DE2105496A1 - Gas discharge indicator - Google Patents

Description

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iPokyo Shlbaura Electric Co. ,Ltd. ,Kawasaki,Japan Grasentladungs-AnzeigevorrichtungiPokyo Shlbaura Electric Co., Ltd. , Kawasaki, Japan Grass discharge indicator

Die Erfindung betrifft eine Informations-Anseigevorrichtung, und insbesondere eine Gasentladungs-Anaeigevorrichtung. Es ist bekannt, daß ein licht von einem Plasma ausgeht, das durch, eine Glimmentladung erzeugt wird, die durch Anlegen einer Hochspannung zwischen einerKathode und einer Anode entsteht. Pur ein Entladungslicht, das so erzeugt wird, daß die Kathode und die Anode in einer flachen Umhüllung einander gegenüber angebracht sind, wurden in der letzten Zeit verschiedene Entwicklungen durchgeführt, um eine flachere Anzeigeröhre als eine ebene Kathodenstrahlröhre au erhalten.The invention relates to an information display device, and in particular a gas discharge indicator. It is known that light emanates from a plasma that a glow discharge is generated by applying a high voltage between a cathode and an anode arises. Pure discharge light that is generated in such a way that the cathode and the anode are placed in a flat envelope facing each other, were in the last At the time various developments were carried out to make a display tube flatter than a flat cathode ray tube obtain.

S.B. hat die kürzlich durch die Burroughs Go. of the United States angekündigte "selbstabtaetende Anzeigefeld"-Torrichtung geteilte Kathodenelemente und erzeugt eine Glimmentladungj die - wie in einem Dccatron - von einem zum anderen der zahlreichen unterteilten Katholen-leoiente verschoben wird., u^ so eine numerische Anze:i#>; ::!:.;;i:f^::brer:.SB recently went through the Burroughs Go. of the United States announced "self-cleaning display panel" gate device divides cathode elements and generates a glow discharge which - like in a dccatron - is shifted from one to the other of the numerous subdivided cathodes., u ^ such a numerical display: i #>;:::.;; i: ^f: brer :.

Auoh Th.J-.de Boer ( 9.national Symposium on Information Display, 1968) bzw. B.M.Arora et al (8.National Symposium on Information Display, 1967) geben eine Entladungs-Anzeigevorrichtung an. Die Vorrichtung besteht aus zwei Gruppen von Leiterlinien, die unter rechtem Winkel in der IForin einer Matrix angeordnet sind, wobei eine vorgeschriebene Lücke zwischen ihnen bleibt, nämlich eine Gruppe von Kathodenleiterlinien. und eine Gruppe von Anodenleiterlinien. Licht wird abgegeben, indem eine Glimmentladung erzeugt wird, die sich an dem Schnittpunkt einer ausgewählten Kathodenleiterlinie und einer ausgewählten Anodenleiterlinie ausbildet, wenn eine Spannung zwischen diesen angelegt wird. Da diese Glimmentladungsanzeige auf einem Glimmentlaaungslieht beruht, das an den jeweiligen Kreuzungspunkten der Matrix erzeugt wird, kann an diesen Punkten kein sehr großer Entladungsstrom und demzufolge kein Glimmentladungslicht in ausreichender Ilenge und Intensität erhalten werden. Außerdem ändert sich die Glimmentladung stark, z.B. mit dem' Zwischenelektrodenabstand und der Form der Elektrode, so daß jede der bekannten Entladungsanseigevorrichtungen mit der genannten Matrix-Anordnung von Leiterlinien den Haehteil hat, daß die Lichtemissionseigenschaften schwanken und die Lichtpunkte nicht schnell verschoben werden können.Auoh Th.J-.de Boer (9th National Symposium on Information Display, 1968) and B.M. Arora et al (8th National Symposium on Information Display, 1967) disclose a discharge indicator. The device consists of two groups of conductor lines that are arranged at right angles in the IFor in a matrix, leaving a prescribed gap between them, namely a set of cathode conductor lines. and a set of anode lead lines. Light is emitted by creating a glow discharge that is located at the intersection of a selected one Forms cathode conductor line and a selected anode conductor line when a voltage is applied between them. There this glow discharge indicator is based on a glow discharge lamp, that is generated at the respective intersection points of the matrix, cannot have a very large discharge current at these points and consequently no glow discharge light of sufficient quantity and intensity can be obtained. In addition, the glow discharge changes strong, e.g. with the 'inter-electrode spacing and the Shape of the electrode so that any of the known discharge display devices with the aforementioned matrix arrangement of conductor lines the Haehteil that the light emission properties fluctuate and the points of light cannot be moved quickly.

Daher ist das Ziel der vorliegenden Erfindung eine Gasentladungs Anzeigevorrichtung, die ein ausreichend intensives Licht aufweisen kann und die einen Lichtpunkt stets unter stabilen Bedingungen schnell verschieben kann, bsi der in einem Entladungsweg quer zu der Kathode und Anode ei» Plasmaeinschnürteil ΐ,η-?θ-bracht ist, das von einer Vielzahl von Plasmaeinschnürlöohern durchbohrt ist, und bei dem ein von einer Glimmentladung herrührendes Plasma, das in der Nähe der Kathode erscheint, selektiv ia eines der Plasmaeinschnurlöcher konzentriert wird, y-oüur^h ■■■in LiC]-G von höh- r Intensität erhalten wird.Therefore, the object of the present invention is a gas discharge display device which can have a sufficiently intense light and which can quickly shift a point of light always under stable conditions such as the plasma constriction part ΐ, η-? Θ in a discharge path across the cathode and anode - is brought, which is pierced by a plurality of plasma constriction holes, and in which a plasma originating from a glow discharge and appearing in the vicinity of the cathode is selectively concentrated ia one of the plasma constriction holes, y-oüur ^ h ■■■ in LiC] -G is obtained of higher intensity.

tert, wobei:tert, where:

Fig, .1 einen Schnitt einer Entladungsröhre zeigt, die la eine Gasentladungs-Anzeigevorrichtung gemäß einer AusführuBgaform der !Erfindung eingeschlossen 1st; 2 ist ein Schnitt längs der linie H-II der Fig. 1, ta Fig. 1 shows a section of a discharge tube included in a gas discharge display device according to an embodiment of the invention; Fig. 2 is a section along the line H-II of Fig. 1, ta

ftft

Richtung der Pfeile gesehen, und zeigt schematisch auch eine mit der Entladungsrohre verbundene Abtasteinrichtung;Seen in the direction of the arrows, and also shows schematically a scanning means connected to the discharge tube;

Fig. 3 zeigt das Prinzip, nach welchem das erf indungsgea&ß gebildete eingeschnürte Plasma ein Licht hoher Intensität abgibt; 3 shows the principle according to which the constricted plasma formed according to the invention emits a light of high intensity;

Fig. 4 zeigt ein Plasmaeinschnürloch nach der Theorie von Fig. 4 shows a plasma constriction hole according to the theory of

Xi"Xi "

3;3;

Fig.Fig.

j> zeigt im Schnitt eine Abwandlung der in Fig« 1 gej> shows in section a modification of the one shown in FIG

zeigten Röhre;showed tube;

Flg. 6 zeigt einen Schnitt einer Gasentladungs-Anzeigevorrichtung gemäß einer anderen Aueftthrungeform der EriindufigJ Flg. 6 shows a section of a gas discharge display device according to another embodiment of the invention

Fig. 7 zeigt einen Schnitt einer Entladungsröhre, die einer Abtasteinrichtung verbunden ist, längs der Linie tt$* der Fig. 6 in Richtung der Pfeile gesehen; . _x. , Fig. 7 shows a section of a discharge tube connected to a scanning device, taken along line tt $ * of Fig. 6 in the direction of the arrows; . _x . ,

Fig. 8 zeigt einen Schnitt eines anderen erfindungBgemätMi| Plasmaeinschnürteiles; Fig. 8 shows a section of another invention according to the invention Plasma constriction part;

9 zeigt im Schnitt noch ein weiteres esi9 shows a further esi in section

Plasmaeinschnürteil;Plasma constriction part;

Flg. 10 ist ein Schnitt einer anderen Aturtlgeröhr· § Erfindung; Flg. Fig. 10 is a section of another Aturtlgeröhr · § invention;

Flg. 11 1st ein Schnitt längs der Uni« U-U d«r Flg. 11 Is a section along the Uni «UU d« r

Fi^. 12 geigt die Schaltungsanordnuug elfte«? Anzeigevorrichtung, die alt einer Abtreteinriehtta% ist zum Abtasten eines Entladungspunkt»s, wShrend er d Vielzahl von Plasmaeinachntirungslöohern verechobeti Fi ^. 12 shows the circuit arrangement eleventh «? Display device, which is old of a transfer device, for scanning a discharge point while it is passing through the multitude of plasma exposure holes

Flg« 13 und 14 zeigen die Schaltungsanordnung vs» Ibtasteinrichtungen, die in erf indttHgsgemäßen Gasen Anzeigevorrichtungen verwendet werden; Figs. 13 and 14 show the circuit arrangement vs. scanning devices which are used in display devices according to the invention;

??ai««J. «fcigt die Terbindung zwischen dem Plasma·i teil unä der Abtasteinrichtung der Fig. 14;?? ai «« J. "Establishes the connection between the plasma part and the scanning device of FIG. 14;

109S-13/1A/. 7109S-13 / 1A /. 7th

ORIGINAL INSPECTS)ORIGINAL INSPECTS)

- 4 16 stellt die Wellenform der Signale dar, die die- 4 16 represents the waveform of the signals that the

Wirkung der Abtasteinrichtung der Fig. 14 zeigen;Show the effect of the scanning device of Fig. 14;

Pig« 17 his 20 sind Schaltungen von weiteren Abtasteinrichtungen, die in erfindungsgemäßen Gasentladungs-Anzeigevorrichtungen verwendet werden, wobei die Schaltskizzen die Verbindung zwischen dem Plasmaeinschntirteil und der Abtasteinrichtung zeigen und die Figur der Signalwellenformen die Wirkungsweise der Abtasteinrichtung zeigt; Figures 17 to 20 are circuits of further scanning devices used in gas discharge display devices according to the invention, the circuit diagrams showing the connection between the plasma device and the scanning device and the figure of the signal waveforms showing the operation of the scanning device;

21 zeigt ein System zum Abtasten eines Plasmaeinschnürungsteiles für eine zweidimensionale Anzeige; 22 zeigt die Wellenform von Signalen, die die Wirkungsweise des Plasmaneinschnürungsteils der Pig. 21 zeigen; Figure 21 shows a system for scanning a plasma throat member for a two-dimensional display; Fig. 22 shows the waveform of signals indicative of the operation of the plasma constriction portion of the Pig. 21 show;

Pig. 23 stellt ein anderes System zum Abtasten eines Plasmaeinschnürungsteiles für eine zweidimensionale Anzeige dar; Pig. Fig. 23 illustrates another system for scanning a plasma throat member for a two-dimensional display;

Pig. 24 und 25 zeigen Skizzen einer Schaltung zum Abtasten des Plasmaeinschnürungsteils der Pig. 21; Pig. 24 and 25 show sketches of a circuit for scanning the plasma throat portion of the Pig. 21;

Pig. 26 zeigt schematisch die Konstruktion einer Anzeigeröhre mit kalter Kathode gemäß einer anderen Ausführungsform der Erfindung. Pig. Fig. 26 schematically shows the construction of a cold cathode display tube according to another embodiment of the invention.

