DE2349906B2 - Glasfaser-Übertragungsleitung - Google Patents
Glasfaser-ÜbertragungsleitungInfo
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Description
Die Erfindung bezieht pich auf Glasfaser-Übertragungsleitungen
für die Übertragung elektromagnetischer Strahlung im optischen Spektralbereich der im
Oberbegriff des Anspruches 1 angegebenen Art.
Der Aufbau von Nachrichtenübertragungssystemen unter Verwendung kohärenter oder inkohärenter
Träger im optischen Spektralbereich sind von großem Interesse, und zwar vor allem wegen der hier gegebenen
größeren Bandbreiten als Folge der betroffenen höheren Frequenzen, sowie der geringeren Abmessungen
der Übertragungsleitungen. Letzteres ist insbesondere in Stadtgebieten wichtig, wo der Leitungsraum
besonders knapp ist
Es sind schon zahlreiche Glasmedien für Glasfaser-Übertragungsleitungen
untersucht worden. Hierbei hat es sich gezeigt, daß erschmolzenes Siliciumoxid (SiO-),
d. h. Quarzglas, als ein sehr vielversprechendes Medium
für Übertragungsleitungen im optischen Spektralbereich anzusehen ist. Mustermaterialien mit einer
Einfügungsdämpfung von weniger als 2 dB/km bei einer Wellenlänge von 1,06 Mikrometer sind nunmehr
verfügbar. Die derzeitigen Faser-Ziehverfahren zeigen vielversprechende Ergebnisse, und es wird erwartet, daß
Faserleitungen mit solchen Einfügungsdämpfungen in naher Zukunft hergestellt werden können.
Neben diesen Erwägungen hinsichtlich des Mediums selber, durch das die Wellenenergie übertragen wird,
betreffen ebenso wichtige Erwägungen die Wellenleitungsfunktion der Übertragungsleitung. Die hier in
Rede stehenden Übertragungsleitungen arbeiten mit einem das Übertragungsmedium umgebenden Medium
etwas niedrigeren Brechungsindex als das Übertragungsmedium selber. Das umhüllende Medium kann die
Form eines Mantels mit einheitlichem Brechungsindex oder mit einem Gradienten im Brechungsindex haben,
so daß der Brechungsindex an einer vom Kern entfernten Stelle ein Minimum erreicht.
Infolgedessen wurden erhebliche Anstrengungen zur Herstellung von Ummantelungen unter Verwendung
von SiO2 unternommen. Da dieses Material selbst einen
recht niedrigen Brechungsindex hat, wurde bisher so verfahren, daß die Herstellung einer Faser mit
Siliciumoxid-Mantel und Siliciumoxid-Kern angestrebt
wurde, wobei der Brechungsindex des Kerns durch
Jj geeignete Dotierung erhöht wurde. So wurde z. B.
Titandioxid (TiO?) in geringer Menge (etwa 1,0 Gew.-%) zugesetzt, was zu einer Erhöhung des Brechungsindex
im Kern in der gewünschten Größenordnung von etwa 0,3% führte. Der solcherart erzielte Brechungsindexunterschied
klingt zwar gut, aber die erzielten Ergebnisse waren gleichwohl enttäuschend: Die Einfügungsdämpfung
für Fasern dieser Art lag bei erheblich höheren Niveaus als für reines Siliciumoxid. Im
Vergleich zu undotierten Fasern ähnlicher Ausgangsmaterialien war ein unverhältnismäßig hohes Anwach-•
sen der Streu- und Absorptionsverluste zu beobachten.
Deshalb soll vorliegend der komplementäre Weg beschritten und mit einem Kern aus S1O2 und einem
Mantel aus S1O2 mit brechungsindexerniedrigenden Zusätzen gearbeitet werden.
In diesem Zusammenhang ist es aus der US-PS 33 20 114 bekanntgeworden, den Brechungsindex der
Oberfläche einer optischen Faser im unmittelbaren Anschluß an den Ziehvorgang in situ zu modifizieren.
Eine solche Modifizierung wird dadurch erreicht, daß die gerade extrudierte Faser ein Bad aus einer
Alkaliverbindung, beispielsweise einer wäßrigen Lösung von Lithiumchlorid gezogen wird. Sonach ist das
Grundelement, das zur Erniedrigung des Brechungsindexes der Faseroberfläche verwendet wird, ein Alkalimetall.
