DE2238557A1 - METHOD OF MANUFACTURING AN ELECTRICAL RESISTANCE ELEMENT - Google Patents

Description

SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT München 2, - 4JUG 1972 Berlin und München Wittelsbacherplatz 2SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT München 2, - 4JUG 1972 Berlin and Munich Wittelsbacherplatz 2

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Verfahren zum Herstellen eines elektrischen Widerstandselementes Method for producing an electrical resistance element

Die Erfindung "betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines elektrischen V/iderstandselementes in Form einer an der Oberfläche eines zylindrisch oder konisch ausgebildeten Kerns aus Isoliermaterial haftenden Leitschicht, die zunächst als den Kern umschließender Ring aufgebracht und dann längs einer - zum Beispiel von einem Rand des Ringes zu anderen reichenden - Schraubenlinie mit einer den elektrischen Bahnwiderstand der Leitschicht zwischen zwei an je einem ihrer Ränder angebrachten bzw. noch anzubringenden Elektroden vergrößernden Furche versehen wird«The invention "relates to a method of making a electrical resistance element in the form of a surface a cylindrical or conical core made of insulating material adhering conductive layer, initially as applied to the ring surrounding the core and then along one - for example from one edge of the ring to another Reaching - helical line with an electrical rail resistance the conductive layer between two electrodes attached or still to be attached to one of their edges Furrow is provided "

Ein solches Verfahren führt bekanntlich zu den sogenannten "gewendelten Schichtwiderständen'¹ und ist beispielsweise in der britischen Patentschrift 735 839 oder in der deutschen Patentanmeldung B 16.795 21c, 54/05 beschriebene In den meisten Fällen wird diese widerstandvergrößernde Furche so tief geführt, daß sie über ihre ganze Länge den isolierenden Kern erreicht. Falls dann die Furche in einer von einem Rand der ringförmigen Leitschicht zu dem anderen Rand reichenden Schraubenlinie ohne Unterbrechung geführt ist (sogenannter "Vollschliff") _t wird die Leitschicht völlig aufgetrennt. Die Leitschicht, die vorzugsweise durch Aufdampfen oder durch pyrolytische Abscheidung aus einem der Schichtmaterialien, insbesondere Kohlenstoff oder einem Metall oder einem Halbleiter, liefernden Reaktionsgas an der erhitzten Oberfläche des Kerns aus Isoliermateria,! oder auch durch Eintauchen in ein Metallbad oder durch Besprühen mit flüssigem Metall aufgebracht werden kann, erhält dann schließlich ebenfallsSuch a method is known to lead to the so-called "coiled sheet resistors" ¹ and is described, for example, in British patent specification 735 839 or in German patent application B 16.795 21c, 54/05 If the groove is then guided in a helical line extending from one edge of the annular conductive layer to the other edge without interruption (so-called "full cut") _t the conductive layer is completely separated or by pyrolytic deposition from one of the layer materials, in particular carbon or a metal or a semiconductor, which can be applied to the heated surface of the core made of insulating material! or by immersion in a metal bath or by spraying with liquid metal e also

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einen wendelförraigen Verlauf. Die - bein Vollschliff zur wendelförmigen Leitbahn gewordene - Leitschicht wird - falls nicht schon geschehen - schließlich an je einen Ende nit je einer Anschlußelektrode versehen.a helical course. The conductive layer, which has become a spiral-shaped conductive path when fully ground, is finally provided with a connecting electrode at each end, if it has not already been done.

Es ist klar, daß man' dieses "Wendeln" einer ringförmigen Widerstandsschicht bei der serienmäßigen Fertigung auch dazu verwenden kann, um Streuung des Anfangswiderstancswertes H, der zunächst aufgebrachten ringförmigen Leitschicht ausgleichen zu können und trotz dieser Streuung zu einen einheitlichen Endwert R der erhaltenen V/iderstandseleniente zu gelangen. Besonders einfach ist dies, wenn eine durchgehende Wendelung, also der sogenannte "Vollschliff¹· beabsichtigt ist. Hier gilt die BeziehungIt is clear that this "spiraling" of an annular resistance layer can also be used in series production in order to be able to compensate for the dispersion of the initial resistance value H of the initially applied annular conductive layer and, despite this dispersion, to be able to achieve a uniform final value R of the V / iderstandseleniente to arrive. This is particularly easy if a continuous helix, that is to say the so-called "full cut ¹ · is intended. The relationship applies here

R_e:K₀ == a . D'Ssb.R _e : K ₀ == a. D'Ssb.

Dabei ist Ic* die Ludolph'sche Kreiszahl, D der iiurchneoser der schraubenförmigen Wendel, s die Steigung der Y/endel und b die Breite der durch das Wendeln entstehenden, schraubenlinienförmig verlaufenden Leitbahn. Voraussetzung für die Gültigkeit dieser Formel ist ein homogenes U, s und b.Here Ic * is Ludolph's circle number, D is the neurotic of the helical helix, s the slope of the Y / end helix and b is the width of the helical shape created by the spiraling running channel. A homogeneous U, s and b is a prerequisite for the validity of this formula.

Eine Anwendungsmöglichkeit dieser Formel besteht darin, daß nan nach dem Aufbringen der ringförmigen Leitschicht auf die einzelnen Isolierkerne bei der Fertigung zunächst die Anfangswerte Rq individuell feststellt, dann nach dieser Formel das zur Erzielung des gewünschten Endwertes R erforderliche s bzw. b festlegt und schließlich jede dieser ringförnigen Leitschichten mit dem jeweils erforderlichen s (bzw. b) wendelt. Es ist klar, daß eine solche Methode sehr aufwendig ist.One possible application of this formula is that nan after applying the ring-shaped conductive layer to the individual Insulating cores during production initially the initial values Rq individually determines the s or b required to achieve the desired final value R using this formula and finally each of these annular conductive layers with the required s (or b) coils. It's clear, that such a method is very expensive.

Uia sich die aufwendige Einstellung von s bei der soeben beschriebenen Methode zu ersparen kann man die anfaulenden R -Vierte in verschiedene Toleranzbereiche aufteilen und für jeden Toleran;;-Uia the elaborate setting of s in the case of the one just described To save method one can divide the rotten R-fourth into different tolerance ranges and for each tolerance ;; -

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bereich einen verbindlichen R -\fert auswählt, für diesen das zugehörige s ermittelt und sämtliche Leitschichten, deren R_Q-Wert in diese Toleranzgruppe fällt, mit diesem s wendelt.area selects a binding R - \ fert, for this the associated s is determined and all guide layers whose R _Q value falls within this tolerance group, coils with this s.

