DE202022106067U1 - Positioning table for positioning an object - Google Patents
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- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 6
- 229920002430 Fibre-reinforced plastic Polymers 0.000 claims description 3
- SXSVTGQIXJXKJR-UHFFFAOYSA-N [Mg].[Ti] Chemical compound [Mg].[Ti] SXSVTGQIXJXKJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011151 fibre-reinforced plastic Substances 0.000 claims description 3
- 239000010438 granite Substances 0.000 claims description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 21
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 21
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 21
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N (2r,3r,4s,5r)-2-[6-[[2-(3,5-dimethoxyphenyl)-2-(2-methylphenyl)ethyl]amino]purin-9-yl]-5-(hydroxymethyl)oxolane-3,4-diol Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(C(CNC=2C=3N=CN(C=3N=CN=2)[C@H]2[C@@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)C=2C(=CC=CC=2)C)=C1 BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
-
- G—PHYSICS
- G12—INSTRUMENT DETAILS
- G12B—CONSTRUCTIONAL DETAILS OF INSTRUMENTS, OR COMPARABLE DETAILS OF OTHER APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G12B5/00—Adjusting position or attitude, e.g. level, of instruments or other apparatus, or of parts thereof; Compensating for the effects of tilting or acceleration, e.g. for optical apparatus
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Positioniertisch zum Positionieren eines Objektes, umfassend:- eine Halteeinrichtung (C), um das Objekt zu halten,- ein erstes Stellelement (A1), das mit einem Schwenkarm (1) gekoppelt ist, um die Halteeinrichtung (C) in tangentialer Richtung bezüglich einer Schwenkachse (A) zu verschwenken,- ein zweites Stellelement (C1), um die Halteeinrichtung (C) in radialer Richtung zur Schwenkachse (A) zu bewegen,- eine Steuereinheit, um das erste und das zweite Stellelement so anzusteuern, dass das auf der Halteeinrichtung (C) gehaltene Objekt in einer vorgegebenen Position positioniert wird.Positioning table for positioning an object, comprising: - a holding device (C) to hold the object, - a first actuating element (A1) which is coupled to a pivot arm (1) to move the holding device (C) in a tangential direction with respect to a to pivot the pivot axis (A), - a second actuating element (C1) to move the holding device (C) in the radial direction to the pivot axis (A), - a control unit to control the first and second actuating elements so that the Holding device (C) held object is positioned in a predetermined position.
Description
Die Erfindung betrifft einen Positioniertisch zum Positionieren eines Objekts, insbesondere für die Positionierung einer Substratscheibe (sog. Wafer) in einer Wafertest-Vorrichtung (einem sog. Waferprober).The invention relates to a positioning table for positioning an object, in particular for positioning a substrate disk (so-called wafer) in a wafer testing device (a so-called wafer prober).
Positioniertische zum exakten Ausrichten eines Objektes bezüglich eines Werkzeugs zum Bearbeiten des Objektes oder einer Messvorrichtung zum Vermessen des Objektes sind in vielen technischen Gebieten bekannt. Insbesondere bei der Halbleiterfertigung werden solche Positioniertische für Waferbearbeitungs- bzw. Testvorrichtungen verwendet, mit denen ein Wafer bearbeitet bzw. getestet oder anderweitig bearbeitet werden kann. Dabei wird der Wafer bezüglich Kontaktierungsnadeln eines Testsystems ausgerichtet. Zum Testen von auf dem Wafer befindlichen integrierten Schaltungen werden die Kontaktierungsnadeln an einer bestimmten, zuvor mittels des Positioniertisches angefahrenen Position des Wafer aufgesetzt, so dass die darauf befindliche integrierte Schaltung elektrisch kontaktiert wird.Positioning tables for precisely aligning an object with respect to a tool for processing the object or a measuring device for measuring the object are known in many technical areas. Particularly in semiconductor production, such positioning tables are used for wafer processing or testing devices with which a wafer can be processed or tested or otherwise processed. The wafer is aligned with respect to the contacting needles of a test system. To test integrated circuits located on the wafer, the contacting needles are placed at a specific position on the wafer that was previously moved to using the positioning table, so that the integrated circuit located thereon is electrically contacted.