Nach den weiteren Angaben dieser Patentschrift können dem Bad noch verschiedene weitere je einem
bestimmten Zweck dienenden Zusätze beigegeben werden. Beispielsweise wird ein Zusatz von Magnesium-
b5 laurylsulfat als Benetzungsmittel für vorteilhaft befunden,
während mit einem Zusatz von Cer oder Zirkonsalzen die Reaktionsgeschwindigkeit beeinflußt
und mit einem Borsäurezusatz der Schmelzpunkt der
Faseraußenschicht erniedrigt und die weitere Verarbeitung der Faser erleichtert werden kann. Nach den
weiteren Angaben dieser Patentschrift kann dann angenommen werden, daß ein Magnesium-Lithium-Cer-Bor-GIas
wahrscheinlich erzeugt wird.
Eine derartige Faser ist aber wenigstens insofern nicht ideal, als sich mit einer solchen niehrkomponentigen
Glasphase als dem Mantelmaterial kaum reproduzierbare Verhältnisse und auch nicht jedes gewünschte
Brechungsindexprofil erreichen lassen.
Aufgabe der Erfindung ist es deshalb, einen anderen Lösungsweg anzugeben, wie der Brechungsindex eines
Mantels auf SiOrBasis gegenüber einem SiOi-Kern
herabgesetzt werden kann.
Es ist ein allgemein bekanntes Prinzip, daß bei Mischung zweier reiner Glasmaterialien der Brechungsindex
der Mischung sich entsprechend dem gewichteten Mittelwert zwischen den beiden Grenzwerten der
reinen Bestandteile ändert. Die vorliegende Erfindung beruht nun auf der Entdeckung, daß im Borsilikatsystem,
d.h. im System B2O3— SiO2, eine überraschend hohe
Brechungsindexänderung auftritt, die ein solches Borsilikatglas zu einem ausgezeichneten Material für den
Mantel einer optischen Faser macht. So hat bei der Natrium D-Linie reines B2O3 einen Brechungsindex von
1,4582 und reines SiO2 einen Brechungsindex von 1,4585.
Das heißt, die beiderseitigen Brechungsindexwerte sind bis auf die geringfügige Differenz von 0,0003 c inander
gleich. Es war daher für den Brechungsindex von Mischungen aus B2O3 und SiO2 allenfalls zu erwarten,
daß sich deren Brechungsindices nicht oder jedenfalls nicht wesentlich von denen der beiden Komponente)!
unterscheidet. Wie nun gefunden wurde, ist aber überraschenderweise eine um wenigstens 0,1 °/oige
Erniedrigung des Brechungsindexes bei SiO2/B2O3-Mischungen
zu verzeichnen, wenn das Molenverhältnis der Mischung zwischen 2 :1 und 30 :1 gehalten wird.
Demgemäß ist die Erfindung dadurch gekennzeichnet, daß der Mantel der Glasfaser-Übertragungsleitung
aus einem solchen B2O3—SiO2-Gemisch mit den
angegebenen Bereichsgrenzen besteht.
Vorteilhaft wird das Verhältnis auf zwischen 20 :1 und 4:1, vorzugsweise zwischen 20: 1 und 6:1,
liegende Werte eingestellt. Die maximale Brechungsindexverringerung erhält man mit einem Verhältnis von
S1O2/B2O3 von etwa 6 :1. Bei diesem Minimum ist der
Brechungsindex der Mischung etwa 0,3% kleiner als der von SiO2.
Mit der Erfindung wird daher das beschriebene Ziel erreicht. Der Siliciumoxidkern zeigt eine sehr niedrige
Einfügungsdämpfung, der diesem hervorragenden Übertragungsmedium eigen ist. Obwohl der größte Teil
der Wellenenergie durch diesen Kern übertragen wird, wandert ein nicht erheblicher abklingender Teil durch
den Mantel. Der Mantel aus erfindungsgemäß mit R2O3 modifiziertem Siliciumoxid ist im wesentlichen wasserfrei
und OH--frei, so daß Absorptionsverluste nicht zwangsweise über den des Kerns erhöht werden. Die
Streuverluste sind zwar, wahrscheinlich infolge zufälliger Verteilungsschwankungen der Borgruppen etwas
erhöht, sind jedoch im Mantel von geringerer Bedeutung, da der Hauptteil der Wellenenergie durch
den Kern übertragen wird.
Brechungsindex-Profile sowie andere Entwurfsparameter
für bevorzugte Übertragungsleitungen sind nachstehend anhand in der Zeichnung dargestellter
Ausführungsbeispiele der Erfindung beschrieben; es zeiet
F i g. 1 die Schrägansicht einer optischen Übertragungsleitung und
F i g. 2 ein experimentell ermitteltes Diagramm, in
dem auf der Ordinate der Brechungsindex η für eine gewählte Wellenlänge und aui der Abszisse die
Zusammensetzung von [SiO2Z(SiOj+3/2 B2O3) und
S1O2/B2O3] aufgetragen ist.