Eine Verbesserung dieser Methode kann erzielt v/erden, wenn man jeweils das kleinste R jedes Toleranzbereiches als Referenzwert wählt und das su diesem Referenzwert R gehörige s bei allen Elementen de3 betreffenden Toleranzbereiches anwendet« Dabei werden alle Leitschichten, deren 'Ausgangswiderstand genau dem Referonzwert entspricht, voll durchgewendelt, während bei den Loitttohichten, deren R —Viert "größer als der Referenzwert ist nur soweit gewendelt wird , bis die gleichzeitige überwachung der durch dar V/end ein bedingten Widerstandsänderung öe3i vorgegebenen Endwert R_g erreicht hat. Ilan hat dann in eier Serie sowohl voll durchgewendeltej also mit Vollschliff versehene "i/iderstandselernente als auch solche, die nur eine teilweise durchgehende Wendelung aufweisen. Die mit nicht voll durchgehender w'endel sind aber hinsichtlich Belastbarkeit den mit durchgehender V/ende versehenen Y/iderstandselenienten deutlich unterlegen.This method can be improved if the smallest R of each tolerance range is selected as the reference value and the s associated with this reference value R is used for all elements of the relevant tolerance range. fully coiled, while the Loitttohichten, whose R —Viert "is greater than the reference value, is only coiled until the simultaneous monitoring of the end value R _g given by the V / end a conditional change in resistance öe3i has reached. Ilan then has a series of both fully twisted, that is to say fully grounded, as well as those that have only a partially continuous twist. However, those with a not fully continuous helix are clearly inferior to the Y / resistance elements provided with continuous V / ends in terms of load-bearing capacity.

J.\ es demnach, wünsehenswert ist, alle Exemplare voll durchzuwendeln, andererseits aber den nit dem zuerst, beschriebenen Verfahren \^rerbundenen Aufwand, vor allen Zeitaufwand zu verhindern, wird gemäß der Erfindung vorgeschlageil, daß die den ele3ctrischen Widerstand der Leitschicht vergrößernde Furche zugleich an zwei axial gegeneinander versetzten Stellen der Leitschicht mittels je eines punktförmig auftreffenden und das Material der Leitschicht an der jeweiligen Auftreffstelle verdampfenden Energiestrahles erzeugt wird,, indes die Auftreffstellen der beiden Energiestrahlen parallel zur Achse der genansan nit den isoliereden Kern um dessen Achse rotierenden Leitschicht unter Entstehung je einer schraubenlinienförmigen Furche verschoben werden. J. \ it accordingly, all copies is wünsehenswert fully durchzuwendeln, on the other hand the nit the first method described \ ^r erbundenen effort to prevent over all time, the present invention is in accordance with pre-schla hot that the magnifying the ele3ctrischen resistance of the conductive layer furrow at the same time is generated at two axially offset points of the conductive layer by means of a punctiform incident and the material of the conductive layer evaporating at the respective point of impact, while the points of impact of the two energy beams parallel to the axis of the insulating core rotating around its axis with the conductive layer under formation be shifted one helical groove each.

Besonders günstig ist es, wenn die beiden Energiestrahlen aus einer einzigen Strahlungsquelle bezogen v/erden. Dies kann ge-, schehen, indem zwei von dieser nach verschiedenen RichtungenIt is particularly favorable when the two energy beams emanate based on a single radiation source. This can be be done by putting two of these in different directions

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ausgehende Energiestrahlen mit axial in Bezug auf die ringförmige Leitschicht versetzten Auftreffstellen auf diese fokussiert werden. Es kann aber auch geschehen, indem ein von der Strahlungsquelle ausgehender Energiestrahl in zwei Teilstrahlen aufgespalten und jeder der Teilstrahlen auf die rotierende Leitschicht fokussiert wird, wie dies in einzelnen an Hand der Figur 1 noch näher beschrieben wird.outgoing energy beams with points of incidence that are axially offset with respect to the annular conductive layer be focused. But it can also be done by dividing an energy beam emanating from the radiation source into two partial beams split and each of the partial beams is focused on the rotating guide layer, as in individual will be described in more detail with reference to FIG.

Als Energiestrahl kommen insbesondere Laserlicht, Infrarotstrahlen und Elektronenstrahlen in Betracht· Vorzugsweise werden in allen Fällen die beiden zur Wendelung der Leitschichten verwendeten Energiestrahlen auf gleiche oder etwa gleiche Intensität eingestellt. Sind die Energiestrahlen ,wie Laserlicht oder Infrarot3tnhlung ,von optischer Natur, so kann raan sich bei der Aufspaltung und Fokussierung rein optischer Mittel wie Spiegel, Linsen und Prismen bedienen. Zur Erzeugung zweier aus der gleichen Lichtquelle stammender Energiestrahlen kann man entsprechende Blenden und/oder halbdurchlässige Spiegel verwenden. Sind die Energiestrahlen hingegen Elektronenstrahlen, 30 können zur Aufspaltung in die benötigten Teilstrahlen entsprechende Blenden, zur Erzielung einer Unlenkung und Fokussierung der Teilstrahlen entsprechende elektronenoptische Mittel verwendet werden.Laser light, infrared rays, in particular, are used as the energy beam and electron beams into consideration · In all cases, the two are preferably used to twist the conductive layers The energy beams used are set to the same or approximately the same intensity. Are the energy rays like Laser light or infrared cooling, of an optical nature, see above can be purely optical when splitting and focusing Operate means such as mirrors, lenses and prisms. To generate two from the same light source Energy rays can be used with appropriate diaphragms and / or semi-transparent mirrors. Are the energy rays on the other hand, electron beams, 30 can be used for splitting into the required partial beams corresponding diaphragms, to achieve a deflection and focusing of the partial beams corresponding electron optical means can be used.

Y/ährend der Wendelung ist es bei Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens möglich, sowohl die Rotationsgeschwindigkeit der su behandelnden Leitschicht als auch die Geschwindigkeit der Verschiebung der beiden Auftreffstellen auf ihr zu variieren. Ein solcher Vorgang führt im allgemeinen zu einer Änderung der Steigung der von den beiden Energiestrahlen "geschriebenen" Furchen in der Leitschicht und damit zu einer Änderung der Steigung der verbleibenden schraubenlinienförmig gewendelten Leitschicht. Ebenso ist es möglich, beide Furchen im vornherein mit unterschiedlichen Steigungen s zu "schreiben", indem z. B. bei gleichförmiger Rotation der Leitschicht dieIt is during the winding process when carrying out the invention Method possible, both the speed of rotation of the conductive layer to be treated and the speed the displacement of the two points of impact on it to vary. Such a process generally leads to a change in the slope of the grooves "written" by the two energy beams in the conductive layer and thus to one Change in the slope of the remaining helically coiled conductive layer. It is also possible to use both furrows to "write" s in advance with different slopes, by z. B. with uniform rotation of the conductive layer

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Geschwindigkeiten, mit denen die beiden Auftreffstellen axial verschoben werden, unterschiedlich eingestellt werden. Bevorzugt wird das erfindungsgemäße Verfahren so durchgeführt, daß man die von jedem der beiden Energiestrahlen "geschriebenen" Furchenr an den Rändern der ringförmigen Leitschicht beginnen und nach der Mitte zu verlaufen läßt. In günstigen Fällen kommt es dann zu einer Vereinigung der beiden Furchen in der Mitte der Leitschicht in einer Spitze. Will man jedoch einen genauen Widerstandswert einstellen, so läßt man die beiden Auftreffstellen der Energiestrahlen einander nur so weit entgegenlaufen, bis der gewünschte Endwert R des Widerstandswertes der Leitschicht erreicht ist. Die beiden Furchen kommen dann nicht miteinander in Kontakt.Velocities at which the two points of impact are axial be moved, can be set differently. The process according to the invention is preferably carried out in such a way that the from each of the two energy beams "Written" furrows begin at the edges of the annular conductive layer and run towards the center. In favorable cases, the two furrows in the middle of the conductive layer are then combined into one Top. However, if you want to set an exact resistance value, you leave the two points of impact of the energy beams only run in opposite directions until the desired final value R of the resistance value of the conductive layer is reached. The two furrows then do not come into contact with one another.