Die Schaltkreisstrukturen und die entsprechenden elektrischen Anschlussflächen auf einer solchen integrierten Schaltung sind üblicherweise sehr klein, so dass das Ausrichten des Wafer bezüglich der Kontaktierungsnadeln sehr exakt erfolgen muss. Hinzu kommt, dass die übliche Wafergröße bei einem Durchmesser von derzeit bis zu 300 mm liegt, so dass der Wafer in einem großen Bewegungsbereich verfahrbar sein muss, wobei eine Genauigkeit von unter 1 µm mit einer Auflösung im Submikronbereich eingehalten werden muss. Eine weitere Anforderung mit hoher Genauigkeit bei gleichzeitig großem Bearbeitungsbereich liegt in der spanenden Bearbeitung von Bauteilen insbesondere von Bauteilen mit komplexen geometrischen Strukturen bzw. Oberflächen oder in der Fertigung von Bauteilen in der Mikrosystemtechnik.The circuit structures and the corresponding electrical connection areas on such an integrated circuit are usually very small, so that the wafer must be aligned very precisely with respect to the contacting needles. In addition, the usual wafer size is currently up to 300 mm in diameter, so that the wafer must be able to move over a large range of motion, while maintaining an accuracy of less than 1 µm with a resolution in the submicron range. Another requirement with high accuracy and a large machining range at the same time is the machining of components, especially components with complex geometric structures or surfaces, or the production of components in microsystem technology.
Herkömmliche Positioniertische weisen in der Regel zwei Baugruppen auf, die übereinander angeordnet und miteinander gekoppelt sind, wobei eine Baugruppe für eine Bewegung des Wafers in eine X-Richtung und eine weitere Baugruppe für eine Bewegung des Wafer in eine Y-Richtung vorgesehen sind. Auch aufgrund der verwendeten Materialien, die einen nicht vernachlässigbaren TemperaturausdehnungsKoeffizienten aufweisen, ist die erreichbare Positionierauflösung und Positions-Anfahrgeschwindigkeit bei Positioniertischen dieser Art begrenzt, so dass bei einer weiteren Verkleinerung der Strukturgrößen und Strukturabstände die Genauigkeit und Kontaktierungssicherheit abnimmt. Des Weiteren bestehen die Positioniertische aus vielen einzelnen Bauteilen, die eine hohe Fertigungsgenauigkeit benötigen, wodurch Herstellungskosten der einzelnen Bauteile sehr hoch sind.Conventional positioning tables generally have two assemblies that are arranged one above the other and coupled to one another, with one assembly being provided for moving the wafer in an X direction and another assembly being provided for moving the wafer in a Y direction. Also due to the materials used, which have a non-negligible temperature expansion coefficient, the achievable positioning resolution and positioning approach speed for positioning tables of this type is limited, so that if the structure sizes and structure spacing are further reduced, the accuracy and contact reliability decrease. Furthermore, the positioning tables consist of many individual components that require a high level of manufacturing precision, which means that the manufacturing costs of the individual components are very high.
In der
Die Patentschrift
In der Patentschrift
Ein aerostatisch geführtes Tischsystem für die Vakuumanwendung ist aus der Druckschrift
Die aus dem Stand der Technik bekannten Positioniertische sind aufwendig in ihrer Konstruktion benötigen viele Bauteile mit einer hohen Fertigungsgenauigkeit und sind entsprechend kostenintensiv und aufwendig in der Herstellung.The positioning tables known from the prior art are complex in their construction, require many components with a high level of manufacturing accuracy and are correspondingly costly and complex to manufacture.
