DE2128127A1 - Verfahren zur Ermittlung der opti malen Fokussierung eines Elektronen Strahls einer Schweißmaschine mittels Ana lyse der durch die Schweißstelle emit tierten Infrarotstrahlung - Google Patents

Verfahren zur Ermittlung der opti malen Fokussierung eines Elektronen Strahls einer Schweißmaschine mittels Ana lyse der durch die Schweißstelle emit tierten Infrarotstrahlung

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Peter Canonica di Cuvegho Varese Piazza Learco di Angera Herzberger, (Italien)
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    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/21Means for adjusting the focus

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Description

Europäische Atonigemeinschaft (EURATOM) Europazentrum Kirchberg (Luxemburg)
Verfahren zur Ermittlung der optimalen Fokussierung eines Elektronettstrafals einer Sofaweißmas chine mittels Analyse der durch die Schweißstelle emittierten Infrarotstrahlung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Ermitteln der optimalen Fokussierung eines Elektronenstrahls an der Schweißstelle.
Bekannt sind mehrere Methoden, bei welchen versucht wird, die Fokussierung eines Elektronenstrahls an der Schweißstelle zu; bestirnten. Sie sind begründet auf der Messung der Brennweite des ElefctreH&nstrahis, ohne die Bedingungen an der Schweißstelle zu beachten und ihrer genauen Einstellung hinsichtlich der Oberfläche des Schweißgutes.
Die bekannteste und älteste Methode besteht darin, an einem Probe— oder Musterstück von gleicher Zusammensetzung wie das zu schweißende Werkstück mit der gewählten Spannung, Intensität,
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Geschwindigkeit- und dem gewählten Schweißabstand eine Schweißnaht zu bilden. Dabei werden die durch das schmelzende Metall freigesetzten Dämpfe in dem Elektronenstrahl ionisiert, der sich färbt und sichtbar wird. Man wirkt auf den die ele^trQm&gaetischßxi Fokussierungsspulen durchf ließenden Strom ein, um dien Brennpunkt des Elektronenstrahls auf die Oberfläche des Sehweißgutes zu bringen.
Es ist bel£ann,tr daß dieser Brennpunkt bei der Schweißung, nicht demjenigen entspricht, äen man für den gleichen Elektronenstrahl ohne die Durchführung der Schweißung erhält, d.h. wenn sich die ElektroBen, bewegen, ohne auf Schweißgut zu treffen, das sie zum Schmelzen; bringen können.
AuJSejrdear ist diese Methode empirisch und ungenau.
Bekannt isst die Methode, die darin besteht, die Veränderungen von in einem Faraday-Käfig hei der Verfinsterung des Elektronenstrahls, normalerweise auf seiner Achse f durck »ine Scheibe oder durch die Kante eines, abgeschrägten Werkstücks und beim Streichen edaesr O;Sz4Hi er enden Strahls über eine Blende mit einem kleineren Purehmesser als dem des Elektronenstrahls absorbierten Strom zu registrieren»
Ebenfalls: bekannt ist die Methode, die darin besteht, die Veränderung des; Stromes zu messen, der in einem durch den Elektronenstrahl normalerweise auf seiner Achse hindurchgehenden WoIframdraht fließet. Der Brennpunkt ist erreicht, wenn die zum Abdecken oder zum Durchqueren des. Strahls notwendige Zeit minimal ist.
Eine weitere Methode ist auf dem Prinzip begründet, daß ein durch ein Schweißgut (oder Werkstoff ttberhaunt) abgefangener
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Elektronenstrahlquerschnitt eine Rontgenstrahlenquelle ist, deren Bild sich auf einer in einer photographischen Kamera angeordneten empfindlichen Platte erzielen läßt. Das Bild des kleinsten Durchmessers entspricht dem Brennpunkt des Elektronenstrahls.
Keine der vorgenannten Methoden kann als völlig zufriedenstellend angesehen werden. Die visuelle Regelung ist empirisch und ungenau. Sie läßt sich für Metalle, die bei Ionisierung ihrer Dämpfe intensive Lichtstrahlen emittieren, und für alle Metalle, wenn die Leistung des Elektronenstrahls einen für jedes von ihnen charakteristischen kritischen Wert übersteigt, nicht verwenden.
Die auf Messung des elektrischen Stromes beruhenden Methoden haben den Nachteil, daß sie komplizierte, empfindliche und aufwendige Geräte benötigen. Dieser Mangel wird für eine industrielle Anwendung rasch behebbar, wenn die Leistung des Elektronenstrahls 5 kW übersteigt. Was die AufZeichnungsmethode des Bildes der Rontgenstrahlenquelle anlangt, so weist sie die vorgenannten Mangel auf, zu denen noch die aus der diskontinuierlichen Art der Registrierung, aus der Ungenauigkeit der Abmessungen des auf dem Film fixierten Bildes und aus seiner Entwicklungsverzögerung herrührenden Mängel noch hinzukommen.
Alle beschriebenen Vorrichtungen, außer der empirischen visuellen Regelung, ermöglichen das Einstellen des Brennpunktes des durch das Schmelzen des Schweißgutes nicht gestörten Elektronenstrahls. Während des Schweißvorgangs ändern die Metallionen die Bewegungsfcahn der Elektronen und erzeugen eine Einengung des Elektronenstrahls in Nähe der Oberfläche des sctamelzflüssigen Metalls: der Brennpunkt wird verlegt und sein Durchmesser verringert.