Bei derartig gewendelten Widerständen erreicht man eine günstigere Wärmeverteilung als bei den üblichen, nicht völlig durchgewendelten Widerständen, weil die Gebiete der geringsten Wärmeentwicklung des Widerstandselements in der Mitte der Widerstandsschicht liegen, während die Regionen stärkerer Wärmeentwicklung in der Nähe der zugleich den Hauptteil der entwickelten Wärme abführenden Elektroden an den beiden Enden der Widerstandsschicht angeordnet sind«,With such coiled resistors, a more favorable one is achieved Heat distribution than with the usual, not completely coiled resistors, because the areas of the least Heat development of the resistance element in the middle of the resistance layer, while the regions are stronger Heat generation near the at the same time the main part of the developed heat-dissipating electrodes are arranged at both ends of the resistance layer «,

Man kann diesen Effekt einer günstigeren Verteilung der Wärmeentwicklung und -ableitung auch erreichen, indem die Steigung der Furchen in der Leitschicht, die von den beiden Teilstrahlen "geschrieben " werden, gegen die Mitte steiler als am Rand eingestellt werden.One can get this effect of a more favorable distribution of the Heat generation and dissipation can also be achieved by increasing the slope of the furrows in the conductive layer created by the two Partial beams are "written", are set steeper towards the center than at the edge.

Es besteht ferner die Möglichkeit, die den Widerstand der Leitschicht vergrößernde Furche,, beginnend von einem gemeinsamen Punkt in der Mitte der Leitschicht, zu '!schreiben". Auch hier wird ein Furche mit einer Spitze 'in der Mitte entstehen. Will man hingegen eine homogene, aus den beiden SeilfurchenThere is also the possibility of the groove increasing the resistance of the conductive layer, starting from a common one Point in the middle of the conductive layer to 'write!'. Here, too, a furrow with a point 'will be created in the middle. If, on the other hand, you want a homogeneous one from the two rope grooves

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zusamnengesetzte Schraubenlinie erreichen, so muß man die axiale Bewegung der Auftreffpunkte nicht wie in den vorher beschriebenen Fällen gegenläufig, sondern gleichsinnig über die Leitschicht verlaufen lassen, wobei jeder der beiden Energiestrahlen nur die Hälfte der ringförmigen !leitschicht "w.endelt". Außerdem *rauß man darauf achten, daß die von dem nachfolgend geführten Energiestrahl "geschriebene" Furche in der Mitte der Leitschicht in die von dem vorauswandernden Energiestrahl "geschriebene" Furche einmündet, derart, daß die beiden Teilfurchen an der Stelle ihres Zusammentreffens die gleichen Werte für den ersten und zweiten Differentialquotienten (Steigung und Krümmung) erhalten."To reach a composite helical line, one must have the axial movement of the points of impact not as in those previously described Cases run in opposite directions, but in the same direction over the conductive layer, each of the two Energy rays only half of the ring-shaped! Conductive layer "w.endelt". In addition, you should make sure that the furrow "written" following the guided energy beam in the middle of the conductive layer opens into the groove "written" by the preceding energy beam, in such a way that the two sub-furrows have the same values for the first and second differential quotients at the point where they meet (Slope and curvature). "

Die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens geschieht vorzugsweise, indem a zunächst die ringförmige Leitschicht an ihren Rändern mit je einer - insbesondere kappen- oder ringförmigen - Anschlußelektrode versehen und erst dann mit den den elektrischen Widerstand erhöhenden Furchen versehen wird, wobei die beiden Anschlußelektroden an Spannung und an ein den Widerstand der Leitschicht zwischen den beiden Anschlußelektroden überwachendes Meßinstrument gelegt und die Widerstandsänderungen während der Entstehung der Furchen in der Leitschicht überwacht werden. VTe nn irgendwie möglich, wird dabei die Steigung der beiden Teilfurchen so so eingestellt» daß sich die beiden Teilfurchen unter Erreichung des vorgeschriebenen Wertes R für den Widerstandswert der Leitschicht in der Mitte der Leitschicht begegnen. Auf jeden Fall empfiehlt es sich, in der Fertigung dafür zu sorgen, daß die beiden Energiestrahlen beziehungsweise Energieteilstrahlen autoiaateisch beim Erreichen des gewünschten Endwertee des Widerstandes der Leitschicht zwischen den beiden Elektroden abgeschaltet werden.The method according to the invention is preferably carried out by first adding the annular conductive layer at their edges with one - in particular cap-shaped or ring-shaped - connection electrode and only then with the grooves increasing the electrical resistance is provided, the two connection electrodes being connected to voltage and placed on a measuring instrument that monitors the resistance of the conductive layer between the two connection electrodes, and the Changes in resistance during the formation of the furrows in the conductive layer can be monitored. VTe nn somehow possible, the slope of the two sub-furrows is set so that the two sub-furrows are reached when the prescribed value R for the resistance value of the conductive layer meet in the middle of the conductive layer. In any case, it is advisable to ensure that the both energy beams or energy partial beams automatically switched off when the desired final value of the resistance of the conductive layer between the two electrodes is reached will.

