DE2312774A1 - Verfahren zur herstellung duenner anorganischer filme auf unterlagen - Google Patents

Verfahren zur herstellung duenner anorganischer filme auf unterlagen

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thin inorganic
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DE19732312774
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Lutz Dipl Chem Dr Fabian
Michael Dipl Chem Kleinert
Rainer Dipl Ing Moeller
Horst Dipl Chem Stelzer
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    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C23C16/517—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using a combination of discharges covered by two or more of groups C23C16/503 - C23C16/515

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2750597A1 (de) * 1976-11-18 1978-05-24 Alsthom Atlantique Verfahren zum aufdampfen von duennen schichten durch zersetzung eines gases in einem plasma
EP0087151A2 (de) * 1982-02-23 1983-08-31 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zum Herstellen von Schichten aus hochschmelzenden Metallen bzw. Metallverbindungen durch Abscheidung aus der Dampfphase
DE3841730A1 (de) * 1988-12-10 1990-06-13 Krupp Widia Gmbh Verfahren zum beschichten eines metallischen grundkoerpers mit einem nichtleitenden beschichtungsmaterial

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EP0087151A3 (de) * 1982-02-23 1984-07-25 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zum Herstellen von Schichten aus hochschmelzenden Metallen bzw. Metallverbindungen durch Abscheidung aus der Dampfphase
DE3841730A1 (de) * 1988-12-10 1990-06-13 Krupp Widia Gmbh Verfahren zum beschichten eines metallischen grundkoerpers mit einem nichtleitenden beschichtungsmaterial

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