DE2207048C3 - Verfahren zur radialen Erweiterung und Stabilisierung der Plasmasäule in Plasmaofen zur Hochtemperaturbehandlung von durch die Plasmasäule hindurchgeführten Stoffen, und Plasmaofen zur Ausführung dieses Verfahren - Google Patents
Verfahren zur radialen Erweiterung und Stabilisierung der Plasmasäule in Plasmaofen zur Hochtemperaturbehandlung von durch die Plasmasäule hindurchgeführten Stoffen, und Plasmaofen zur Ausführung dieses VerfahrenInfo
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Description
3. Plasmafrequenz, f) Der DurchmeSser der aus einem Kranz von
4. Dimensionslose Plasmakonslante .1 Wolframstäben bestehenden Kathode muß verhält-
5. Elektronen- und Gastemperatur. nismäßig klein sein, da sonst der austretende Licht-
40 bogen von Stab zu Stab springt. Die Länge der Kathodenstäbe
muß genau gleich sein, da sonst nur vom
Ein Verfahren der eingangs dargelegten Art und längsten Stab ein Lichtbogen ausgeht. Die Herstel-
ein Ofen zu dessen Durchführung sind bereits aus lung von Ringelektroden aus Wolfram stößt auf tech-
dem Aufsatz »A rotating wall, d. c.-arc plasma fur- nische und wirtschaftliche Schwierigkeiten'. Wolfram-
nace« von D. W h y m a η in der Zeitschrift »Journal 45 kathoden sind außerdem empfindlich gegen Anbak-
of Scientific Instruments«, 1967. Bd. 44, S. 525 bis ken eingebrachter Stoffe.
530, bekannt. Bei dem dort beschriebenen Plasma- g) Schließlich bereitet der rotierende Zylinder kon-
ofen ist zur radialen Erweiterung und Stabilisierung struktive Schwierigkeiten, da dieser wegen seiner ho-
der Plasmasäule durch Wirbelfeldwirkung ein die- hen Drehzahl schon bei einer verhältnismäßig klei-
eelbe koaxial umgebender, um seine Achse rotieren- 50 nen Unwucht zu pendeln beginnt,
der Zylinder vorgesehen. Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde.
Die obere, nicht drehbare Elektrode besteht bei eine Plasmasäule mit größerem Volumen, als es bisdiesem
bekannten Ofen aus einem Kranz von Wolf- her erreichbar war, zu erzeugen und aufrechtzuerhalramstäben,
der konzentrisch um das untere Ende ten, welche ohne nachteilige Beeinflussung ihrei
eines Beschickungskanals herum angeordnet ist, 55 Eigenstabilität große Mengen von Beschickungsmadurch
welchen pulverförmige Stoffe in die Plasma- terial aufnehmen kann und eine lange Verweilzeil
säule einführbar sind. Die unter der oberen Elek- dieses Materials in der Plasmasäule sicherstellt,
trode angeordnete Ringelektrode ist trichterförmig Im Sinne der Lösung dieser Aufgabe ist ein Verausgebildet und dient gleichzeitig zum Sammeln des fahren der eingangs dargelegten Art gemäß der ErErzeugnisses, welches durch die Trichteröffnung ab- 60 findung dadurch gekennzeichnet, daß das wirksame strömen'kann. Beide Elektroden und der um die Ende der oberen Elektrode längs einer geschlossenen Plasmasäule rotierende Zylinder sind wassergekühlt. Bahn bewegt wird, die zusammen mit der Ringelek-
trode angeordnete Ringelektrode ist trichterförmig Im Sinne der Lösung dieser Aufgabe ist ein Verausgebildet und dient gleichzeitig zum Sammeln des fahren der eingangs dargelegten Art gemäß der ErErzeugnisses, welches durch die Trichteröffnung ab- 60 findung dadurch gekennzeichnet, daß das wirksame strömen'kann. Beide Elektroden und der um die Ende der oberen Elektrode längs einer geschlossenen Plasmasäule rotierende Zylinder sind wassergekühlt. Bahn bewegt wird, die zusammen mit der Ringelek-
Das aus dem genannten Aufsatz bekannte Verfah- trode einen Kegelstumpf oder Zylinder bildet, inner-
ren zur radialen Erweiterung und Stabilisierung der halb welchem sich die Plasmasäule aufbaut, wobei
Plasmasäule eines Plasmaofens bzw. der bekannte 65 die Geschwindigkeit dieser Bewegung so eingestelli
Plasmaofen selbst sind zwar labormäßig brauchbar, ist, daß die Plasmasäule in dieser Form erhalten
jedoch wegen der nachstehend beschriebenen Nach- bleibt,
teile nicht industriell verwertbar. Mittels des erfinduneseemäßen Verfahrens wird
5 6
eine radial erweiterte, schnell rotierende Plasmasäule Ofen nur für Laborversuche geeignet ist, ermöglicht
mit wesentlich größerem Volumen und größerer der erfindungsgemäße Plasmaofen die industrielle
Länge, als es bisher möglich war, erzeugt und auf- Auswertung des erfindungsgemäßen Verfahrens,
rechterhalten, innerhalb welcher die durch sie hin- Weiterhin tritt bei dem erfindungsgemäßen Piasdurchgeführten Stoffe eine spiralförmige Bahn be- 5 maofen nur ein äußerst geringer Verschleiß auf. Verschreiben, was erheblich zur Verlängerung der Ver- suche haben gezeigt, daß das wirksame Ende der weilzeit dieser Stoffe in der Plasmasäule beiträgt. In- oberen Elektrode nach hundert Betriebsslunden keinerhalb der Plasmasäule findet eine besonders wirk- nen sichtbaren Verschleiß aufweist, was der Drehung same Wärmeübertragung an die eingeführten Stoffe der Plasmasäule zuzuschreiben ist., welche die BiI-statt, was auf die starken Turbulenzen innerhalb der io dung heißer Stellen verhindert.
Plasmasäule zurückzuführen ist. In die nach dem er- Im Gegensatz zum bekannten Ofen, bei welchem findungsgemäßen Verfahren erzeugte Plasmasäule die Plasmasäule unmittelbar in der trichterförmigen, können verhältnismäßig große Mengen von Beschik- gleichzeitig das Erzeugnis sammelnden unteren Ringkungsmaterial eingeführt werden, ohne daß dadurch elektrode endigt, strömen bei dem erfindungsgemädie Stabilität der Plasmasäule nachteilig beeinflußt 15 Ben Ofen die von der oberen Elektrode ausgehenden wird. Es treten auch praktisch keine Elektronenaus- Plasmaströmungen durch die Ringelektrode hindurch spüleffekte auf, wie sie bei Anlegen zu großer Span- und endigen unterhalb derselben in einer charakterinune bei der bekannten Anordnung beobachtet wer- stischen Nachflamme, wodurch das Volumen der den. Dadurch kann bei dem erfindungsgemäßen Ver- Plasmasäule wesentlich vergrößert wird,
fahren zur Erzeugung der Plasmasäule eine wesent- ao Die obere Elektrode kann sowohl eine sich verlieh höhere Spannung als bei dem bekannten Verfah- brauchende als auch eine nicht abschmelzende Elekren verwendet und dadurch wiederum bei gegebener trode sein.
rechterhalten, innerhalb welcher die durch sie hin- Weiterhin tritt bei dem erfindungsgemäßen Piasdurchgeführten Stoffe eine spiralförmige Bahn be- 5 maofen nur ein äußerst geringer Verschleiß auf. Verschreiben, was erheblich zur Verlängerung der Ver- suche haben gezeigt, daß das wirksame Ende der weilzeit dieser Stoffe in der Plasmasäule beiträgt. In- oberen Elektrode nach hundert Betriebsslunden keinerhalb der Plasmasäule findet eine besonders wirk- nen sichtbaren Verschleiß aufweist, was der Drehung same Wärmeübertragung an die eingeführten Stoffe der Plasmasäule zuzuschreiben ist., welche die BiI-statt, was auf die starken Turbulenzen innerhalb der io dung heißer Stellen verhindert.