Bei sämtlichen Ausführungsformen sind gleiche Teile mit den gleichen Bezugszeichen benannt. Obwohl die Gasentladungs-Anzeigevorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung eine ein- und zweidimensionale Anzeige der Information durchführen kann, wird zuerst eine Ausführungsform mit einer eindimensionalen Anzeige beschrieben.In all embodiments, the same parts are identical to named with the same reference numerals. Although the gas discharge display device according to the present invention has an on and off can perform two-dimensional display of the information, an embodiment with a one-dimensional Ad described.

In den Pig. 1 und 2 ist die Prontplatte 2 eines abgedichteten Gefäßes 1 aus einem transparenten Material, z.B. Glas, hergestellt. Das Gefäß 1 wird erst durch einen Abpumpstutzen 3 mit einer (nicht gezeigten) Pumpeinrichtung auf Hochvakuum evakuiert und dann mit einem geeigneten Gas, z.B. Heliumgas von 4 mm Hg, gefüllt. Das Füllgas kann aus wenigstens einem von z.B. Helium, Ifeon, Argon, Wasserstoff und Stickstoff, wie es gewöhnlich in einer Entladungsröhre verwendet wird, bestehen.In the pig. 1 and 2, the front plate 2 of a sealed vessel 1 is made of a transparent material such as glass. The vessel 1 is first evacuated to a high vacuum through a pump-out nozzle 3 with a pump device (not shown) and then filled with a suitable gas such as 4 mm Hg helium gas. The fill gas can be from at least one of e.g. Helium, Ifeon, Argon, Hydrogen and Nitrogen, like it usually used in a discharge tube.

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Der Druck, "bei welchem solches Gas eingeleitet wird, muß nur in einem Bereich von 1 bis einige Zwanzig Torr, liegen. Das Füllgas kann natürlich, wenn es notwendig ist, Quecksilberdampf enthalten.The pressure at which such gas is introduced must only be in a range from 1 to several twenty Torr. The filling gas can of course, if necessary, mercury vapor contain.

Auf im wesentlichen der ganzen inneren Cl.'> -f lohe der Frontplatte 2 ist eine Anode 4 aufgebracht, die aus einem «.ansparenten Film bestellt. Die Anode 4 ist durch einen Stabilisierungswiderstand 6 mit der positiven Seite einer Gleichstromhochspannung verbunden, deren negative Seite geerdet ist. Auf der Innenoberfläche % des Gefäßes 1, die üor Frontplatte 2 gegenüberliegt, ist eine Kathode 7 angebracht_f die im wesentlichen dieselbe Fläche wie die Anode 4 hat mit Ausnahme einer Vertiefung 8. In der Vertiefung 8 ist ein Faden 9 zum Heizen der Kathode 7 angebracht. Der Heizfaden wird durch eine Fadenstromquelle 10 geheizt. Ein Ende des Heizfadens 9, das mit der negativen Seite dieser Stromquelle TO verbunden ist, ist zusammen mit der Kathode 7 geerdet.An anode 4, which is made of a transparent film, is applied to essentially the entire inner surface of the front plate 2. The anode 4 is connected through a stabilization resistor 6 to the positive side of a direct current high voltage, the negative side of which is grounded. Opposite to the inner surface of% of the vessel 1, the üor front panel 2, a cathode 7 is mounted _for substantially the same area as the anode 4 has, with the exception of a recess 8. In the recess 8 a thread 9 is fitted for heating the cathode 7 . The filament is heated by a filament power source 10. One end of the filament 9, which is connected to the negative side of this power source TO, is grounded together with the cathode 7.

In der Nähe der Anode 4 de3 Gefäßes 1 ist, wie in Fig. 1 gezeigt ist, ein isolierendes Material, z.B. ein keramisches Plasmaeinschnürungsteil 11, im wesentlichen parallel mit der | Anode 4 angebracht, wobei der Umfang dieses Teils 11 in die Innenwand des Gefäßes 1 eingepaßt ist. Das Plasmaeinschnürungsteil 11 ist mit einer Vielzahl von Plasmaeinschnürungslöchern 12 durchbohrt, die der Länge nach in einer Linie in einem gleichen Abstand in diesem Teil 11 angeordnet sind. Die Innenwand des Loches 12 ist z.B. mit einem Leiterfilm 15 elektroplattiert, welcher mit einem Überwechsel-oder Umschaltausgangsanschluß einer Abtastschaltung 14 verbunden ist und außerdem selektiv durch einen Stabilisierungewiderstand 15 mit der positiven Seite einer Umschaltspannungoquelle 16 verbunden ist, welche eine etwas niedrigere Spannung hat alB die Hochspannungsquelle 5_S wobei die negative Seite dieser Spannungsquelle 16 geerdet ist. Die Anordnung und Wirkungsweise dieser Abtastschaltung 14 wird später ausführlicher beschrieben. 'In the vicinity of the anode 4 of the vessel 1, as shown in FIG. 1, an insulating material, for example a ceramic plasma constriction part 11, is essentially parallel to the | Anode 4 is attached, the periphery of this part 11 being fitted into the inner wall of the vessel 1. The plasma constriction part 11 is pierced with a plurality of plasma constriction holes 12 which are arranged lengthwise in a line at an equal distance in this part 11. The inner wall of the hole 12 is electroplated, for example, with a conductor film 15 which is connected to a changeover or changeover output terminal of a sensing circuit 14 and is also selectively connected through a stabilization resistor 15 to the positive side of a changeover voltage source 16 which has a somewhat lower voltage than that High voltage source 5 _S , the negative side of this voltage source 16 being grounded. The arrangement and operation of this sampling circuit 14 will be described in more detail later. '

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Ss soll nun die Wirkungsweise der Gasentladungs-Anzeigevorrichtung "beschrieben werden. Die Kathode 7 wird durch den Heizfaden 9 geheizt, so daß sie eine große Menge von Elektronen emittiert, wodurch eine Plasmazone 17 gebildet wird, die in Fig. 1 durch die gestrichelte Linie angezeigt ist. Wenn zu diesem Zeitpunkt die Anode 4 mit Hochspannung versorgt wird, z.B. mit einer positiven Spannung von 200 V, dann werden die von der Kathode 7 emittierten Elektronen zu der Anode 4 transportiert und bilden eine Entladung. Da jedoch zwischen die Kathode 7 und di,e Anode 4 das Plasmaeinschnürungsteil 11 eingesetzt ist, gelangen die Elektronen von der Kathode 7 durch eines der Löcher 12, die in dem Plasmaeinschnürungsteil 11 gebildet sind, zu der Anode 4. Wenn die beschriebene eine der Elektroden 13 durch Betätigen der Abtastschaltung 14 eine positive Spannung erhält, dann tritt eine Entladung zwischen der Kathode 7 und der Anode 4 durch das Loch 12 auf, welches momentan mit dieser positiven Spannung versorgt wird. Diese Entladung bleibt bestehen, auch nachdem die Umschaltspannung abgeschaltet ist. Wenn eine andere Elektrode 13 selektiv mit Spannung durch die Abtastschaltung 14 versorgt wird, wird sich die entstehende Entladung durch das Loch 12, das mit dieser Elektrode 13 versehen ist, ausbilden, was bewirkt, daß die vorhergehende Entladung verschwindet. Auf diese Weise ist es eines der Kennzeichen der Ausführungsform der Pig. 1, daß sie leicht eine Art von Speicherfunktion zeigt. Wenn die gewünschten Plasmaeinschnürungselektroden selektiv der Eeihe nach in einem bestimmten Intervall mit Überwechsel-Spannungsimpulsen durch die Abtastschaltung 14 versorgt werden, dann wird eine eindimensionale Anzeige erscheinen, die durch das eingeschnürte Plasma 18 gebildet wird.Ss is now the mode of operation of the gas discharge display device ". The cathode 7 is heated by the filament 9 so that it emits a large amount of electrons, whereby a plasma zone 17 is formed, which is indicated in Fig. 1 by the dashed line. If at that time the anode 4 is supplied with high voltage, e.g. with a positive voltage of 200 V, then those from the cathode 7 emitted electrons are transported to the anode 4 and form a discharge. However, since between the cathode 7 and di, e anode 4, the plasma constriction part 11 is inserted, reach the Electrons from the cathode 7 through one of the holes 12 formed in the plasma constriction part 11 to the anode 4. When the described one of the electrodes 13 by pressing the sensing circuit 14 receives a positive voltage, then a discharge occurs between the cathode 7 and the anode 4 through the Hole 12, which is currently supplied with this positive voltage. This discharge persists even after the switching voltage is switched off. When another electrode 13 is selectively energized by the sensing circuit 14 is, the resulting discharge will be formed through the hole 12 provided with this electrode 13, what causes the previous discharge to disappear. In this way it is one of the characteristics of the embodiment of FIG Pig. 1 that it easily shows some kind of memory function. When the desired plasma constriction electrodes selectively the row after being supplied with alternating voltage pulses by the sampling circuit 14 at a certain interval, then a one-dimensional display formed by the constricted plasma 18 will appear.

