DE202018006640U1 - Circuit board - Google Patents

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Abstract

Mehrlagige Leiterplatte (1), die derart konfiguriert ist, dass Isolierschichten (30) und leitfähige Metallschichten (20) alternierend gestapelt und zu einem Leiterplattenverbund (10) laminiert sind, wobei zumindest eine innenliegende leitfähige Metallschicht (20) beidseitig an Isolierschichten (30) anliegt, dadurch gekennzeichnet, dass eine Innenlage (40, 44) zumindest eine leitfähige Metallschicht (21) umfasst, welche unstrukturiert (21) und somit frei von Ätzstrukturen eines photochemischen Ätzverfahrens ist sowie über ihre gesamte Schichtenlage (23) eine einheitliche Schichtdicke (22) aufweist.Multi-layer circuit board (1) which is configured in such a way that insulating layers (30) and conductive metal layers (20) are stacked alternately and laminated to form a circuit board assembly (10), with at least one inner conductive metal layer (20) lying on both sides of insulating layers (30) , characterized in that an inner layer (40, 44) comprises at least one conductive metal layer (21) which is unstructured (21) and thus free from etching structures of a photochemical etching process and has a uniform layer thickness (22) over its entire layer layer (23) .

Description

Offenbart wird ein Verfahren zum Herstellen einer mehrlagigen Leiterplatte, die derart konfiguriert ist, dass Isolierschichten und leitfähige Metallschichten alternierend gestapelt sind, wobei zumindest eine innenliegende leitfähige Metallschicht beidseitig an Isolierschichten anliegt.Disclosed is a method for producing a multilayer printed circuit board which is configured in such a way that insulating layers and conductive metal layers are stacked alternately, with at least one inner conductive metal layer resting on both sides against insulating layers.

Weiters werden im Rahmen der Erfindung Varianten einer verfahrensgemäß hergestellten Leiterplatte angegeben. Die mehrlagige Leiterplatte ist derart konfiguriert, dass Isolierschichten und leitfähige Metallschichten alternierend gestapelt und zu einem Leiterplattenverbund laminiert sind, wobei zumindest eine innenliegende leitfähige Metallschicht beidseitig an Isolierschichten anliegt.Furthermore, variants of a printed circuit board produced according to the method are specified within the scope of the invention. The multi-layer circuit board is configured in such a way that insulating layers and conductive metal layers are stacked alternately and laminated to form a circuit board assembly, with at least one inner conductive metal layer resting on both sides against insulating layers.

Aus dem Stand der Technik sind bereits unterschiedliche Ausführungen an mehrlagigen Leiterplatten bekannt. Solche mehrlagige Leiterplatten werden im Englischen meist als Multilayer Printed Circuit Board (PCB) bezeichnet.Different designs of multilayer printed circuit boards are already known from the prior art. Such multi-layer circuit boards are usually referred to in English as a multilayer printed circuit board (PCB).

Leiterplatten der hier betrachteten Art werden in der Elektronikindustrie weithin verwendet. Sie dienen meist als Trägerplatte für eine Anzahl von elektronischen Komponenten, die im Folgenden „elektronische Bauteile“ oder kurz „Bauteile“ genannt sind. In der Regel werden diese elektronischen Bauteile auf einer Seite der Trägerplatte angeordnet. Der Begriff „elektronischer Bauteil“ ist dahingehend zu verstehen, dass er jegliche elektronischen Komponenten umfassen soll, die mit Leiterbahnen in elektrischer Verbindung stehen können, wie beispielsweise Chips, die integrierte Schaltungen beinhalten, digitale oder analoge Prozessoren, aber auch einfachere Bauelemente, wie beispielsweise LEDs, Widerstände und dergleichen mehr.Printed circuit boards of the type under consideration are widely used in the electronics industry. They usually serve as a carrier plate for a number of electronic components, which are referred to below as “electronic components” or “components” for short. As a rule, these electronic components are arranged on one side of the carrier plate. The term “electronic component” is to be understood to include any electronic components that can be in electrical connection with conductor tracks, such as chips that contain integrated circuits, digital or analog processors, but also simpler components such as LEDs , Resistors and the like.