Plasmasäule zurückzuführen ist. In die nach dem er- Im Gegensatz zum bekannten Ofen, bei welchem findungsgemäßen Verfahren erzeugte Plasmasäule die Plasmasäule unmittelbar in der trichterförmigen, können verhältnismäßig große Mengen von Beschik- gleichzeitig das Erzeugnis sammelnden unteren Ringkungsmaterial eingeführt werden, ohne daß dadurch elektrode endigt, strömen bei dem erfindungsgemädie Stabilität der Plasmasäule nachteilig beeinflußt 15 Ben Ofen die von der oberen Elektrode ausgehenden wird. Es treten auch praktisch keine Elektronenaus- Plasmaströmungen durch die Ringelektrode hindurch spüleffekte auf, wie sie bei Anlegen zu großer Span- und endigen unterhalb derselben in einer charakterinune bei der bekannten Anordnung beobachtet wer- stischen Nachflamme, wodurch das Volumen der den. Dadurch kann bei dem erfindungsgemäßen Ver- Plasmasäule wesentlich vergrößert wird,
fahren zur Erzeugung der Plasmasäule eine wesent- ao Die obere Elektrode kann sowohl eine sich verlieh höhere Spannung als bei dem bekannten Verfah- brauchende als auch eine nicht abschmelzende Elekren verwendet und dadurch wiederum bei gegebener trode sein.
Leistung der in mancher Hinsicht nachteilige starke Zur Versorgung der Plasmasäule mit Materialien
Strom in kleineren Größenordnungen gehalten wer- ist die obere Elektrode vorzugsweise innen hohl,
den. Ferner weist die nach dem erfindungsgemäßen 25 Nach einer bevorzugten Ausführungsform der Er-
Verfahren erzeugte Plasmasäule eine geringe Strö- findung ist die obere Elektrode eine Plasmakanone,
mungsgeschwindigkeit der Plasmaströmung und wodurch ein noch besserer Wirkungsgrad erzielbar
keine starken Temperaturgefälle innerhalb der Pias- ist.
masäule auf. Dies wirkt sich sowohl auf die Verweil- Der erfindungsgemäße Plasmaofen kann etweder
zeit der zu behandelnden Stoffe in der Plasmasäule 30 an eine Gleichstromquelle oder an eine Wechsel-
als auch auf die erzielbare Wärmeleistung günstig stromquelle angeschlossen sein. Es kann auch eine
aus. Wechselstromquelle Anwendung finden, die zusätz-
Die Einstellung der Umlaufgeschwindigkeit des lieh eine Gleichstromkomponente liefert,
wirksamen Endes der oberen Elektrode derart, daß Soll der Plasmaofen mit Mehrphasen-Wechsel-
die Plasmasäule in der erfindungsgemäß festgelegten 35 strom betrieben werden, so besteht die Ringelektrode
Form erhalten bleibt, bietet dem Fachmann keine vorzugsweise aus einer Mehrzahl von Ringsegmen-
Schwierigkeiten und ergibt sich aus der selbstver- ten.
ständlichen Randbedingung, daß jeweils nach einem In Weiterbildung der Erfindung ist die dem Ofenin-Umlauf
des Eltktrodenendes die erforderliche Ionen- neren zugewandte Wandung der Ringelektrode porös
konzentration in dem von der Plasmasäule einzuneh- 40 oder mit kleinen Austrittsdüsen versehen. Dadurch
menden Raum erhalten bleibt. können zur Erzeugung einer bestimmten Ofenatmo-
Die Erfindung beinhaltet außerdem einen Pias- Sphäre Substanzen durch die Ringelektrode in den
maofen zur Ausführung des erfindungsgemäßen Ver- Nachflammenbereich injiziert werden, beispielsweise
fahrens, wobei von einem Ofen mit einer oberen Kohlenwasserstoffe oder öle, die gleichzeitig als
Elektrode und einer in veränderlichem Abstand dar- 45 Kühlmittel zum Kühlen der Ringelektrode verwendunter
angeordneten gekühlten Ringelektrode, mit bar sind.
einem in der Nähe des wirksamen Endes der oberen Die Ringelektrode kann in noch weiterer Ausbil-
Elektrode einmündenden Beschickungskanal und dung der Erfindung auch aus mehreren ringförmigen,
einer in der Nähe des unteren Ofenendes angeordne- mit gegenseitigen Abständen angeordneten Teilelek-
ten Sammelstelle für das Erzeugnis sowie mit einem 50 troden bestehen, die mit wachsender Entfernung von
angetriebenen umlaufenden Bauteil zur Erzielung der der oberen Elektrode an zunehmendes elektrisches
radialen Erweiterung der Plasmasäule und mit einer Potential gelegt sind. Dadurch läßt sich der Nach-
elektnschen Energiequelle zur Versorgung der Elek- flammenbereich verlängern,
troden ausgegangen wird. Gemäß einer bevorzugten Ausruhrungsform der
Ein solcher Plasmaofen ist gemäß der Ertmdung 55 Erfindung weist der Plasmaofen Mittel zur Aufprädadurch
gekennzeichnet, daß die obere Elektrode gung eines elektromagnetischen Wechselfelides auf
längsverschieblich in einem das umlaufende Bauteil die Plasmasäule auf, wodurch der Plasmasäule zubildenden
Lager gelagert und drehfest mit der oder sätzliche Energie zugeführt werden kann,
den sie versorgenden Leitungen verbunden ist und Das Ofenunterteil weist zweckmäßigerweise einen daß die Ringelektrode zwischen einem mit seinem 60 Abstichkanal auf.
den sie versorgenden Leitungen verbunden ist und Das Ofenunterteil weist zweckmäßigerweise einen daß die Ringelektrode zwischen einem mit seinem 60 Abstichkanal auf.
oberen Ende das umlaufende Lager führenden Ofen- In abermaliger Weiterbildung des erfindungsgemäoberteil
und einem tiegelförmigen, das Erzeugnis ßen Plasmaofens weist das Ofenunterteil zwei tiegelsammelnden
Ofenunterteil angeordnet ist. förmige Behälter zum Sammeln der Erzeugnisse auf,
Im Gegensatz zur bekannten Anordnung ist der die durch einen Überlaufkanal miteinander verbun-
erfmdungsgemäße Plasmaofen kontinuierlich betreib- 65 den sind und von denen einer unter der Ringelek-
bar und ermöglicht eine Hochtemperaturbehandlung trode angeordnet ist Dadurch lassen sich verschie-
von durch die Plasmasäule hindurchgefühlten Stof- den schwere Erzeugnisse durch Schwerkraft trennen,
fen in großem Maßstab. Während also der bekannte indem die schwersten Erzeugnisse sich in dem unter
7 8
der Ringelektrode angeordneten Behälter sammeln dem verhältnismäßig kleine Mengen geeigneter Sub-
mnd die leichteren Erzeugnisse durch den überlauf- stanzen in den oberen Bereich der Plasmasäule ein-
kanal in den anderen Behälter abfließen. geleitet werden.