Im folgenden wird an Hand der Fig. 1 und 2 ein Verfahren gemäß der Erfindung beschrieben, bei dem ein von einer optischen Strahlungsquelle, insbesondere einem Laser, abgegebener Ener-In the following, a method according to FIGS. 1 and 2 is used of the invention described, in which an energy emitted by an optical radiation source, in particular a laser

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giestrahl mittels eines halbdurchlässigen Spiegels oder eines Prisma in zwei Teilstrahlen von etwa gleicher Intensität aufgespalten wird, bei dem dann beide Teilstrahlen derart umgelenkt werden, daß sie die rotierende Leitschicht an axial gegeneinander verschobenen Stellen erreichen, und bei dem ^: jeder dieser Teilstrahlen vor dem Erreichen der Leitschicht über die Entstehung einer punktförmigen Auftreffstelle bewirkende Mittel, insbesondere, sphärische Linsen oder Zylinderlinsdi, fokussiert wird. Dabei ist außerdem dafür gesorgt, daß die axialen Verschiebungen der Auftreffstellen der beiden Teilstrahlen durch je einen um eine senkrecht zur Rotationsachse der Leitschicht orientierte Achse schwenkbaren, den auf treffenden 'feilstrahl auf die Leitschicht pro jizierendtn Spiegel bo-.virkt werden.gieststrahl is split into two partial beams of approximately the same intensity by means of a semi-transparent mirror or a prism, in which both partial beams are then deflected in such a way that they reach the rotating guide layer at axially displaced points, and in which ^: each of these partial beams before reaching the Conductive layer is focused on the creation of a punctiform impact point causing means, in particular, spherical lenses or cylindrical lenses. It is also ensured that the axial displacements of the points of impact of the two partial beams are caused by an axis which can be pivoted about an axis perpendicular to the axis of rotation of the conductive layer and the mirror that hits the beam projecting onto the conductive layer.

In Fig. 1 ist das Prinzip der Aufspalxung eines optischen Energiestrahles in zwei Teilstrahlen und deren Fokussierung auf die rotierende Leitschicht in vereinfachter Weise als Beispiel einer bevorzugten Durchführungsart des erfindungsgemäßen Verfahrens dargestellt, während in Fig. 2 ein- die axiale Verschiebung der Auftreffstellen der beiden Teiistrahlen auf der Leitschicht bewirkendes Detail dieses Strahlengang^- gesehen in Richtung des Pfeiles A in Fig. 1 - dargestellt ist.In Fig. 1 is the principle of splitting an optical Energy beam in two partial beams and their focusing on the rotating conductive layer in a simplified way as an example a preferred embodiment of the method according to the invention, while in Fig. 2 one the axial Shifting the points of impact of the two partial beams the conductive layer causing detail of this beam path ^ - seen in the direction of arrow A in Fig. 1 - is shown.

Der aus einer in den Fig. nicht gezeigten Lichtquelle, vorzugsweise .einen, Laserstrahler oder einen Infrarotstrahler, emittierte Energiestrahl 1 wird von einem halbdurchlässigen Spiegel 2 (oder einem entsprechend wirkenden optischen Prisma) in zwei Teilstrahlen 3 und 4 mit etwa gleicher Intensität gespalten. Die beiden Teilstrahlen 3 und 4 werden dann von den ebenen Spiegeln 5 und 6 um jeweils 90 Grad umgelenkt. Ein weiterer Spiegel 7 sorgt für eine nochmalige Umlenkung des Teilstrahles 3, so daß die beiden Teilstrahlen 3 und 4 zusammen etwa ein Rechteck begrenzen, wie aus Fig. 1 deutlich zu erkenne ist. Die beiden Teilstrahlen 3 und 4 treffen aus entgegengesetzten Rich-The energy beam 1 emitted from a light source not shown in the figure, preferably a laser emitter or an infrared emitter, is split by a semitransparent mirror 2 (or a correspondingly acting optical prism) into two partial beams 3 and 4 with approximately the same intensity. The two partial beams 3 and 4 are then deflected by the flat mirrors 5 and 6 by 90 degrees each. Another mirror 7 ensures that the partial beam 3 is deflected again, so that the two partial beams 3 and 4 together define approximately a rectangle, as can be clearly seen from FIG. The two partial beams 3 and 4 hit from opposite directions

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tungen kommend an der Oberfläche der zu wendelnden Leitschicht 8 auf. Diese wird während des Wendelvorgangs, beispielsweise in Richtung des Pfeiles 3, in Rotation um eine senkrecht zur Zeichenebene und praktisch zu den beiden Teilstrahlen 3 und 4 orientierte Drehachse C gehalten, die zugleich die Symmetrieachse des (im Beispielsfall zylindrischen) isolierenden Kerns R des Widerstandselementes ist. Im Beispielsfall sind die Spiegel,2 und 5 fest, die Spiegel 6 und schwenkbar gelagert, wobei die Schwenkachse in die Zeichenebene der .Pig. 1 fällt. Bei einer Schwenkung uia diese Achse wird der Auftreffleck des betreffenden Energiestrahles 3 beziehungsweise 4 parallel zur Rotationsachse C der Leitschicht 8 auf diener verschoben. Zur Erzielung eines punktförrcigen Auftreffflecks der beiden Teilstrahlen 3 und 4 sind entsprechend fokussierende Mittel, im Beispielsfall sphärische Linsen 9 und 10, vorgesehen. Sie sorgen dafür, daß der Auftrefffleck auf der Leitschicht 8 punktförmig und die von den Energieteilstrahlen 3 und 4 "geschriebene" Furche auf der Leitschicht 8 linienhaft wird. Die Intensität der Energiestrahlen 3 und 4 wird so eingestellt, daß das Material der Leitschicht B an der jeweiligen Auftreffstelle und nur an diese: möglichst sofort verdunpft. Soweit erforderlich, wird während der Wendelung der Leitschicht 8 Sorge dafür getragen, daß sich diese und äer sie tragende Kern nicht übermäßig erhitzen und die Leitschicht an allen Stellen, die nicht unmittelbar von den Energiestrahlen 3 und 4 erreicht werden, erhalten bleibt.on the surface of the conductive layer to be coiled 8 on. This is during the spiraling process, for example in the direction of arrow 3, in rotation by one The axis of rotation C, oriented perpendicular to the plane of the drawing and practically to the two partial beams 3 and 4, is held at the same time the symmetry axis of the (in the example cylindrical) insulating core R of the resistance element is. In the example The mirrors 2 and 5 are fixed, the mirrors 6 and 6 are mounted pivotably, the pivot axis being in the plane of the drawing the .Pig. 1 falls. With a swivel uia this axis the impact spot of the relevant energy beam 3 or 4 becomes parallel to the axis of rotation C of the conductive layer 8 postponed to servants. To achieve a Punktförrcigen The point of impact of the two partial beams 3 and 4 are correspondingly focussing means, spherical in the example Lenses 9 and 10 are provided. They ensure that the point of impact punctiform on the conductive layer 8 and the groove "written" by the partial energy beams 3 and 4 on the Conductive layer 8 is linear. The intensity of the energy beams 3 and 4 is adjusted so that the material of the Conductive layer B at the respective point of impact and only at this: evaporated as soon as possible. If necessary, during the helix of the conductive layer 8, care is taken that this core and the core carrying it do not heat up excessively and the conductive layer is retained at all points that are not directly reached by the energy beams 3 and 4.