Diese Änderungen sind nicht beeinflußbar, ihre Amplitude und
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ihre Reproduzierbarkeit sind nicht bekannt. Folglich bringen die beschriebenen Methoden eine zusätzliche Gefahr von Zufallfehlern hinsichtlich der Reproduzierbarkeit der Form und der Abmessungen der Schweißnähte und -fugen ein.
Eine weitere Methode besteht in der Messung des das Schweißgut durchfließenden Elektronenstromes durch Untersuchen seiner -Veränderungen in Abhängigkeit vom Fokussierungsstrom, wobei sich charakteristische Punkte bestimmen lassen, die es ermöglichen, Schlüsse hinsichtlich der Fokussierung des Elektronenstrahls zu ziehen. Der Nachteil dieser Methode besteht darin, daß das Schweißgut von der übrigen Anlage elektrisch isoliert werden muß, was bei industriellen Ausführungen nicht leicht ist, wenn das Werkstück im Inneren der Kammer, in der das Vakuum herrscht, beweglich sein muß.
Auch die Untersuchungsmethode der theoretischen Fokussierung muß genannt werden. Wenn man alle Parameter des Problems, d.h. die Spannung zur Beschleunigung der Elektronen, der Abstand Werkstück-Elektronenkanone, die Intensität des Elektronenstrahls usw., kennt, kann man durch Anwendung der Formeln der elektronischen Optik entweder durch eine Rechenmaschine oder durch herkömmliche Methoden den Wert des Fokussierungsstromes errechnen. Diese letztgenannte Methode hat den Nachteil, daß sie rein theoretisch ist. Sie ist nicht direkt und man kann also die Ungenauigkeit der Parameter des Problems nicht berücksichtigen.
Zum Beheben der vorgenannten Mangel wird erfindungsgemäß ein neuartiges Meßverfahren für die optimale Fokussierung eines Elektronenstrahls vorgeschlagen.
Nach einem Merkmal der Erfindung wird der Elektronenstrahl auf ein Probestück gerichtet, dann die Intensität der durch den
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Mittelpunkt des Auftreffens des Elektronenstrahls auf das Probestück emittierten Infrarotstrahlung gemessen und der Brennpunkt in Abhängigkeit von dieser Intensität ein- bzw. nachgestellt.
Nach einem weiteren Merkmal der Erfindung wird der Brennpunkt beim Bestehen eines einzigen Höchstwertes -dieser Intensität auf die maximale Intensität und beim Bestehen von zwei Höchstwerten auf den zwischen den beiden Höchstwerten liegenden relativen Mindestwert eingestellt.
"Die Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht aus einer Photozelle, deren spektrale Empfindlichkeit im Infrarotbereich liegt und deren Empfindlichkeχtsachse zum Mittelpunkt des Auftreffens des Elektronenstrahls auf das Probestück hin orientiert ist, und aus einem Verstärkungs— und Anzeigeinstrument für das von der Photozelle ausgesandte Signal.
Das Verfahren nach der Erfindung beruht auf der Messung der Intensität der an der ElektronenstaßstelIe emittierten Infrarotstrahlung .
Das Prinzip, auf dem das Verfahren nach der Erfindung beruht, ist in den beigefügten Zeichnungen dargestellt und wird i-m folgenden näher erläutert. Es zeigen:
Pig. 1 einen Schnitt durch die gesamte Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach der Erfindung,
, Fig. 2 den vorerwähnten drehbaren Zylinder und
Fig. 3 Diagramme, die die Veränderungen der durch die Photozelle in Abhängigkeit vom Fokussierungsstrom für verschiedene Sohweißleistungen gelieferten Spannung veranschauliche«.
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Mach dem Kirehhaffsehen Gesetz ist der von der Schweißstelle emittierte S^rahlungsenergieflußt
φ - κ
warin: K = ÄtosorptioKskoeff izient j
S= Emissionsfläche;
T= absolute Temperatur ist.
Bie "Strahlung wird durch eine Photozelle, beispielsweise eine Sirtzium~PhQt?aze:lle, gemessen, deren spektrale Hochstempfindlichkeit im Infrarot here ich liegt. Diese Photozelle (Fig. i) wird am Eöde eines auf die Schweißzone gerichteten, ein Infrarotfilter 3 Md «in Schutzglas 4 tragenden Rohrs angebracht. Das zu schweißende ¥erkstüek 5 ist in der Mitte eines Rohrs oder Gehäuses 6 angeordnet, das an seinem Außenumfang außer dem Rotor .2 frte ElefctroneitlEaHone 7 aufweist. In der ¥and des Rahrs 6 i?st ein nicht dargestelltes Beotractotungsf ens^er vorgesehen. Das zu seiifceißeade Werkstiiok kann ein Musters/tlick sein mit idfßüix ;giie:ie:hen !Abmessungen und aus dem gleichen ^Werkstoff wie das eigentliche Verkstm-ek aäer es kann das eigentliche Werkstüesk selbst sein»
Der durch die Achse des Elektroinenstrahls und die oprfciscfae Achse Auf tref^f stelleHPhotozelle gebildete ¥inkel muß klein sein, um es der Photazelle zu erniögliehen, eine ausreichende Strahlungsmenge aufzunehmen.
¥ar denaus Schutzglas und Infrarotfilter bestehenden System ist ein Licht ze rhaefeer 8 angeordnet. JJr besteht aus einem umlaufenden Zylinder 9, der parallel zur Achse des Rohrs 2 verlauf ende Längsnuten 10 aufweist. Die Anzahl der Nuten kann unterschiedlich sein. Die Umlaufgeschwindigkeit des Zylinders, die van seiner Greomefcrie abhängig ist, ist so berechnet, daß