Vorzugsweise enthält der erfindungsgemäße Pias- Indem in verschiedenen Ofenbereichen verschie-
maolen Einrichtungen, mittels welcher die Erzeug- 5 dene Bedingungen und Ofenatmosphären überwacht
nisse der Einwirkung von Strömungsmitteln oder und aufrechterhalten werden, wie si·: ;.ur Ausführung
Feststoffen oder Gemischen derselben ausgesetzt von Verfahrensschritten, wie Kalzinieren, Rösten,
werden können, und weist Einrichtungen zum konti- Schmelzen, Raffinieren usw., notwendig sind, lassen
muiei liehen oder stoßweisen Ablassen der Erzeug- sich mehrere solche Verfahrensschritte gleichzeitig in
misse aus den Behältern auf. io einem einzigen Plasmaofen nach der Erfindung aus-
Zum Absaugen der sich in der Nähe der Plasma- führen.
säule ansammelnden gasförmigen Erzeugnisse ist Einige bevorzugte Ausführungsformen des erfin-
vorzugsweise eine Absaugvorrichtung vorgesehen. dungsgemäßen Plasmaofens und des erfindungsge-
Die Erfindung umfaßt auch die Anwendung des mäßen Verfahrens werden nachstehend beispiels-
erfindungsgemäßen Verfahrens zur Gewinnung von 15 weise mit Bezug auf die Zeichnungen sowie an Hand
Metallen aus Materialien, wie vorzugsweise Minera- einiger Verfahrensbeispiele beschrieben. In den
lien, Erz, Konzentrat, Aufbereitungsschlamm oder Zeichnungen stellt dar
Schrott, mittels des erfindungsgemäßen Plasma- F i g. 1 einen Längsschnitt durch einen Plasmaofen
ofen», wobei die betreffenden Materialien in Teilchen- nach der Erfindung,
form mit oder ohne weitere Zusätze im die Plasma- so Fig.2 einen Einzelheiten der oberen Elektrode
säule eingebracht werden, ferner in verschiedenen darstellenden Längsschnitt durch das Ofenoberteil
Ofenbereichen eine geeignete Atmosphäre gebildet des in F i g. 1 dargestellten Ofens,
und aufrechterhalten wird, welche bei einem oder F i g. 3 eine gegenüber der in F i g. 1 gezeigten mehreren Bestandteilen der betreffenden Materialien Ausführungsform andere Ausführungsform des eine Zerlegung oder Neugruppierung, eine teilweise »5 Ofenunterteils des erfindungsgemäßen Plasmaofens,
oder vollständige Reduktion oder eine Kombination Fig.4 eine schematische Darstellung es von aus diesen Bestandteilen bewirken, und wobei diese einem in die Plasmasäule injizierten Teilchen zurück-Erzeugnisse durch weitere thermische und chemische gelegten Weges innerhalb der Plasmasäule i<-.d
Einwirkungen weiterbehandelt werden. Fi g. 5 eine aus drei Segmenten bestehendt Ring-Ferner umfaßt die Erfindung die Anwendung des 30 elektrode des erfindungsgemäßen Plasmaofens,
erfindungsgemäßen Verfahrens zum Schmelzen und Der in den F i g. 1 und 2 dargestellte Plasmaofen Raffinieren von Kupfer aus Kupferkathoden, weiter- nach der Erfindung weist im wesentlichen e Ofenhin die Anwendung des erfindungsgeniäßen Verfah- oberteil 11, ein Ofenunterteil 15, eine obei Elekrens zum Zerlegen chemisch gebundener Bestandteile trode 1 und eine darunter angeordnete Ringe trode \on Mineralien, Erzen oder ähnlichen Substanzen, 35 12 auf. Die obere Elektrode 1 ist hier als PIi iakainsbesondere zum Zerlegen von Zirkonsilikat in Zir- none gezeichnet, es, kann aber auch eine andei nicht Tonerde und Kieselerde, fernerhin die Anwendung abschmelzende oder sich verbrauchende EIe irode des Verfahrens zum Überziehen von Tonerdeteilchen Anwendung finden. Die obere Elektrode 1 isi mitmit einer Mullitschicht, indem die Tonerdeteilchen tels einer zylindrischen Lagerbüchse 2 in eine;« Rodurch die Plasmasäule hindurchgeschickt werden, 40 torkörper3 längsverschieblich gelagert, so daß der und schließlich die Anwendung des Verfahrens zur Abstand zwischen der oberen Elektrode und der Herstellung kügelchenförmiger Metallpulver aus Ringelektrode veränderbar ist. Der Rotorkörper 3 flockigem Ausgangsmaterial mittels des oben be- wird über einen Kettentrieb mit einer Antriebskette 5 schriebenen Plasmaofens nach der Erfindung. und einem an der Oberseite des Rotorkörpers befe-Der erfindungsgemäße Plasmaofen ist insbeson- 45 stigten Kettenrad 4 von einem Elektromotor 6 angedere auch zum Kalzinieren geeignet, was infolge der trieben. Wie aus F i g. 2 hervorgeht, ist die obere sehr hohen Temperatur und der großen Turbulenz in Elektrode 1 an ihrem oberen Ende drehfest mit den der F'lasmasäule äußerst schnell vonstatten geht, wei- sie versorgenden Leitungen 22 verbunden. Die obere ter zum exothermischen und endothe rauschen Rö- Elektrode dreht sich also nicht um ihre eigene Achse, sten bzw. Verhütten von Oxyderzen, Sulfiderzen oder 50 sondern führt, da ihre Achse mit Bezug auf die Achse anderen Erzen, wobei beim Verhütten von Sulfid- des Rotorkörpers 3 geneigt ist, bei Drehung des Roerzea als besonderer Vorteil ein großer Teil des torkörpers eine Taumelbewegung aus, so daß das unSchwefels in seinem Elementarzustand aus der Re- tere Elektrodenende eine Kreisbahn beschreibt. Das aktionszone abgezogen und dadurch die sehr lästige Lager des Rotorkörpers 3 wird durch Streben 7 über Verunreinigung und das Entfernen des Schwefels in 55 der Mitte des Ofenoberteils 11 gehalten.
Form von Schwefeldioxyd vermieden werden kann Der untere Rotorteil 8 besteht aus feuerfestem Ma- und wobei auch feuerfeste Erze geschmolzen werden terial. Zum Einleiten von Beschickungsmaterial in können, die bislang nicht auf eine direkte Reduktion die obere Zone der Plasmasäule weist das Ofenober- durch Schmelzverfahren angesprochen haben, weiter- teil einen Beschickungsmaterial-Förderkanal 9 auf, hin mm Schmelzen und Raffinieren von Metallen, 60 der tangential in eine Umfangsnut des unteren Rowobei ein hoher Reinheitsgrad des Endprodukts ohne torteilsS ausmündet. Diese Ausführungsform ist je-Hinzufügen von schlackenbildenden Materialien er- doch nur als eine von vielen Möglichkeiten der zielt wird, sowie zum Schmelzen und Raffinieren von Materialzufuhr anzusehen. Das tangential eingehochüchmelzenden Metallen und von sehr reaktions- brachte Beschickungsmaterial verteilt sich in der fähigen Metallen. 65 Umfangsnut des Rotorteils 8, bevor es durch einen Ein wichtiger Vorteil des erfindungsgemäßen Pias- zwischen dem Rotorteil 8, der feuerfesten Ausklei- maofens ist darin zu sehen, daß die Ol'enatmosphäre dung des Ofenoberteils und einer unterhalb des Romit äußerster Genauigkeit gesteuert werden kann, in- torteils 8 im Ofenoberteil angeordneten Ringscheibe
und aufrechterhalten wird, welche bei einem oder F i g. 3 eine gegenüber der in F i g. 1 gezeigten mehreren Bestandteilen der betreffenden Materialien Ausführungsform andere Ausführungsform des eine Zerlegung oder Neugruppierung, eine teilweise »5 Ofenunterteils des erfindungsgemäßen Plasmaofens,
