DE2316720A1 - Verfahren zum entfernen von kolophoniumhaltigen rueckstaenden und dazugehoerige waschmittelloesung - Google Patents

Verfahren zum entfernen von kolophoniumhaltigen rueckstaenden und dazugehoerige waschmittelloesung

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DE2316720A1
DE2316720A1 DE19732316720 DE2316720A DE2316720A1 DE 2316720 A1 DE2316720 A1 DE 2316720A1 DE 19732316720 DE19732316720 DE 19732316720 DE 2316720 A DE2316720 A DE 2316720A DE 2316720 A1 DE2316720 A1 DE 2316720A1
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DE19732316720
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English (en)
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Harry Kretzschmar
Karl Neuber
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Licentia Patent Verwaltungs GmbH
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Licentia Patent Verwaltungs GmbH
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/26Cleaning or polishing of the conductive pattern
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/43Solvents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • C23G5/02Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
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    • HELECTRICITY
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Description

  • "Verfahren zum Entfernen von kolophoniumhaltigen Rückständen und dazugehörige Waschmitttellösung" Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Entfernen von kolophoniumhaltigen Rückständen auf elektrischen Vorrichtungen, insbesondere auf elektrischen Leiterplatten nach Art-.einer sogenannten gedruckten Schaltung.
  • Desweiteren betrifft die Erfindung eine Waschnittllösung, insbesondere zum Entfernen von kolophoniumhaltigen Rückständen.
  • Zur Herstellung elektrisch leitender Verbindungen in der Elektrotechnik, inbesondere in der Elektronik, ist es bekannt, Weichlötverbindungen zu verwenden. Es ist ebenso bekannt, das Wcichlbten bei Anwesenheit eines kolophoniushaltigen Flußmittels vorzunehmen, wenngleich man glaubte, daß an den Lötstellen zurückbleibende Kolophoniumrückstände für die Funktionsfähigkeit der eleltrischen Vorrichtungen, wie z. B. sogenannte gedruckte Schaltungen, von untergeordneter Bedeutung sind. Es hat sich mit zunehmender Verfeinerung und Niniaturisi erung insbesondere elektrischer Schaltungsanordnungen herausgestellt, daß kolophonlumhaltige Rückstände mit der Zeit und bei Einwirkung äußerer Einflüsse zu Störungen des Betriebsverhaltens dieser Schaltungen führen können. Es wird daher in zunehmendem Maße insbesondere im Zusammenhang mit der.Raumfahrttechnik gefordert, daß solche elektronischen Schaltungen, wie sie z. B. Leiterplatten darstellen, von Kolophoniumrückständen gesäubert oder den.
  • Zur Säuberung solcher Leiterplatten sind bereits verschiedene Waschmittellösungen zum Spülen dieser elektrischen Vorrichtungen bekannt. Es hat sich jedoch weiter gezeigt, daß viele dieser bekannten Waschmittellösungen entweder nur eine ungenügende Waschwirkung besitzen oder aber andererseits die in der Elektrotechnik üblichen Isolierstoffe, aus dtnen z. B. Bauteile für Leiterplatten bestehen, angreifen.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein neuartiges Verfahren zum Entfernen von kokphoniumhaltigen Rückständen auf elektrischen Geräten anzugeben, das zum einen Kolophoniumreste und ggf. Aktivatoren weitgehend rückstandfrei beseitigt und das andererseits die :bei elektrischen Schaltungen verwendeten Isolierstoffe und Metalle nicht s-törend angreift.