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sie das Einfangen der Metallteilchen ermöglicht unter Belassung des freien Durchgangs fur die aus dem Elektronenstoß herrührenden Photonen.
Diese Geschwindigkeit muß der nachfolgenden Bedingung entsprechen:
(2) I r Σ
worin; V = Umfangsgeschwindigkeit des Zylinders
ν = Geschwindigkeit der Metallteilchen
1 α Länge der Nuten oder des Zylinders
d = Breite der Nuten ist.
Der Vorteil des umlaufenden Zylinders liegt in seiner doppeSen Verwendung: Zerhacken der Infrarotstrahlung zum Speisen der Photozelle im Impulsbetrieb, da die durch die Photozelle gelieferten elektrischen Spannungsimpulse sich leichter verstärken lassen als ein Gleichspannungssignal, sowie Verhindern jeglicher Metallisierung der Photozelle.
Die durch die Photozelle gelieferten Spannungsimpulse il werden durch den einer Verstärkungsregelung 13 parallelgeschalteten Verstärker 12 verstärkt, worauf sie bei 14 gleichgerichtet und bei 15 integriert werden, bevor sie am Galvanometer i6 abgelesen werden.
Die. vom Schirm eines (nicht dargestellten) Oszillographen unmittelbar abpnotographi-erten Diagramme nach Fig. 3 zeigen die Veränderungen der durch die Photozelle 1 in Auswirkung des Fokussierungsstromes für unterschiedliche Schweißleistungen gelieferten Spannung. Für unter 1000 ¥ (Diagramme A und B) liegende schwache Leistungen nimmt die Emission der Infrarot- ·
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— O —
strahlung, d.h. die Temperatur der Oberflache der Schweißung mit dem Konzentrationsgrad des Elektronenstrahls zu, wobei sie für eine maximale Konzentration durch einen Höchstwert geht. Es genügt also, den diesem Höchstwert entsprechenden Fokussierungsstrom ausfindig zu machen, um eine maximale Leistungsdichte zu erhalten.
Oberhalb von 1700 ¥ ist eine Abflachung des Gipfels der Kurve unter Bildung eines relativen Mindestwertes zu beobachten (Diagramm C), der sich mit Zunahme der Schweißleistung (2500 W) verstärkt, Diagramme D, E und F. Die Erfahrung zeigt, daß die optimale Fokussierung diesem Mindestwert entspricht. Man erhält dann eine nadeiförmige, schmale und tiefe Schweißfuge. Die den beiden Maxima entsprechende Schweißung ist zwar breiter aber weniger tief.
Die Erklärung dieses Phänomens kann folgende sein:
Durch lineares Verändern des Fokussierungsstromes nimmt der Brennfleck ab,, geht durch einen Mindestwert und nimmt dann wieder zu. Am Anfang ist dieser Brennfleck erheblich, die Auftrefflache groß und die Leistungsdichte gering, wobei die Temperatur des Werkstückes etwas ansteigt,
Durch Steigerung der Fokussierung gibt der Elektronenstrahl seine Energie an eine kleinere Fläche ab, .wobei sich ein mit flüssigem Metall gefüllter Krater bildet und die Oberflächentemperatur ansteigt, bis sie einen Höchstwert erreicht.
Wenn die Fokussierung optimal wird. d.h. wenn die Leistungsdichte ihren Höchstwert erreicht, verdampft der Elektronenstoß das Metall, um einen Krater zu bilden, der sich mit einem Film aus flüssigem Metall überzieht. Dann geht der Elektronen-
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strahl durch diesen Film hindurch, ohne an ihn viel Energie abzugeben, und trifft auf den Boden der Aushöhlung» wobei er an dieser Stelle seine Energie in Form von Wärme freigibt. Das Eindringen nimmt zu, wobei die Energie immer weiter von der Oberfläche entfernt konzentriert wird. Die Erfahrung zeigt, daß die Oberfläche des Metalls dann weniger Wärme freisetzt, wobei wahrscheinlich auch eine Veränderung des Faktors K eintritt und ein Temperaturminimum festzustellen ist. Danach nimmt der Brennfleck wieder zu, wobei sich wieder das vorerwähnte Phänomen mit seiner Erklärung zeigt.
Es ist normal, daß das Phänomen eine durch die Mitte der in den Diagrammen nach Fig.' 3 deutlich sichtbaren Vertiefung verlaufende Symmetrieachse aufweist.
Die optimale Fokussierung wird mit Hilfe eines Galvanometers mit beweglichem Gehäuse ohne Teilung in absolutem Wert ermittelt, das nach Verstärkung, Gleichrichtung und Integrierung der durch die Photozelle 1 gelieferten Spannungsimpulse mit einem entsprechenden Signal gespeist wird. Es genügt für Sehweißungen bei geringer Leistung an dem Galvanometer einen Höehstausschlag oder für Sehweißungen bei höh&rer Leistung einen Mindestausschlag zwischen zwei Maxima zu bestimmen.
Der Verstärkungsfaktor des Verstärkers ist regelbar» ua das Anpassen der Meßkette an den absoluten Pegel des durch die Photozelle zugeführten Signals zu ermöglichen, wobei bei Verwendung einer Phptozelle die Signalspitze etwa zwischen 0,4 mV und 0,4 V schwanken kann.
Das vorstehend beschriebene Meßverfahren nach der Erfindung ist genau, einfach, schnell und leicht durchführbar.
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Wie aus Fig. 1 ersiehtlioh, ist die erforderliche Apparatur . in ihren Abmessungen sehr klein, wobei ihre Anbringung an der Außenseite des Gehäuses die Arbeit in der Kammer nicht stört, was bedeutet, daß diese Lösung für industrielle Verwendungs—
fflöglichkeiten besonders geeignet ist.
Patentansprüche ι
- 11
10905αΜ 37 t