Die in F i g. 1 dargestellte optische Übertragungsleitung 1 ist aus einem Kern-Abschnitt 2 aus unmodifiziertem.
hochreinem S1O2 und einem als Mantel 3
dargestellten Wellenleitabschnitt aus mit B2Oj modifiziertem
S1O2 aufgebaut. Der Mantel 3 kann in der erörterten Weise als Einzelschicht mit im wesentlichen
gleichem Brechungsindex oder zwei- oder mehrschichtig ausgebildet sein, wobei jede folgende Schicht
niedrigeren Brechungsindex als die vorhergehende hat, so daß ein spezieller, für Multimoaen-Fasern geeigneter
parabolischer Gradient angenähert wird Der Mantel 3 selbst kann alternativ eine abgestufte Zusammensetzung
haben. Weiter ist eine Einrichtung 4 zur Ein- und/oder Auskopplung von Wellenenergie in die
Leitung 1 gezeigt. Im vorliegenden Fall besteht die Einrichtung 4 aus einem Abschnitt von eng angepaßtem
Brechungsindex. Die Einrichtung 4 kann eine Kopplung zwischen der Leitung 1 und einer nicht gezeigten
Übertragungs- oder Abtastvorrichtung sein. Eine in gestrichelten Linien gezeigte zusätzliche Schicht 5 dient
als Schutzschicht zur Verhinderung von Kreuzkopplungen zwiscnen benachbarten Leitungen. Diese Schicht
kann aus irgendeinem die zu übertragende Wellenenergie absorbierenden Material bestehen. Für den Betrieb
im optischen Spektralbereich kommen als Schutzschichtmaterialien mit Kohlenstoff imprägniertes Polyäthylen,
aus der Dampfphase niedergeschlagene
j5 Chrom-Metallschichten und schwarz pigmentierte Polyesterharze
oder Farben in Frage. Die dem Diagramm von F'. g. 2 entnehmbaren Werte sind weitgehend
repräsentativ für das gesamte sichtbare Spektrum sowie die anschließenden Bereiche im infraroten und im nahen
ultravioletten Bereich, für die S1O2 hinreichend transparent
ist. Die tatsächlich angegebenen Werte sind jedoch ermittelt für einen Brechungsindex η in der Nähe der
Wellenlänge von 0,58 μΐπ. Die angegebenen Grenzwerte
liegen etwa bei 1,4585 für SiO2 und 1,4582 für B2O3.
Mischungen der beiden Materialien führen zu einer Absenkung von η über den gesamten Bereich und
erreichen ein Minimum von etwa 1,4545 bei einem Wert von SiO2/(SiO2 +3/2 B2O3) von 0,8. Dies entspricht
einem SiO2: B2O3-Verhältnis von 6 :1. Zusammensetzungen
in einem Bereich um dieses Minimum herum, die in der noch im einzelnen beschriebenen Weise
hergestellt werden, sind im wesentlichen frei von auf H2O oder OH --Gehalt zurückführbare Absorption.
Zusammensetzung
Erfindungsgemäß verwendetes Mantelmaterial ist mit Boroxid (B2O3) modifiziertes erschmolzenes Siliciumoxid
(SiO2). Der Gehalt an ungewollten Verunreinigungen wird beim Kernmaterial im allgemeinen auf einem
sehr niedrigen Niveau gehalten. Sowohl Siliciumoxid als auch Boroxid stehen in Reinheiten in der Größenordnung
von 99,9999 Gew.-% zur Verfugung bzw. können
derart rein dargestellt werden, und mit Ausnahmefällen, beispielsweise bei Li, Na und H, ist es im allgemeinen
erforderlich, daß die Materialien diesen Reinheitsgrad erreichen. Durch solche Reinheitsgrade wird zwar
geeignetes Material sichergestellt, jedoch ist der Gehalt an Verunreinigungen vor, Dri-närer Bedeutung hinsicht-
lieh Materialien, die merklichen Einfluß auf Streuung
oder Absorption haben. Bei der Streuung wächst der Verlust, wenn der Brechungsindex und die Konzentration
des Einschlusses sich gegenüber Siliciumoxid ändert Der Brechungsindex von S1O2 — wieder bei der
als Beispiel gewählten Wellenlänge von 0,58 μιη gemessen — beträgt 1,4585 (im Vergleich zum Vakuum,
für das η = 1 ist). Aus der Figur geht hervor, daß der Wert für B2O3 unter gleichen Umständen eng benachbart,
d. h. 1,4582 ist
Dies stellt einen prozentualen Unterschied von etwa 0,02% dar. Für optimale Leistungen müssen alle
Verunreinigungen mit Brechungsindexwerten, die mehr als 0,05% abweichen, auf einem Wert unterhalb von 0,2
Gew.-% gehalten werden.