Aufgabe der Erfindung ist es, einen Positioniertisch zum Positionieren eines Objekts zu entwickeln, mit dem ein Objekt schnell, genau und zuverlässig kartesisch in X, Y, Z und Theta (Drehung um Z) positioniert werden kann. Das Objekt oder Werkstück wird dabei von einer Halteeinrichtung getragen oder fixiert.The object of the invention is to develop a positioning table for positioning an object, with which an object can be positioned quickly, accurately and reliably in a Cartesian manner in X, Y, Z and theta (rotation about Z). The object or workpiece is carried or fixed by a holding device.
Diese Aufgabe wird mit den Merkmalen des ersten und sechzehnten Schutzanspruchs gelöst.This task is solved with the features of the first and sixteenth protection claims.
Vorteilhafte Ausgestaltungen ergeben sich aus den Unteransprüchen.Advantageous refinements result from the subclaims.
Gemäß einem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Positioniertisch zum Positionieren eines Objektes vorgesehen. Der Positioniertisch umfasst eine Halteeinrichtung, um das Objekt zu halten, ein erstes Stellelement, das mit einem Schwenkarm gekoppelt ist, um die Halteeinrichtung in tangentialer Richtung bezüglich einer Schwenkachse zu verschwenken, ein zweites Stellelement, um die Halteeinrichtung in radialer Richtung zur Schwenkachse zu bewegen, und eine Steuereinheit, um das erste und zweite Stellelement anzusteuern, so dass das auf der Halteeinrichtung gehaltene Objekt gemäß einer vorgegebenen Position positioniert wird.According to a first aspect of the present invention, a positioning table for positioning an object is provided. The positioning table comprises a holding device to hold the object, a first actuating element which is coupled to a pivot arm to pivot the holding device in a tangential direction with respect to a pivot axis, a second actuating element to move the holding device in a radial direction to the pivot axis, and a control unit for controlling the first and second actuating elements so that the object held on the holding device is positioned according to a predetermined position.
Der erfindungsgemäße Positioniertisch unterscheidet sich von herkömmlichen Positioniertischen dadurch, dass die Position durch das Objekt mit Hilfe einer Bewegung von Stellelementen in radialer und/oder tangentialer Richtung angefahren wird. Vor allem durch die Bewegung in tangentialer Richtung lässt sich ein schnelles Verfahren des Objektes erreichen. Des Weiteren ist diese Möglichkeit der Positionierung des Objekts genauer und zuverlässiger als bei bisherigen Positioniertischen.The positioning table according to the invention differs from conventional positioning tables in that the position is approached by the object with the aid of a movement of adjusting elements in the radial and/or tangential direction. The object can be moved quickly, especially by moving in a tangential direction. Furthermore, this option for positioning the object is more precise and reliable than with previous positioning tables.
Insbesondere kann die Steuereinheit geeignet sein, eine vorgegebene kartesische Koordinate (X/Y-Koordinate) für das Objekt in eine Stellbewegung des ersten Stellelements in tangentialer Richtung und eine Stellbewegung des zweiten Stellelements in radialer Richtung zu transformieren. Üblicherweise wird die Position der integrierten Schaltungen auf einer Substratscheibe aufgrund der matrixartigen Anordnung der integrierten Schaltungen in Form kartesischer Koordinaten angegeben. Auf diese Weise können bei der Verwendung einer solchen Steuereinheit für die Positionierung einer Substratscheibe in einer Wafertest-Vorrichtung die vorgegebenen kartesischen Koordinaten in geeigneter Weise in eine Stellbewegung der Stellelemente umgesetzt werden.In particular, the control unit can be suitable for transforming a predetermined Cartesian coordinate (X/Y coordinate) for the object into an adjusting movement of the first adjusting element in the tangential direction and an adjusting movement of the second adjusting element in the radial direction. The position of the integrated circuits on a substrate wafer is usually specified in the form of Cartesian coordinates due to the matrix-like arrangement of the integrated circuits. In this way, when using such a control unit for positioning a substrate wafer in a wafer testing device, the predetermined Cartesian coordinates can be converted in a suitable manner into an adjusting movement of the adjusting elements.
