DE2215179A1 - Verfahren zur beruehrungslosen messung von elektrischen wieerstaenden - Google Patents

Verfahren zur beruehrungslosen messung von elektrischen wieerstaenden

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DE2215179A1
DE2215179A1 DE19722215179 DE2215179A DE2215179A1 DE 2215179 A1 DE2215179 A1 DE 2215179A1 DE 19722215179 DE19722215179 DE 19722215179 DE 2215179 A DE2215179 A DE 2215179A DE 2215179 A1 DE2215179 A1 DE 2215179A1
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resistance
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R27/00Arrangements for measuring resistance, reactance, impedance, or electric characteristics derived therefrom
    • G01R27/02Measuring real or complex resistance, reactance, impedance, or other two-pole characteristics derived therefrom, e.g. time constant

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Description

  • Verfahren zur berührungslosen messung von elektrischen Widerständen Die Erfindung Dezient sich auf ein Verfahren zur berührungslosen Messung von elektrischen Widerständen.
  • Zur Messung eines elektrischen Widerstandes wird allgemein ein elektrischer Stromkreis durch mechanische Kontakte an diesem Widerstand angeschlossen.
  • Diese Methode versagt jedoch, wenn ein mechanischer Kontakt, z.B. wegen zu kleiner Widerstandsanschlüsse, nicht angebracht werden kann, oder wenn für die Widerstandsmessung nur eine sehr kurze Zeit zur Verfügung steht.
  • Eine Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren anzugeben, mit dessen Hilfe Widerstände mit sehr kleinen Kontaktflecken in sehr -kurzer Zeit gemessen werden können.
  • Diese Aufgabe Wird durch ein Verfahren gelöst, das erfindungsgemäß dadurch gekennzeichnet ist, daß ein Kontaktfleck bzw.
  • beide Kontaktflecken des zu messenden Widerstandes von einem Elektronenstrahl bzw. von zwei Elektronenstrahlen angesteuert wird bzw. angesteuert werden.
  • Eine bevorzugte Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist dadurch gekennzeichnet, daß ein Kontaktfleck des zu messenden Widerstandes von dem Elektronenstrahl angesteuert wird und daß der andere Kontaktfleck mit einer Strommeßanordnung verbunden ist und daß zur Widerstandsbestimmung der über den liderstand fließende Abserptionsstrom gemessen wird.
  • Eine weitere bevorzugte Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist dadurch gekennzeichnet, daß ein Kontaktfleck des zu messenden Widerstandes von einem Elektronenstrahl und der andere Kontaktfleck des zu messenden Widerstandes von einem weiteren Elektronenstrahl angesteuert wird, wobei die Beschleunigungsspannungen der Elektronenstrahlen so gewählt werden, daß der Sekundärelektronenemissionskoeffizient des einen Elektronenstrahls an der einen kontaktstelle kleiner als 1 ist, und der Sekundärelektronenemissionskoeffizient des anderen Elektronenstrahls an der anderen Kontaktstelle größer als 1 ist, und daß zur Bestimmung des zu messenden Widerstandes das Potential an der Kontaktstelle, an der der Elektronenemissionskoeffizient größer als 1 ist, durch Messung des von dieser Kontaktstelle ausgehenden Sekundärelektronenstromes bestbamt wird.
  • Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung wird zur Bestimmung des Potentials an der Kontaktstelle, an der der Elektronenemissionskoeffizient größer als 1 ist anstelle des gesamten Sekundärelektronenstromes ein bezüglich der Energie ausgefiltert er Teil des Sekundärelektronenstomes oder der Augerelektronenstrom verwendet.
  • Der durch das erfindungsgemäße Verfahren erzielbare Vorteil besteht insbesondere darin, daß Widerstände gemessen werden können, die wegen zu kleiner Widerstandsanschlüsse mechanisch nicht kontaktierbar sind. So können beispielsweise mit dem erfindungsgemäßen Verfahren Widerstände von Leiterbahnen in Schaltungsplatten oder in integrierten Schaltkreisen'gemessen werden.