Die die Bauteile tragende Seite der Leiterplatte bzw. Trägerplatte wird im Rahmen dieser Offenbarung als „Oberseite“ bezeichnet; die dieser gegenüberliegende Seite wird als „Unterseite“ bezeichnet. Ebenso wird im Rahmen der vorliegenden Offenbarung eine Innenlage der mehrlagigen Leiterplatte, die aus einer oder aus mehreren Schichten aufgebaut ist, während des Herstellungsverfahrens ebenfalls in Bezug zur Oberseite bzw. zur Unterseite der Leiterplatte gesetzt. Das bedeutet, dass die Oberseite einer Innenlage zur Oberseite der mehrlagigen Leiterplatte hin orientiert ist bzw. entsprechend ausgerichtet wird.The side of the printed circuit board or carrier plate carrying the components is referred to as the “top side” in the context of this disclosure; the side opposite this is referred to as the "underside". Likewise, within the scope of the present disclosure, an inner layer of the multi-layer circuit board, which is composed of one or more layers, is also set in relation to the top side or the bottom side of the circuit board during the manufacturing process. This means that the top of an inner layer is oriented towards the top of the multilayer printed circuit board or is aligned accordingly.

Üblicherweise werden mehrlagige Leiterplatten in einem aufwendigen Herstellungsverfahren schichtweise aufgebaut, wobei jede einzelne leitfähige Metallschicht meist mit einem photochemischen Ätzverfahren unter Bildung von entsprechenden Leiterbahnen einzeln strukturiert wird. Als elektrisch leitfähige Metallschichten können jedwede elektrisch leitfähigen Materialien in Reinform oder als Mischungen eingesetzt werden. Im Allgemeinen sind sie jedoch aus Kupfer hergestellt. Als isolierendes Material wird beispielsweise faserverstärkter Kunststoff eingesetzt.Multi-layer printed circuit boards are usually built up in layers in a complex manufacturing process, with each individual conductive metal layer usually being individually structured using a photochemical etching process with the formation of corresponding conductor tracks. Any electrically conductive materials in pure form or as mixtures can be used as electrically conductive metal layers. However, they are generally made from copper. Fiber-reinforced plastic, for example, is used as an insulating material.

Um während des anschließenden Laminierens, also des Verpressens unter Druck bei erhöhter Temperatur, ein unbeabsichtigtes Verschieben der übereinander gestapelten Einzelschichten oder Lagenpakete zu verhindern, müssen entsprechende Referenzbohrungen in den vorbereiteten einzelnen Schichten oder Lagen angeordnet werden. Dadurch können die einzelnen Schichten oder vorbereiteten Lagenpakete über Referenzstifte in der Presseinrichtung, welche während des Pressvorgangs mit den Referenzbohrungen in Eingriff stehen, in ihren Lagen fixiert werden. Damit kann auch ein unerwünschter Lagenversatz vermieden werden.In order to prevent unintentional shifting of the stacked individual layers or bundles of layers during the subsequent lamination, i.e. pressing under pressure at elevated temperature, appropriate reference holes must be arranged in the prepared individual layers or layers. As a result, the individual layers or prepared bundles of layers can be fixed in their positions via reference pins in the pressing device, which are in engagement with the reference bores during the pressing process. An undesired layer misalignment can thus also be avoided.

All diese vorgenannten Schritte sind einem Fachmann auf dem Gebiet der Leiterplattenherstellung hinlänglich vertraut, weshalb hier auf weitere Detailangaben hinsichtlich der exakten Durchführung und Reihenfolge zur Herstellung einer durchgehend strukturierten mehrlagigen Leiterplatte verzichtet wird.All of these aforementioned steps are sufficiently familiar to a person skilled in the field of circuit board production, which is why further details regarding the exact implementation and sequence for producing a continuously structured multilayer circuit board are dispensed with here.

