronenstrahl längs des durch die durchgehende Linie 26a in F i g. 5 gezeigten Weges und trifft durch den Schlitz bzw. die Öffnung 27a an der richtigen Stelle A auf dem Bildschirm auf. Wenn dagegen die Maske einer thermischen Verzerrung unterworfen ist und damit ihre Öffnungen relativ zu den Phosphorscheiben verschoben wird, so daß die Ottnung 27a an einer nicht richtigen Stelle zu liegen kommt, wie durch 27b in F ig. 5 gezeigt ist, verläuft der Strahl durch die Öffnung 27b, wie durch 26b gezeigt ist und trifft an einer nicht richtigen Stelle B adf. so daß ein Auftreffehler hervorgerufen wird.In a practical embodiment of the magnetic core 6, its width is approximately (5 mm, its thickness approximately 0.2 to 1 mm, its length approximately 150 to 250 mm corresponding to the size of the color cathode sirahlrolye 1, and the bending angle of its bent end is approximately 60 °. The number of turns of the coils 7, which are wound on the center and the bent ends of the magnetic core 6, is about 1000 to 2500. ^1C With reference to FIGS the erroneous impingement of the electron beam, which is caused by the shifting of the slits or openings in the grid or the mask 5 relative to the corresponding phosphor disks, is compensated for by supplying the above-mentioned current to the coils 7 of the electromagnetic device 8, in order to generate magnetic fields correcting the beam path d .V is generated, the electron beam runs, as shown by the solid line Λ in I- ig. 4 is shown when the coil 7 receives a current and the magnetic field //. that perpendicular to * 5 de. Toe plane is generated, the beam 26 is subject to a force in the direction of the arrow /: n Mg. * And is thus deflected as shown by the dashed line in FIG. 4. If, therefore, the electromagnetic device 8 is not provided and there is no displacement of the slots or openings of the outer or the mask relative to the phosphor disks and a certain slot or opening 27a is correctly arranged, as shown in FIG. 5 shows, the electron beam travels along the path indicated by the solid line 26a in FIG. 5 and hits through the slot or opening 27a at the correct point A on the screen. If, on the other hand, the mask is subjected to thermal distortion and thus its openings are displaced relative to the phosphor discs, so that the Ottnung 27a comes to lie in an incorrect place, as indicated by 27b in FIG. 5 is shown, the beam passes through the opening 27 b, as shown by 26b and impinges on a non-correct position B adf. so that a landing error is caused.

Wird die elektromagnetische Einrichtung 8 vorgesehen, so vermeidet man den durch die Verschiebung der Öffnungen der Maske relativ zu den Phosphorscheiben auftretenden nachteiligen Effekt.If the electromagnetic device 8 is provided, one avoids that caused by the displacement of the Openings of the mask relative to the phosphor disks occurring adverse effect.

so Wenn kein Strom durch die Spulen 7 fließt verlauft der Strahl längs des durch die durchgehende,Linie: 26a in F i g. 6 gezeigten Weges, wenn jedoch d.e Offnungen der Maske relativ zu den Phosphorscheiben durch die thermische Verzerrung der Maske verschoben werden 55 und die Spulen 7 einen Strom entsprechend der verschiebung der öffnungen der Maske erhalten, verlauft der Strahl längs eines gebogenen Weges, der durch eine gestrichelte Linie 36b' in F i g. 5 geze.gt ist. und trifft unabhängig von der thermischen Verzerrung der 6o Maske an der richtiger Stelle A auf den Bildschirm auf. in dem obigen Fall wird der Strom der den Spulen zugeführt wird, in Abhängigkeit von der Zunahme der Verschiebung der öffnungen der Maske relativ zu den Phosphorscheiben erhöht und damit wird die Flülid.cn-65 te des korrigierenden Magnetfeldes groß. Es ist dagegen auch möglich, wenn zuerst keine Verschiebung der Öffnungen der Maske relativ zu den Phosphorsche.ben auftritt den Spulen 7 einen vorbestimmten maximalenso when no current flows through the coils 7, the beam runs along the line shown by the solid line: 26a in FIG. 6, but if the openings of the mask are shifted relative to the phosphor disks by the thermal distortion of the mask 55 and the coils 7 receive a current corresponding to the shift of the openings of the mask, the beam runs along a curved path, which is indicated by a dashed line Line 36b 'in FIG. 5 is shown. and hits the screen at the correct point A regardless of the thermal distortion of the 6o mask. In the above case, the current supplied to the coils is increased as a function of the increase in the displacement of the openings of the mask relative to the phosphor disks, and thus the volume of the corrective magnetic field becomes large. On the other hand, it is also possible if there is initially no displacement of the openings of the mask relative to the phosphor layers, the coils 7 a predetermined maximum