oder vollständige Reduktion oder eine Kombination Fig.4 eine schematische Darstellung es von aus diesen Bestandteilen bewirken, und wobei diese einem in die Plasmasäule injizierten Teilchen zurück-Erzeugnisse durch weitere thermische und chemische gelegten Weges innerhalb der Plasmasäule i<-.d
Einwirkungen weiterbehandelt werden. Fi g. 5 eine aus drei Segmenten bestehendt Ring-Ferner umfaßt die Erfindung die Anwendung des 30 elektrode des erfindungsgemäßen Plasmaofens,
erfindungsgemäßen Verfahrens zum Schmelzen und Der in den F i g. 1 und 2 dargestellte Plasmaofen Raffinieren von Kupfer aus Kupferkathoden, weiter- nach der Erfindung weist im wesentlichen e Ofenhin die Anwendung des erfindungsgeniäßen Verfah- oberteil 11, ein Ofenunterteil 15, eine obei Elekrens zum Zerlegen chemisch gebundener Bestandteile trode 1 und eine darunter angeordnete Ringe trode \on Mineralien, Erzen oder ähnlichen Substanzen, 35 12 auf. Die obere Elektrode 1 ist hier als PIi iakainsbesondere zum Zerlegen von Zirkonsilikat in Zir- none gezeichnet, es, kann aber auch eine andei nicht Tonerde und Kieselerde, fernerhin die Anwendung abschmelzende oder sich verbrauchende EIe irode des Verfahrens zum Überziehen von Tonerdeteilchen Anwendung finden. Die obere Elektrode 1 isi mitmit einer Mullitschicht, indem die Tonerdeteilchen tels einer zylindrischen Lagerbüchse 2 in eine;« Rodurch die Plasmasäule hindurchgeschickt werden, 40 torkörper3 längsverschieblich gelagert, so daß der und schließlich die Anwendung des Verfahrens zur Abstand zwischen der oberen Elektrode und der Herstellung kügelchenförmiger Metallpulver aus Ringelektrode veränderbar ist. Der Rotorkörper 3 flockigem Ausgangsmaterial mittels des oben be- wird über einen Kettentrieb mit einer Antriebskette 5 schriebenen Plasmaofens nach der Erfindung. und einem an der Oberseite des Rotorkörpers befe-Der erfindungsgemäße Plasmaofen ist insbeson- 45 stigten Kettenrad 4 von einem Elektromotor 6 angedere auch zum Kalzinieren geeignet, was infolge der trieben. Wie aus F i g. 2 hervorgeht, ist die obere sehr hohen Temperatur und der großen Turbulenz in Elektrode 1 an ihrem oberen Ende drehfest mit den der F'lasmasäule äußerst schnell vonstatten geht, wei- sie versorgenden Leitungen 22 verbunden. Die obere ter zum exothermischen und endothe rauschen Rö- Elektrode dreht sich also nicht um ihre eigene Achse, sten bzw. Verhütten von Oxyderzen, Sulfiderzen oder 50 sondern führt, da ihre Achse mit Bezug auf die Achse anderen Erzen, wobei beim Verhütten von Sulfid- des Rotorkörpers 3 geneigt ist, bei Drehung des Roerzea als besonderer Vorteil ein großer Teil des torkörpers eine Taumelbewegung aus, so daß das unSchwefels in seinem Elementarzustand aus der Re- tere Elektrodenende eine Kreisbahn beschreibt. Das aktionszone abgezogen und dadurch die sehr lästige Lager des Rotorkörpers 3 wird durch Streben 7 über Verunreinigung und das Entfernen des Schwefels in 55 der Mitte des Ofenoberteils 11 gehalten.
Form von Schwefeldioxyd vermieden werden kann Der untere Rotorteil 8 besteht aus feuerfestem Ma- und wobei auch feuerfeste Erze geschmolzen werden terial. Zum Einleiten von Beschickungsmaterial in können, die bislang nicht auf eine direkte Reduktion die obere Zone der Plasmasäule weist das Ofenober- durch Schmelzverfahren angesprochen haben, weiter- teil einen Beschickungsmaterial-Förderkanal 9 auf, hin mm Schmelzen und Raffinieren von Metallen, 60 der tangential in eine Umfangsnut des unteren Rowobei ein hoher Reinheitsgrad des Endprodukts ohne torteilsS ausmündet. Diese Ausführungsform ist je-Hinzufügen von schlackenbildenden Materialien er- doch nur als eine von vielen Möglichkeiten der zielt wird, sowie zum Schmelzen und Raffinieren von Materialzufuhr anzusehen. Das tangential eingehochüchmelzenden Metallen und von sehr reaktions- brachte Beschickungsmaterial verteilt sich in der fähigen Metallen. 65 Umfangsnut des Rotorteils 8, bevor es durch einen Ein wichtiger Vorteil des erfindungsgemäßen Pias- zwischen dem Rotorteil 8, der feuerfesten Ausklei- maofens ist darin zu sehen, daß die Ol'enatmosphäre dung des Ofenoberteils und einer unterhalb des Romit äußerster Genauigkeit gesteuert werden kann, in- torteils 8 im Ofenoberteil angeordneten Ringscheibe
10 gebildeten Ringspalt nach unten gelangt. Auf die beiden Behälter 13 und 13 A herum sind v;ediese
Weise rieselt das Beschickungsmaterial in Form derum Vorheizräume 14 bzw. 14 A angeordnet,
eines gleichmäßigen zylindrischen Vorhangs in den Soll der Plasmasäule oder ihrem Nachflammenbe-
eines gleichmäßigen zylindrischen Vorhangs in den Soll der Plasmasäule oder ihrem Nachflammenbe-
oberen Teil der radial erweiterten Plasmasäule ein, reich ein hochfrequentes elektromagnetisches Wecliwodurch
es gleichmäßig in der Plasmasäule verteilt 5 selfeld überlagert werden, wie es beispielsweise zum
wird. Induktionsschmelzen verwendet wird, so kann in den
Am unteren Ende des Ofenoberteils 11 ist die Ring- Ofenwandungen eine nicht dargestellte Spule anelektrode
12 angeordnet. Die Ringelektrode 12 be- geordnet sein.
sitzt gemäß Fig. 1 einen kreisförmigen Querschnitt In Fig.4 ist schematisch durch gestrichelte Be-
und weist einen Ringkanal auf, durch welchen ein io grenzungslinien 25 eine Plasmasäule dargestellt Die
geeignetes Kühlmittel hindurchgeleitet werden kann. Linie 26 deutet den spiralförmigen Abstiegsweg oines
Die dem Ofeninneren zugewandte Wandung der Ring- von «oben eingebrachten Materialteilchens innerhalb
elektrode 12 kann porös oder mit kleinen Austritts- der rotierenden Plasmasäule an.
düsen versehen sein, so daß ein Teil des Kühlmittels Fig. 5 zeigt eine in drei Segmente unterteilte Ring-
düsen versehen sein, so daß ein Teil des Kühlmittels Fig. 5 zeigt eine in drei Segmente unterteilte Ring-
zur Bildung einer bestimmten Ofenatmosphäre in 15 elektrode, wie sie bei Anschluß des Ofens an Dreiden
Nachflammenbereich der Plasmasäule injiziert phasen-Wechselstrom Anwendung finden kann Die
werden kann. Segmente 12 Λ der Ringelektrode werden dabti je-
Das Ofenunterteil 15 weist unmittelbar unterhalb weils an eine Phase des Dreiphasen-Wechseist romder
Ringelektrode 12 einen tiegelförmigen Behälter netzes angeschlossen, während die obere Elektrode
13 zum Sammeln des Erzeugnisses auf, der durch 20 in diesem Fall mit dem Mittelpunktsleiter des Dreieinen
nicht dargestellten Kanal ventiliert und durch phasen-Wechselstromnetzes verbunden wird. Die
einen Abstichkanal 16 am Boden des Ofenunterteils Segmente 12 A weisen jeweils einen Kühlkanal 24
angezapft werden kann. Zwischen den Seitenwan- und Laschen 23 für die elektrischen Anschlüsse auf.