Die Einfügungsdämpfung einer Übertragungsleitung der hier in Frage stehenden Art liegt innerhalb seiner
Grenzen infolge von Absorptions- und Streukomponenten in derselben Größenordnung. Bei 1,06 μιη kann die
Absorptionskomponente der Einfügungsdämpfung für SiC>2 unter 1 dB/km liegen. Verunreinigung mit Absorptionsniveaus
bei einer in Frage stehenden Wellenlänge sollten auf oder unterhalb eines Anteils gehalten
werden, der ausreicht, um einen etwa gleichgroßen Verlust beizutragen. Für diesen Zweck reicht es im
allgemeinen aus, die angegebene Größe von 10~4 Gew.-% Gesamtverunreinigung an Obergangs-Metallionen
einzuhalten.
Frühere Versuche mit dem B2O3-System waren
irreführend. Von G. W. Morey in Properties of Glass, 2. Ausgabe, Reinhold Publishing Company, New York,
1954, Seiten 370—372, angegebene Werte zeigen Brechungsindexwerte niedriger als die von Siliciumoxid
im Bereich hohen B2O3-Anteils, wobei aber die
niedrigeren Werte dem Vorhandensein erheblicher Mengen von Wasser zugeschrieben werden müssen Ein
Wasser- oder, genauer, OH--Gehalt ist bei einer optischen Übertragungsleitung unerwünscht; und tatsächlich
liegt der zur Erzielung einer Absenkung des Brechungsindexwerts in der von Morey beobachteten
Größenordnung erforderliche Wassergehalt oberhalb des oben für den Anteil an Verunreinigungen angegebenen
Wertes von 0,2 Gew.-°/o. OH--Absorption ist bei niedrigem SiO2-Anteil, d. h. bei Gemischen, bei denen
das Mol-Verhältnis von SiO2 zu B2O3 kleiner als 2 :1 ist,
nicht leicht verringerbar. Ein niedriger Siliciumoxidgehalt führt zu Zusammensetzungen die gegen den Angriff
von Wasser empfindlich sind, und dies ist ein zweiter, obgleich verwandter Grund für das angegebene
Minimum des Verhältnisses von Siliciumoxid zu Boroxid.
Die obere Grenze des SiO2: B2O3-Verhältnisses liegt
bei 30 :1, vorzugsweise bei 20 :1. Die obere Grenze ergibt sich aus der Vorschrift über den erforderlichen
Unterschied der Brechungsindices. Für die meisten Anwendungsfälle sollte dieser Unterschied wenigstens
0,1% betragen (die prozentualen Änderungen der Brechungsindices sind etwa 0,15; 0,22; 0,15; 0,1 für
SKVB2O3-Verhältnisse von 2 :1 ;4 :1; 20 :1 und 30 : 1.
Aus Fig.2 geht hervor, daß ein maximaler Unterschied
des Brechungsindex bei einem Wert erhalten wird, der etwa dem Wert 0,8 für den Bruch
SiO2/(SiO2+3/2 B2O3) entspricht, was etwa einem
Verhältnis von SKVB2O3 von 6:1 ergibt Der
unterschiedliche η-Wert bei diesem Minimum liegt im
allgemeinen zwischen 0,2 bis 03% abhängig vom Grad der Mischung der Ausgangsmaterialien und ihrem
Verunreinigungsgehalt Im allgemeinen zeigen die am besten gemischten Materialien mit höchster Reinhei
den höchsten Unterschied im i/-Wert. Übertragungsan Ordnungen sollen vorzugsweise innerhalb dieses maxi
malen Unterschiedes verwendet werden, so daß > ausgedrückt als Mol-Verhältnis — der bevorzugt
Zusammenseuungsbereich bei etwa 6 :1 bis 20 :1 lieg
(was Werten von 0,8 bis etwa 0,95 auf der Abszisse it F i g. 2 entspricht). Chemische Beständigkeit (Beständig
keit gegen Wasserangriff) ist für die Vorschrift diese Bereiches mit berücksichtigt.
Die vorstehend angegebenen Bereiche wurden au der Grundlage der Materialien und der Minimalisierunj
der Differenz der linearen Ausbreitungskoeffizientei zwischen Kern und Mantel bestimmt. Hierbei müsset
!5 annehmbar niedrige Anteile von H2O oder OH"
vorliegen, wie sie anhand von Infrarot-Absorptionsmes sungen im Frequenzbereich von 0,6 bis 3,0 μιη ermittel
werden. Ein Extinktionskoeffizient von 20 cm -' be 2,8 μιη, was einem OH--Anteil von weniger als 0,2
Gew.-% entspricht, wird als Anzeige des Fehlens diesei
Verunreinigung betrachtet. Die Wärmeausdehnungsko effizienten von B^-modifiziertem Siliciumoxidgla;
liegen zwischen 0,5x10-' und 2xlO~6, was den
entsprechenden Wert des Kerns aus reinem Silicium oxid hinreichend angepaßt ist um Beschädigung infolgt
sich ändernder Temperaturen im Mantel zu verhindern.