Strom zuzuführen, der in Abhängigkeit von der Zunahme der Verschiebung der öffnungen der Maske relativ zu den Phosphorscheiben verringert wird, um die Flußdichte des Korrekturmagnetfeldes zu verringern und dadurch den Auftreffehler zu korrigieren. In diesem Fall wird ein Magnetfeld erzeugt, dessen Richtung zu derjenigen des in Fig.4 gezeigten Magnetfeldes entgegengesetzt ist. In diesem Falle wird daher die Stelle B in F i g. 5 die richtige Stelle, und wenn eine der öffnungen der Maske zuerst bei 27a in F i g. 5 liegt, wird der Strahl von dem Magnetfeld gebogen bzw. abgelenkt, wie durch eine gestrichelte Linie 26a' in F i g. 5 gezeigt ist, und trifft an der richtigen Stelle B auf den Bildschirm. Wenn die Öffnungen der Maske relativ zu den Phosphorscheiben verschoben werden und eine öffnung 27a bei 276 in F i g. 5 liegt, wird das Korrekturmagnetfeld im wesentlichen Null, so daß der Strahl längs des Weges verläuft, der durch die durchgehende Linie 266 gezeigt ist, und trifft an der richtigen Stelle B auf den Bildschirm. Unabhängig von der thermischen Verzerrung der Maske trifft daher der Elektronenstrahl stets an den richtigen Stellen auf den Bildschirm. To supply current which is reduced as a function of the increase in the displacement of the openings of the mask relative to the phosphor disks in order to reduce the flux density of the correction magnetic field and thereby correct the incident error. In this case, a magnetic field is generated, the direction of which is opposite to that of the magnetic field shown in FIG. In this case, therefore, the position B in FIG. 5 is the right place, and if one of the openings of the mask is first at 27a in FIG. 5, the beam is bent or deflected by the magnetic field, as indicated by a dashed line 26a 'in FIG. 5 and hits the screen at the correct point B. If the openings of the mask are shifted relative to the phosphor discs and an opening 27a at 276 in FIG. 5, the correction magnetic field becomes substantially zero so that the beam passes along the path shown by the solid line 266 and hits the screen at the correct location B. Regardless of the thermal distortion of the mask, the electron beam always hits the screen in the right places.