Vorzugsweise ist der Schwenkarm mit Faser verstärktem Kunststoff oder Magnesiumtitan gefertigt. Dies ist vorteilhaft, da diese Materialien sehr geringe TemperaturausdehnungsKoeffizienten aufweisen, so dass Positionierungenauigkeiten auf Grund von Temperaturschwankungen weitgehend vermieden werden können. Für Anwendungen mit erhöhten mechanischen Belastungen kann alternativ Granit zum Einsatz kommen. Auch eine Kombination der genannten Materialien ist denkbar.The swivel arm is preferably made of fiber-reinforced plastic or magnesium titanium. This is advantageous because these materials have very low coefficients of thermal expansion, so that positioning inaccuracies due to temperature fluctuations can be largely avoided. Granite can be used as an alternative for applications with increased mechanical loads. A combination of the materials mentioned is also conceivable.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist die Halteeinrichtung drehbeweglich mit dem Schwenkarm gekoppelt, wobei eine Ausgleichsvorrichtung vorgesehen ist, um bei einem Verschwenken des Schwenkarms eine Verdrehung der Halteeinrichtung zu kompensieren, so dass die Ausrichtung der Halteinrichtung beibehalten wird. Dies hat den Vorteil, dass unabhängig von dem Anfahren der Position durch den Positioniertisch auch die Ausrichtung des Objektes an der Position festgelegt werden kann. Da üblicherweise die Ausrichtung des Objektes bei einem Anfahren einer Position nicht geändert werden soll, damit das Objekt eine Bearbeitung in definierter Weise zugeführt wird, ist vorgesehen, dass die Ausgleichsvorrichtung die Drehung des Objektes bei einem Verschwenken des Verschwenkarms kompensiert.According to a further embodiment of the invention, the holding device is rotatably coupled to the swivel arm, with a compensating device being provided to compensate for rotation of the holding device when the swivel arm is pivoted, so that the alignment of the holding device is maintained. This has the advantage that the orientation of the object at the position can also be determined regardless of whether the positioning table moves to the position. Since the orientation of the object should not usually be changed when approaching a position so that the object is processed in a defined manner, it is provided that the compensation device compensates for the rotation of the object when the pivoting arm is pivoted.
Vorzugsweise ist die Ausgleichsvorrichtung als ein Parallelausgleichselement ausgebildet.The compensation device is preferably designed as a parallel compensation element.
Eine weitere Ausführungsform der Ausgleichsvorrichtung sieht die Verschiebung eines oder mehrere ihrer Gelenke in der Tischebene bezogen auf den Drehpunkt der Schwenkachse A vor. Die Verschiebung wird dabei durch mindestens ein Stellelement - wie beispielsweise Linearantrieb, Piezoaktuator, Exzenterantrieb, Mikrometerschrauben oder Spindelantrieb - realisiert. Die so erzielte Verschiebung der Gelenke bewirkt aufgrund der Übersetzung der Ausgleichsvorrichtung eine gleichbleibende Verdrehung der Halteeinrichtung um die Z-Achse im gesamten Arbeitsraum. Vorteilhaft ist dabei insbesondere, dass aufgrund der Übersetzung der Ausgleichsvorrichtung eine hochgenau Winkelfeinverstellung der Halteeinrichtung möglich ist, ohne dass hierfür ein angetriebenes Stellelement direkt an der Halteeinrichtung montiert werden muss.A further embodiment of the compensation device provides for the displacement of one or more of its joints in the table plane relative to the pivot point of the pivot axis A. The displacement is realized by at least one actuating element - such as a linear drive, piezo actuator, eccentric drive, micrometer screws or spindle drive. The displacement of the joints achieved in this way causes a constant rotation of the holding device around the Z axis in the entire working space due to the translation of the compensating device. It is particularly advantageous that, due to the translation of the compensating device, a highly precise fine angle adjustment of the holding device is possible without the need for a driven actuating element to be mounted directly on the holding device.