düngen des Behälters 13 und den diesen umgebenden An Hand der folgenden Beispiele soll eine Auswahl
feuerfesten Wandungen des Ofenunterteils 15 befin- as der zahlreichen Anwendungsmöglichkeiten des erfindet
sich ein ringförmiger Zwischenraum 14, der zum dungsgemäßen Verfahrens und des erfindungsgemä-Vorwärmen
des Behälters 13 zum Zweck der Ver- ßen Plasmaofens auf dem Gebiet der Hochtemperaringerung
des Anfangswärmeschocks durch die sehr turtechnologie beispielsweise beschrieben werden,
hohen Temperaturen der Plasmasäule bei Inbetriebnahme des Ofens verwendet wird. 30 B e i s ρ i e 1 I: Behandlung von Kupfererzen
hohen Temperaturen der Plasmasäule bei Inbetriebnahme des Ofens verwendet wird. 30 B e i s ρ i e 1 I: Behandlung von Kupfererzen
In F i g. 2 ist die Aufhängung der Plasmakanone 1
im einzelnen dargestellt. Das obere Ende der Pias- Hierbei handelt es sich um die Gewinnung von
makanonel ist über eine Verbindungsstange 21, die Kupfer aus Mineralien, Erzen und Konzentraten, woan
ihren beiden Enden jeweils ein Kreuzgelenk 21 bei eine unmittelbare kontinuierliche Reduktion und
aufweist, an einer horizontalen Halteplatte 20 gelen- 35 Abscheidung von Kupfer erfolgt und der abg*sonkig
befestigt. Die Halteplatte 20 ist ihrerseits an der derte Schwefel sich im Elementarzustand befindet
vertikalen Kolbenstange 18 eines in einem Hydrau- Das Verfahren umfaßt hierzu folgende Verfah-
vertikalen Kolbenstange 18 eines in einem Hydrau- Das Verfahren umfaßt hierzu folgende Verfah-
likzylinder 17 verschiebbaren Kolbens aufgehängt rensschritte: Einfuhren der Beschickungsmalerialien
und wird durch zwei Stangen 19 vertikal geführt. in den oberen Bereich der im wesentlichen aus Stick-Mittels
des Hydraulikzylinders 17 ist die Plasmaka- 40 stoff gebildeten Plasmasäule; Einleiten von Ri c'uknone
1 heb- und senkbar. Durch die flexiblen Leitun- tionsmitteln in die Ofenatmosphäre; Trenner der
gen 22 wird die Plasmakanone mit elektrischem sich in dem unterhalb der Ringelektrode befindKhen
Strom, Gas und Kühlmittel versorgt. Behälter ansammelnden Reaktionserzeugnisse durch
F i g. 3 zeigt eine andere Ausführungsform des Weiterleiten der leichteren Bestandteile der Erzeug-Ofenunterteils
15 mit zwei tiegelförmigen Behältern 45 nisse in einen angrenzenden weiteren Behälter; konti-13
und 13/4 zum Sammeln verschieden schwerer Er- nuierliches Absaugen der sich in unmittelbarer Nähe
Zeugnisse. Die beiden Behälter 13 und 13 A stehen des oberen Teils der Plasmasäule ansammelnden
durch einen Überlaufkanal miteinander in Verbin- schwefelreichen Gase und Absondern des Schwefels
dung. Beide Behälter weisen jeweils einen Abstichka- aus denselben; Einspritzen weiterer Reduktionsmittel
nal 16 bzw. 16 A auf. Oberhalb des Behälters 13/1 50 durch die Wandung der Ringelektrode in den Nachist
ein Abgaskanal 28 und seitlich des Behälters 13 A flammenbereich und Abziehen des sich am Boden
ein weiterer Kanal 27 vorgesehen, welch letzterer in des unter der Ringelektrode befindlichen Behälters
die obere Wandung des Behälters 13/4 ausmündet. ansammelnden Kupfers.
Bei dieser Ausführungsform können die sich in dem Zur Ausführung des Verfahrensbeispiels wurde ein
unterhalb der Ringelektrode 12 gelegenen Behälter 55 für Laborzwecke in verkleinertem Maßstab ausge-13
ansammelnden Erzeugnisse durch Schwerkraft ge- führter Plasmaofen nach der Erfindung mit cinei
trennt werden, wobei die schwereren Erzeugnisse pe- Plasmakanone verwendet. Die Ringelektrode hatte
riodisch oder kontinuierlich über den Abstichkanal dabei einen Durchmesser von 10 cm. Die der Plas-16
abgezapft werden, während die leichteren Erzeug- makanone zugeführte elektrische Leistung betrug
nisse durch den Uberlaufkanal in den Behälter 13/4 60 5OkW, und der die Plasmakanone in eine Taumelbeabfließen,
aus welchem sie durch den Abstichkanal wegung versetzende Rotor drehte sich mit 4OC
16/Ί abgezapft werden können. Dabei kann der aus U/min, wobei eine Plasmasäule mit einer Länge vor
dem Behälter 13 durch den Überlaufkanal in den Be- 20 cm entstand. Das Plasma wurde aus einem Stickhälter
13 A abfließende Teil der Erzeugnisse in vor- stoff-Wasserstoff-Gemisch im Volumenverhältnii
teilhafter Weise dem Einfluß eines Zusatzmittels aus- 65 4 : 1 und mit einem geringen Anteil von Argon gebilgesetzt
werden, beispielsweise Gasströmen, die durch det. Der gesamte Gasvolumenstrom betrug wahrem
den Kanal 27 oder durch noch weitere, nicht darge- des Anlaufs 2,3 ms/h und wurde nach dem Zünder
stellte Kanäle in den Ofen eingeleitet werden. Um eines Lichtbogens und der Ausbildung einer langge
zogenen und radial erweiterten Plasmasäule auf 1,3 m:i/h verringert.
Eine 20-kg-Probe Bornit-Konzentrat mit Chalkoziteinschlüssen,
die 48 °/o Cu, 18 % S, 8 % Fe und im übrigen Gangerz enthielt, wurde als unvollständig getrocknete
Aufschlämmung hergestellt, dann zermahlen und durch ein 500-|im-Sieb gedrückt. Vor dem
Einführen in den Ofen wurde das Konzentrat mit 10% pulverisiertem Koks vermischt. Anschließend
wurde das Konzentrat in einem Propangasstrom mit einem Volumenstrom von 0,6 m3/h mit einer Zufuhrgeschwindigkeit
von etwa 10 g/s in den vorgeheizten Ofen eingeleitet. Nach dem Einleiten der gesamten
Probe wurde die Plasmasäule noch 3 Minuten lang aufrechterhalten und danach der Sammelbehälter abgestochen.
Daraufhin wurden dje Erzeugnisse untersucht und analysiert.
Die Produkte, die in dem in den oberen Bereich des Ofens einmündenden Kanal gesammelt wurden,
wiesen verfestigte glasige Schwefelniederschläge mit Spuren von Kupfersulfid auf, welch letztere nur in
dem unmittelbar an den Ofen angrenzenden Teil des Kanals vorhanden waren. Von den abgelassenen
Produkten enthielt der im unteren Bereich des Sammelbehälters angesammelte Anteil Kupfer mit etwa
9.".,5 °/o Kupfergehalt, 0,3 % Schwefel und im übrigen
Eisen, während der im oberen Bereich des Sammelbehälters angesammelte Anteil Eisen in einer Eisensulfidmatrix
enthielt. Bezeichnenderweise wurden in diesem Anteil keine Silikate festgestellt. Ein großer
Teil des ursprünglich vorhandenen Gangerzes (etwa 5 kg) hatte sich zusammen mit mehr als 45 0O des ursprünglich
vorhandenen Eisens verflüchtigt.
Beispiele II und III:
Gewinnung von Eisen und Titan
Gewinnung von Eisen und Titan
Die folgenden Beispielen und III beziehen sich
auf die Gewinnung von Eisen und Titan aus titanhaltigen Erzen, die veränderliche Mengen von Eisenoxyden
enthalten.
Während bekannte Schmelzverfahren bei Erzen dieser Art häufig nicht wirtschaftlich anwendbar
sind, da sie einen zu hohen Prozentsatz von Eisen in der Titanschlacke belassen und umgekehrt das gewonnene
Eisen einen zu hohen Prozentsatz von Titan enthält, ermöglicht das erfindungsgemäßc Verfahren
die Umwandlung titanhaltiger Erze in Eisenmetall, das weniger als 1 0Zn Titan enthält, und in einen titanreichen
Anteil, der mehr als 90 0O Titan enthält.