Materialaufbereitung
Mit B2O3-modifiziertes Siliciumoxid kann mit jeden
für die Herstellung von Siliciumglas in guter optischer Qualität geeigneten Verfahren erzeugt werden. Sieh«
beispielsweise »Properties and Structures of Vitreou; Silica 1« von R. Bruckner, Journal of Non-Chrystalline
Solids Band 5, Seiten 123 bis 175 (North-Hollam
j5 Publishing Co.).
Muster, die zu einigen der hier angegebenen Daten führten, wurden in der folgenden Weise hergestellt. SiO;
und B2O3 wurden über Nacht in einem Plastiktrog untei
Verwendung kunststoffbeschichteter Mischarme mit einander vermählen. Das vermischte Material wurde
dann in Platintiegel mit 100 ml eingefüllt und mehrere Stunden lang in einem elektrischen Ofen bei etwa
1350° C wenigstens teilweise erschmolzen. Die geschmolzenen
Materialien wurden dann — abhängig vom SiO2-Gehalt — auf 1500 bis 20000C in einem
Iridiumtiegel erhitzt, um klare Gläser zu erhalten. Aus der erschmolzenen Masse wurden Musterstücke in füt
die Messung geeigneten Größen geschnitten und poliert.
Der Brechungsindex der Musterstücke wurde untei Verwendung eines Abbe-Refraktometers bestimmt.
Herstellung der Übertragungsleitung
Die Prinzipien der Herstellung optischer Glasfasern haben sich gut eingeführt Sie sind in der technischen
Literatur beschrieben und bekannt Für die vorstehende Erläuterung werden die beiden zumeist angewandten
Verfahren zur Herstellung von Glasfasern für optische Wellenleiter beschrieben, nämlich das Vorformverfahren
und das Doppeltiegelverfahren.
Beim Vorformverfahren wird ein Stab des Kernglases in der Mittelachse eines Rohrs des Mantelglases
ähnlicher Länge angeordnet Diese Vorform ist in einer mit einem Vorschubmechanismus verbundenen Befestigungsvorrichtung
so gehaltert, daß sie in eine zur Erwärmung des Glases hinreichende Wärmequelle
eingeführt werden kann. Beispiele solcher Wärmequellen sind Widerstandsöfen, Gasbrenner, Edelgasplasmas
Die vorliegenden Gläser erfordern Ziehiemperaturen
von etwa 19000C. Bei der Erwärmung erweichen die
Vorderenden von Stab und Rohr zu einer konischen Form, aus welcher eine Faser gezogen und auf einer ·>
Aufwickeltrommel angebracht wird, die schnell gedreht und verschoben werden kann. Im allgemeinen wird nur
eine einzige Faserschicht auf der Trommel aufgewickelt, um zu verhindern, daß aus der Berührung zwischen
benachbarten Schichten mechanische Beschädigungen m auftreten.
Das Verhältnis von Stab- und Rohrdurchmesser bleibt beim Faserkern und Überzug im allgemeinen
erhalten. Der Durchmesser der Faser wird durch die Abmessungen von Stab und Rohr, die Größe des
Vorformvorschubs, die Temperatur der Wärmequelle und die Umfangsgeschwindigkeit der Wickeltrommel
gesteuert. Um die Qualität der Faser zu optimieren, müssen die Hauptflächen von Stab und Rohr glatt sein,
wobei diese vorzugsweise eine polierte Oberfläche haben sollten. Zusätzlich hat eine Evakuierung des
Ringraumes zwischen Stab und Rohr den Vorteil, daß Blasenbildung an der Kern-Überzug-Zwischenschicht
verringert wird.
Beim Doppeltiegel-Verfahren ist kein Vorschubmechanismus
erforderlich. Statt dessen fließen aus konzentrischen Öffnungen die Kern- und Mantel-Glasströme
gleichzeitig aus, wobei sie verschmelzen und im wesentlichen wie beim Vorformverfahren zu einer
Faser gezogen werden. Der innere Tiegel enthält die jo Glaszusammensetzung für den Kern und der äußere
Tiegel die Glaszusammensetzung für den Mantel der Faser. Die Gläserströmung erfolgt durch Schwerkraft
oder Druckeinwirkung und wird mit Hilfe ihrer Viskositäts-Temperatur-Beziehungen gesteuert.
Jede der beiden Methoden ist für die Herstellung optischer Wellenleiter unter Verwendung der hier
beschriebenen Gläser anwendbar.