Alternativ kann die Ausgleichsvorrichtung ein drittes Stellelement aufweisen, das mit der Halteeinrichtung gekoppelt ist und das so durch die Steuereinheit ansteuerbar ist, dass das dritte Stellelement ein Verdrehen der Halteeinrichtung durch Verschwenken des Schwenkarms durch das erste Stellelement kompensiert.Alternatively, the compensation device can have a third actuating element which is coupled to the holding device and which can be controlled by the control unit in such a way that the third actuating element compensates for rotation of the holding device by pivoting the pivot arm through the first actuating element.
Es kann vorgesehen sein, dass das erste Stellelement an der Schwenkachse angeordnet ist. Alternativ kann das erste Stellelement als Linearantrieb ausgebildet sein, der an dem Schwenkarm angreift, so dass der Schwenkarm durch eine Längenänderung bewegt wird. Der Linearantrieb kann insbesondere eine Kugelumlaufspindel und/oder einen berührungslosen Linearmotor und/oder einen anderen geeigneten Linearantrieb aufweisen. Dies stellt besonders einfache Realisierungen dar, um eine Schwenkbewegung des Schwenkarms zu erreichen.It can be provided that the first actuating element is arranged on the pivot axis. Alternatively, the first actuating element can be designed as a linear drive, which acts on the swivel arm, so that the swivel arm is moved by a change in length. The linear drive can in particular have a ball screw and/or a non-contact linear motor and/or another suitable linear drive. This represents particularly simple implementations in order to achieve a pivoting movement of the pivot arm.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist der Linearantrieb zwischen einem fest angeordneten Haltpunkt und an einem Befestigungspunkt der Schwenkachse angeordnet, wobei sich die Halteeinrichtung zwischen dem Befestigungspunkt und der Schwenkachse befindet. Auf diese Weise kann die Positioniergenauigkeit der Halteinrichtung bzw. des Objektes bezüglich eines Verschwenkens des Schwenkarms weiter erhöht werden.According to a further embodiment of the invention, the linear drive is arranged between a fixed stop point and at an attachment point of the pivot axis, the holding device being located between the attachment point and the pivot axis. In this way, the positioning accuracy of the holding device or the object can be further increased with respect to pivoting of the pivot arm.
Vorzugsweise ist die Steuereinheit so ausgestaltet, um das erste und zweite Stellelement bei einem Verfahren der Halteeinrichtung so anzusteuern, dass die Halteeinrichtung linear in einer ersten Position und in einer zweiten Position verfahren wird. Dies ist vorteilhaft, wenn der Positioniertisch zum Bearbeiten eines Objektes verwendet wird, wobei die Bearbeitung des Objektes während des Verfahrwegs erfolgt.Preferably, the control unit is designed to control the first and second actuating elements during a movement of the holding device in such a way that the holding device is moved linearly in a first position and in a second position. This is advantageous if the positioning table is used to process an object, with the object being processed during the travel path.
Des Weiteren ist eine solche Ausgestaltung der Steuereinheit vorteilhaft, wenn der Verfahrweg so schnell wie möglich abgefahren werden soll.Furthermore, such a design of the control unit is advantageous if the travel path is to be traveled as quickly as possible.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung können gering auflösende Antriebe mit einem weiteren hochauflösenderen Antrieb gekoppelt werden (Differentialprinzip). Dieses zweite Antriebselement bietet den Vorteil einer wesentlich höheren Genauigkeit des Positioniertisches. Mit dieser Ausführungsform bestünde die theoretische Möglichkeit eine Positioniergenauigkeit von 1nm unter Voraussetzung eines geeigneten Messsystems zur Positionsüberwachung zu erreichen.According to a further embodiment of the invention, low-resolution drives can be coupled with another higher-resolution drive (differential principle). This second drive element offers the advantage of a significantly higher accuracy of the positioning table. With this embodiment there would be the theoretical possibility of achieving a positioning accuracy of 1nm provided there is a suitable measuring system for position monitoring.
Gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zum Positionieren eines Objektes mit einem solchen Positioniertisch vorgesehen. Das Verfahren umfasst die Schritte des Empfangens einer anzufahrenden Position als kartesische z.B. X/Y Koordinate in der Steuereinheit, des Transformierens der anzufahrenden Position in eine radiale Bewegungskomponente und/oder eine tangentiale Bewegungskomponente; und des Ansteuerns des ersten und zweiten Stellelements gemäß der radialen Bewegungskomponente und/oder der tangentialen Bewegungskomponente.According to a further aspect of the present invention, a method for positioning an object using such a positioning table is provided. The method includes the steps of receiving a position to be approached as a Cartesian, e.g. and controlling the first and second actuating elements according to the radial movement component and/or the tangential movement component.
Ein zugehöriges Verfahren hat den Vorteil, den erfindungsgemäßen Positioniertisch in bestehende Systeme einzusetzen, da herkömmliche Testersysteme die anzufahrende Position des Objektes üblicherweise in Form von kartesischen Koordinaten ausgibt.An associated method has the advantage of using the positioning table according to the invention in existing systems, since conventional tester systems usually output the position of the object to be approached in the form of Cartesian coordinates.
Bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung werden nachfolgend anhand der beigefügten Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
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1 eine schematische Darstellung eines Positioniertisches gemäß einer Ausführungsform der Erfindung in einer Draufsicht zeigt; -
2 eine schematische Darstellung eines Positioniertisches mit einer Ausgleichsvorrichtung zum Ausgleichen einer Verdrehung der Halteeinrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung in einer Draufsicht zeigt; -
3 eine schematische Darstellung eines Positioniertisches mit einer weiteren Ausführungsform der Ausgleichsvorrichtung zum Ausgleichen einer Verdrehung der Halteeinrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung in einer Draufsicht zeigt. -
4 eine schematische Darstellung eines Positioniertisches mit einer weiteren Ausführungsform der Ausgleichsvorrichtung, bei der ein Gelenkpunkt der Ausgleichsvorrichtung durch ein Stellelement in der Tischebene bezogen auf den Drehpunkt der Schwenkachse A verschiebbar ist.
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1 shows a schematic representation of a positioning table according to an embodiment of the invention in a top view; -
2 shows a schematic representation of a positioning table with a compensation device for compensating for rotation of the holding device according to a further embodiment of the invention in a top view; -
3 shows a schematic representation of a positioning table with a further embodiment of the compensation device for compensating for rotation of the holding device according to a further embodiment of the invention in a top view. -
4 a schematic representation of a positioning table with a further embodiment of the compensation device, in which an articulation point of the compensation device can be displaced by an adjusting element in the table plane in relation to the pivot point of the pivot axis A.
In
An der Schwenkachse A befindet sich ein erster Stellgeber A1, der den Schwenkarm 1 antreibt, um diesen um die Schwenkachse A zu verschwenken. Dadurch wird die Halteeinrichtung C in tangentialer Richtung um die Schwenkachse A bewegt. An dem Schwenkarm 1 ist ein zweiter Stellgeber C1 angebracht, der über ein Koppelelement mit der Halteeinrichtung C in Verbindung steht. Die Halteeinrichtung C ist an dem Schwenkarm 1 geführt, so dass sich die Halteeinrichtung C entlang des Schwenkarmes 1 angetrieben durch das zweite Stellelement C1 bewegen lässt.On the pivot axis A there is a first actuator A1, which drives the pivot arm 1 in order to pivot it about the pivot axis A. As a result, the holding device C is moved in a tangential direction about the pivot axis A. A second actuator C1 is attached to the swivel arm 1 and is connected to the holding device C via a coupling element. The holding device C is guided on the pivot arm 1, so that the holding device C can be moved along the pivot arm 1 driven by the second actuating element C1.
Das erste und das zweite Stellelement sind mit einer Steuereinheit verbunden, die Stellgrößen an diese Stellelemente sendet, um eine Stellbewegung hervorzurufen. Die Stellgröße kann alternativ manuell hervorgerufen werden.The first and second actuating elements are connected to a control unit which sends manipulated variables to these actuating elements in order to cause an actuating movement. Alternatively, the manipulated variable can be created manually.