  • Gemäß der Erfindung wird vorgeschlagen, daß die elektrische Vorrichtung einem Spülvorgang mit einer Waschmittellösung folgender Zusammensetzung unterworfen wird: 30 bis 60 Vol%, insbesondere 40 bis 50 Vol%, eines polaren, höherwertigen Alkohols, insbesondere Butylglykol oder n-Butanol 10 bis 40 Vol%, insbesondere 22 bis 32 Vol%, eines polaren, niederwertigen Alkohols, insbesondere Methanol oder Isopropanol 10 bis 40 Vol, insbesondere 22 bis 32 Vol%, eines unpolaren Kohlenwasserstoffes, insbesondere Trichiortrifluoräthan oder Hexan 0 bis 10 Vol, insbesondere 0,3 bis 3 Vol%, eines nichtionogenen Netzmittels, insbesondere oxäthyliertes Pdcinusöl.
  • Gemäß der Erfindung wird weiterhin ein Verfahren angegeben, mit dessen Hilfe auch fetthaltige Verunreinigungen von elektrischen Leiterplatten in einfacher Weise entfernbar sind.
  • Schließlich werden Waschmittellösungen angegeben, die insbesondere zur Durchführung der beschriebenen Verfahren geeignet sind.
  • Die Durchführung des beschriebenen Verfahrens besteht im wesentlichen darin, daß die elektrische Vorrichtung, insbesondere eine mit Lötstellen versehene elektrische Leiterplatte, in oder mit der beschriebenen Waschmittellösung gespült wird. Dabei ist es zweckmäßig, mechanische Hilfsmittel zusätzlich anzuwenden, die bevorzugt in einer Ultraschällbehandlung und oder in Bürsten der elektrischen Vorrichtung in der Waschmittellösung bestehen.
  • Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung ist es dann zweckmäßig, die elektrische Vorrichtung nach Durchführen des Verfahrens zum Entfernen der kolophonlumhaltigen Rückstände einem weiteren Spülverfahren zu unterwerfen, bei welchem vor allem fetthaltige Verunreinigungen entfernt werden. Hierzu wird bevorzugt ein Bad folgender Zusammensetzung verwendet: 20 bis 80 Vol%, insbesondere 25 bis 45 Vol%, Wasser 10 bis 60 Vol%, insbesondere 20 bis 45 Vol%, oxäthyliertes Alkylphenol l bis 30 Vol%, insbesondere 10 bis 20 Vol%, eines nichtionogenen Netzmittels, insbesondere oxäthyliertes Ricinusöl 5 bis 50 Vol%, insbesondere 10 bis 25 Voi, eines polaren höherwertigen Alkohols, insbesondere Butylglykol oder n-Butanol 0 bis 20 Vol, insbesondere l bis 10 Vol%, eines Lösungsmittels, insbesondere einer Mischung aus terpenkolen Wasserstoffen mit sauerstoffhaltigen Terpenderivaten 0 bis 5 Vol%, insbesondere 0,5 bis 3 Vol%, eines aus ammoniakabspaltenden Verbindungen bestehender Lösungsvermittler, insbesondere Ammoniumkarbonat.
  • Bei einem bevorzugten speziellen Ausführungsverfhren wurde zum Entfernen der Kolophoniumrückstände von der Leiterplatte diese Leiterplatte ca, 2 Minuten lang in einer Waschmittellösung gespült, die folgende Zusammensetzung aufwies: ca. 46 Vol% Butylglykol ca. 27 Vol% Methanol ca. 26 Vol% Trichlortrifluoräthan ca, 1 vol% (mit 40 Molen Äthylenoxyd) oxäthyliertes Ricinusöl.
  • Dabei wurde das Bad einer Ultraschallbehandlung ausgesetzt und die Leiterplatte gleichzeitig gebürstet. Danach wurde die Leiterplatte aus der Waschmittellösung entfernt und etwa 10 Senkunden im Wasser gespült, Anschließend wurde die Leiterplatte zu Entfernung fetthaltiger Rückstände, wie Finserabdrücke, Schmutz und dergleichen, ca. 5 Minuten lang in einer Waschmittellösung folgender Zusammensetzung gespült; ca. 35 Vol% Wasser ca. 30 Vol% waschaktive Grundsubstanz, z. B.
  • (mit Äthylenoxyd) oxäthyliertes Alkylpheol ca. 15 Vol% Netzmittel, z, B. (mit 40 Molen Äthyloxyd) oxäthyliertes Ricinusöl ca. 15 Vol% Lösungsmittel, z. B. Butylglykol ca. 4 tol% Lösungsmittel, z. B. Gemische aus terpenkolen Wasserstoffen mit sauerstoffhaltigen Terpenderivaten, wie z. B. das unter dem Maskennamen "Depanol IV" bekannte Lösungsmittel ca. l Vol% Lösungsvermittler, z. B. (Ammoniumbikarbonat).
  • Danach wurde ca. 1 Minute mit Wasser nachgespült und daraufhin nochmals ca. 1 Minute mit destilliertem Wasser nachgespült. Anschließend wurde die Leiterplatte nach Vordrängen der Wassertropfen mit Hilfe von Preßluft etwa 5 Minuten in warmer Luft getrocknet.