Ent Wurfsbetrachtungen
Die nachfolgenden Erörterungen sind auf die Auslegung jeder ummantelten optischen Übertragungsleitung
übertragbar. Ein Großteil der Information ist zwar in der Literatur zu finden, jedoch nicht leicht aus
einer Quelle entnehmbar.
Von der Vielzahl der möglichen, in Betracht gezogenen Faserausgestaltungen ragt eine als besonders
einfach und als gute Lichtleitungseigenschaften aufweisend heraus. Es ist dies die in F i g. 1 gezeigte
Kern-Mantel-Faser, bei der der Brechungsindex des Kerns um Δη größer als der Brechungsindex η des
Mantels ist. Durch geeignete Wahl von Kernradius a und Δη kann diese Faser entweder für Einzel- oder
Multimodenbetrieb ausgelegt werden. In jedem Fall wird der größte Teil der optischen Energie der
übertragenen Moden vom Kern übertragen, obwohl ein Bruchteil der Leistung (ungefähr 20% für Einzelmoden
und 1 bis 2% für hochgradigen Multimodenaufbau) auch im Mantel übertragen wird. Die optische Gesamtdämpfung
«,„, solch einer Faser ist eine bewertete Oberlagerung der Dämpfungsanteile vom Kern und
Mantel:
Λ/οι = (0Zo der optischen Energie im Kern) »tn
Für Kern-Mantel-Fasern für hohe Multimoden pat
jeder der Vielzahl übertragener Moden eine definierte Ausbreitungsgeschwindigkeit. Die Energierichtung des
schnellsten Mode verläuft entlang der Achse der Faser. Die außeraxialen Moden sind langsamer, weil ihre
Energie an der Kern-Mantel-Grenzfläche oftmals reflektiert wird, während sie ihren Weg in einer
langgestreckten Faser zurücklegt. Dieser Unterschied der Modengeschwindigkeiten begrenzt die Informationsbandbreite
(oder Bit-Rate) der optischen Faser-Wellenleiter, da sich Energie, die in extrem schmalen
Lichtimpulsen in den verschiedenen Moden einer Faser geführt ist, im Verlauf der Fortpflanzung längs der Faser
allmählich verbreitert. Wenn diese Impulsverbreiterung ein Ausmaß erreicht, bei dem sich benachbarte Impulse
eines Bit-Stroms einander zu weit überdecken, geht die zu übertragende Information verloren.
Anhand bekannter Prinzipien kann gezeigt werden, daß die Informationsbandbreite einer hoch gleichmäßigen
und Hoch-Multimoden-Faser mit der Differenz der Brechungsindices zwischen Kern und Mantel verknüpft
ist.
Insbesondere ist
I „ < ^7
LxB
worin c die Lichtgeschwindigkeit (3 χ 105 km/sec), L die
Faserlänge und ßdie maximale Informationsbandbreite ist.
Zur Übertragung einer Bandbreite von 30 MHz über eine relativ kurze Entfernung von 1 km muß der Wert
von Δη beispielsweise 0,01 oder kleiner sein. Aus der oben angegebenen Gleichung ist ersichtlich, daß große
Entfernungen und breitbandige Übertragungen geringe Werte von Δη erfordern. Je kleiner diese Werte sind, um
so besser. Wenn Δη jedoch zu gering wird, hat das geführte Licht wieder die Tendenz, in wesentlichem
Umfang aus der Faser »auszutreten«, wenn es geringfügige Fabrikationsfehler passiert, die während
der Herstellung unvermeidlich auftreten. Je kleiner Δη ist, um so größer wird die Auswirkung dieses Verlustes.
Um diesen optischen Verlust auf einem vernünftigen Wert zu halten, muß daher Δη einen gewissen unteren
Grenzwert haben.
Für nachrichtentechnische Zwecke liegt der brauchbare Bereich für Δη zwischen 0,0001 und 0,10, wobei der
Bereich zwischen 0,001 und 0,02 bevorzugt ist. Es ist festzuhalten, daß das Δη des SiOi-Kerns und die
erfindungsgemäß bevorzugte Zusammensetzung des Mantels in diesem bevorzugten Bereich liegen.
Obwohl die vorstehende Diskussion sich nur auf Multimoden-Fasern bezieht, sind die anwendbaren und
bevorzugten Bereiche für Δη auch auf Einzelmoden-Kern/Überzugs-Fasern
brauchbar. Für Einzelmoden-Fasern gelten die oben für die untere Grenze von Δη
gegebenen Werte ebenfalls. Jedoch ist offensichtlich kein Impulsverbreiterungseffekt infolge unterschiedlicher
Modengeschwindigkeiten gegeben, so daß Gleichung (2) nicht zur Festlegung einer oberen Grenze von
Δη verwendet werden kann. Bei einem solchen Einzelmodenfall ist die obere Grenze einfach durch die
bekannte Tatsache gegeben, daß der Faserkernradius a den folgenden Grenzwert hat.