Die Größe der Verschiebung der öffnungen der Strahlauswahleinrichtung relativ zu den Phosphorscheiben, die durch ihre thermische Expansion oder Kontraktion hervorgerufen wird, die den /\uftreffehler des Strahls verursachen kann, ist proportional zu der Differenz zwischen der Temperatur der Strahlauswahleinrichtung und der Umgebungstemperatur der Röhre. Die Temperatur der Strahlauswahleinrichtung ist die Summe der Temperatur infolge der Wärme, die durch das Auftreffen des Elektronenstrahls auf die Strahlauswahleinrichtung erzeugt wird, und der Umgebungstemperatur der Farbkathodenstrahlröhre, und die Lage der Öffnungen der Strahlauswahleinrichtung ändert sich in Abhängigkeit von der Temperatur der Strahlauswahleinrichtung. Dagegen ändert sich die Lage der Phosphorscheiben auf dem Bildschirm in Abhängigkeit von der Umgebungstemperatur, die die thermische Expansion oder Kontraktion des den Bildschirm bildenden Glases hervorrufen kann. Wenn sich daher die Umgebungstemperatur ändert, ändert sich auch die Temperatur der Strahlauswahleinrichtung und damit wird die Lage ihrer öffnungen verschoben. Die Lage der Phosphorscheiben auf dem Bildschirm wird hierbei in der gleichen Richtung verschoben, so daß die relative Lage der öffnungen zu den entsprechenden Phosphorscheiben nicht geändert wird, so daß im wesentlichen kein Strahlauftreffehler verursacht wird. Die relative Verschiebung der öffnungen zu den entsprechenden Phosphorscheiben, die den Strahlauftreffehler hervorrufen kann, wird proportional der Differenz zwischen der Temperatur der Strahlauswahleinrichtung, die durch die Wärme hervorgerufen wird, die durch das Auftreffen des Elektronenstrahls erzeugt wird, und der Umgebungstemperatur bewirkt Diese Temperaturdifferenz nimmt nach dem Einschalten des Netzschalters eines Fernsehempfängers exponentiell mit der Zeit zu und nach dem Ausschalten des Netzschalters mit der Zeit exponentiell ab. Die Verschiebung der öffnungen der Strahlauswahlemrichtung relativ zu den Phosphorscheiben ändert sich nach dem Einschalten des Netzschalters mit der Zeh so, wie die Kurve 10 in F i g. 6 zeigt, ändert sich jedoch nach dem Ausschalten des Netzschalters so, wie die Kurve 11 in Fig.6 zeigt Wenn daher die elektromagnetische Einrichtung 8 ein Korrekturmagnetfeld erzeugen kann, das der Größe der Verschiebung der öffnungen der Strahlauswahleinrichtung relativ zu den Phosphorscheiben proportional ist, kann der Strahlauftreffehler korrigiert werden. Hierzu kann es genügen, daß der Stromversorgungskreis 9 derart ausgebildet wird, daß er den Spulen 7 einen Strom zuführt, der sich mit der Zeit ändert, wie durch die Kurven 10 und 11 in F i g. 6 gezeigt ist.The amount of displacement of the openings of the jet selection device relative to the phosphor discs, which is caused by its thermal expansion or contraction, which causes the target error of the jet is proportional to the difference between the temperature of the jet selector and the ambient temperature of the tube. The temperature of the jet selector is the Sum of the temperature due to the heat generated by the impact of the electron beam on the beam selection device is generated, and the ambient temperature of the color cathode ray tube, and the location of the Openings of the jet selector changes depending on the temperature of the jet selector. In contrast, the position of the phosphor disks on the screen changes as a function of the ambient temperature, which is the thermal expansion or contraction of the screen forming the screen Glass can cause. Therefore, when the ambient temperature changes, the temperature also changes the jet selection device and thus the position of its openings is shifted. The location of the phosphor discs on the screen is moved in the same direction, so that the relative position of the openings to the corresponding phosphor discs is not changed, so that essentially no Beam misfire is caused. The relative displacement the openings to the corresponding phosphor discs, which can cause the beam strike will be proportional to the difference between the Jet selector temperature caused by the heat generated by the impingement of the electron beam is generated, and the ambient temperature causes this temperature difference increases exponentially with time after the power switch of a television receiver is switched on and after the power switch is turned off exponentially over time. The displacement of the openings of the Beam selection device relative to the phosphor discs changes after the power switch is turned on with the toe like curve 10 in FIG. 6 shows, but changes after the Power switch as shown by curve 11 in Fig.6 Therefore, if the electromagnetic device 8 can generate a correction magnetic field that corresponds to the magnitude proportional to the displacement of the openings of the beam selection device relative to the phosphor discs is, the beam strike error can be corrected. For this it can be sufficient that the power supply circuit 9 is designed such that it supplies the coils 7 with a current which changes with time, such as by curves 10 and 11 in FIG. 6 is shown.

An Hand der F i g. 7 wird nun eine Ausfühiungsform des Stromversorgungskreises 9 beschrieben, der einenOn the basis of FIG. 7 will now be described an embodiment of the power supply circuit 9, the one

ίο Thermistor als temperatursensitives Element enthält. Bei der Ausführungsform der Fig.7 ist mit 12 ein Thermistor bezeichnet, der einen negativen Temperaturkoeffizienten des Widerstandes hat, um die Umgebungstemperatur der Röhre zu erfassen, und der z. B.ίο Contains thermistor as a temperature-sensitive element. In the embodiment of FIG. 7, 12 is a Denotes thermistor, which has a negative temperature coefficient of the resistor has to detect the ambient temperature of the tube, and the z. B.