Prinzipiell beruht die Trennung der Bestandteile voneinander darauf, daß das Konzentrat mit den zugesetzten
Reduktionsmitteln der Plasmasäule unter reduzierenden Bedingungen ausgesetzt wird, die zur
Gewinnung im wesentlichen reinen Eisens ausreichen, und daß die in dem unter der Ringelektrode
angeordneten Sammelbehälter entstehenden Schlakken über eine Reverberierstufe in einen benachbarten
Sammelbehälter gebracht werden. Die den unter der Ringelektrode angeordneten Sammelbehälter verlassende
Schlacke wird einer oxydierenden Atmosphäre ausgesetzt, was eine Entfernung des restlichen Eisens
und der Aluminiumsilikatc aus dem Gangerz bei
gleichzeitiger Reoxydation des Titanoxyds zu Dioxyd führt.
In den Beispielen II und III wurde dieses Verfahren zur Gewinnung von Eisen und Titan mit zwei
verschiedenen titanhaltigen Konzentraten getestet,
die folgende Zusammensetzung hatten:
Konzentrat 1
% |
Konzentrat 2
°/o |
|
TiO, | 54 17,5 |
30,1 |
Fe9O., | 24 | 39,6 |
FeO | 0,03 | 8,9 |
Al11O, | 0,15 1,5 |
0,01 0,01 |
V1O, | 0,5 0,15 |
8,3 |
MnO | 0,2 0,01 |
5,5 1,8 |
SiO1 | ||
Nb.ro, | ||
MgO .... | ||
CaO |
20 kg des Konzentrats 1, das auf eine Teilchengröße von weniger als 500 μΐη gemahlen wurde,
wurden mit 100/opulverisiertem Koksund 2e/oNatriumkarbonat
vermischt in einen Plasmaofen mit den im Beispiel I erwähnten Daten eingegeben. Zusätzlich
wurde jedoch ein oxydierender Druckluftstrahl auf der Seite des angrenzenden Sammelbehälters in
Gegenstromrichtung zu der sich durch den Überlaufkanal zwischen den beiden Sammelbehältern hindurchbewegenden
Schlacke eingeblasen. Dem Konzentratgemisch wurde in gleicher Weise Propangas zugesetzt, welches mit einem Volumenstrom von
0,6 m3/h zugeführt wurde. Das Konzentrat wurde mit einer Zufuhrgeschwindigkeit von 9 g/s in den vorgeheizten
Ofen eingegeben. Während einer Injektionszeit«.panne
von etwa 42 Minuten wurde der unter der Ringelektrode befindliche Sammelbehälter zweimal
angezapft, nämlich nach 20 Minuten und am Ende der Injektionszeitspanne. Der erste Abstich erfolgte
nur während einiger Sekunden, während beim zweiten Abstich die gesamten flüssigen Produkte abgelassen
wurden. Nach Beendigung der Konzentratzufuhr wurden die Plasmasäule und der Druckluftstrom
noch 1 Minute lang aufrechterhalten und dann der angrenzende Sammelbehälter abgestochen.
Das aus dem unter der Ringelektrode befindlicher Sammelbehälter mit dem ersten Abstich abgelassene
Produkt enthielt 98,4° 0 Fe und 0,20O Ti, der zweite
Abstich dieses Sammelbehälters erbrachte Eisen und Schlacke, wobei das Eisen 97,9 ° 0 Fe und 0,25 % Ti
enthielt, während die oben schwimmende Schlacke 90,1 °,« Titanoxyde, wie beispielsweise TiO2, und insgesamt
3,1 °/o Fe in Form von Eisenoxyden enthielt Die aus dem anderen Sammelbehälter abgeleitete
Schlacke, die dem oxydierenden Luftstrom ausgesetzt war, ergab 94,6% TiO2 (Ti,Os wurde niehl
festgestellt) und insgesamt 1,4 °7o Fe.
20 kg des Konzentrats 2 wurden wiederum mil 10 0Zo pulverisiertem Koks und 2% Natriumkarbonat
vermischt und wie beim Beispiel II in den Ofen eingebracht, wobei lediglich die Konzentratzufuhrgeschwindigkeit
auf 7,5 g/s vermindert wurde.
Die Ergebnisse waren beträchtlich schlechter als beim Beispiel II, denn das aus dem ersten Sammelbehälter
abgezapfte Eisen enthielt 95,2 °/o Fe und 0,7 0A
Ti, während die dem Luftstrom ausgesetzte Schlacke nach dem Ablassen aus dem anderen Sammelbehälter
82 o'n Titanoxyde und insgesamt 6,7 «/0 Fe enthielt.
Bei einer Wiederholung des Versuchs wurden dem Konzentrat 1,5% MnO hinzugesetzt und die Konzentratzufuhrgeschwmdigkeit
auf 6,8 g/s weiter verringert. Die Ergebnisse waren trotz der sehr minderwertigen
Qualität des Konzentrats besser, denn das aus dem ersten Sammelbehälter abgelassene Eisen
enthielt 96,8% Fe und 3% Ti, während die dem Luftstrom ausgesetzte Schlacke, die aus dem anderen
Sammelbehälter abgelassen wurde, 90,3 % TiO2 enthielt.
Beispiel IV:
Gewinnung von Eisen aus Magnetit
Bei diesem Beispiel wurden 25 kg Magnetitkonzentrat, das durch ein 500^m-Sieb gedrückt wurde
und 71,8 % Fe enthielt, mit 4 kg pulverisiertem Koks und 1 kg Kalziumkarbonat vermischt und anschließend
in einem Propangasstrom mit einem Volumenstrom von 0,7 ms/h in den oberen Bereich der Plasmasäule
eingeleitet. Die Zufuhrgeschwindigkeit des Konzentrats betrug 12,5 g/s. Die plasmabildenden
Gase waren Stickstoff und Methan in einem Volumenverhältnis von 2:1; der gesamte Gasvolumenstrom
betrug 1 ms/h. Dei Rotor drehte sich mit 500 U/min; die Länge der Plasmasäule betrug 23 cm, as
und die der Plasmakanone zugeführte Leistung betrug 60 kW.
Nach dem Ablassen des Produkts ergab sich ein Eisenblock mit einem Gewicht von 17,8 kg, der
98,3% Fe, 1,3% C und 0,3% Si enthielt. Gleiche Ergebnisse wurden erzielt, als das feste Reduktionsmittel
durch gasförmige Kohlenwasserstoffe ersetzt wurde.
Gewinnung von Aluminium aus Tonerde
Dieses Beispiel zeigt einen völlig neuen Weg zur Gewinnung von Aluminium aus Tonerde. Im Gegensalz
zu bekannten elektrothermischen Verfahren, mittels welcher sich entweder nur Aluminiumlegierungen
mit einem beträchtlichen Gehalt an Silizium und geringeren Anteilen von Eisen und Titan oder
Kupfer-Aluminium-Legierungen herstellen lassen, führt die Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens
zur Gewinnung von im wesentlichen reinem Aluminium. Dies wird dadurch erreicht, daß zunächst
pulverisierte Tonerde in einer wasserstoffreichen Plasmasäule verdampft, anschließend mit Methan
im Nachflammenbereich reduziert und unter minimaler Bildung von Oxydkarbiden schnell abgeschreckt
wird.
Bei einem Versuch wurden 10 kg Tonerde mit einem Reinheitsgrad von 98,5 % und einer Teilchengröße
von 125μΐη in der Beschickungsvorrichtung
des Ofens auf etwa 850° C vorgewärmt und anschließend mit einer Zufuhrgeschwindigkeit von
5,5 g/s in den oberen Bereich der Plasmasäule injiziert. Für das Plasma wurde Argon verwendet, das
mit einem Volumenstrom von 1 ms/h zugeführt wurde. Die Betriebsspannung betrug 600VoIt, und
die Plasmasäule hatte die Form eines Kegelstumpfes. Die der Plasmasäule'zugeführte Leistung betrug etwa
100 kW und die Länge der Plasmasäule etwa 36 cm. Der Rotor drehte sich mit 500 U3min. Der Nachflammenbereich
war von einer HF-Spule umgeben, die eine zusätzliche Leistung von 10 kW lieferte. In den
Bereich unmittelbar unterhalb der Ringelektrode, jedoch oberhalb der HF-Spule, wurde Propan mit
einem Volumenstrofh von 0,4 ms/h injiziert. Die Produkte
fielen infolge ihres Gewichts durch einen Bereich rnit steilem Temperaturgefälle hindurch in
einen Tiegel, dessen Temperatur auf einem Wert unter 1500° C gehalten wurde. Ein flüssiger oberer
Anteil des im Tiegel angesammelten Erzeugnisses, das in zwei Intervallen in einem Abstand von 5 Minuten
abgelassen wurde, ergab Aluminium mit einem Reinheitsgrad von 93,5% beim ersten Abstich und
96,8 % beim zweiten Abstich.