Wie es die obige Ausführungsform zeigt, besteht die Erfindung darin, ein Plasmaeinschnürungsteil, das mit Plasmaeinsehnürungslöohern durchbohrt ist, zwischen der Kathode und der Anode anzubringen und zu bewirken, daß eine Entladung durch diese Löcher erzeugt wird, wodurch ein intensives Licht in der Nähe dieser Löcher erzeugt wird. Es soll nun die Wirkungsweise einer Gasent-As the above embodiment shows, the invention is to provide a plasma constriction member provided with plasma constriction holes is pierced to attach between the cathode and the anode and cause a discharge through these holes which creates an intense light in the vicinity of these holes. It is now the mode of action of a gas discharge

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Γ-*si"Γ- * si "

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ladungs-Anzeigevorrichtung gemäß der Erfindung zur Erzeugung eines starken Lichtes "betrachtet werden. Die durchgezogene Linie der Fig. 3 ist eine teilweise schematische Darstellung einer Entladungsζone, die sich von der Plasmazone 17 der Pig. 1 zu dem Plasmaeinschniirungsloch 12 erstreckt. Die Linie B-B stellt die Mittelachse des Loches 12 dar. Zum besseren Verständnis der vorliegenden Vorrichtung kann man sich vorstellen, daß die durchgezogene Linie A die Gestalt einer Entladungsröhre und die Achse B-B die Achse dieser Röhre darstellt. Es wird angenommen, daß die Elektronen entlang der Achse B von dem weiteren zu dem '_ engeren Durchmesser der Entladungsröhre laufen, d.h. in Pig. 3 * von links nach rechts. Es soll nun die Erzeugung von Licht in dem Loch 12 der Pig. 1 untersucht werden von dem Gesichtspunkt der verschiedenen Röhrendurchmesser an den Punkten 0 und D auf üer Achse B-B der Entladungsröhre in einer Ebene, die diese Achse B-B unter rechtem Winkel schneidet, und ebenso von dem Gesichtspunkt der mittleren, freien Weglänge der Elektronen in diesen Punkten. Wird der Grad der Änderung des Röhrendurohmessers mit Δ r und die mittlere, freie Weglänge der Elektronen durch diese Punkte mit JIe bezeichnet, so zeigen experimentelle Untersuchungen des Erfinders, daß ein intensives Licht entsteht, wenn eine Beziehung Ar > Ae zwischen beiden Paktoren besteht. Palis Ar<T^e, wurde die gesamte Menge der Elektronen, die durch Stoß an die Innenwand der Röhre infolge der Verringerung ihres Durchmessers absorbiert wurden, durch eine erhöhte Menge von Elektronen kompensiert, die durch erhöhte Stoßionisation zwischen den Elektronen und der inneren Röhrenwand erzeugt werden, so daß das elektrische PeId in diesem Gebiet sich sehr wenig änderte. Palis dagegen At ^ JIe, trat weniger Stoß-• ionisation zwischen den Elektronen und der Innenwand der Röhre auf, was erwartungsgemäß zu einer Abnahme der Zahl der Elektronen oder des Stromes führte. Da der Strom praktisch konstant gehalten werden muß, sollte eine Abnahme des Stromes durch ein '-Anwachsen der Zahl der Elektronen pro Zeiteinheit ergänzt wer- ^:/^r des ^as durch Beschleunigung der Elektronen bewirkt wird. Dies ^ The solid line of FIG. 3 is a partially schematic representation of a discharge zone extending from the plasma zone 17 of the pig represents the central axis of the hole 12. For a better understanding of the present device it can be imagined that the solid line A represents the shape of a discharge tube and the axis BB represents the axis of this tube further to the narrower diameter of the discharge tube, ie from left to right in Pig. 3 * The generation of light in the hole 12 of Pig D on the axis BB of the discharge tube in a plane which intersects this axis BB at a right angle, and also from the Ge point of view of the mean, free path of the electrons in these points. If the degree of change in the tube diameter is denoted by Δ r and the mean free path of the electrons through these points is denoted by JIe, then experimental investigations by the inventor show that intense light is produced when a relationship Ar> Ae exists between the two factors. Palis Ar <T ^ e, the total amount of electrons absorbed by impact against the inner wall of the tube as a result of reducing its diameter was compensated for by an increased amount of electrons generated by increased impact ionization between the electrons and the inner tube wall so that the electrical pressure in this area changed very little. Palis, on the other hand, At ^ JIe, there was less collision ionization between the electrons and the inner wall of the tube, which, as expected, led to a decrease in the number of electrons or in the current. Since the current must be kept practically constant, a decrease of the current advertising should be supplemented by a '-Anwachsen the number of electrons per unit ^time: / ^r ^ of as caused by acceleration of the electrons. This ^

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bedeutet, daß ein plötzliches Anwachsen eines elektrischen Feldes entstehen sollte. Offensichtlich ist solch ein scharfer Anstieg im elektrischen Feld der Grund, warum ein starkes Licht in dem erfindungsgemäßen Plasmaeinschnürungsloch erzeugt wird. In einer Ebene, die den Punkt C der Pig. 3 einschließt, wobei der Gasdruck in der Entladungsröhre mit P^ und die mittlere, freie Weglänge der Elektronen mit ^e^ bezeichnet wird, kann die Änderung im Röhrendurchmesser als Δτ* ausgedrückt werden, und wenn der Gasdruck auf P₀ und die mittlere, freie Weglänge der Elektronen auf ^e« anwächst, wird der Röhrendurchmesser sich nur auf Δ r« geändert haben. Um eine Beziehung Ar ^Ae am Punkt C zu erhalten, sollte daher der Gasdruck in der Entladungsröhre geändert werden. Im Gegensatz dazu wird am Punkt D, wenn der Gasdruck in der Entladungsröhre P^ ist, der Röhrendurchmesser eine große Änderung von Δχ, in bezug auf die mittlere, freie Weglänge ^e., der Elektronen haben. Demgemäß ist es an dem Punkt der Entladungsröhre, wo sich ihr Durchmesser stark ändert, z.B. am Punkt D, leicht möglich, die Beziehung A_r zu erfüllen, ohne den Gasdruck zu ändern, und demzufolge ein intensives licht zu erzeugen.means that there should be a sudden increase in an electric field. Obviously, such a sharp increase in the electric field is the reason why a strong light is generated in the plasma constriction hole of the present invention. In a plane that is the point C of the Pig. 3, where the gas pressure in the discharge tube is denoted by P ^ and the mean free path of the electrons is denoted by ^ e ^ , the change in the tube diameter can be expressed as Δτ * , and when the gas pressure is at P ₀ and the mean, free path If the path length of the electrons increases to ^ e «, the tube diameter will only have changed to Δr«. Therefore, in order to obtain a relation Ar ^ Ae at point C, the gas pressure in the discharge tube should be changed. In contrast, at point D, when the gas pressure in the discharge tube is P ^, the tube diameter will have a large change in Δχ with respect to the mean free path ^ e. Of the electrons. Accordingly, at the point of the discharge tube where its diameter changes greatly, for example at point D, it is easily possible _{to satisfy the relationship A r} without changing the gas pressure and hence to generate an intense light.

Es wurden mit Bezug auf Pig. 3 die erforderlichen Bedingungen für die Konstruktion einer Gasentladungs-Anzeigevorrichtung gemäß der Erfindung beschrieben, so daß das an einem willkürlichen Punkt im Entladungsweg herrschende elektrische PeId anwächst. Diese Bedingungen werden weiter im einzelnen erläutert mit Bezug auf Fig. 4, die eine Entladungsröhre zeigt, deren Durchmesser an der Linie D-D scharf abnimmt. Die Querschnittsfläche der Röhre, die die Linie D-D einschließt, soll mit S bezeichnet werden, die zufällige Elektronenstromdichte eines Plasmas in dieser Fläche soll als J und der Gesamtstrom, der durch den Querschnitt der Röhre bei D-D durchtritt, als I bezeichnet werden. Palls S · J^I, wird keine deutliche Änderung im elektrischen Feld bei dem Querschnitt D-D auftreten, auch wenn die oben genannten Eonstruktionsbedingungen voll erfüllt sind. Wenn dagegen ein ausreichender Strom eingeführt wird, umThere were referring to Pig. 3 the conditions necessary for the construction of a gas discharge display device described in accordance with the invention, so that the electrical PeId prevailing at an arbitrary point in the discharge path increases. These conditions will be further explained in detail with reference to FIG. 4 showing a discharge tube whose Diameter decreases sharply at line D-D. The cross-sectional area of the tube, which includes the line D-D, shall be denoted by S. the random electron current density of a plasma in this area is said to be J and the total current that passes through the cross-section of the tube at D-D, referred to as I. Palls S · J ^ I, will not change significantly occur in the electric field at the cross-section D-D, even if the above-mentioned construction conditions are fully met are. On the other hand, if a sufficient current is introduced to

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S«J < I zu erfüllen, dann wird eine elektrische Doppelschicht entstehen, die zu einem plötzlichen Anwachsen eines elektrischen Peldes führt. Da ein solches elektrisches PeId konzentrierter, beschleunigter Elektronenstrahlen infolge der einzigartigen Eigenschaften der elektrischen Doppelschicht erzeugt, werden oft die folgenden, besonders nützlichen Vorteile erhalten.S «J <I then becomes an electrical double layer arise leading to a sudden increase in an electric Peldes leads. Since such an electrical pool is more concentrated, accelerated electron beams are generated due to the unique properties of the electrical double layer often receive the following particularly useful benefits.

a) Da die Elektronen zu der Anode hin transportiert werden, das ist in Pig. 4 nach rechts, ragt eine Äquipotentialebene gegen die !Cathode vor, um eine Art von Fokusierungslinse für ' die Elektronen zu bilden.a) Since the electrons are transported to the anode, that's in Pig. 4 to the right, an equipotential plane protrudes towards the! Cathode in order to provide a kind of focusing lens for 'the To form electrons.

b) Da die Elektronen frei in der elektrischen Doppelschicht beschleunigt werden, werden sie durch den Querschnitt D-D mit verhältnismäßig einheitlicher hoher Energie geführt, um ein Plasma hoher Dichte zu bilden.b) Because the electrons accelerated freely in the electrical double layer they are guided through the cross-section D-D with relatively uniform high energy to form a plasma high density to form.

Wenn die Elektronentemperatur durch Einführen einer Probeelektrode in dieses Plasma hoher Dichte gemessen wurde, wurde ein Wert von 30 bis 55 eY in z.B. Wasserstoffatmosphäre festgestellt. In diesem Gebiet erscheint solch ein intensives Licht, wie es kaum durch die Theorie der normalerweise möglichen Säulen erklärt werden kann.When the electron temperature by inserting a sample electrode When measured in this high density plasma, it was found to be from 30 to 55 eY in, for example, a hydrogen atmosphere. Such an intense light appears in this area that the theory of normally possible pillars can hardly explain can be.

Pig. 5 zeigt eine Abwandlung der in der Ausführungsform der Pig. 1 verwendeten Kathode. Während diese Ausführungsform eine indirekt geheizte Kathode verwendet, verwendet die Ausführungsform der Pig. 5 einen Heizfaden 20, der mit einer thermionisch emittierenden Schicht überzogen ist. Die letztere Ausführungsform bewirkt, daß der Paden einheitlich geheizt wird. Gleiche Teile der Pig. 5 wie die der Pig. 1 sind mit denselben Bezugszeichen bezeichnet,und ihre Beschreibung ist weggelassen. Pig. Fig. 5 shows a modification of the embodiment of the Pig. 1 used cathode. While this embodiment is a uses indirectly heated cathode, uses the embodiment of Pig. 5 a filament 20, which is thermionic with a emitting layer is coated. The latter embodiment causes the pad to be heated uniformly. Same Parts of the Pig. 5 like that of the Pig. 1 are denoted by the same reference numerals and their description is omitted.