  • Ein weiterer Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens ergibt sich aus der Kürze der für das Verfahren notwendigen Zeit.
  • So ist zum Beispiel zur Messung des Widerstandes einer Leiterbahn zwischen zwei Kontaktflecken ein Zeitaufwand von etwa 10-4 sec notwendig.
  • Weitere Einzelheiten der Erfindung gehen aids der Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele der Erfindung und ihrer Weiterbildungen hervor.
  • Figur 1 zeigt in schematischer Darstellung das Prinzip der Widerstandsmessung von Leiterbahnen mit einfacher Elektronenstrahlabtastung.
  • Figur 2 zeigt ein Ausführungsbeispiel für die Widerstandsmessung mit einfacher Elektronenstrahlabtastung.
  • Figur 3 zeigt in schematischer Darstellung das Prinzip der Widerstandsmessung mit doppelter Elektronenstrahlabtastung.
  • Figur 4 zeigt ein Ausführungsbeispiel für die Widerstandsmessung mit doppelter Elektronenstrahlabtastung.
  • In der Figur 1 ist die Kathode mit 1 bezeichnet. Die Anode trägt das Bezugszeichen 2. Sie ist vorzugsweise mit Masse verbunden. An der Klemme 5 der Kathode liegt vorzugsweise das Potential Zur zur Beschleunigung der Elektronen des Elektronenstrahls an. Vorzugsweise beträgt des Kathodenpotential 100 V. Der Elektronenstrahl trägt das Bezugszeichen 6. Er trifft auf das Ende 31 des Widerstandes 3 auf0 Bei den folgenden Überlegungen ist ein etwa auftretender Sekundärelektronenstrom vernachlässigt Das Ende 32 des Widerstandes 3 ist über das Strommeßgerät 4 mit Potential, vorzugsweise mit Masse, galvanisch verbunden. Der in den Widerstand 3 eintretende Elektronenstrom IO fließt ungehindert durch den Widerstand, sofern der Spannungsabfall UR am Widerstand kleiner als die Beschleunigungsspannung Uk der Elektronen ist. Erreicht der Spannungsabfall UR an Widerstand 3 einen Wert UR ##UK#, so können nicht mehr alle durch die Beschleunigungsspannung Uk beschleunigten Elektronen gegen das Potential UR # Uk des Kontaktflecks 31 anlaufen und werden an diesem gespiegelt.
  • Durch den Widerstand 3 fließt dann der absorbierte Elektronenstrom wobei UR = Uk ist. Der am Kontaktfleck 31 gespiegelte Elektronenstrom Isp ist mit dem Bezugszeichen 7 versehen. Er ergibt sich aus der Differenz des Elektronenstroms IO und des absorbierten Elektronenstroms : Isp = Io - Iabs.
  • Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren sind Widerstände, deren Größenordnung so beschaffen ist, daß sie zu einem Absorptionsstrom und zu einem gespiegelten Elektronenstrom führen meßbar.
  • Nachfolgend sind unter der Voraussetzung, daß Uk und IO konstant sind, die sich im Gleichgewichtszustand einstellenden Werte von Strom und Spannung zusammengestellt.
  • ; Iabs - Uk/R ; Isp = IO - Iabs ; UR = R. Iabs - Uk Zur Widerstandsmessung kann sowohl der mit der Meßanordnung 4 gemessene Absorptionsstrom als auch der mit hilfe eines Gerätes zur elektrischen Meßwertverarbeitung gemessene gespiegelte Elektronenstrom dienen. Die Beziehungen zwischen dem zu messenden Widerstand R und dem Absorptionsstrom bzw.
  • dem gespiegelten Elektronenstrom lauten: , wobei Uk und Io konstant sind.