Beispiel VI: Zerlegung von Zirkonsilikat
20 kg von industriellem Zirkonsand, im wesentlichen Zirkonsilikat mit einer Teilchengröße von
355 μΐη. wurden bei gleichen Betriebstemperaturen
wie im Beispiel IV mit einer Zufuhrgeschwindigkeit von 13 g/s in den oberen Bereich der Plasmasäule
eingeleitet. Abweichend vom Beispiel IV bestand die Plasmasäule in diesem Fall im wesentlichen aus
Stickstoff mit geringen Argonzusätzen, welcher der Plasmakanone mit einem Volumenstrom von
0,8 ms/h zugeführt wurde, und zur Einleitung des Ziri:onsandes in die Plasmasäule wurden 0,4 m3/h
Luft verwendet. Außerdem wurde eine geringe Menge von feinem Natriumcarbonatstaub mit einer
Zufuhrgeschwindigkeit von 5 g/min in den unteren Teil der Plasmasäule eingeleitet.
Die Reaktionsprodukte konnten durch Schwerkraft und unter der Einwirkung einer geringen Saugwirkung
durch einen Schacht in einen verhältnismäßig kühlen Sammelbehälter fallen, aus welchem sie
mittels Wasserstrahlen abgeführt wurden. Die geringen Mengen von Natriumsilikat, die gebildet wurden,
verbesserten die anschließende Trennung des reinen Zirkons von der Kieselsäure durch Auslaugen beträchtlich.
Beispiel VII:
Überziehen von Tonerdeteilchen
mit einer Mullitschicht
mit einer Mullitschicht
Es ist bekannt, daß die Warmfestigkeit und andere Eigenschaften von feuerfesten Materialien aus hochreiner
Tonerde durch das Hinzumischen einer geringen Menge Kieselerde, welche zur Bildung einer
feinen Mullit-Matrix führt, verbessert werden kann. Durch die Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens
wird auf sämtlichen Kornoberflächen eine sehr gleichmäßige und äußerst dünne Muilit-Schicht
gebildet.
Bei einem diesbezüglichen Versuch wurden 50 kg hochreiner, wenig poröser Tonerde in Form von kugelförmigen
Teilchen mit einem Durchmesser von jeweils etwa 2 cm in den oberen Bereich der Plasmasäule
injiziert, die in einem engen zylindrischen Rohr aus reinem Quarzglas erzeugt worden war. Der den
Rotor schützende Teil aus feuerfestem Material bestand ebenfalls aus Quarzglas. Für das Plasma wurde
Argon rnit einem Volumenstrom von 0,71 m3/h verwendet. Die der Plasmakanone zugeführte Leistung
betrug 12OkW, und die Plasmasäule hatte eine Länge von 33 cm. Der Rotor drehte sich mit 600 U/
min, und die Plasmasäule wies eine kegelstumpfförsnige Form auf.
Die Tonerdekugeln wurden in einem feuerfesten ICasten vorgewärmt und in den oberen Bereich des
Ofens eingebracht, indem sie unter der Wirkung der
Schwerkraft durch zwei tangential zum Umfang des Ofens geneigte und einander diametral gegenüberliegend
angeordnete Quarzrohre hindurchrollten. Die Zufuhrgeschwindigkeit betrug 2 Kugeln/s, was etwa
23 g/s entspricht. Die Kugeln fielen dann in einen mit
Kiessand gefüllten Sammelbehälter hinein.
Nach dem Abkühlen zeigte eine Langzeitbelichtung mit niedrigem Einfallswinkel eines Röntgenstrahlbeugungsmusters
im wesentlichen das gleiche Beugungsmuster wie eine reine Mullit-Probe in einer
21 -cm-Debye-Sherrer-Pulverkamera.
Beispiel VIII:
Herstellung kügelchenförmiger Metallpulver
Herstellung kügelchenförmiger Metallpulver
Dieses Beispiel zeigt eine wichtige industrielle Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens zur
Herstillung kügelchenförmiger Metallpulver. Während das bisher übliche Verfahren, zur Herstellung
kügelchenförmiger Nickelpulver und Eisenpulver im 5^m-Bereich auf das umständliche und teuere Karbonylverfahren
beschränkt ist, können kügelchenför-
mige Eisen- und Nickelpulver im Bereich von 5um
mit Hilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens aus einem billigen Ausgangsstoff hergestellt werden,
nämlich aus Eisen- und Nickelflocken.
20 kg von gelocktem Eisen mit großer spezifischer Oberfläche wurden in einem Argonstrom mit einem
Volumenstrom von 0,28 m:)/h mit einer Zufuhrgeschwindigkeit
von 9 g/s in den oberen Bereich der Plasmasäule eingeleitet. Für das Plasma wurde Ar-
gon verwendet, das mit einem Volumenstrom von 0,71 m:1/h zugeführt wurde. Die der Plasmakanone
zugeführte Lc ,tung betrug 60 kW, und die Plasmasäule hatte eine Länge von 30 cm. Der innendurchmesser
der F i ngelektrode betrug 8 cm.
Die kügelchenförmigen Erzeugnisse wurden beim Abwärtsfallen abgekühlt und in einem wassergekühlten
Kupfe .-zyklon gesammelt. Das Endprodukt bei'sind
irri wesentlichen aus vollständig kügelchenförmigen
TeL'chen mit einem mittleren Durchmesser
von etwa 4,8 μπι. Nur sehr selten wurdp «"ine »Zapfenbildung«,
d. h. ein Zusammenwac' ^en — einzelnen
Teilchen untereinander beobacf ist.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (21)
1. Verfahren zur radialen Erweiterung und Stabilisierung der Plasmasäule in Plasmaofen zur
Hochtemperaturbehandlung von durch die Plasmasäule hindurchgeführten Stoffen, wobei die
Plasmasäule zwischen einer oberen und einer mit veränderlichem Abstand darunter angeordneten
Ringelektrode gebildet ist, dadurch gekennzeichnet, daß das wirksame Ende der oberen Elektrode längs einer geschlossenen Bahn
bewegt wird, die zusammen mit der Ringelektrode einen Kegelstumpf oder Zylinder bildet, innerhalb
welchem sich die Plasmasäule aufbaut, wobei die Geschwindigkeit dieser Bewegung so
eingestellt ist, daß die Plasmasäule in dieser Form erhalten bleibt.
2. Plasmaofen zur Ausführung des Verfahrens nach Anspruch 1, mit einer oberen Elektrode und
einer in veränderlichem Abstand darunter angeordneten gekühlten Ringelektrode, mit einem
in der Nähe des wirksamen Endes der oberen Elektrode einmündenden Beschickungskanal und
einer in der Nähe des unteren Ofenendes angeordneten Sammelstelle für das Erzeugnis sowie
mit einem angetrieben umlaufenden Bauteil zur Erzielung der radialen Erweiterung der Piasmasäule
und mit einer elektrischen Energiequelle zur Versorgung der Elektroden, dadurch gekennzeichnet,
daß die obere Elektrode (1) längsverschieblich in einem das umlaufende Bauteil bildenden
Lager (2, 3) gelagert und drehfest (21) mit der oder den sie versorgenden Leitungen (22)
verbunden ist und daß die Ringelektrode (12) zwischen einem mit seinem oberen Ende das umlaufende
Lager führenden Ofenoberteil (11) und einem tiegelförmigen, das Erzeugnis sammelnden
Ofenunterteil (13) angeordnet ist.