Die Pig. 6 und 7 beschreiben zusammen eine weitere Ausführungsform der Erfindung. Nach dieser Ausführungsform besteht das Plasmaeinschnürungsteil 11 aus einem undurchsichtigen Material, z.B. einem isolierenden Substrat 22 aus schwarzem Glas, welchesThe Pig. 6 and 7 together describe a further embodiment of the invention. According to this embodiment, there is Plasma constriction part 11 made of an opaque material, e.g., an insulating substrate 22 made of black glass, which

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mit einer Vielzahl von Löchern 21 durchbohrt ist, die in gleichem Abstand der Länge nach auf diesem Teil 11 angeordnet sind. An die vordere Oberfläche des Isolatorsubstrats 22 ist dicht eine transparente,isolierende Platte 23 aufgebracht, z.B. eine Glasplatte, so daß die Öffnungen der Löcher 21 verschlossen werden. An den Teilen der Oberfläche der Glasplatte 23, die den Löchern 21 gegenüberliegen, sind eine Vielzahl von transparenten Leiterschichten 24, jede als Anode, angebracht. Viie in Pig. 1 wird an die Anoden 24 selektiv durch die Abtastschaltung 14 eine Anodenspannung angelegt. In der Ausführungsform der Pig. 6 und sind die Anoden 24 direkt mit der Abtastschaltung 14 verbunden, so daß die Entladungsröhre eine einfachere Anordnung hat als die der Pig. 1, aber dieselbe Punktion erfüllt.is pierced with a plurality of holes 21, which are in the same Distance along the length are arranged on this part 11. The front surface of the insulator substrate 22 is sealed a transparent, insulating plate 23, for example a glass plate, is applied so that the openings of the holes 21 are closed will. On the parts of the surface of the glass plate 23 facing the holes 21, there are a plurality of transparent ones Conductor layers 24, each attached as an anode. Viie in Pig. 1 is selectively connected to the anodes 24 by the sampling circuit 14 Anode voltage applied. In the embodiment of the Pig. 6 and the anodes 24 are connected directly to the sampling circuit 14, so that the discharge tube has a simpler arrangement than that of the Pig. 1, but fulfills the same puncture.

Die Pig. 8 und 9 zeigen Plasmaeinschnürungsteile 11 nach noch einer anderen Ausführungsform der Erfindung. Das Teil 11 der Pig. 8 hat eine Vielzahl von leitenden Anodenzylindern 25, die in den Löchern 12 angebracht 3ind, welche in dem undurchsichtigen Isolationssubstrat 22 ausgebildet sind, wobei die Zylinder 25 im wesentlichen denselben Außendurchmesser, wie die Löcher haben. An der Innenwand der Zylinder 25 ist eine dünne, fluoreszierende Schicht 26 in Berührung mit einer transparenten Glasplatte 23 angebracht. Es ist möglich, einen separat hergestellten Anodenzylinder 25 in das Loch 12 einzusetzen. Bs kann auch eine Leiterschicht direkt auf die Innenwand des Loches 12 aufgedampft oder aufgeschichtet werden. Nach der Ausführungsform der Pig. 8 zeigt eine Plasmazone 17, die durch von der nicht gezeigten Kathode emittierte Elektronen gebildet wird, ein eingeschnürtes Plasma 18 in dem Loch 12, wenn an einen der Anocienzylinder 25 selektiv eine Anodenspannung angelegt wird. In dieser Ausführungsform wird nicht nur das starke Licht, das von dem eingeschnürten Plasma 18 selbst erzeugt wird, sondern auch ein Licht, das durch die auf die fluoreszierende Schicht 26 auftreffenden Elektronen des eingeschnürten Plasmas 18 erzeugt wird, durch diese fluoreszierende Schicht 26 zu der entgegengesetzter, Seite der Glasplatte 23 geleitet. Wenn bei dieser Ausführungs-The Pig. 8 and 9 show plasma constrictions 11 according to yet another embodiment of the invention. Part 11 of the Pig. 8 has a plurality of conductive anode cylinders 25 mounted in holes 12 which are in the opaque Insulation substrate 22 are formed, the cylinder 25 having substantially the same outer diameter as the holes to have. On the inner wall of the cylinder 25 is a thin, fluorescent layer 26 in contact with a transparent glass plate 23 attached. It is possible to have one made separately Insert the anode cylinder 25 into the hole 12. A conductor layer can also be vapor-deposited directly onto the inner wall of the hole 12 or piled up. According to the embodiment of Pig. 8 shows a plasma zone 17 formed by electrons emitted from the cathode, not shown, a constricted one Plasma 18 in the hole 12 when an anode voltage is selectively applied to one of the anode cylinders 25. In this Embodiment becomes not only the strong light generated by the constricted plasma 18 itself, but also a Light that is incident on the fluorescent layer 26 through the Electrons of the constricted plasma 18 is generated by this fluorescent layer 26 to the opposite, Side of the glass plate 23 passed. If in this execution

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form geringe Mengen von Quecksilberdampf als Füllgas verwendet werden, wird das Entladungslicht große Mengen von ultraviolettem Licht enthalten, wodurch ein äußerst helles Fluoreszenzlicht infolge der fluoreszierenden Schicht 26, welche durch diese ultraviolette Strahlung stark angeregt wird, erzeugt wird. Wenn eine fluoreszierende Schicht verwendet wird, die insbesondere eine Eigenzeit des Nachleuchtens hat, kann eine kontinuierliche Anzeige ohne Flackern erhalten werden. Weiter ermöglicht die Auswahl des Materials der fluoreszierenden Schicht 26 die Er- ^ zeugung eines Lichtes oder einer Anzeige, die eine gewünschte ^ Farbe oder Farben aufweist.form small amounts of mercury vapor are used as filling gas the discharge light will contain large amounts of ultraviolet light, producing an extremely bright fluorescent light as a result of the fluorescent layer 26, which is strongly excited by this ultraviolet radiation, is generated. if a fluorescent layer is used, which in particular has an inherent time of afterglow, can be continuous Display can be obtained without flickering. Furthermore, the selection of the material of the fluorescent layer 26 enables the Er- ^ generation of a light or display that has a desired color or colors.

Die Ausführungsform der Fig. 9 verwendet einen trichterförmigen Anodenzylinder 27 anstelle des Anodenzylinders 25 des Plasmaeinschnürungsteiles der Fig. 8. Die Öffnung des trichterförmigen Zylinders mit großem Durchmesser berührt die Glasplatte 23. Auf diese Glasplatte 23 ist eine fluoreszierende Schicht 26 so aufgebracht, daß sie diese Öffnung abschließt. Die Ausführungsform der Fig. 9 ermöglicht die Erzeugung einer noch größeren Lichtmenge, da die fluoreszierende Schicht 26 eine größere Fläche als in Fig. 8 einnehmen kann.The embodiment of FIG. 9 uses a funnel-shaped anode cylinder 27 instead of the anode cylinder 25 of the plasma constriction part of Fig. 8. The opening of the large diameter funnel-shaped cylinder contacts the glass plate 23. On this glass plate 23 has a fluorescent layer 26 applied in such a way that it closes this opening. The embodiment 9 enables an even greater amount of light to be generated because the fluorescent layer 26 has a larger area than in Fig. 8 can take.

Gemäß aller vorhergehenden Ausführungsformen sind die Plasmaeinschnürungslöcher 12 linear in dem Plasmaeinschnürungsteil 11 angeordnet, so daß eine eindimensionale Anzeige erhalten wird. Erfindungsgemäß ist es jedoch auch möglich, diese Löcher 12 in der Form einer Matrix anzuordnen, um eine zweidimensionale Anzeige zu erreichen.In accordance with all of the foregoing embodiments, the plasma constriction holes are 12 is arranged linearly in the plasma constriction portion 11 so that a one-dimensional display is obtained. According to the invention however, it is also possible to arrange these holes 12 in the form of a matrix for a two-dimensional display to reach.

Die Fig. 10 und 11 zeigen gemeinsam eine Anordnung für zweidimensionale Anzeige gemäß einer weiteren Aasführungsform der Erfindung. Auf der inneren Oberfläche der transparenten Frontplatte 2 eines augeschmolzenen Gefäßes 1 ist eine fluoreszierende Schicht 30 ausgebildet. An der Oberfläche der fluoreszierenden Schicht 30 ist eine Vielzahl von Anodenplatten 31 in Matrixform10 and 11 together show an arrangement for two-dimensional Display according to a further embodiment of the invention. On the inner surface of the transparent faceplate 2 of a melted vessel 1 is a fluorescent one Layer 30 is formed. On the surface of the fluorescent layer 30, there are a plurality of anode plates 31 in a matrix form

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in gleichen Abständen über die gesamte Platte 2 angeordnet. Von jeder Anodenplatte 31 sind Anschlüsse 32 und 33 in längs- und Querrichtung herausgeführt. Die Anschlüsse 32 werden mit dem Ausgang einer horizontalen Abtastschaltung 34 und die Anschlüssearranged at equal intervals over the entire plate 2. from Each anode plate 31 leads out connections 32 and 33 in the longitudinal and transverse directions. The connections 32 are with the Output of a horizontal scanning circuit 34 and the connections

33 mit dem Ausgang einer vertikalen Abtastschaltung 35 versorgt. Die fluoreszierende Schicht 30 ist nur vorgesehen, wo es erforderlich ist, und es ist möglich, die Anodenplatten 31 allein auf der Innenoberfläche der Frontplatte 2 auszubilden. Über die gesamte Innenwand des abgeschmolzenen Gefäßes 1, welche der Frontplatte 2 gegenüberliegt, ist eine Kathode 36 angebracht, deren Anschluß 37 mit einer nicht gezeigten Spannungsquelle verbunden ist, um sie mit Spannung zu versorgen. Zwischen der fluoreszierenden Schicht 30 und der Kathode 36 ist ein isolierendes Substrat 22 dicht an der fluoreszierenden Schicht 30 und parallel zu dieser vorgesehen. Die dieser Vielzahl von Anodenplatten 31 gegenüberliegende Seite des isolierenden Substrates 22 ist von Plasmaeinschnürungslöchern 12 durchbohrt, wobei in jedes ein Anodenzylinder eingepaßt ist. Auf der Seite des isolierenden Substrates 22, die den Anodenplatten 31 gegenüberliegt, sind Leiterschichten 38 angebracht, die die Anodenzylinder 25 mit Spannung versorgen. An diese Leiterschichten 38 wird über Anschlüsse 39 durch die horizontalen und vertikalen Schaltungen33 is supplied to the output of a vertical scanning circuit 35. The fluorescent layer 30 is only provided where it is necessary and it is possible to form the anode plates 31 on the inner surface of the face plate 2 alone. About the entire inner wall of the melted vessel 1, which the Opposite face plate 2, a cathode 36 is attached, the terminal 37 of which is connected to a voltage source, not shown is to keep them energized. Between the fluorescent layer 30 and the cathode 36 there is an insulating layer Substrate 22 is provided close to the fluorescent layer 30 and parallel to it. The side of the insulating substrate opposite this plurality of anode plates 31 22 is pierced by plasma constriction holes 12, wherein in each an anode cylinder is fitted. On the side of the insulating substrate 22 opposite the anode plates 31, Conductor layers 38 are attached, which supply the anode cylinders 25 with voltage. At these conductor layers 38 is over Connections 39 through the horizontal and vertical circuits