Claims (5)

  1. P a t e n t a n s p r ü.c h e
    Verfahren zum Entfernen von .kolophoniumhaltigen Rückständen auf elektrischen Vorrichtungen, insbesondere auf elektrischen Leiterplatten nach Art einer sogenannten gedruckten Schaltung, dadurch gekennzeichmet, daß die elektrische Vorrichtung einem Spülvorgang mit einer Waschmittellösung folgender Zusammensetzung unterworfen wird: 30 bis 60 Vol%, insbesondere 40 bis 50 Vol%, eines polaren, höherwertigen Alkohols, insbesondere Butylglykol oder n-Butanol 10 bis 40 Vol%, insbesondere 22 bis 32 Vol%, eines polaren, niederwertigen Alkohols, insbesondere Methanol oder Isopropanol 10 bis 40 Vol%, insbesondere 22 bis 32 Vol%, eines unpolaren Sohlenwasserstoffes, insbesondere Trichlortrifluoräthan oder Hexan 0 bis 10 Vol%, insbesondere 0,3 bis 3 Vol%, eines nichtionogenen Netzmittels, insbesondere oxäthyliertes Ricinusöl.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch l, dadurch gekennzeichnet, daß zum Entfernen weiterer, insbesondere fetthaltiger, Verunreinigungen die elektrische Vorrichtung nach Durchführung des Verfahrens, zum Entfernen der kolophonlumhaltigen Rückstände einem Spulvorgang mit einem Waschmittel folgender Zusammensetzung unterworfen wird: 20 bis 80 Vol%, insbesondere 25 bis 45 Vol%, Wasser 10 bis 60 Vol%, insbesondere 20 bis 40 Vol%, oxäthyliertes Alkylphenol l bis 30 Vol%, insbesondere 10 bis 20 Vol%, eines nichtionogenen Netzmittels, insbesondere oxäthyliertes Ricinusöl 5 bis 50 Vol%, insbesondere 10 bis 25 Vol%, eines polaren höherwertigen Alkohols, insbesondere Butylglykol oder n-Butanol 0 bis 20 Vol%, insbesondere l bis 10 Vol%, eines Lösungsmittels, insbesondere einer Mischung aus terpenkolen Wasserstoffen mit sauers'offhaltigen Terpenderivaten 0 bis 5 Vol%, insbesondere 0s5 bis 3 Vol%, ein aus ammoniakabspaltenden Verbindungen bestehender Lösungsvermittler, insbesondere Ammoniumkarbonat.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß während des Spülvorganges zusätzlich mechanische Reinigungsmittel, wie Bewegung, Bürsten oder Ultraschallbehandlung angewendet werden
  4. 4. Waschmittellösung, insbesondere zur Verwendung bei einem Verfahren nach Anspruch 1 gekennzeichnet durch folgende Zusammensetzung: 30 bis 60 Vol%, insbesondere 40 bis 50 Vol%, eines polaren, höherwertigen Alkohols, insbesondere Butylglykol oder n-Butanol 10 bis 40 Vol%, insbesondere 22 bis 32 Vol%, eines polaren, niederwertigen Alkohols, insbesondere Methanol oder Isopropanol 10 bis 40 Vol%,, insbesondere 22 bis 32 Vol/%, eines unpolaren Kohlenwasserstoffes, insbesondere Trichlor'trifluoräthan oder Hexan 0 bis 10 Vol% insbesondere 0,3 bis 3-Vol%, eines nichtionogenen Netzmittels, insbesondere oxäthyliertes Ricinusöl.
  5. 5. Waschmittellösung, insbesondere zur Verwendung bei einem Verfahren nach Anspruch 2 gekennzeichnet durch folgende Zusammensetzung: 20 bis 80 Vol, insbesondere 25 bis 45 Vol%, Wasser 10 bis 60 Vol%, insbesondere 20 bis 40 Vol%, oxäthyliertes AlLylphenol l bis 30 Vol%, insbesondere 10 bis 20 Vol%, eines nichtionogenen Netzmittels, insbesondere oxäthyliertes Ricinusöl 5 bis 50 Yol%, insbesondere PO bis 25 Vol%, eines polaren höherwertigen Alkohols, insbesondere Butylglykol oder n-Butanol 0 bis 20 Vol%, insbesondere 1 bis 10 Vol%, eines aus therpenkolen Wasserstoffen mit sauerstoffhaltigen Therpenderivaten bestehenden Gemisches O bis 5 Vol%, insbesondere 0,5 bis 3 Vol, ein aus anmoniakabspaltenden Verbindungen bestehender Lösungsvermittler, insbesondere Ammoniumkarbonat.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2290822A1 (fr) * 1974-11-07 1976-06-04 Kollmorgen Corp Procede de nettoyage de parois de perforations destinees a recevoir une couche de metal
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