3. Plasmaofen nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die obere Elektrode (1) eine
sich verbrauchende oder eine nicht abschmelzende Elektrode ist.
4. Plasmaofen nach Anspruch .'$, dadurch gekennzeichnet,
daß die obere Elektrode (1) zum Versorgen der Plasmasäule mit Materialien innen hohl ist.
5. Plasmaofen nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die obere Elektrode (1) eine
Plasmakanone ist.
6. Plasmaofen nach einem der Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß derselbe an
eine Gleichstromquelle angeschlossen ist.
7. Plasmaofen nach einem der Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß derselbe an
eine Wechselstromquelle angeschlossen ist.
8. Plasmaofen nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Wechselstromquelle zusätzlich
eine Gleichstromkomponente liefert.
9. Plasmaofen nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Ringelektrode
(12) aus einer Mehrzahl von Ringsegmenten (21) besteht (F i g. 3).
10. Plasmaofen nach einem der Ansprüche 2 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die dem Ofeninneren zugewandte Wandung der Ringelek
trode (12) porös oder mit kleinen Austrittsdüsen versehen ist.
11. Plasmaofen nach Anspruch 6 oder 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Ringelektrode
(12) aus mehreren ringförmigen, mit gegenseitigen Abständen angeordneten Teilelektroden besteht,
die mit wachsender Entfernung von der oberen Elektrode (1) an zunehmendes elektrisches
Potential gelegt sind.
12. Plasmaofen nach einem der Ansprüche 2 bis 11, gekennzeichnet durch Mittel zum Aufprägen
eines elektromagnetischen Wechselfeldes auf die Plasmasäule.
13. Plasmaofen nach einem der Ansprüche 2 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Ofenunterteil
(13) einen Abstichkanal (16) aufweist.
14. Plasmaofen nach einem der Ansprüche 2 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß das Ofenunterteil
(13) zwei tiegelförmige Behälter zum Sammeln der Erzeugnisse aufweist, die durch einen
Überlaufkanal miteinander verbunden sind und von denen einer unter der Ringelektrode angeordnet
ist (Fig. 3).
15. Plasmaofen nach einem der Ansprüche 2 bis 14, gekennzeichnet durch Einrichtungen, mittels
welcher die Erzeugnisse der Einwirkung von Strömungsmitteln oder Feststoffen oder Gemischen
derselben ausgesetzt werden können, und durch Einrichtungen (16, 16 A) zum kontinuierlichen
oder stoßweisen Ablassen der Erzeugnisse aus dem Ofenunterteil (13).
16. Plasmaofen nach einem der Ansprüche 2
bis 15, gekennzeichnet durch eine Absaugvorrichtung (18) für sich in der Nähe der Plasmasäule
ansammelnde gasförmige Erzeugnisse.
17. Anwendung des Verfahrens nach Anspruch 1 zur Gewinnung von Metallen aus Materialien,
wie vorzugsweise Mineralien, Erze, Konzentrat, Aufbereitungsschlamm oder Schrott, mittels
eines Plasmaofens nach einem der Ansprüche 2 bis 16, wobei die betreffenden Materialien
in Teilchenform mit oder ohne weitere Zusätze in die Plasmasäule eingebracht werden, ferner
in verschiedenen Ofenbereichen eine geeignete Atmosphäre gebildet und aufrechterhalten
wird, welche bei einem oder mehreren Bestandteilen der betreffenden Materialien eine Zerlegung
oder Neugruppierung, eine teilweise oder vollständige Reduktion oder eine Kombination
aus diesen Bestandteilen bewirken, und wobei diese Erzeugnisse durch weitere thermische und
chemische Einwirkungen weiterbehandelt werden.
18. Anwendung des Verfahrens nach Anspruch 1 zum Schmelzen und Raffinieren von
Kupfer aus Kupferkathoden mittels eines Plasmaofens nach einem der Ansprüche 2 bis 16.
19. Anwendung des Verfahrens nach Anspruch 1 zum Zerlegen chemisch gebundener Bestandteile
von Mineralien, Erzen oder ähnlichen Substanzen mittels eines Plasmaofens nach einem
der Ansprüche 2 bis 16.
20. Anwendung des Verfahrens nach Anspruch 1 zum Zerlegen von Zirkonsilikat in Zirkonerde
und Kieselerde mittels eines Plasmaofens nach einem der Ansprüche 2 bis 16.
21. Anwendung des Verfahrens nach Anspruch 1 zum Überziehen von Tonerdeteilchen
3 4
mit einer Mullitschicht mittels eines Plasmaofens a) Das Ausmaß der radialen Erweiterung der Plas-
nach einem der Ansprüche 2 bis 16, indem die masäule ist dadurch begrenzt, daß bei noch im An-Tonerdeteilchen
durch die Plasmasäule hindurch- fangsstadium befindlicher und noch nicht radial ergeschickt
werden. weiterter Plasmasäule der Abstand zwischen der Zy-22. Anwendung des Verfahrens nach An- 5 linderwandung und der Plasmasäule eine bestimmte
spruch 1 zur Herstellung kügelchenförmiger Me- Größe nicht überschreiten darf, da sonst der Effekl
tallpulver aus flockigem Ausgangsmaterial mittels der radialen Erweiterung der Plasmasäule durch
eines Plasmaofens nach einem der Ansprüche 2 Drehung des Zylinders wegen der Unmöglichkeit dei
bis 16. Erzeugung eines genügesd starken Wirbelfeldes gai
ίο nicht mehr auftritt.
b) Wegen des sehr geringen Abstandes zwischen der gekühlten Zylinderwandung und der radial er-
weiterten Plasmasäule wird mit der Zylinderwandmuj
zwangläufig auch die Plasmasäule gekühlt, wodurch 15 ein wesentlicher Wärmeverlust in der Plasmasäule
entsteht.
c) Ebenfalls wegen des sehr geringen Abstandes Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur radialen zwischen der Zylinderwandung und der Plasmasäule
Erweiterung und Stabilisierung der Plasmasäule in und des großen Temperaturgefälles im Randbereich
F'lasmaöfen zur Hochtemperaturbehandlung von so der Plasmasäule schlägt sich ein Teil des in der Plasdurch
die Plasmasäule hindurchgeführten Stoffen, masäule entstandenen Erzeugnisses schon an der gewobei
die Plasmasäule zwischen einer oberen und kühlten Zylinderwandung nieder. Wegen dieses
einer mit veränderlichem Abstand darunter angeord- Niederschiagens des Erzeugnisses an der Zylinderneten
Ringelektrode gebildet ist. wandung ist also ein kontinuierlicher Betrieb des
Zur Erläuterung des Begriffs »Plasma« dürfte für »5 Ofens nicht möglich.
die Zwecke der nachstehenden Darlegungen fol- d) Die Betriebsspannung ist auf maximal 150
gende, stark vereinfachte Definition ausreichen: Volt begrenzt, da die Plasmasäule bei höherer Span-
Plasma ist eine Vielzahl geladener Teilchen, die nung instabil wird, weil das eingebrachte Material
ein Kollektiwerhalten zeigen. Im Rahmen dieser De- die Elektronen aus dem Plasma abzieht und die Plasfinition
kann ein Plasma grundsätzlich durch fol- 30 masäule dann infolge zu großer Elektronenausspügende
Parameter gekennzeichnet werden: lung erlöschen kann.
e) Die Kathoden, die wegen des einzuhaltenden großen Strom-Spannungs-Verhältnisses zwangläufig
1. Elektronenkonzentration in der Volumeinheit, aus Wolfram (Wolfram-Thorium oder Wolfram-Zir-
2. Debye-Radius, 35 kon) bestehen müssen, sind sehr sauerstoffempfind-
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