Wenn nan die beiden Spiegel 6 und 7 genügend v/eit von der zu wendelnocn Leitschicht entfernt anordnet, genügt ein kleiner Auslenkwinkel C*. , um die insgesamt erforderliche axiale Verschiebung D der beiden Teilstrahlen 3 und 4 über die gesamte Leitschicht zu gewährleisten. Die Fokussierung kann dann gegebenenfalls von einer jeweils einzigen sphärischen Linse 9 und 10 von entsprechend großer Brennweite geleistet werden. Die Funktion der Spiegel 6 und der Linse 10 einerseits und desIf the two mirrors 6 and 7 are sufficiently close to If a wendelnocn conductive layer is removed, a small one is sufficient Deflection angle C *. to get the total axial displacement required D to ensure the two partial beams 3 and 4 over the entire conductive layer. The focusing can then if necessary can be made by a single spherical lens 9 and 10 of a correspondingly large focal length. The function of the mirror 6 and the lens 10 on the one hand and the

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Spiegels 7 und der Linse 2 andererseits läßt sich auch kombinieren, indem man die Spiegel 6 und 7 durch - insbesondere sphärische - Hohlspiegel ersetzt, deren Brennweite so groß bemessen ist, daß sie die Energieteilstrahlen 3 und 4 punktförmig auf dej? rotierendeii Leitschicht 8 abbilden. Me Linsen 9 und 10 sind dann überflüssig. Noch einfacher ist es, die Versetzung der Auftreffstellen 19 und 20 der beiden Energieteilstrahlen 3 und 4 nach Maßgabe der vorzunehmenden axialen Verschiebung" ira vornherein festzulegen und die axiale Verschiebung D durch eine axiale Verschiebung der rotierenden Leitschicht 8 bei festgehaltenen Strahlengang für die Teilstrahlen 3 und 4 vorzunehmen.Mirror 7 and the lens 2 on the other hand can also be combined by the mirrors 6 and 7 through - in particular spherical - concave mirror replaced, the focal length of which is dimensioned so large that the partial energy beams 3 and 4 punctiform on dej? Image rotating layer 8. Lenses 9 and 10 are then superfluous. It is even easier to move the impact points 19 and 20 of the two Partial energy beams 3 and 4 according to the axial displacement to be carried out "ira to be determined in advance and the axial Displacement D by an axial displacement of the rotating guide layer 8 with a fixed beam path for the partial beams 3 and 4.

Die beiden Teilstrahlen 3 und 4 können durch entsprechende Spiegelsysteme derart umgelenkt werden, daß sie von der gleichen Seite herkommend, die Leitschicht erreichen. Bevorzugt wird man von dieser Möglichkeit Gebrauch machen, wenn als Energiestrahl ein Elektronenstrahl verwendet wird, der von einer Elektronenstrahlquelle mittels entsprechend geformter Blenden in zwei Teilstrahlen aufgespalten wird. Beide Teilstrahlen werden dann mittels elektrischer und/oder magnetischer Felder auf die rotierende Leitschicht projiziert und dabei vor dem Erreichen der Leitschicht mittels elektrorienoptischer Mittel zu einem punktförmigen Auftrefffleck fokussiert werden.The two partial beams 3 and 4 can be deflected by appropriate mirror systems in such a way that they are from the same Coming from the side, reach the conductive layer. One will prefer to make use of this possibility if as Energy beam an electron beam is used, which is formed by an electron beam source by means of appropriately shaped Aperture is split into two partial beams. Both partial beams are then projected onto the rotating conductive layer by means of electrical and / or magnetic fields and before reaching the conductive layer by means of electro-optical Means to be focused on a punctiform impact point.

In vereinfachter Form wird dies an Hand der Fig. 3 dargestellt, Von einer Glühkathode 11 und einer Anode 12 in evakuierter Umgebung wird ein Elektronenstrahl 13 zwischen Ancde und Kathode erzeugt. Die Anode 12 weist zwei gleichbersssene Löcher 14 und 15 auf, durch die zwei Teilstrahlen 16 und 17 des Elektronenstrahls 13 austreten und in den Raum zwischen Anode 12 und der um die Achse C rotierenden Leitschicht 8 gelangen. Die Ausdehnung der Glühkathode 11 sowie der Anode 12 mit ihren lochHendenartigen Öffnungen 14 und 15 ist so getroffen, daß die beiden Teilstrahlen 17 und 16 an axial versetzten Stellen 19 undThis is shown in simplified form with reference to FIG. 3, of a hot cathode 11 and an anode 12 in an evacuated environment an electron beam 13 is generated between ancde and cathode. The anode 12 has two holes 14 and 14 in the same direction 15 through which two partial beams 16 and 17 of the electron beam 13 exit and into the space between the anode 12 and the Arriving at the axis C rotating conductive layer 8. The expansion of the hot cathode 11 and the anode 12 with their hole-like ends Openings 14 and 15 is made so that the two partial beams 17 and 16 at axially offset points 19 and

VPA 9/140/0086 _409808/0590 ' -¹⁰-VPA 9/140/0086 _409808/0590 '- ¹⁰ -

20 die rotierende Leitschicht 8 erreichen. Zwischen den beiden Teilstrahlen 16 und 17 ist eine senkrecht zur Achse C sich erstreckende Ablenkplatte 21 vorgesehen, die gegenüber den Elektronenstrahlen 16 und 17 mittels einer veränderlichen Spannungsquelle 22 negativ aufgeladen wird. Infolge diener negativen Aufladung können die Auftreffpunkte 19 und 20 der Elektronenteilstrahlen 16 und 17 in Achsrichtung der rotierenden Leitschicht 8 bewegt werden. Will man die beiden Auftreffstellen 19 und 20 in gleicher Richtung bewegen, so kann dies geschehen, indem man aie Leitschicht 8 in Richtung der Rotationsachse C verschiebt. Un einen scharfen punktförnigen Auftreff fleck zu erhalten, können zusätzliche elektronenoptische Mittel (elektrische und/oaer magnetische -.ineen, die sweckmäbig unabhängig voneinander vor. jeden der beiden "eiistrahien 1b und 17 arbeiten) im Raum zwischen der Anode 12 und der rotierenden Leitschicht 8 verogesehe.-j sein.20 reach the rotating conductive layer 8. Between the two partial beams 16 and 17 is a perpendicular to the axis C extending Deflection plate 21 is provided, which opposes the electron beams 16 and 17 by means of a variable voltage source 22 is charged negatively. As a result of the negative charge, the points of incidence 19 and 20 of the partial electron beams 16 and 17 are moved in the axial direction of the rotating conductive layer 8. If you want the two impact points 19 and 20 move in the same direction, this can be done by moving aie conductive layer 8 in the direction of the axis of rotation C shifts. Un a sharp punctiform impact To get the spot, additional electron optics can be used Means (electrical and / or magnetic -.ineen, the sweckmäbig independently of each other. each of the two "elements 1b and 17 work) in the space between the anode 12 and the rotating conductive layer 8 verogesehe.-j be.