In
Alternativ kann das zweite Stellelement C1 als Linearantrieb mit einem berührungslosen Linearmotor mit einem Anker ausgebildet sein, wobei anstelle der Spindel eine einfache Zugstange (nicht gezeigt) mit dem Anker verbunden sein kann.Alternatively, the second actuating element C1 can be designed as a linear drive with a non-contact linear motor with an armature, whereby a simple pull rod (not shown) can be connected to the armature instead of the spindle.
Alternativ kann das Stellelement C1 in jeder, zur Herbeiführung einer linearen Bewegung geeignete Ausführung eines Antriebes ausgeführt sein.Alternatively, the actuating element C1 can be designed in any version of a drive suitable for bringing about a linear movement.
Der Schwenkarm 1 weist vorzugsweise als Material Faser verstärkten Kunststoff oder Magnesium-Titan oder Granit auf, die einen geringen thermischen Ausdehnungskoeffizienten bzw. eine hohe Steifigkeit aufweisen, so dass der Einfluss von Temperaturschwankungen und Massen auf die Positioniergenauigkeit reduziert ist.The swivel arm 1 preferably has fiber-reinforced plastic or magnesium-titanium or granite as the material, which have a low coefficient of thermal expansion or high rigidity, so that the influence of temperature fluctuations and masses on the positioning accuracy is reduced.
Alternativ kann der Schwenkarm 1 aus einem, den Belastungen entsprechenden geeigneten Material bestehen.Alternatively, the swivel arm 1 can consist of a suitable material that corresponds to the loads.
Das Stellelement A1 ist beispielsweise als Schrittmotor ausgebildet, der eine ausreichende Genauigkeit aufweist, um auch in der radial am weitesten von der Schwenkachse A entfernten Position der Halteeinrichtung C eine ausreichend genaue Positioniergenauigkeit des Objekts zu erreichen.The actuating element A1 is designed, for example, as a stepper motor which has sufficient accuracy in order to achieve sufficiently precise positioning accuracy of the object even in the position of the holding device C that is radially furthest away from the pivot axis A.
Alternativ zu dem Schrittmotor, können die Schwenkarme 1 auch mit einem weiteren Linearantrieb E1 verbunden sein, der entfernt von der Schwenkachse A z.B. an einem Haltepunkt und mindestens einem der Schwenkarme 1 an einem Befestigungspunkt E angreift und diese mit einer bezüglich der Schwenkachse A tangentialen Richtungskomponente bewegt, um eine Verschwenkung der Schwenkarme 1 zu erreichen. Diese Ausführungsform ist in
Um eine bestimmte Position anzufahren, bestimmt die Steuereinheit Stellgrößen für das erste und zweite Stellelement C1, E1 die entsprechend so bewegt werden, dass das Objekt auf der Halteeinrichtung in die gewünschte Position verfährt. Dazu kann der Steuereinheit eine X/Y-Koordinate (kartesische Koordinate) beispielsweise von einem Testersystem (nicht gezeigt) oder einer sonstigen Steuereinheit bereitgestellt werden, die in der Steuereinheit transformiert wird, um Polarkoordinaten zu generieren. Die Winkelgröße der Polarkoordinaten führt dann zu der Stellgröße für das erste Stellelement E1 und die radiale Komponente der Polarkoordinaten zu dem Verfahrweg für das zweite Stellelement C1.In order to move to a specific position, the control unit determines manipulated variables for the first and second actuating elements C1, E1, which are moved accordingly so that the object moves to the desired position on the holding device. For this purpose, the control unit can be provided with an X/Y coordinate (Cartesian coordinate), for example from a tester system (not shown) or another control unit, which is transformed in the control unit in order to generate polar coordinates. The angular size of the polar coordinates then leads to the manipulated variable for the first actuating element E1 and the radial component of the polar coordinates to the travel path for the second actuating element C1.