34 und 35 eine Spannung angelegt, die gleich oder wenig geringer ist als die der Anodenplatten 31. Wenn beide Schaltungen 34 und34 and 35 a voltage is applied which is equal to or slightly less than that of the anode plates 31. When both circuits 34 and

35 so betätigt werden, daß ein eingeschnürtes Plasma selektiv35 are operated so that a constricted plasma selectively

in einem der löcher 12 erzeugt wird, dann wird eine Entladung von der Plasmazone auf die Anodenplatte 31 konzentriert, die an dem Punkt liegt, wo Spannungen von den Schaltungen 34 und 35 gemeinsam zugeführt werden. Als Folge davon tritt ein eingeschnürtes Plasma 18 in dem Loch 12 auf, welches dieser Anodenplatte 31 entspricht, und erzeugt ein intensives Licht. Auch in der Ausführungsform der Pig. 10 und 11 kann eine Füllung von Quecksilberdampf in der Entladungsröhre ein intensiveres Licht von der fluoreszierenden Schicht 32 infolge der Emission von ultravioletter Strahlung erzeugen. Wenn die Ausgangsspannungen von den horizontalen und vertikalen Schaltungen 34 und 35 von eineris generated in one of the holes 12, then a discharge of of the plasma zone concentrated on the anode plate 31, which is attached to the Point is where voltages from circuits 34 and 35 are fed together. As a result, a constricted occurs Plasma 18 in the hole 12, which corresponds to this anode plate 31, and generates an intense light. Also in the embodiment the pig. 10 and 11, a filling of mercury vapor in the discharge tube can create a more intense light from the generate fluorescent layer 32 as a result of the emission of ultraviolet radiation. If the output voltages from the horizontal and vertical circuits 34 and 35 of one

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Anodenplatte zu einer anderen überwechseln, wird eine zweidimensionale Anzeige auf der Prontplatte 2 infolge der Erzeugung von licht in dem Plasmaeinschnürungsteil 11 erhalten. Die Ausführungsform der Pig. 10 und 11 erlaubt natürlich auch eine Anzeige von Grautönen durch Modulieren des Entladungsstromes, in dem die Impedanz in dem mit der Anodenplatte 31 verbundenen Anodenkreis eingestellt wird oder die Periode der Entladung geändert wird. Wenn die fluoreszierende Schicht 30 an einzelnen Stellen mit fluoreszierenden Materialien beschichtet ist, die drei Grundfarben zeigen und licht der entsprechenden Farben abgeben, dann ist es möglich, eine Parbanzeige mit einer höheren Auflösung durchzuführen.Switching anode plate to another becomes a two-dimensional one Display on the front plate 2 due to the generation of light in the plasma constriction part 11 is obtained. The embodiment the pig. 10 and 11 naturally also allow gray tones to be displayed by modulating the discharge current, in by adjusting the impedance in the anode circuit connected to the anode plate 31 or changing the period of discharge will. If the fluorescent layer 30 is coated in individual places with fluorescent materials, the show three basic colors and emit light of the corresponding colors, then it is possible to display a para with a higher one To carry out dissolution.

Pig. 12 zeigt konkret die Abtastschaltung 14 der Pig. 1, die "bei einer eindimensionalen Anzeige verwendet wird.Pig. 12 specifically shows the sampling circuit 14 of the Pig. 1, which "is used in a one-dimensional display.

Zwischen Basis und Emitter jedes Transistors 40 sind die sekundären Ausgangsanschlüsse jedes Impulstransformator 41 angeschlossen. Der Emitter jedes Transistors 40 ist mit dem positiven Anschluß einer Spannungsquelle 16 über einen gemeinsamen Widerstand 15 verbunden. Der Kollektor des Transistors 40 ist mit dem entsprechenden Ausgangsanschluß 42 der Abtastschaltung 14 verbunden und über einen Widerstand 43 geerdet. Dieser Ausgangsanschluß 42 ist mit der Lederschicht 13 der Pig. 1 verbunden. An die Impulstransformatoren 4.1 werden an der Eingangsseite Signale mit der eingezeichneten Impulsform angelegt. Wird angenommen, daß ein eingeschnürtes Plasma 18 in dem Plasmaeinschnürungsloch 12 gebildet wird, in welchem eine Leiterschicht 13 angebracht ist, die mit dem Ausgangsanschluß 421 dieser Abtastschaltung 14 verbunden ist, und ein Transistor 402 wird durch Zufuhr eines Impulses P leitend gemacht, wodurch bewirkt wird, daß an den Ausgangsanschluß 422 der Schaltung 14 momentan eine Spannung von der Spannungsquelle 16 angelegt wird. Dann wird die Leiterschicht 13, die mit diesem Ausgangsansohluö 422 , verbunden ist, mit Spannung versorgt, wodurch eine Entladung zwischen dieser Leiterschicht 13 und der Kathode 7 erzeugt wird. The secondary output terminals of each pulse transformer 41 are connected between the base and emitter of each transistor 40. The emitter of each transistor 40 is connected to the positive terminal of a voltage source 16 via a common resistor 15. The collector of the transistor 40 is connected to the corresponding output terminal 42 of the sampling circuit 14 and is grounded via a resistor 43. This output terminal 42 is connected to the leather layer 13 of the pig. 1 connected. Signals with the pulse shape shown are applied to the pulse transformers 4.1 on the input side. Assume that a constricted plasma 18 is formed in the plasma constriction hole 12 in which there is provided a conductor layer 13 connected to the output terminal 421 of this sensing circuit 14, and a transistor 402 is made conductive by supplying a pulse P, thereby causing that a voltage from the voltage source 16 is momentarily applied to the output terminal 422 of the circuit 14. Then the conductor layer 13, which is connected to this output terminal 422 , is supplied with voltage, whereby a discharge is generated between this conductor layer 13 and the cathode 7.

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Dies bewirkt, daß die Impedanz dazwischen momentan abnimmt und das eingeschnürte Plasma an der Leiterschicht 13, die mit dem Ausgangsanschluß 421 verbunden ist, durch das Loch 12 durchtritt, welches der mit dem Auagangsanschluß 422 verbundenen Leiterschicht 13 gegenüberliegt. Es wurde festgestellt, daß die Entladung sehr schnell von einer Leiterschicht zur anderen verschoben wird. Die Ausführungsform der Pig. 12 arbeitet sehr zufriedenstellend, wenn die Spannungsquelle 5 200 V, der Widerstand 6 20 kOhm, die Spannungsquelle 16 100 bis 200 V und der Widerstand 15 5k0hm hat.This causes the impedance therebetween to momentarily decrease and the constricted plasma at the conductor layer 13, which is connected to the Output terminal 421 is connected, passes through the hole 12, which is the conductor layer connected to the output terminal 422 13 opposite. It has been found that the discharge is shifted very quickly from one conductor layer to another. the Embodiment of the Pig. 12 works very satisfactorily if the voltage source 5 is 200 V, the resistor 6 is 20 kOhm, the voltage source 16 100 to 200 V and the resistor 15 has 5k0hm.

In der Ausführungsform der Pig. 12 wurden Spannungsimpulse durch die Impulstransformatoren 41 zugeführt. Wenn jedoch, wie in Fig. 13 gezeigt ist, der Emitter des Transistors 40 geerdet ist und seine Basis sukzessive mit negativen Impulsen P versorgt wird, um ihn einzuschalten, ist ca möglich, eine Entladung in der gleichen Weise wie im vorhergehenden Pail zu verschieben. Im Pail der Pig. 12 und 13 ist das Entladungslicht schv/ach, da Impulse P^ und P_n vorhanden sind, so daß die Impulsbreite soweit wie möglich verringert werden sollte, um eine helle Anzeige zu erhalten.In the embodiment of the Pig. 12, voltage pulses were supplied by the pulse transformers 41. However, as shown in Fig. 13, when the emitter of the transistor 40 is grounded and its base is successively supplied with negative pulses P to turn it on, it is possible to shift a discharge in the same manner as in the previous Pail. In the Pail the Pig. 12 and 13, the discharge light is low because there are pulses P ^ and P _n , so the pulse width should be narrowed as much as possible in order to obtain a bright display.

Die Pig. 14 bis 16 zeigen andere Abtastsysteme für eine eindimensionale Anzeige gemäß der Erfindung. In diesen Piguren sind die Kollektoren der Transistoren 40 über einen gemeinsamen Widerstand 44 mit dem positiven Anschluß einer Umschaltspannungsquelle 16 von z.B. 150 V und direkt mit einem Anschluß 42 verbunden, der die Leiterschicht 13 berührt, und die Emitter dieser Transistoren 40 sind gemeinsam geerdet. Der negative Anschluß der Spannungsquelle 16 ist ebenfalls geerdet.The Pig. 14 through 16 show other scanning systems for a one-dimensional Display according to the invention. In these pigures, the collectors of the transistors 40 are across a common resistor 44 with the positive connection of a switching voltage source 16 of e.g. 150 V and connected directly to a terminal 42 which contacts the conductor layer 13 and the emitters of these transistors 40 are grounded together. The negative connection of the voltage source 16 is also grounded.