Jp. Interesse «er Vermeidung einer IntensitHtsschwächung den ülektronenotrahles wäre es ara günstigsten, die rotierende Leitschicht innerhalb des evakuierten Raumes anzuordnen, in '.vülcheia .sich auch die Elektronen»tr:'.hlen 1o urd 17 erzeugenden Mittel cefinuon. Einfacher ist es, wenn nan die beiden Elektronenntrahler: 16 und '7 über ein Lenardfenster oder über eine Vakuumschleuse aus den für die Erzeugung der Elektronen notwendigen hochevakuierten Erzeugungsraun austreten läßt, bevor sie auf die in Luft oder in einem Vakuum minderer Güte angeordnete rotierende Leitschicht 8 auftreffen.Jp. Interest in avoiding a weakening of the intensity ülektronenotstrahles it would be ara cheapest, the rotating one To arrange conductive layer within the evacuated room in '.vülcheia. the electrons' tr:' Means cefinuon. It is easier if nan the two electron emitters: 16 and '7 via a Lenard window or via a Vacuum lock from the necessary for the generation of the electrons highly evacuated generation space can escape before it is placed in the air or in a vacuum of inferior quality incident rotating conductive layer 8.

Bei symmetrischer beidseitiger Wendelung von den Enden her wird die Zone maximaler Aufheizung des Widerstandselementes, über eine Mantellinie betrachtet, symmetrisch in ein Plateau umgewandelt, dessen Grenzforn bei Wendelung bis zur Mitte hin eine Kuppe (entsprechend Vollschliff) ist.With symmetrical twists on both sides from the ends the zone of maximum heating of the resistance element, viewed over a surface line, is symmetrical into a plateau converted, whose border shape is a dome when twisted up to the middle (corresponding to full cut).

Bei kürzerer beiseitiger Wendelung tritt eine leicht eattel-VPA 9/HO/OO36 . - 1.1 -If the two-sided twist is shorter, there is a slight eattel VPA 9 / HO / OO36. - 1.1 -

409808/0590409808/0590

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förmige Teniperaturverteilung auf. (Die Tiefe des Sattels ist davon abhängig, welche Anteile der Wärmeabführung auf Konvektion, Wärmestrahlung und Wärmeableitung entfallen. Pur die beschriebenen kappenlosen Bauformen ist der Anteil an Konvektion und Wärmestrahlung gering und der Sattel folglich flach). Unter Annahme eines linearen Verlaufes der Wärmeleitfähigkeit in Abhängigkeit zum Abstand vom Ende des Widerstandselementes wäre bei symmetrischer Wendelung der effektive Wärraev/iderstand unabhängig von den Abieichlängen gleich hoch wie bei Vollschliff. Tatsächlich weist jedoch der Querschnitt des mittleren Drittens des Widerstandselercentes (aus Keramik bestehend) eine rohieehtere Wärmeleitfähigkeit auf, als die Querschnitte der äuJSeren Drittel des Y/iderstaniselementes, die teilweise aus Metall (Anschlußdraht + Lot) bestehen.shaped teniperature distribution. (The depth of the saddle is depending on what proportions of heat dissipation are due to convection, heat radiation and heat dissipation. Pure the The capless designs described, the proportion of convection and thermal radiation is low and the saddle is consequently flat). Assuming a linear course of the thermal conductivity depending on the distance from the end of the resistor element would be the effective heat resistance in the case of symmetrical coiling Regardless of the calibration length, the same as with full grinding. In fact, however, the cross-section of the middle Third, the resistance element (made of ceramic) a rawer thermal conductivity than the cross-sections the outer third of the Y / iderstanis element, which is partially made of metal (connecting wire + solder).

Somit bedeutet eine Verlagerung der freiwerdenden Wärme symmetrisch zn beiden Enden hin bessere Ableitfähigkeit dieser Wärme und dadurch Verringerung des effektiven Wärmewiderstandes. Thus, a symmetrical displacement of the released heat towards both ends means better conductivity of this heat and thus a reduction in the effective thermal resistance.

Die Spiegel 2 und 5 sind um den Y/inkel^ gegen die Spiegel 6 und. 7 gedreht. Der Winkel gC^uß so. gewählt worden, daß die beiden von den Spiegeln 6 und 7 kommen ο en -eilstrahlen 3 und A-um die halbe Läiige der Leitschicht 8 versetzt sind.The mirrors 2 and 5 are about the Y / inkel ^ against the mirrors 6 and. 7 rotated. The angle gC ^ is like this. has been chosen so that the two come from the mirrors 6 and 7 o en - partial beams 3 and A - are offset by half the length of the conductive layer 8.

(Um die Laserleistung im Dauerbetrieb zuiberwachen, können die Spiegel 6 und 7 teildurchlässig ur:d dahinter ein Leistungsmesser angebracht sein.)(To monitor the laser power in continuous operation, you can the mirrors 6 and 7 partially transparent ur: d behind a power meter to be appropriate.)

Beim Wendeln wird nun die Leixschichx 6 um ihre Symmetrieachse C in Rotation versetzt und die beiden Spiegel 6 mit Linse 10 und 7 mit Linse 9 um die Achsen A1 und A2 synchron gedreht, und zwar so, daß sich die Brennpunkte der Linsen von den ?/ider- · standsenaen zur Mitte hin bewegen. Bei Verwendung von Linsen mit einer Brennweite von 25 mm bleibt der Brennfleck bei ΊΙ1- When turning, the Leixschichx 6 is now set in rotation about its axis of symmetry C and the two mirrors 6 with lens 10 and 7 with lens 9 are rotated synchronously about axes A1 and A2, in such a way that the focal points of the lenses are from the? / Move ider- · standstones towards the center. When using lenses with a focal length of 25 mm, the focal spot remains at ΊΙ1-

VPA 9/140/0086 - 12 -VPA 9/140/0086 - 12 -

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derstandslängen^ 10 mm innerhalb des Bereiches der Schärfentiefe, für größere Widerstandslängen müssen Linsen mit größerer Brennweite (beispielsweise 50 mm) gewählt v/erden.distance lengths ^ 10 mm within the range of the depth of field, for longer resistor lengths, lenses with a larger focal length (for example 50 mm) must be selected.