Je nach Anwendungsbereich des Positioniertisches kann es zweckmäßig sein, den Verfahrweg des Objektes auf der Halteeinrichtung C zwischen einer ersten Position und einer zweiten Position linear zu gestalten. Dies ist eine Bewegung, die mit herkömmlichen Positioniertischen, die in Form zweier Verfahrachsen ausgebildet sind, einfach erreicht werden kann. Dieser Verfahrweg lässt sich in der Steuereinheit durch eine geeignete Ansteuerung der Stellelemente C1, E1 erreichen. Beispielsweise kann ein Linearverfahrweg in Wegpunkte (Inkremente) unterteilt werden, die in der Steuereinheit in entsprechende Polarkoordinaten umgesetzt werden, und die Halteeinrichtung C entlang der Wegpunkte verfahren wird.Depending on the area of application of the positioning table, it may be expedient to make the travel path of the object on the holding device C linear between a first position and a second position. This is a movement that can be easily achieved with conventional positioning tables designed in the form of two travel axes. This travel path can be achieved in the control unit by appropriately controlling the control elements C1, E1. For example, a linear travel path can be divided into waypoints (increments), which are converted into corresponding polar coordinates in the control unit, and the holding device C is moved along the waypoints.
Eine Verschwenkung des Schwenkarms 1 hat bei einer starren Halteeinrichtung C eine Drehung des Objektes zur Folge. Während bei einigen Objekten dies vernachlässigbar ist, da es auf die Ausrichtung des Objektes bei der Positionierung nicht ankommt, so muss insbesondere bei Verwendung des Positioniertisches in einer Wafertest-Vorrichtung die Ausrichtung der jeweiligen Substratscheibe zu den Kontaktierungsnadeln der Testervorrichtung exakt sein.
Diesbezüglich ist bei der Ausführungsform der
In this regard, in the embodiment
Eine besonders einfache Weise, eine Ausgleichsvorrichtung vorzusehen, die den Schwenkarm 1 nur in geringem Maße zusätzlich belastet, ist in
In
BezugszeichenlisteReference symbol list
- 11
- SchwenkarmSwing arm
- 22
- StellelementControl element
- 33
- KoppelstangeCoupling rod
- 44
- KoppelstangeCoupling rod
- 55
- KoppelstangeCoupling rod
- 66
- KoppelstangeCoupling rod
- 77
- Arbeitsraum working space
- AA
- Drehpunktpivot point
- A1A1
- erstes Stellelementfirst control element
- Bb
- Drehpunktpivot point
- CC
- Halteeinrichtung/FührungselementHolding device/guide element
- C1C1
- zweites Stellelementsecond control element
- DD
- Drehpunktpivot point
- EE
- Drehpunktpivot point
- FF
- Drehpunktpivot point
- GG
- Drehpunktpivot point
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDED IN THE DESCRIPTION
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Zitierte PatentliteraturCited patent literature
- DE 1200709 B [0005]DE 1200709 B [0005]
- US 6910847 B1 [0006]US 6910847 B1 [0006]
- EP 0971254 A2 [0006]EP 0971254 A2 [0006]
- US 4528490 [0007]US 4528490 [0007]
- WO 91/17564 A1 [0007]WO 91/17564 A1 [0007]
- DE 102008058306 B4 [0008]DE 102008058306 B4 [0008]
Claims (15)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE202022106067.3U DE202022106067U1 (en) | 2022-10-28 | 2022-10-28 | Positioning table for positioning an object |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE202022106067.3U DE202022106067U1 (en) | 2022-10-28 | 2022-10-28 | Positioning table for positioning an object |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE202022106067U1 true DE202022106067U1 (en) | 2024-02-05 |
Family
ID=90055010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE202022106067.3U Active DE202022106067U1 (en) | 2022-10-28 | 2022-10-28 | Positioning table for positioning an object |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE202022106067U1 (en) |
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-
2022
- 2022-10-28 DE DE202022106067.3U patent/DE202022106067U1/en active Active
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R207 | Utility model specification |