Claims (5)

  1. Patentansprüche
    l.JVerfahren zum Fokussieren des Elektronenstrahls einer elektronischen Schweißmaschine, dadurch gekennzeichnet, daß der Strahl auf ein Probestück (5) gerichtet, dann die Intensität der durch den Mittelpunkt des Auftreffens des Elektronenstrahls auf das Probestück emittierten Infrarotstrahlung gemessen und der Brennpunkt in Abhängigkeit von dieser Intensität ein- bzw. nachgestellt wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Brennpunkt beim Bestehen eines einzigen Höchstwertes dieser Intensität auf die maximale Intensität (Fig. 35 A,B) und beim Bestehen von zwei Höchstwerten (Fig. 3 j Dj E, F) auf den zwischen diesen beiden Höchstwerten liegenden relativen Mindestwert eingestellt wird.
  3. 3. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch und 2, gekennzeichnet durch eine Photozelle (i), deren spektrale Empfindlichkeit im Infrarotbereich liegt und deren Empflichkeitsachse zum Mittelpunkt des Auftreffens des Elektronenstrahls auf das Probestück (5) hin orientiert ist, und durch ein Verstärkungs- (12, 13) und Anzeigeinstrument (l6) für das von der Photozelle (l) ausgesandte Signal (il).
  4. 4. Vorrichtung nach Anspruch 3t dadurch gekennzeichnet, daß ein Zerhacker (8) den Infrarotstrahl gegenüber der Photozelle (i) periodisch unterbricht.
  5. 5. Vorrichtung nach Anspruch h, dadurch gekennzeichnet, daß der Zerhacker (8) die Form eines umlaufenden Zylinders (9)
    109850/1371 "- 12 -
    aufweist, dessen Außenumfang in Richtung auf die Zelle (l) verlaufende Längsnuten (lO) aufweist, wobei die Geometrie des Zylinders und der Nuten so gewählt ist, daß sie von dem Elektronenstoß herrührende Metallteilchen einfangen.
    Pa/Sch - 22 653
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DE19712128127 1970-06-02 1971-06-02 Verfahren zur Ermittlung der opti malen Fokussierung eines Elektronen Strahls einer Schweißmaschine mittels Ana lyse der durch die Schweißstelle emit tierten Infrarotstrahlung Pending DE2128127A1 (de)