  • Pigur 2 zeigt ein Ausführungsbeispiel für die Widestandsmessung mit der erfindungsgemäßen einfachen Elektronenstrahlabtastung. Die zu messenden Widerstände sind mit dem Bezugszeichen 3 versehen. Die Enden 32 der Widerstände 3 sind mechanisch kontaktiert, parallel geschaltet und über die Strommeßanordnung 9 mit Potential verbunden. Die Kontaktflecken 31 der Widerstände 3 sind nicht mechanisch kontaktierbar und werden durch den Elektronenstrahl 6 angesteuert. Die von der Kathode 1 emittierten Elektronen des Elektronenstrahls 6 werden durch die zwischen der vorzugsweise geerdeten Anode 2 und der Kathode liegenden Spannung Uk beschleunigt. Nach Durchtritt durch die Anodenblende werden die Elektronen durch eine magnetische Linse 10 gebündelt und mittels geeigneter Ablenkelemente 12 auf die Kontaktflecken 31 der Widerstände 3 gerichtet. Bei diesen Ablenkelementen handelt es sich vorzugsweise um Ablenkspulen.
  • Einzelheiten der Figur 3, die bereits in den anderen Figuren beschrieben sind, tragen die entsprechend-en Bezugszeichen.
  • In der Figur 3 sind die beiden Kathoden der beiden Elektronenstrahlen mit den Bezugszeichen 1 bzw. 11 versehen. Die beiden Anoden tragen die Bezugszeichen 2 bzw. 22. Sie sind bei diesem Beispiel mit LIasse verbunden. An die Klemmen 5 bzw. 55 der Kathoden werden die elektrischen Potentiale -UK1 bzw.
  • UK2 zur Beschleunigung der Elektronen der Elektronenstrahlen 6 bzw. 66 angelegt. Der Elektronenstrahl 6 trifft auf das nicht kontaktierbare nde 31 des Widerstandes 3 auf. Der Elektronenstrahl 66 trifft auf das andere nicht kontaktierbare Ende 32 des Widerstandes 3 auf, Um einen Stromfluß durch den 31 Widerstand zu ermöglichen, muß das eine Ende des Widerstandes 3 mit einem Elektronenstrahl 6 von solcher Energie bestrahlt werden, daß die Anzahl der sekundar ausgelösten Elektronen kleiner ist, als die Anzahl der einfallenden Elektronen. Am anderen Ende 32 des Widerstandes 3 muß die Energie der aufauftreffenden Elektrone des Elektronenstrahls 66 so bemessen sein, daß die Anzahl der sekundär ausgelösten Elektronen größer ist als die Anzahl der auf dem Kontaktfleck 32- auftreffenden Elektronen des Elektronenstrahls 66. Durch diese Dimensionierung wird eine Aufladung des Widerstandes 3 vermieden.
  • Auf den Kontaktfleck 31 treffen Elektronen mit der Beschleunigungsspannung -UK1 der Stärke I1 auf. Der Sekundär-elektronenemissionskoeffizient ist kleiner als 1, der dadurch bedingte Sekundärelektronenstrom wird bei den folgenden Überlegungen vernachlässigt. Auf den Kontaktfleck 32 dagegen treffen Elektronen mit der Beschleunigungsspannung -UK2 der Stärke 12 auf. Der Sekundärelektronenemissionskoeffizient ist dort größer als 1 und hat den Sekundärelektronenstrom 14 Isek zur Folge. I2 wird so gewählt, daß der gesamte Strom. 11 des Elektronenstrahls 6 den Widerstand 3 passieren kann. Am Widerstand 3 baut sich infolge des durch ihn fließenden Stromes I1 die Spannung UR = I1 . R auf, wenn I1 = Isek - I2 ist. Der gesamte, durch den Widerstand fließende Strom I1 kompensiert am nde 32 gerade das durch den Überschuß an Sekundärelektronen entstehende Elek also Uk1 < I1 . R und daher izit. Ist UR > UK1 , so liegt an den Kontaktflecken 31 und 32 die Potentialdifferenz AU > Uki.
  • Unter der Annahme, daß sich das Ende 32 des Widerstandes auf Erdpotential einstellt, steht dem Elektronenstrahl 6 ein Potential gegenäber, das negativer als UK1 ist, was zur Folge hat, daß der Elektronenstrahl 6 nicht mehr gegen dieses Potential anlaufen kann. Das Ende 32 des Widerstandes wird sich also, infolge des kleineren Stromes I< 11 positiv aufladen, weshalb das Potential am Ende 31 weniger negativ wird. Es kann nun wieder ein größerer Strom I1 durch den Widerstand fließen. Im Gleichgewichtszustand wird das Ende 31 des Widerstandes 3 gerade auf das Potential UK1 aufgeladen, d.h. es wird im Gleichgewichtszustand der Strom IR = I1 fließen. Das Ende 32 des Widerstandes niemt das Potential U2 = UK1 + I1 . R an. Da I1 . R > UK1 ist, läuft der Elektronenstrahl immer gegen das positive Potential U2 an. Im Widerstand 3 fließt unabhängig von dessen Wert der Strom IR = I1 . Die Spannungsdifferenz #U = U2 - U1 ist abhängig von dem Widerstand.