Die Anschlüsse 421, 422, 423 und 424 der Pig. I4 sind mit den Leiterschichten 13 verbunden, die in dem Plasmaeinschnürungsteil 11 ausgebildet sind, wie in Pig. 15 gezeigt ist. Es wird angenommen, daß.die Leiterschichten 131, 132, 133 , die an derThe connections 421, 422, 423 and 424 of the Pig. I4 are with the Conductor layers 13 formed in the plasma constriction portion 11 as in Pig. 15 is shown. It is believed, dass.die conductor layers 131, 132, 133, which are attached to the

Innenoberfläche der jeweiligen Plasmaeinschnürungslöcher 12 vorgesehen sind, der Reihe nach,beginnend mit einem Ende dieses Teils 1t, angeordnet sind. Dann ist der Anschluß 421 der Pig. 14 mitInner surface of the respective plasma constriction holes 12 is provided are arranged in sequence starting with one end of this part 1t. Then terminal 421 is the pig. 14 with

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der Leiterschicht '131 und die Anschlüsse 422 bis 424 mit den Leiterschichten 132 bis 134 verbunden. In diesem Teil 11 ist die Leiterschicht 132 mit anderen Leiterschichten 135 und 138 verbunden, wobei die zwei dazwischenliegenden Einheiten ausgelassen werden. Ähnlich ist die Leiterschicht 133 mit denen 136 und 139 und die Leiterschicht 134 mit denen 137 und 140 verbunden. of the conductor layer '131 and the connections 422 to 424 are connected to the conductor layers 132 to 134. In this part 11 is the Conductor layer 132 connected to other conductor layers 135 and 138, with the two intervening units omitted will. Similarly, the conductor layer 133 is connected to those 136 and 139 and the conductor layer 134 is connected to those 137 and 140.

Es wird angenommen, daß sich ein eingeschnürtes Plasma 18 an der Leiterschicht 131 befindet. Dann bewirkt das Zumachen des Transistors 402 durch Anlegen einer Spannung an den Anschluß 452, daß die Kollektorspannung dieses Transistors 402 und demzufolge nicht nur die Spannung der Leiterschicht 132, sondern auch die der Schichten 135 und 138 etwa 150 V haben. Als Folge davon wandert das eingeschnürte Plasma 18, das sich an dem Leiter 131 befindet, zu dem nächsten Leiter 132. Diese Verschiebung des eingeschnürten Plasmas 18 entsteht, wie angenommen wird, aus dem Zusammenbrechen einer Elektronenumhüllung, die sich bei dem Leiter 132 ausbildet, oder durch eine verringerte Impedanz in seiner Umgebung infolge des Eintreffens der Elektronen. Es soll nun anhand der Fig. 16 weiter die oben genannte Verschiebung des eingeschnürten Plasmas 18 im einzelnen beschrieben werden. Sie Wellenform 401A bezeichnet den Eingang an der Basis des Transistors 401, die Wellenformen 402A, 403A bzw* 4O4A bezeichnen den Eingang an der Basis der Transistoren 402, 403 und 404 und die Wellenformen 421A bis 424A stellen jeweils die 150 V Ausgangs signale dar, die an den Anschlüssen bis 424 erscheinen. Wenn der erste Impuls des Signals 401A dem Transistor 401 zugeführt wird, wird dieser zugemacht oder nicht-'leitend gemacht, wodurch der erste Impuls des Signals 421A an dem Anschluß 421 erscheint, und demzufolge das eingeschnürte Plasma 18 an der Leiterschicht 131 erzeugt wird. Wenn als nächstes der erste Impuls des Signals 402A an dem Transistor 402 ankommt, dann erscheint der erste Impuls des Signals 422A an dem Anschluß 422, wodurch das eingeschnürte Plasma 18 zu der angrenzenden Leiterschicht 132 verschoben wird. In der gleichenIt is assumed that a constricted plasma 18 is attached the conductor layer 131 is located. Then, the closing of the transistor 402 is effected by applying a voltage to the terminal 452 that the collector voltage of this transistor 402 and consequently not only the voltage of the conductor layer 132, but also those of layers 135 and 138 have about 150 volts. As a result from this the constricted plasma 18, which is located on the conductor 131, migrates to the next conductor 132. This displacement of the constricted plasma 18 arises, as is assumed, from the collapse of an electron envelope which is formed at the conductor 132, or by a reduced impedance in its vicinity due to the arrival of the electrons. The above-mentioned will now continue with reference to FIG Displacement of the constricted plasma 18 will be described in detail. Waveform 401A denotes the input at the base of transistor 401, the waveforms 402A, 403A or * 404A denote the input at the base of the transistors 402, 403 and 404 and waveforms 421A to 424A represent, respectively the 150 V output signals that are present at the connections until 424 appear. When the first pulse of signal 401A is the Transistor 401 is supplied, it is closed or non-conductive made, causing the first pulse of signal 421A to turn on appears at the terminal 421, and consequently the constricted plasma 18 is generated at the conductor layer 131. If as next, the first pulse of signal 402A on the transistor 402 arrives, then the first pulse of signal 422A appears at terminal 422, causing the constricted plasma 18 to become the adjacent conductor layer 132 is moved. In the same

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Weise wird das eingeschnürte Plasma 18 fortschreitend zu der lederschicht 134 befördert. Wenn unter diesen Bedingungen der Transistor 402 mit dem zweiten Impuls des Signals 402A versorgt wird, erscheint wieder ein Impuls von 150 Y an dem Anschluß 422. Zu diesem Zeitpunkt ist das eingeschnürte Plasma 18 jedoch zu der Leiterschicht 135 gebracht, die sich am nächsten "bei der Leiterschicht 134 befindet und schon mit Spannung versorgt ist. Auf dieselbe Weise wird das eingeschnürte Plasma 18 der Reihe nach zu den Leiterschichten 136, 137 .... vorgeschoben, d.h. in Pig. 15 nach rechts. Nach der Ankunft bei der letzten Leiterschicht wird das eingeschnürte Plasma 18 zu der ersten Leiterschicht 131 durch den zweiten Impuls des Signals 401A zurückgestellt.Thus, the constricted plasma 18 is progressively conveyed to the leather layer 134. If under these conditions the Transistor 402 is supplied with the second pulse of signal 402A, a pulse of 150 Y reappears on the terminal 422. At this point, however, the constricted plasma 18 is brought to the conductor layer 135 that is closest to each other "is located at the conductor layer 134 and is already supplied with voltage is. In the same way, the constricted plasma 18 is sequentially advanced to the conductor layers 136, 137 ..., i.e. in Pig. 15 to the right. After arriving at the final conductor layer, the constricted plasma 18 becomes the first conductor layer 131 reset by the second pulse of signal 401A.

"Pig. 17 zeigt noch ein weiteres erfindungsgemäßes Abtastsystem für eine eindimensionale Anzeige. Die Emitter der Transistoren"Pig. 17 shows yet another scanning system according to the invention for a one-dimensional display. The emitters of the transistors

401 bis 404 sind gemeinsam mit dem negativen Anschluß einer401 to 404 are one in common with the negative terminal

40 V-Spannungsquelle 46 verbunden, deren positiver Anschluß geerdet ist. Die Kollektoren dieser Transistoren 401 bis 404 sind über einen gemeinsamen Widerstand 43 geerdet und ebenso die Ausgangsanschlüsse 421 bis 424 der Abtastschaltung der Pig. 17. Wenn sie nicht mit einem negativen Eingangssignal versorgt werden, sind die Transistoren 401 bis 404 alle leitend. Wenn unter solchen Bedingungen der Transistor 401 mit dem ersten Impuls des ersten Signals 401A versorgt wird, wird er ausgeschaltet, wodurch die Spannung an dem Anschluß 421 ansteigt und demzufolge das eingeschnürte Plasma 18 an der Leiterschicht 131 erzeugt wird. Wenn unter diesen Bedingungen an dem Transistor40 V voltage source 46 connected, the positive terminal of which is grounded is. The collectors of these transistors 401 to 404 are grounded via a common resistor 43, as are the Output terminals 421 to 424 of the Pig's scanning circuit. 17. If not supplied with a negative input signal are, the transistors 401 to 404 are all conductive. If under such conditions the transistor 401 with the first pulse of the first signal 401A is supplied, it is turned off, whereby the voltage at the terminal 421 increases and consequently the constricted plasma 18 is generated on the conductor layer 131. If under these conditions on the transistor

402 der erste Impuls des Signals 402A angelegt wird, wird das eingeschnürte Plasman 18 in derselben Weise, wie oben beschrieben, verschoben.402 the first pulse of signal 402A is applied, this becomes constricted plasman 18 in the same way as described above, postponed.

Die Pig. 18 bis 20 zeigen zusammen noch ein anderes Abtastsystem gemäß der Erfindung für eine eindimensionale Anzeige. In diesem Pail werden drei Transistoren 401 bis 403 verwendet, wie in Pig. 18 gezeigt ist. Abtastsignale erscheinen an drei Aus-The Pig. Figures 18-20 together show yet another scanning system in accordance with the invention for a one-dimensional display. In This Pail uses three transistors 401-403 as in Pig. 18 is shown. Scanning signals appear at three

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gangsanschlüssen 421 bis 423» deren Ausgang weiter den leiterschichten 131, 132 .... in der Weise zugeführt wird, die in Pig. 19 gezeigt ist. Das eingeschnürte Plasma 18, das an der lederschicht 131 gebildet wird, wird zu der lederschicht 132 in derselben Weise, wie im vorhergehenden Pail, verschoben. Im Zeitpunkt t., der Pig. 20 haben die leiterschichten 131 und 132 -40 V in bezug auf die Kathode 7, wodurch das eingeschnürte Plasma 18 zu der lederschicht 133 befördert wird.output connections 421 to 423 »whose output continues to the conductor layers 131, 132 .... is supplied in the manner described in Pig. 19 is shown. The constricted plasma 18, which at the leather layer 131 is formed becomes the leather layer 132 postponed in the same way as in the previous pail. At the time t., The Pig. 20 have the conductor layers 131 and 132 -40 V with respect to the cathode 7, whereby the constricted plasma 18 is carried to the leather layer 133.

In der gleichen Weise tritt das eingeschnürte Plasma 18 durch die löcher 12 des Plasmaeinschnürungsteiles 11, um ein eindimensionales Abtasten durchzuführen.In the same way, the constricted plasma 18 passes through the holes 12 of the plasma constriction part 11 in order to be one-dimensional To perform scanning.