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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3344683A1 (de) * 1983-12-10 1985-06-20 Gustav Stähler GmbH & Co KG, 5909 Burbach Verfahren und einrichtung zum ueberwachen oder steuern des schweissvorgangs beim verschweissen von werkstuecken im lichtbogenschweissverfahren
IT1180008B (it) * 1984-03-02 1987-09-23 Fiat Ricerche Metodo e dispositivo per il controllo dei processi di saldatura mediante l'analisi della luminosita generata durante il processo
GB2509069B (en) * 2012-12-19 2021-01-13 Aquasium Tech Limited A method of positioning an electron beam
US9435742B2 (en) * 2013-01-21 2016-09-06 Sciaps, Inc. Automated plasma cleaning system
WO2014113824A2 (en) 2013-01-21 2014-07-24 Sciaps, Inc. Handheld libs spectrometer
US9267842B2 (en) 2013-01-21 2016-02-23 Sciaps, Inc. Automated focusing, cleaning, and multiple location sampling spectrometer system
US9952100B2 (en) 2013-01-21 2018-04-24 Sciaps, Inc. Handheld LIBS spectrometer
US9243956B2 (en) 2013-01-21 2016-01-26 Sciaps, Inc. Automated multiple location sampling analysis system
US9651424B2 (en) 2015-02-26 2017-05-16 Sciaps, Inc. LIBS analyzer sample presence detection system and method
US9664565B2 (en) 2015-02-26 2017-05-30 Sciaps, Inc. LIBS analyzer sample presence detection system and method
US10209196B2 (en) 2015-10-05 2019-02-19 Sciaps, Inc. LIBS analysis system and method for liquids
US9939383B2 (en) 2016-02-05 2018-04-10 Sciaps, Inc. Analyzer alignment, sample detection, localization, and focusing method and system

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2089015A (en) * 1935-10-05 1937-08-03 Union Carbide & Carbon Corp Control system for welding and cutting machines
CH311812A (de) * 1951-11-05 1955-12-15 Zeiss Carl Fa Aufdampfeinrichtung.
NL240710A (de) * 1958-07-01
US3049618A (en) * 1959-05-13 1962-08-14 Commissariat Energie Atomique Methods and devices for performing spectrum analysis, in particular in the far ultraviolet region
DE1299498B (de) * 1964-07-24 1969-07-17 Steigerwald Strahltech Vorrichtung zur UEberwachung des Strahlauftreffbereichs in Korpuskularstrahl-Bearbeitungsgeraeten
US3299250A (en) * 1965-09-17 1967-01-17 Welding Research Inc Welding system

Also Published As

Publication number Publication date
BE767727A (de) 1971-10-18
CA972819A (en) 1975-08-12
NL7107490A (de) 1971-12-06
LU61048A1 (de) 1971-08-13
US3760144A (en) 1973-09-18
FR2095825A5 (de) 1972-02-11
GB1330226A (en) 1973-09-12

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