  • Da für Widerstände ist, ist in diesen Fällen allein das Potential U2 und somit der Sekundärelektronenstrom Isek eine Funktion des Widerstandes. Der zu messende Widerstand wird beispielsweise durch Messung dieses Sekundärelektronenstromes bestimmt. Nachstehend sind für konstante Weite von UK1, UK2, I1 und I2 und Isek die im Gleichgewichtszustand herrschenden Werte von Strom und Spannung zusammengestellt.
  • UK1 = U1 < 0 ; U2 = UK1 + I1 . R > 0 Figur 4 zeigt ein Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Widerstandsmessung mit doppelter Elektronenstrahlabtastung.
  • Einzelheiten der Figur 4, die bereits in den anderen Figuren beschrieben sind, tragen die entsprechenden Bezugszeichen.
  • Die durch das erfindungsgemäße Meßverfahren zu messenden Widerstände 3 sind vorzugsweise Leiterbahnwiderstände einer Leiterplatte 15. Die Enden 31 und 32 eines Widerstandes 3 sind mechanisch nicht kontaktierbar. Der zwischen Kathode 1 und Anode 2 erzeugte Elektronenstrahl 6 wird mit Hilfe der Vorrichtungen 10 und der Ablenkelemente 12 auf den Kontaktfleck 31 gelenkt, während der zwischen der Kathode 11 und der Anode 22 erzeugte Elektronenstrahl 66 mit Hilfe der Vorrichtungen 100 und der Ablenkelemente 120 auf den Kontaktfleck 32 des Widerstandes 3 gelenkt wird. Bei den Vorrichtungen 10 und 100 bzw. bei den Ablenkelementen 12 und 120 handelt es sich vorzugsweise um magnetische Linsen bzw. um Ablenkspulen. Wie oben bereits beschrieben,ist die Beschleunigungsspannung eines der Elektronenstrahlen so bemessen, daß die Sekundärelektronenausbeute an dem zugehörigen Kontaktfleck kleiner als 1 ist, während sie beim anderen Elektronenstrahl so bemessen ist, daß die Sekundärelektronenausbeute an dem zugehörigen Kontaktfleck größer als 1 ist. In der Figur 4 handelt es sich bei dem Elektronenstrahl, dessen Sekundärelektronenausbeute größer als 1 ist, beispielsweise um den Elektronenstrahl 66. Der ihm zugehörige Kontaktfleck ist mit dem Bezugszeichen 32 versehen. Der an dem Kontaktfleck 32 entstehende Sekundärelektronenstrahl trägt des Bezugszeichen 14.
  • Zur messung des Sekundärelektronenstrahls 14 und somit zur Bestimmung des Widerstandswertes des Widerstandes 3 dient das elektronische Gerät 90. Es besteht vorzugsweise aus einem Sekundärelektronendetektor ggf. mit Energiefilter und einer elektronsichen Meßwertverarbeitung.
  • Die beiden erfindungsgemäßen Verfahren zur beri'bhrungslosen Messung von Widerständen oder eine Kombination beider Verfahren finden beispielsweise Verwendung bei. der Kessung der Widerstände von Leiterbahnen in Schaltungsplatten. Auf der Oberseite solcher Schaltungsplatten, beispielsweise der Siemens "Leiterplatte 73", sind AnschluBpunkte (Kontaktflecke) für beispielsweise Halbleiterschaltkreise im Rastermaß von 0,254 mm angebracht. In den darunter liegenden Ebenen laufen Verbindungen, die je nach Aufgabe der Schaltkreise zu den verschiedenen Punkten der Oberseite laufen, und andererseits auch Anschlüsse zur Unterseite der Platte haben. Die auf der Unterseite der Platte befindlichen Anschlüsse haben beispielsweise ein Rastermaß von 2,54 mm. Während an der Unterseite der Platte die dort herausgeführten Leiterbahnen durch mechanische Kontaktierung auf ihre Funktionsfähigkeit gemessen werden können, ist dies für Lelterbahnen mit nur oben herausgeführten Kontaktflecken durch mechanische Kontaktierung nicht mehr möglich. Zur messung der Widerstände von der Oberseite her wird deshalb nach einem der erfindungsgemäßen Verfahren oder nach einer Kombination beider Verfahren vorgegangen.
  • 5 Patentansprüche 4 Figuren