Als Vorteile wurden, festgestellt: Der Wärmewiderstand ist deutlich davon abhängig, welcher Anteil der freien Widerstandsschicht in die Wendel einbezogen ist (im folgenden ausgedrückt in Prozent) und wie der gewendelte Teil auf dem Widerstandskörper angeordnet ist. Für die konventionelle, an einen) V.'iderstandsende beginnende V/endelung wurde festgestellt: Bei 100 ^-Wendelung liegt der Wärniewiderstand im Mittel bei HO grd/Watt mit Streuwerten von 129 - 149 grd/Watt. Bei 70 ^-Wendelung war bereits eine Verschlechterung feststellbar: Mittelwert. 143 grd/Watt, Größtwert 149 grd/Watt, Kleinstwert 137 grd/Watt. Deutlich wird die Abhängigkeit bei einem nur bis zur halben Länge gewendelten Widerstand. Hier war der Mittelwert bereits auf 151 grd/V/att angestiegen, mit Größtwert 156 grd/Watt, Kleinstwert 145 grd/Watt. Im Gegensatz dazu ergab das beidseitig symmetrische Wendeln von den Enden zur Mitte hin bei 2 χ 45 /^-Wendelung einen Mittelwert von 126 grd/Watt mit Größtwert 133 grd/V/att und Kleinstwert 119 grd/Watt. Bei 2 χ 35 und 2 χ 25 ^-V/endelung wurden nahezu gleiche Werte gemessen: Mittelwerte 120 bzw. 122 grd/'.v'att, Größtwerte 125 grd/v'/att, Kleinstwerte 116 bzw. 117 grd/V/att.The following advantages were found: The thermal resistance is clearly depends on what proportion of the free resistance layer is included in the helix (expressed in the following in percent) and how the coiled part is arranged on the resistor body. For the conventional, at A) V. 'Resistance beginning V / endung was determined: With a 100 ^ turn, the average heat resistance is HO degrees / watt with scatter values of 129 - 149 degrees / watt. at 70 ^ -Wendelung a deterioration was already noticeable: Average. 143 degrees / watt, highest value 149 degrees / watt, lowest value 137 degrees / watt. The dependency becomes clear for one only up to Resistance coiled to half the length. Here the mean value had already risen to 151 degrees / V / att, the highest value 156 degrees / watt, lowest value 145 degrees / watt. In contrast, revealed the bilaterally symmetrical coiling from the ends to the center at 2 χ 45 / ^ - coiling has a mean value of 126 degrees / watt with the highest value 133 degrees / V / att and the lowest value 119 degrees / watt. At 2 35 and 2 χ 25 ^ -V / endings were almost same values measured: mean values 120 or 122 degrees / '. v'att, Largest values 125 degrees / v '/ att, lowest values 116 or 117 degrees / V / att.

Im Vergleich zur konventionellen Wendelung wird bei gleicher Schnittgeschwindigkeit die Abgleichzeit auf die Hälfte reduziert, bei gleicher .algleichzeit die Schnittgeschwindigkeit halbiert. Von Bedeutung sind diese Vorteile, wenn größere Widerstandskörper und/oder Abgleich mit sehr kleinen Steigungen große Schnittlängen erfordern, oder wenn Pul;·-Laser eingesetzt werden sollen.Compared to conventional helix, the adjustment time is reduced by half with the same cutting speed, at the same time the cutting speed halved. These advantages are important when larger resistance bodies and / or balancing with very small gradients require long cutting lengths or if Pul; · lasers are to be used.

Bei Langzeitbelastung von mit dem beschriebenen Verfahren hergestellten Widerständen ist infolge des günstigeren Temperaturprofils eine Einengung von Drift und Drift-Streuung zu erwarten. In the case of long-term exposure to products manufactured using the method described Resistances is due to the more favorable temperature profile a narrowing of drift and drift spread can be expected.

3 Figuren3 figures

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15 Patentansprüche15 claims

VPA 9/140/0086 - 13 -VPA 9/140/0086 - 13 -

Claims (1)