65
α <
(D
+ (% der optischen Energie im Mantel) nManlrl worin λ die Wellenlänge des optischen Signals im
Vakuum und η der Brechungsindex des Mantels ist. Aus
dieser Gleichung ist entnehmbar, daß der Wert von a bei einem Wachsen von Δη kleiner werden muß. Tatsächlich
wird a ungefähr gleich λ, wenn Δη gleich 0,02 ist. Mit
solchen geringen Kerndurchmessern sind zwei Schwierigkeiten verbunden. Die erste liegt in der praktischen
Schwierigkeit der mechanischen Genauigkeit, die erforderlich ist, um solche dünne Kerne zum Anschließen
auszurichten. Das zweite ist ein grundlegendes Problem und hängt mit nichtlinearen optischen Effekten,
wie der stimulierten Brillouin- und Raman-Streuung zusammen, die auftritt, wenn mäßige optische Leistung
(d.h. 10 mW) in einem sehr kleinen Querschnitt (J. h. 1 μην') eingeschlossen ist. Wenn diese nicht linearen
Effekte auftreten, ist eine brauchbare Übertragung ausgeschlossen. Ein minimaler Kerndurchmesser in der
Größenordnung von etwa 3 μιη ist daher unter
Berücksichtigung dieser und anderer praktischer Erwägungen vorgeschrieben. Ein maximaler Kerndurchmesser
von weniger als 200 μιη ist zur Sicherstellung der
mechanischen Biegsamkeit der Übertragungsleitung erforderlich. Der bevorzugte Kerndurchmesser liegt
also im Größenbereich von 30 bis 100 μπι.
Die Manteldicke eines optischen Faser-Wellenleiters muß hinreichend groß sein, damit nur sehr geringe
Mengen optischer Energie der übertragenen Moden auf dem gesamten Weg durch den Mantel zu dessen
Außenseite austreten. Es kann angenommen werden, daß ein wesentlicher Teil der diese Außenfläche
erreichenden Energie durch Absorption verlorengeht, die auf Wechselwirkung mit Oberflächenverunreinigung
zurückzuführen ist, oder auf eine absorbierende Beschichtung zur Vermeidung eines Übertrittes von
optischer Energie von einer Faser in eine benachbarte Faser eines Bündels. Ohne eine solche Beschichtung
könnte in erheblichem Ausmaße Kreuzkopplung zwischen den Fasern auftreten. Zur Verhinderung übermäßiger
optischer Verluste und/oder Kreuzkopplung muß die Manteldicke größer als ein gewisser minimaler
Grenzwert sein. Andererseits darf der Gesamtdurchmesser der Faser nicht zu groß sein, da andernfalls die
mechanische Biegbarkeit der Faser verlorengeht. Für Anwendungsfälle im Bereich der Nachrichtentechnik
liegen die anwendbaren Bereiche der Manteldicke t bei
ΙΟμηι
< / < 250 μηι,
während der bevorzugte Bereich bei ' 25 μιη < / < 100 μηι
während der bevorzugte Bereich bei ' 25 μιη < / < 100 μηι
liegt.
Eine für eine Vielzahl von Anwendungsfällen optimale,alsGRIN-Fascr(graded refractive index)oder
in als Gradientenfaser bekannte Übertragungsleitung ist
in Applied Optics, Band 9, Seiten 753 bis 759, März 1970,
beschrieben.
Bei der GRIN-Faser ändert sich der Brechungsindex parabolisch mit dem Abstand von der Kernmittelachse.
Das angestrebte und bekannte Merkmal der GRIN-Faser liegt darin, daß alle übertragenen Moden sich mk der
gleichen Geschwindigkeit ausbreiten, auch bei Multimodenaufbau. Die Begrenzung gemäß Gleichung (2) ist
daher nicht langer anwendbar und die GRIN-Faser hat daher die Eigenschaft eine sehr breitbandige Übertragung
(wie bei der Einzelmodenfaser) zu ermöglichen.
Der Kern-Mantel-Faseraufbau kann als erste Annäherung der GRIN-Faser angesehen werden. Eine
bessere Annäherung an die GRIN-Faser ergibt sich bei Verwendung von zwei oder mehr Mantelschichten mit
Brechungsindices, die mit wachsendem radialen Abstand von der Faserhauptachse abfallen. Zusammensetzungen
für diese Mehrfachschichten können aus dem SiO>— BjOi-System gemäß Fig. 2 ausgewählt werden.
jo Während des Ziehens der Faser ist das Auftreten einer gewissen Vermischung an den Kern/Mantel- und
Mantelschicht/Mantelschicht-Grenzfläche zu erwarten, was zu einem Ausgleich jäher Unterschiede des
Brechungsindex führt. Dieser Effekt unterstützt eine
J5 Verbesserung der Annäherung an die parabolische Verteilung. Eine weitere Verbesserung kann durch eine
Hochtemperaturbehandlung der Faser erzielt werden.