Die Pig. 21 bis 25 zeigen ein Abtastsystem gemäß der Erfindung für eine zweidimensionale Anzeige. Pig. 21 zeigt ein Plasmaeinschntirungsteil 11 für eine zweidimensionale Anzeige. Dieses !L'eil 11 besteht aus vielen Zeilen von leiterschichten 1311,The Pig. 21-25 show a scanning system according to the invention for a two-dimensional display. Pig. 21 shows a plasma containment part 11 for a two-dimensional display. This part 11 consists of many lines of conductor layers 1311,

1312 ,■ die in einer eindimensionalen Anzeige verwendet1312, ■ used in a one-dimensional display

werden, und vielen Spalten von leiterschichten 13, die zusammen ein Matrixmuster bilden. Die leitersohichten 1311, 1321, 1331, 1341 ...... 13n1, die die äußerste linke Spalte dieser Matrix bilden, werden mit den Rückstellsignalen V₁ bis V_n versorgt, die in Pig. 22 gezeigt sind. Die übrigen leiterschichten, die eine Reihe von Spalten, wie 1312, 1322, 1332 ,..., 1313, 1323, 1333.._M -■ 1314, 1324, 1334 bilden, sind jeweils miteinander verbunden. Jede Spalte von leiterschichten ist mit einer vierten Spalte verbunden, d.h. es werden zwei dazwischenliegende Spalten ausgelassen. Alle drei aufeinanderfolgende Spalten von leiterschichten, mit Ausnahme der ersten Spalte, die aus den leiterschichten 1311, 1321, 1331, 1341 besteht, werden derand many columns of conductor layers 13 which together form a matrix pattern. The conductor layers 1311, 1321, 1331, 1341 ...... 13n1, which form the leftmost column of this matrix, are _{supplied with the reset signals V 1} to V _n , which are stored in Pig. 22 are shown. The remaining conductor layers, which form a series of columns, such as 1312, 1322, 1332, ..., 1313, 1323, 1333 .. _M - ■ 1314, 1324, 1334, are each connected to one another. Each column of conductor layers is connected to a fourth column, ie two columns in between are left out. All three consecutive columns of conductor layers, with the exception of the first column, which consists of the conductor layers 1311, 1321, 1331, 1341, become the

Reihe nach jeweils mit AbtastSignalen H₁, H₂ und H, versrorgt, die in Pig. 22 gezeigt sind. _One after the other with scanning signals H 1, H ₂ and H, supplied in Pig. 22 are shown.

Mit Bezug auf Pig. 22 soll nun das System der Pig. 21 zum Abtasten des plasmaeinschnürenden Teils 11 beschrieben werden. Wenn ein Rückstellsignal V₁ der lederschicht 1311 zugeführtWith reference to Pig. 22 should now be the system of Pig. 21 for scanning the plasma constricting portion 11 will be described. When a reset _{signal V 1 is} supplied to the leather layer 1311

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wird, wird ein eingeschnürtes Plasma an einem Punkt gebildet, der dieser lederschicht 1311 entspricht. Nach dem sukzessiven Anlegen des ersten Impulses der Abtastsignale H₁, H₂ und H^ an die leiterschichten 1312, 1313 und 1314 wird das eingeschnürte Plasma der Reihe nach zu diesen leitern verschoben. Ebenso wird nach dem sukzessiven Anlegen des zweiten Impulses der Abtastsignale H₁, H₂ und H, an die leiterschichten 1315, 1316 und 1317 das eingeschnürte Plasma 18 der Reihe nach zu diesen leiterschichten befördert. Dasselbe ergibt sich mit den dritten und folgenden Impulsen der Abtastsignale H₁, H₂ und H^, auch wenn sich die damit verknüpften leiterschichten ändern. Wenn unter diesen Bedingungen z.B. das Rückstellsignal V₂ an die Ieiter3chicht 1321 angelegt wird, wird das eingeschnürte Plasma dorthin verschoben. In gleicher Weise werden die folgenden leiterschichten 1322, 1323 der Reihe nach für dne zweidimensional« Anzeige abgetastet. is formed, a constricted plasma is formed at a point corresponding to this leather layer 1311. After the successive application of the first pulse of the scanning signals H ₁ , H ₂ and H ^ to the conductor layers 1312, 1313 and 1314, the constricted plasma is shifted to these conductors in sequence. Likewise, after the successive application of the second pulse of the scanning signals H ₁ , H ₂ and H to the conductor layers 1315, 1316 and 1317, the constricted plasma 18 is conveyed to these conductor layers in sequence. The same occurs with the third and subsequent pulses of the scanning signals H ₁ , H ₂ and H ^, even if the conductor layers associated therewith change. If, for example, the reset _{signal V 2 is applied} to the conductor layer 1321 under these conditions, the constricted plasma is shifted there. In the same way, the following conductor layers 1322, 1323 are scanned in sequence for the two-dimensional display.

Pig. 23 ist eine Abwandlung des Plasmaeinschnürungsteils 11, die ein Entladungslicht an derselben Anzahl von Stellen, wie im Pail der Pig. 21 abgeben kann, aber mit einer kleineren Anzahl von Abtastsignalen als in diesem Palle. Das Plasmaeinschnürungsteil der Pig. 23 hat im wesentlichen dieselbe Anordnung wie das der Pig. 21 und ermöglicht auch die Verwendung derselben Rückstell- und Abtastsignale, wie sie in Pig. 22 gezeigt sind. Aber das Plasmaeinschnürungsteil der Pig. 23 unterscheidet sich von dem vorhergehenden darin, daß mit Ausnahme der obersten lederschicht 1311 der Spalte von leiterschichten an der äußersten linken Seite der Matrix der Rest 1321 bis 13n1 dieser Spalte aus einer solchen Anzahl von leiterschichten besteht, daß er in drei gleiche Gruppen eingeteilt werden kann, und jeweils drei entsprechende leiterschichten dieser Gruppen miteinander verbunden sind und jeweils gleichzeitig mit Rucksteilsignalen V₂ bis V_Q versorgt werden.Pig. 23 is a modification of the plasma constricting member 11 which emits discharge light in the same number of places as in the Pail of Pig. 21 can emit, but with a smaller number of scanning signals than in this Palle. The plasma constriction part of the pig. 23 has essentially the same arrangement as that of the Pig. 21 and also allows the use of the same reset and scan signals as used in Pig. 22 are shown. But the plasma constriction part of the pig. 23 differs from the previous one in that, with the exception of the top leather layer 1311 of the column of conductive layers on the far left side of the matrix, the remainder 1321 to 13n1 of this column consists of such a number of conductive layers that it can be divided into three equal groups , and in each case three corresponding conductor layers of these groups are connected to one another and are each supplied _{simultaneously with reverse part signals V 2} to V _Q.

Wenn nach dem oben genannten Abtastsystem das eingeschnürte Plasma 18 zu der leiterschicht 1321 von z.B. der lederschicht 131nIf, according to the above-mentioned scanning system, the constricted plasma 18 to the conductor layer 1321 of e.g. the leather layer 131n

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"bewegt wird, wird das Rucks teil signal V₂ ^zu den Leiterschichten [i3(K+1 )ij[ und (i3(2K)ij ebenso wie zu dem leiter 1321 zugeführt. In diesem Falle wandert jedoch das eingeschnürte Plasma 18 zuverlässig zu der nächsten Leiterschicht 1321, wie aus der früheren Beschreibung deutlich wird. Demgemäß erlaubt das Abtastsystem der Fig. 23, die Anzakl der Rückstellsignale auf einen beliebigen Teil der in Fig. 21 erforderlichen zu verringern. "is moved, the back part signal V _{2 is} ^{fed to} the conductor layers [i3 (K + 1) ij [and (i3 (2K) ij] as well as to the conductor 1321. In this case, however, the constricted plasma 18 reliably migrates to the Next conductor layer 1321, as will be apparent from the earlier description, accordingly, the scanning system of FIG. 23 allows the number of reset signals to be reduced to any part of that required in FIG.

Die Fig. 24 und 25 zeigen Schaltungsanordnungen zum Durchführen des Abtastsystems der Fig. 21. In Fig. 24 ist eine Entladungs- μ spannungsquelle von 200 V zwischen der Anode 51 und der Kathode 52 einer Entladungsröhre 50 angeschlossen, wobei die Kathode 52 geerdet ist. Die Leiterschichten 13, die in dem Plasmaeinschnürungsteil 11 eingeschlossen sind, welches in der Entladungsröhre 50 vorgesehen ist, sind über die entsprechenden hohen Widerstände R mit einem hohen Widerstand von einigen 100 kOhm geerdet. Die Leiterschichten 13 sind so angeschlossen, daß die Abtastsignale IL bis EU ihnen von den Kollektoren der Transistoren 55, die mit einer Abtastspannungsquelle 54 von 100 bis 150 V verbunden sind, nur zugeführt werden, wenn diese Transistoren 55 zu o,der nicht-leitend sind. Andererseits werden die Rückstellsignale V₁ bis V_n des Leiterschichten 13 von den Kollektoren der Transistoren 56, die mit dieser Abtastspannungsquelle 54 verbunden sind, nur zugeführt, wenn diese Transistoren 56 zu sind.24 and 25 show circuit arrangements for implementing the scanning system of FIG. 21. In FIG. 24, a discharge μ voltage source of 200 V is connected between the anode 51 and the cathode 52 of a discharge tube 50, the cathode 52 being grounded. The conductor layers 13 enclosed in the plasma constriction part 11 provided in the discharge tube 50 are grounded through the corresponding high resistances R having a high resistance of several 100 kOhms. The conductor layers 13 are connected in such a way that the scanning signals IL to EU are fed to them from the collectors of the transistors 55, which are connected to a scanning voltage source 54 of 100 to 150 V, only when these transistors 55 are non-conductive . On the other hand, the reset signals V ₁ to V _{n of} the conductor layer 13 are supplied from the collectors of the transistors 56, which are connected to this sense voltage source 54, only when these transistors 56 are closed.

In der Schaltung der Fig. 24 liegt das Potential sowohl des negativen als auch des positiven Pols der Spannungsquelle 54 durch die Widerstände R oberhalb von dem der Kathode 52. In Fig. 25 ist die positive Seite einer Spannungsquelle 57 von z.B. 40 V geerdet, und ihre negative Seite ist mit den Emittern der Transistoren 55 und 56 verbunden, deren Kollektoren über die jeweiligen hohen Widerstände R_ geerdet sind. Gemäß dem Abtastsystem der Fig. 25 wird die Leiterschicht, die mit einer Entladung verknüpft ist, mit -40 V versorgt, indem dieIn the circuit of FIG. 24, the potential of both the negative and the positive pole of the voltage source 54 is present by the resistors R above that of the cathode 52. In FIG. 25, the positive side of a voltage source 57 is from e.g. 40 V grounded, and its negative side is connected to the emitters of transistors 55 and 56, whose collectors are across the respective high resistances R_ are grounded. According to the scanning system of FIG. 25, the conductor layer provided with a Discharge is linked, supplied with -40 V by the

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Transistoren 55 oder 56 selektiv leitend gemacht v/erden, wodurch das eingeschnürte Plasma an eine andere Stelle verschoben wird.Transistors 55 or 56 selectively made conductive v / ground, whereby the constricted plasma is moved to another location.