PatentansprücheClaims Verfahren zum Herstellen eines elektrischen Widerstandselementes in Form einer an der Oberfläche eines zylindrisch oder konisch ausgebildeten Kerns aus Isoliermaterial haften- ' den Leitschicht, die zunächst als den Kern umschließender Ring aufgebracht und dann längs einer - zum Beispiel von einem Rand des Ringes zum anderen reichenden - Schraubenlinie mit einer den elektrischen Bahnv/iderstand der Leitschicht zwischen zwei an je einem ihrer Ränder angebrachten bzw. noch anzubringenden Elektroden vergrößernden Furche versehen wird, dadurch gekennzeichnet, daß die den elektrischen Widerstand der Leitschicht vergrößernde Furche zugleich an zwei axial gegeneinander versetzten Stellen der Leitschicht mittels . je eines punktförmig, auf tr e"f fend en und das Material der Leitschicht an der jeweiligen Auftreffstelle verdampfenden Energiestrahls erzeugt wird, indem die Auftreffstellen der beiden Energiestrahlen parallel zur Achse der gemeinsam mit dem isolierenden Kern um dessen Achse rotierenden Leitschicht unter Entstehung je einer schraubenlinienförsigen Furche verschoben werden. " ■Method for producing an electrical resistance element in the form of a core made of insulating material adhering to the surface of a cylindrical or conical core - ' the conductive layer, which is initially applied as a ring surrounding the core and then along a - for example by from one edge of the ring to the other - a helical line with an electrical path resistance of the conductive layer between two electrodes attached or still to be attached to one of their edges Groove is provided, characterized in that the electrical resistance the groove enlarging the conductive layer at the same time at two axially offset points of the conductive layer by means of. One each point-like that hits and the material of the conductive layer evaporates at the respective point of impact Energy beam is generated by placing the points of impact of the two energy beams parallel to the axis of the common with the insulating core rotating around its axis conductive layer forming a helical one Furrow to be moved. "■ 2β Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die beiden Energiestrahlen aus einer einzigen Strahlungsquelle bezogen werden, indem . zwei von dieser ausgehende Energiestrahlen mit axial in Bezug auf die ringförmige Leitschicht versetzten Auftreffstellen auf diese fokussiert werden.2β method according to claim 1, characterized that the two energy beams are obtained from a single radiation source by . two energy beams emanating from this with axially in With respect to the annular conductive layer, staggered impact points are focused on these. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die beiden Energiestrahlen aus einer einzigen Strahlungsquelle bezogen werden.3. The method according to claim 1, characterized that the two energy beams are obtained from a single radiation source. 4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,, daß die von den Auftreffstellen der beiden Energiestrahlen erzeugten gewendelten Furchen4. The method according to claim 1, characterized in, that the coiled furrows created by the points of impact of the two energy beams . , , 409808/0590. ,, 409808/0590 VPA 9/140/0086 - 14 -VPA 9/140/0086 - 14 - -H--H- so geführt werden, daß sie sich zu einer stetigen, insbesondere von einer Elektrode zur zweiten Elektrode des Widerstandselenientes reichenden - schraubenlinienförmigen gewundenen Bahn - insbesondere mit stetigen ersten und zweiten Ableitungen - ergänzen. ' * :be guided so that they become a steady, in particular from one electrode to the second electrode of the Resistance element reaching - helical winding path - especially with continuous first and second derivatives. '*: 5. Verfahren nach einen der Ansprüche 1 bis 4_f dadurch gekennzeichnet , daß" die Bewegung der Auf-5. The method according to any one of claims 1 to 4 _f, characterized in that "the movement of the up- . treffstellen der beiden Energiestrahlen - an je einem der Ränder der Leitschicht beginnend - in Richtung auf die Mitte der Leitschicht geführt werden.. meeting points of the two energy beams - at one of each Beginning at the edges of the conductive layer - be guided towards the center of the conductive layer. 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5» dadurch gekennzeichnet , daß die Auftreff8tollen der beiden Energiestrahlen mit unterschiedlichen Geschwindigkeiten und/oder zeitlich veränderten Geschwindigkeiten parallel zur Rotationsachse der rotierenden Leitschicht über diese geführt werden.6. The method according to any one of claims 1 to 5 »thereby marked that the impact ravines of the two energy beams with different velocities and / or temporally altered velocities be guided over this parallel to the axis of rotation of the rotating conductive layer. 7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekenn ze ichnet , daß die Rotationsgeschv/indigkeit der Leitschicht während der Erzeugung der gewendelten Furchen in der Leitschicht verändert wird.7. The method according to any one of claims 1 to 6, characterized indicated that the rotational speed the conductive layer is changed during the creation of the coiled furrows in the conductive layer. 8· Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7_t dadurch gekennzeichnet , daß zunächst die ringförmige Leitschicht an ihren Rändern mit je einer - insbesondere kappen- oder ringförmigen - Anschlußelektrode versehen und erst dann mit den den elektrischen Widerstand erhöhenden Furchen versehen wird, daß dabei die beiden Ansohlußelektroden an Spannung und an ein den Widerstand der Leitschicht zwischen den beiden Anschlußelektroden überwachendes Meßinstrument gelegt und die Wideratanciänderung während der Entstehung der Furchen in der LeitSchicht überwacht werden.8 · A method according to any one of claims 1 to 7 _t characterized in that first the annular conductive layer at their edges with one - in particular cap or annular - provided terminal electrode and is only provided with the electric resistance-increasing grooves that case the voltage is applied to both connection electrodes and to a measuring instrument that monitors the resistance of the conductive layer between the two connection electrodes, and the change in resistance during the formation of the furrows in the conductive layer can be monitored. YPA 9/H0/0086 - 15 -YPA 9 / H0 / 0086 - 15 - ■ · J ■ · J 408808/0590408808/0590 — 1 ί? —- 1 ί? - 9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet ,. daß die beiden Energiestrahlen automatisch beim Erreichen des gewünschten Endwertes des Widerstandes der Leitschicht zwischen den beiden Elektroden abgeschaltet werden.9. The method according to claim 8, characterized in that. that the two energy rays automatically when the desired final value of the resistance of the conductive layer is reached between the two electrodes are switched off. 10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis S₁ dadurch gekennzeichnet, daß ein von einer optischen Strahlungsquelle, insbesondere einem Laser, abgegebener Energiestrahl mittels eines halbdurchlässigen Spiegels oder eines Prisma in zwei Teilstrahlen von etwa gleicher Intensität aufgespalten werden, daß dann beide Teilstrahlen derart umgelenkt werden, daß sie die rotierende Leitschicht an axial gegeneinander verschobenen Stellen erreichen, und daß jeder dieser Teilstrahlen vor dem Erreichen der Leitschicht über die Entstehung einer punktförraigen Auftreffstelle bewirkende Mittel, insbesondere sphärische Linsen oder Zylinderlinsen, fokussiert wird.10. The method according to any one of claims 1 to S _1, characterized in that an energy beam emitted by an optical radiation source, in particular a laser, is split into two partial beams of approximately the same intensity by means of a semi-transparent mirror or a prism, so that both partial beams are then deflected be that they reach the rotating guide layer at axially displaced points, and that each of these partial beams is focused before reaching the guide layer via the creation of a point-like impact point causing means, in particular spherical lenses or cylinder lenses. 11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet , daß die axialen Verschiebungen der Auftreffstellen der beiden Teilstrahlen durch je einen um eine senltrecht zur Botationsachse der Leitschicht orientierte Achse schwenkbaren, den auftreffenden Teilstrahl auf die Leitschicht prcjizierender Spiegel bewirkt v/erden.11. The method according to claim 10, characterized that the axial displacements of the impact points of the two partial beams through one each to the right to the botation axis the guide layer-oriented axis pivotable, projecting the incident partial beam onto the guide layer Mirror causes grounding. 12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß 12. The method according to any one of claims 1 to 11, characterized in that als Energiestrahl ein Elektronenstrahl verwendet wird, indem von einer Slektronenstrahlquelle mittels entsprechend geformter Blenden zwei Teilstrahlen erzeugt und beide Teilstrahlen mittels elektrischer und/oder magnetischer Felder auf die rotierende Leitschicht geworfen und vor dem Erreichen der Leitschicht mittels an electron beam is used as the energy beam by means of a slectron beam source Shaped diaphragms generated two partial beams and both partial beams by means of electrical and / or magnetic fields thrown onto the rotating conductive layer and before reaching the conductive layer by means of VPA 9/140/0086 ' -H-VPA 9/140/0086 '-H- 409808/0590409808/0590 — Io —- Io - elektronenoptischer Mittel zu einem punktförmigen Auftrefffleck fokussiert werden.Electron-optical means are focused to a point-shaped point of impact. 13. Vorrichtung zur Durchführung deo Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet , daß in den Strahlengang eines von einer optischen Strahlungsquelle emittierten Lichtstrahles, insbesondere Laserstrahles, ein halbdurchlässiger Spiegel eingeblendet ist, daß außerdem sowohl in dem Strahlengang des durchgelasoenen Teilstrahles als auch in den Strahlungsgang des reflektierten Teilstrahles Spiegel beziehungsweise Spiegelsystem derart vorgesehen sind, daß beide Teilstrahlen - gegebenenfalls aus entgegengesetzten !Richtungen - die rotierende Leitschicht an axial zueinander versetzten Stellen erreichen.13. Device for performing deodorant process according to a of claims 1 to 12, characterized in that in the beam path one of a light beam emitted from an optical radiation source, in particular a laser beam, a semitransparent mirror it is shown that also both in the beam path of the transmitted partial beam and in the beam path of the reflected partial beam mirror or mirror system are provided in such a way that both partial beams - if necessary from opposite directions - axially offset the rotating conductive layer with respect to one another Achieve places. 14. Vorrichtung nach Anspruch 13t dadurch gekennzeichnet , daß für jeden der Teilstrahlen ein beweglicher, eine axiale Verschiebung der Auftreffstelle auf der rotierenden Leitschicht bewirkender Spiegel vorgesehen ist.14. Apparatus according to claim 13t, characterized in that for each of the partial beams a movable mirror causing an axial displacement of the point of impact on the rotating guide layer is provided. 15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, daß zur Fokussierung der auf die rotierende ringförmige Leitschicht auftreffende Energiestrahl optische Mittel, insbesondere sphärische Linsen oder Zylinderlinsen oder entsprechende Hohlspiegel, vorgesehen sind.15. Device according to one of claims 13 or 14, characterized in that for Focusing of the energy beam impinging on the rotating annular guide layer, optical means, in particular spherical lenses or cylindrical lenses or corresponding concave mirrors are provided. VPA 9/140/0086VPA 9/140/0086 409808/0590409808/0590