Eine GRIN-Faser kann auch durch Veränderung der Steuerparameter während des chemischen Nieder-Schlags
von B2OJ-modifiziertem S1O2 aus der Dampfphase
auf einem sehr dünnem Siliciumoxidkern hergestellt werden.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (10)
1. Glasfaser-Übertragungsleitung für die Übertragung elektromagnetischer Strahlung im Wellenlängenbereich
von 0,5 bis 2,0 Mikrometer, mit einem Kern und einem aus wenigstens einer Schicht
aufgebauten Mantel, dessen Brechungsindex für die vorgesehene Wellenenergie kleiner als der des
Kernes ist, wobei die Brechungsindexverringerung wenigstens in einer zum Kern benachbarten
Umfangszone des Mantels einen Wert von mindestens 0,1 % hat und der Kern aus S1O2 und der Mantel
aus S1O2 mit brechungsindexerniedrigenden Zusätzen bestehen, dadurch gekennzeichnet,
daß der Mantel (3) aus einem Gemisch von B2O3 und S1O2 mit einem S1O2/B2O3-Verhältnis in der besagten
Mantelzone zwischen 30 :1 und 2 :1 besteht.
2. Übertragungsleitung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das SiO2/B2O3-Verhältnis zwischen
20 :1 und 4 :1 liegt.
3. Übertragungsleitung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das S1O2/B2O3-Verhältnis zwischen
20 :1 und 6 :1 liegt.
4. Übertragungsleitung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Kerndurchmesser
zwischen 3 und 200 Mikrometer liegt und der Kern durch ein Gebiet definiert ist, das im
wesentlichen aus 99,8 Gew.-% S1O2 besteht, wobei Verunreinigungen an Übergangsmetallionen mit
nicht mehr als 1 χ 10~4% zugegen sind, und daß die
maximale Schwankung des Kernbrechungsindex 0,01% beträgt.
5. Übertragungsleitung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Kerndurchmesser (a)
zwischen 30 und 100 Mikrometer liegt.
6. Übertragungsleitung nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Manteldicke
zwischen 10 und 250 Mikrometer liegt.
7. Übertragungsleitung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Manteldicke zwischen 25
und 100 Mikrometer liegt.
8. Übertragungsleitung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Brechungsindexänderung
(A/inzwischen der Umfangszone des
Mantels und dem Kern zwischen 0,001 und 0,02 liegt.
9. Übertragungsleitung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Brechungsindex
des Mantels (3) in Radialrichtung im wesentlichen gleichförmig ist.
10. Übertragungsleitung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß der
Brechungsindex des Mantels nach außen zu abnimmt.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US29571872A | 1972-10-06 | 1972-10-06 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2349906A1 DE2349906A1 (de) | 1974-04-11 |
DE2349906B2 true DE2349906B2 (de) | 1980-05-22 |
Family
ID=23138943
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2349906A Withdrawn DE2349906B2 (de) | 1972-10-06 | 1973-10-04 | Glasfaser-Übertragungsleitung |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3778132A (de) |
JP (1) | JPS586921B2 (de) |
CA (1) | CA984192A (de) |
DE (1) | DE2349906B2 (de) |
FR (1) | FR2202302B1 (de) |
GB (1) | GB1436605A (de) |
SE (1) | SE383422B (de) |
Families Citing this family (44)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 1973-09-24 SE SE7312970A patent/SE383422B/xx unknown
- 1973-10-02 FR FR7335234A patent/FR2202302B1/fr not_active Expired
- 1973-10-03 GB GB4610873A patent/GB1436605A/en not_active Expired
- 1973-10-04 DE DE2349906A patent/DE2349906B2/de not_active Withdrawn
- 1973-10-06 JP JP48111959A patent/JPS586921B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3778132A (en) | 1973-12-11 |
FR2202302B1 (de) | 1976-05-14 |
SE383422B (sv) | 1976-03-08 |
JPS4974546A (de) | 1974-07-18 |
CA984192A (en) | 1976-02-24 |
JPS586921B2 (ja) | 1983-02-07 |
GB1436605A (en) | 1976-05-19 |
DE2349906A1 (de) | 1974-04-11 |
FR2202302A1 (de) | 1974-05-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OD | Request for examination | ||
8230 | Patent withdrawn |