In allen vorhergehenden Ausführungsformen war die Kathode der Entladungsröhre eine heiße Kathode. Wie in Fig. 26 gezeigt wird, erlaubt jedoch auch eine kalte Kathode 60 die Verwendung der Erfindung in derselben Weise. Die anderen Teile und die Wirkungsweise der Fig. 26 sind die gleichen wie die der Ausführungsformen mit einer heißen Kathode, und ihre Beschreibung ist daher weggelassen. Während in diesem Fall eine Anzeige durch Plasmabeleuchtung von der Frontplatte 2 beobachtet v/erden kann, indem die Anode 4 aus einer transparenten Leiterschicht hergestellt wird, ist es außerdem möglich, die Anzeige von der Seite der kalten Kathode 60 zu beobachten, indem dieser aus einer transparenten lederschicht gebildet wird.In all of the previous embodiments, the cathode of the discharge tube was a hot cathode. As shown in Fig. 26, however, a cold cathode 60 also allows the invention to be used in the same manner. The other parts and how it works of Fig. 26 are the same as those of the embodiments with a hot cathode, and their description is therefore omitted. While in this case a display through Plasma lighting can be observed from the front plate 2 by making the anode 4 from a transparent conductor layer it is also possible to observe the display from the side of the cold cathode 60 by pulling it out of a transparent leather layer is formed.

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Claims (17)

PatentansprücheClaims Gasentladungs-Anzeigevorrichtung für eine Informationsanzeige, die das Licht verwendet, das durch eine Entladung zwischen der Kathode und Anode erzeugt wird, dadurch gekennze ichnet, daß in dem Entladungsweg zwischen der Kathode und der Anode ein Plasmaeinschnürungs- % teil angebracht ist, das aus isolierendem Material hergestellt ist und mit wenigstens einem pläsmaeinschnürenden loch durchbohrt ist, und daß das licht, das von einem eingeschnürten Plasma in diesem loch erzeugt wird, zur Informationsanzeige verwendet wird.The gas discharge display device for an information display that uses the light that is generated by a discharge between the cathode and anode, characterized gekennze ichnet that in the discharge path between the cathode and the anode, a Plasmaeinschnürungs-% member is attached, the insulating material is made and is pierced with at least one plasma constricting hole, and that the light generated by a constricted plasma in this hole is used to display information. 2. Anzeigevorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Anode aus einer Yielzahl von transparenten, leitenden Einheiten besteht, wobei jede in einem Stück in diesem das Plasma einschnürenden loch ausgebildet ist.2. Display device according to claim 1, characterized in that that the anode is made up of a number of transparent, conductive ones Units consists, each of which is formed in one piece in this hole constricting the plasma. 3. Anzeigevorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, M daß das Plasmaeinschnürungsteil aus einer isolierenden Platte besteht, die zwischen der Anode und der Kathode angebracht ist und mit wenigstens einem plasmaeinschnürenden loch durchbohrt ist, und wobei eine leiterschicht an der Innenoberfläche dieses loches ausgebildet ist.3. The display device according to claim 1, characterized in that M that the Plasmaeinschnürungsteil consists of an insulating plate which is disposed between the anode and the cathode and is pierced with at least one plasmaeinschnürenden hole, and wherein a conductor layer on the inner surface of this formed hole. 4. Anzeigevorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Plasmaeinschriürungsteil so gebaut ist, daß die maximale Differenz Av zwischen dem Durchmesser des Pl-isrciaraumes in der Fähe der Kathode und dem des Plasmas ms ::hnürungsloches und die mittlere freie we;-i; a_e : /?u -l-ai Elektronen in eier Nähe dieses loches der Besiehung /\ r// e ? 1 genügen. 4. Display device according to claim 1, characterized in that the plasma constriction part is constructed so that the maximum difference Av between the diameter of the Pl-isrciaraumes in the vicinity of the cathode and that of the plasma ms :: constriction hole and the mean free we; -i ; a _e : /? u -l-ai electrons near this hole of desires / \ r // e? 1 suffice. 109833/U47109833 / U47 5. Anzeigevorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Plasmaeinschnürungsteil Plasmaeinschnürungslöcher für eine eindimensionale Anzeige hat, die im wesentlichen in gleichem Abstand angeordnet sind.5. Display device according to claim 1, characterized in that that the plasma constriction part has plasma constriction holes for a one-dimensional display that essentially has are arranged at the same distance. 6. Anzeigevorrichtung n&ch Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Plasmae.Inschnürungsteil Plasmaeinschnürungslöcher hat, die für eine zwcidiniensionale Anzeige in Katrixform angeordnet sind.6. Display device n & ch claim 1, characterized in that that the plasma. constriction part plasma constriction holes for a two-dimensional display in matrix form are arranged. 7. Anseigiivorr:L hbung, nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, da3 zusätzlich sine Abtasteinrichtung vorgesehen ist, um die Eiiihsltsancöenteile selektiv mit einer Ali tact spannung zu versorgen.7. Anseigiivorr: L hbung, according to claim 2, characterized in that an additional scanning device is provided to selectively supply the Eiiihsltsancöenteile with an Ali tact voltage. 8. A"^ige^ j^x-io'vr^c ;?c^u •'uj-.-oru^h ;*■ > dadurch gekennzeichnet, daß susä"i2-i.".."L'j t ^;.-..-: .-. "it .. .-■■·-*;. ^- " chi-..- τ r*»-^ ^ ^ j h ·:"■'· :'.^t, um die Leitersob.iehr/n selektit mix ,iVi-j::· Abt^tcpannung zu8. A "^ ige ^ j ^ x-io'vr ^ c;? C ^u • 'uj -.- oru ^ h; * ■> characterized in that susä" i2-i. ".."L'j t ^; .-..-: .-. "it .. .- ■■ · - * ;. ^ -" chi -..- τ r * »- ^ ^ ^ jh ·:" ■ '·:'. ^ t, to select the ladder object mix , iVi-j :: · Abt ^ tcvoltage zu 9. AnseigevGL-rioLir---..-g nach. Ar-spruob 6, dadurch gekennzeich.net, daß die Abtastei?iriclrfc;ing so gebaut ist, daß sie die Leitungsschi chi-er; selektiv fflit einer Abtastspannung versorgt, die im wesentlichen gleich ner Anodenspannung ist.9. AnseigevGL-rioLir ---..- g according to. Ar-spruob 6, thereby marked.net, that the scanning device is built in such a way that it sheds the line chi-he; selectively supplied with a scanning voltage, which is essentially equal to ner anode voltage. 10. Anaeigevorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Abtasteinrichtung so gebaut ist, daß sie die Leitungssohichten selektiv mit einer Abtastspannung versorgt, die niedriger als die Kathodenspannung ist. 10. Anaeigevorrichtung according to claim 8, characterized in that the scanning device is constructed so that it selectively supplies the line layers with a scanning voltage which is lower than the cathode voltage . 11. Anzeigeverrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, aai die ibta -'.-; uricht ing so gebaut ist, daß sie Lgend zwei an·-1 nand*:· Lⁱ a,.3ohl ießenien Leiterschichten verschiedene Pott t.: - Ui r;'i._'Li!irt., 11. Display device according to claim 8, characterized in that aai the ibta -'.-; uricht ing is constructed so that it has two nand Lgend to -1 · *: L ⁱ a, .3ohl ießenien conductor layers different Pott t .: - Ui r 'i ._' Li irt,!. G 9 8 3 - ' i 4 4 7G 9 8 3 - ' i 4 4 7 BAD ORiGINAtBAD ORiGINAt 12. Anzeigevorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Leiterschichten in Piasmaeinschnürungslöehern ausgebildet sind, welche für eine zweidimensional Anzeige in Matrixform angeordnet sind.12. Display device according to claim 11, characterized in that the conductor layers in Piasmaeinschnürungslöehern which are arranged in matrix form for a two-dimensional display. 13. Anzeigevorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Einheitsanodenteile mit einer fluoreszierenden Schicht "beschichtet sind.13. Display device according to claim 2, characterized in that that the unit anode parts are coated with a fluorescent layer ". 14. Anzeigevorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,14. Display device according to claim 6, characterized in that daß eine Einrichtung vorgesehen ist zum Zuführen von Rück- ™ Stellsignalen für das Abtasten in Längsrichtung der Reihe nach zu wechselseitig verbundenen leiterschichten, welche die erste Spalte der Matrix in !Längsrichtung bilden, und daß eine Einrichtung vorgesehen ist zum Zuführen von Abtastsignalen zu wechselseitig verbundenen Leiterschichten von jeweils zwei aufeinanderfolgenden Spalten, wobei zwei dazwischenliegende Spalten ausgelassen werden, wobei diese Abtastsignale für jeweils drei Gruppen, von denen jede aus diesen zwei aufeinanderfolgenden Spalten besteht, verschieden sind.that a device is provided for the supply of return ™ Control signals for scanning in the longitudinal direction sequentially to mutually connected conductor layers, which form the first column of the matrix in the longitudinal direction, and that a device is provided for supplying scanning signals to mutually connected conductor layers of two consecutive columns each, with two intermediate columns are omitted, these scanning signals for every three groups, each of which consists of these two consecutive columns is different are. 15- Anzeigevorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, J daß mit Ausnahme der obersten Leiterschicht der ersten Spalte der Matrix die übrigen Leiterschichten eine Anzahl haben, die in einer Vielzahl von gleichen Gruppen teilbar ist, und daß zusätzlich eine Einrichtung vorgesehen ist zum Miteinanderverbinden der Leiterschichten diesel" Gruppen, die sich an der entsprechenden Stelle befinden.15- display device according to claim 14, characterized in that J that, with the exception of the top conductor layer of the first column of the matrix, the remaining conductor layers are a number have, which is divisible into a plurality of equal groups, and that in addition a device is provided for Interconnecting the conductor layers of these "groups, which are located in the appropriate place. 16. Anzeigevorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode eine kalte Eathode ist, die aus einer transparenten Leiterschicht besteht.16. Display device according to claim 2, characterized in that the cathode is a cold cathode consisting of a transparent one Conductor layer consists. 17. Anzeigevori rung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Katu de, die Anode und das Plasmaeinschnürungsteil17. Display device according to claim 1, characterized in that that the Katu de, the anode and the plasma constriction part 109833/ f U 7109833 / f U 7 sicti in einer Gasatmosphäre befinden, die aus wenigstens einem der Bestandteile Helium, Neon, Argon, Stickstoff, Wasserstoff und Quecksilber besteht und bei einem Druck von 1 bis einigen 20 Torr, eingeleitet wird.sicti are in a gas atmosphere that consists of at least consists of one of the components helium, neon, argon, nitrogen, hydrogen and mercury and at a pressure from 1 to a few 20 Torr. 109833/UA7109833 / UA7 LeerseiteBlank page