an dem Chassis des Fernsehempfängers befestigt ist. Mit 13 ist ein weiterer Thermistor bezeichnet, der ebenfalls einen Negativtemperaturkoeffizienten des Widerstandes hat um die Temperatur der Strahlauswähleinrichtung zu erfassen, und der z. B. an dem Kern der Horizontal- und Vertikalablenkeinrichtung befestigt ist, deren Temperatur sich ähnlich der Strahlauswahleinrichtung ändern kann. Die Thermistoren 12 und 13 sind zwischen die Anschlüsse einer Energie- bzw Spannungsquelle, z. B. einer Gleichspannungsquelle 15, geschaltet Der Verbindungspunkt zwischen den Thermistoren 12 und 13 ist mit der Basis eines Transistors 16 verbunden. Eine Reihenschaltung eines Stellwiderstandes 17, eines Widerstandes 18 und eines Widerstandes 19 ist zwischen die Anschlüsse der Spannungsquelle 15 geschaltet und die Spule 7 der elektromagnetischen Einrichtung 8 ist zwischen den Emitter des Transistors 16 und den Verbindungspunkt der Widerstände 18 und 19 geschaltetis attached to the chassis of the television receiver. At 13, another thermistor is referred to, the also has a negative temperature coefficient of resistance around the temperature of the beam selector to capture, and the z. B. attached to the core of the horizontal and vertical deflector whose temperature can change similarly to the jet selector. The thermistors 12 and 13 are between the connections of a power or Voltage source, e.g. B. a DC voltage source 15, switched The connection point between the thermistors 12 and 13 is connected to the base of a transistor 16. A series connection of a variable resistor 17, a resistor 18 and a resistor 19 is between the terminals of the voltage source 15 connected and the coil 7 of the electromagnetic device 8 is between the emitter of the transistor 16 and the connection point of the resistors 18 and 19 are switched

Da bei einem solchen Schaltungsaufbau das Basispotential des Transistors 16 sich proportional der Differenz zwischen der Temperatur der Strahlauswahleinrichtung und der Umgebungstemperatur ändert, erhält die Spule 17 einen Strom, der der obigen Temperaturdifferenz bzw. der Verschiebung der öffnungen der Strahlauswahleinrichtung relativ zu den Phosphorscheiben proportional ist Wenn die obige relative Verschiebung auf einen Fehler der Röhre bei ihrer Herstellung zurückzuführen ist kann, selbst wenn die Temperatur der Strahlauswahleinrichtung mit der Umgebungstemperatur übereinstimmt durch Einstellung des Stellwiderstandes 17 der Spule 7 ein Strom einer vorbestimmten Größe zugeführt werden, um die Verschiebung zu kompensieren, selbst wenn die Temperatur der Strahlauswahleinrichtung mit der Umgebungstempera-Since in such a circuit structure the base potential of the transistor 16 is proportional to the difference changes between the temperature of the jet selector and the ambient temperature the coil 17 generates a current that corresponds to the above temperature difference or the displacement of the openings of the Beam selector relative to the phosphor disks is proportional when the above relative displacement may be due to an error in the tube in its manufacture, even if the temperature the jet selection device matches the ambient temperature by setting the Variable resistor 17 of the coil 7, a current of a predetermined size are supplied to the displacement to compensate, even if the temperature of the jet selection device with the ambient temperature

so tür übereinstimmtso door matches

Versuche mit den in Fig.7 gezeigten Werten der jeweiligen Kreiselemente, wobei die Widerstandswerte der Thermistoren 12 und 13 diejenigen bei normaler Temperatur sind, zeigen, daß der durch die Spule 7 fließende Strom, nachdem der Netzschalter eingeschaltet wurde, mit der Zeh zunimmt, wie die durchgehende Linie zeigt die die Kreise in F i g. 8 verbindet jedoch abnimmt wie die gestrichelte linie zeigt die die Kreuze in F i g. 8 verbindet in der die Abszisse die Zeit T in Minuten und die Ordinate den Strom Ir in MiHi-Amperen darstelltExperiments with the values of the respective circle elements shown in Fig. 7, with the resistance values of the thermistors 12 and 13 being those at normal temperature, show that the current flowing through the coil 7 increases with the toe after the power switch is turned on, such as the solid line shows the circles in FIG. 8 connects but decreases as the dashed line shows the crosses in FIG. 8 connects in which the abscissa represents the time T in minutes and the ordinate represents the current Ir in MiHi amperes