Claims (5)

  1. P a t e n t a n s p r ü c h e 1. Verfahren zur berührungslosen Messung von elektrischen Widerstandswerten, dadurch g e k e n n z e i c h n e t daß ein Kontaktfleck (31) bzw. zwei Kontaktflecken (31, 32) des zu messenden Widerstandes (3) von einem Elektronenstrahl (6) bzw. von zwei Elektronenstrahlen (6, 66-) angesteuert wird bzw. werden.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n z e i c hn e t , daß ein Kontaktfleck (31) des zu messenden Widerstandes (3) von den Elektronenstrahl (6) angesteuert wird und daß der andere Kontaktfleck (32) mit einer Strommeßanordnung (4) verbunden ist und daß zur Widerstandsbestimmung der über den Widerstand fließende Absorptionsstrom gemessen wird.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch g e k e n n z e i c h -n e t , daß zur Widerstandsbestimmung der an dem Kontaktfleck (31) gespiegelte Elektronenstrom gemessen wird.
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n z e i c h -n e t , daß ein Kontaktfleck (31) des zu messenden Widerstandes (3) von einem Elektronenstrahl (6) und der andere Kontaktfleck (32) des zu messenden Widerstandes von einem weiteren Elektronenstrahl -(66) angesteuert wird, wobei die Beschleunigungsspannungen der Elektronenstrahlen so gewählt werden, daß der Sekundärelektronenemissionskoeffizient des einen Elektronenstrahls (6) an einer Kontaktstelle (31) kleiner als 1 ist, während der Sekundärelektronenemissionskoeffizient des anderen Elektronenstrahls (66) an der anderen Kontaktstelle (32) größer als 1 ist und daß zur Bestimmung des zu messenden Widerstandes das Potential an der Kontaktstelle, an der der Seknndärelektronenemissonskoeffizient größer als 1 ist durch messung des von dieser Kontaktstelle ausgehenden Sekundärelektronenstromes bestimmt wird.
  5. 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß zur Bestimmung des zu messenden Widerstandes das Potential an der Kontaktstelle, an der der Sekundärelektronenemissionskoeffizient größer als 1 ist durch Kessung eines bezüglich der Energie ausgefilterten Teiles des Sekundärelektronenstromes bestimmt wird.
    L e e r s e i t e
DE19722215179 1972-03-28 Verfahren zur berührungslosen Messung von elektrischen Widerständen Expired DE2215179C3 (de)

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Publications (3)

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DE2215179A1 true DE2215179A1 (de) 1973-10-04
DE2215179B2 DE2215179B2 (de) 1976-07-22
DE2215179C3 DE2215179C3 (de) 1977-03-10

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4628258A (en) * 1984-06-01 1986-12-09 Siemens Aktiengesellschaft Method and apparatus for electrical testing of microwired structures with the assistance of particle probes

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4628258A (en) * 1984-06-01 1986-12-09 Siemens Aktiengesellschaft Method and apparatus for electrical testing of microwired structures with the assistance of particle probes

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DE2215179B2 (de) 1976-07-22

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