Durch Messungen, wie sich der durch die Spule 7 fließende Strom entsprechend der Differenz zwischen der Temperatur der Strahlauswahlemrichtung und der Umgebungstemperatur hn Falle einer Umgebungstemperatur von 23,32,41 und 46°C ändert erhält man das in Fig.9 gezeigte Ergebnis, in der die Abszisse die Temperatur in Grad Celsius und die Ordinate denBy measuring how the current flowing through the coil 7 changes according to the difference between the temperature of the beam selection device and the ambient temperature in the case of an ambient temperature from 23,32,41 and 46 ° C changes you get that result shown in Fig.9, in which the abscissa the Temperature in degrees Celsius and the ordinate den

Strc sich UmStrc around

Strom 17» in Milliampere darstellt. Aus I'i g. 9 ergibt sich, wie der durch die Spule 7 fließende Strom von der Umgebungstemperatur abhängt.Current 17 »represents in milliamps. From I'i g. 9 results how the current flowing through the coil 7 depends on the ambient temperature.

Die Speiseschaltung enthält schließlich noch ein Potentiometer 17, das mit der Spule 7 in Reihe geschaltet ist und zur Anpassung der Korrekturvorrichiung an die jeweilige Farbkathodenstrahlröhre dient.Finally, the supply circuit also contains a potentiometer 17 which is connected in series with the coil 7 and is used to adapt the correction device to the respective color cathode ray tube.

Hierzu 3 Blatt ZeichnungenFor this purpose 3 sheets of drawings

Claims (3)

Patentansprüche: 24Claims: 24 1. Vorrichtung zur Korrektur des temperaturbedingten Fehlers, unter dem ein Elektronenstrahl einerV..Farbkathodenstrahlröhre nach Passieren einer Strahlauswahleinrichtung auf den Farbphosphorschirm auftrifft, mit einer an der Röhre angebrachten, zur magnetischen Korrektur des Elektronenstrahlweges bestimmten elektromagnetischen Einrichtung, deren Spule mit einer Speiseschaltung verbunden ist, die ein von der Temperatur der Strahlauswahleinrichtung abhängiges Steuerelement enthält, dadurch gekennzeichnet, daß die Speiseschaltung em von der Umgebungstemperatur der Farbkathodenstrahlröhrc abhängiges weiteres Steuerelement (12) enthält und de*i der Spule (7) zugeführten Strom in Abhängigkeit von der Differenz der von beiden Steuerelementen (12, 13) festgestellten Temperaturen ändert.1. Device for correcting the temperature-related error under which an electron beam from a color cathode ray tube hits the color phosphor screen after passing a beam selection device, with an electromagnetic device attached to the tube, intended for magnetic correction of the electron beam path, the coil of which is connected to a supply circuit, which contains a control element dependent on the temperature of the beam selection device, characterized in that the feed circuit contains further control element (12) dependent on the ambient temperature of the color cathode ray tube and the current supplied to the coil (7) as a function of the difference between the two control elements (12, 13) temperature changes. 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Steuerelemente (12,13) durch zwei in Reihe zwischen die Anschlüsse einer Speisespannungsquelle (15) geschaltete Thermistoren mit negativem Temperaturkoeffizienten gebildet werden, deren Verbindungspunkt an die Basis eines Transistors (16) angeschlossen ist. 2. Apparatus according to claim 1, characterized in that the control elements (12, 13) are formed by two thermistors connected in series between the terminals of a supply voltage source (15) with a negative temperature coefficient, the connection point of which is connected to the base of a transistor (16) . 3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Speiseschaltung ein zur Spule (7) der elektromagnetischen Einrichtung (8) in Reihe geschaltetes Potentiometer (17) enthält.3. Apparatus according to claim 1, characterized in that the feed circuit is a to the coil (7) the electromagnetic device (8) contains potentiometer (17) connected in series.