Für jene Fälle und Anwendungen, in denen eine mehrlagige Leiterplatte im Wesentlichen nur als Kühlkörper zur thermischen Kühlung der darauf angeordneten elektronischen Bauteile dienen soll, ist der Einsatz einer gemäß dem vorgenannten, hinlänglich bekannten aufwendigen Herstellungsverfahren hergestellten strukturierten mehrlagigen Leiterplatte allerdings zu aufwendig. Als mögliches Anwendungsszenario kommen hierzu beispielsweise mehrlagige Leiterplatten für den Einsatz in Fahrzeugscheinwerfern in Frage. Abweichend von den Vorgaben, die mehrlagige Leiterplatten beispielsweise in Mobiltelefonen oder vergleichbaren portablen elektronischen Geräten wie Laptop-Computern hinsichtlich der effizienten Platzausnutzung erfüllen müssen, steht beim Einsatz von Leiterplatten in Fahrzeugscheinwerfern meist ausreichend Platz für den Einbau zur Verfügung. In diesem Anwendungsgebiet steht die robuste und ausfallsichere Gestaltung der Leiterplatten im Vordergrund, wobei die ausreichende thermische Kühlung der elektronischen Bauteile, beispielsweise von LEDs, die in SMT (kurz für Surface-mounted-Technology)-Bauweise auf derartigen Leiterplatten befestigt sind, wesentlich ist.For those cases and applications in which a multi-layer circuit board is essentially only intended to serve as a heat sink for thermal cooling of the electronic components arranged on it, the use of a structured multi-layer circuit board produced according to the aforementioned, well-known, complex manufacturing process is too expensive. As a possible application scenario, for example, multi-layer printed circuit boards for use in vehicle headlights come into question. In contrast to the requirements that multi-layer printed circuit boards, for example in cell phones or comparable portable electronic devices such as laptop computers, have to meet with regard to efficient use of space, when using printed circuit boards in vehicle headlights, there is usually sufficient space available for installation. In this area of application, the focus is on the robust and fail-safe design of the circuit boards, with sufficient thermal cooling of the electronic components, for example LEDs, which are attached to such circuit boards in SMT (short for surface-mounted technology).

Die vorliegende Erfindung setzt sich daher zum Ziel, für die eingangs genannten mehrlagigen Leiterplatten sowie Verfahren zum Herstellen von mehrlagigen Leiterplatten die aus dem Stand der Technik bekannten Nachteile zu vermeiden. Angegeben wird zudem ein kostengünstiges sowie einfaches Herstellungsverfahren, um mehrlagige Leiterplatten, welche als Kühlkörper für die darauf angeordneten elektronischen Bauteile dienen, herzustellen. Außerdem sollen mit der vorliegenden Erfindung mehrlagige Leiterplatten sowie entsprechend hergestellte mehrlagige Leiterplatten angegeben werden, welche einen einfachen und kostengünstigen Aufbau aufweisen und die beispielsweise als Kühlkörper für die darauf bestückten elektronischen Bauteile dienen können.The aim of the present invention is therefore to avoid the disadvantages known from the prior art for the multilayer printed circuit boards mentioned at the beginning and for methods for producing multilayer printed circuit boards. In addition, a cost-effective and simple manufacturing process for multi-layer To produce printed circuit boards, which serve as heat sinks for the electronic components arranged on them. In addition, the present invention is intended to provide multi-layer printed circuit boards and correspondingly produced multi-layer printed circuit boards which have a simple and inexpensive structure and which can serve, for example, as heat sinks for the electronic components fitted thereon.

Im Rahmen der Erfindung wird eine mehrlagige Leiterplatte mit den Merkmalen von Anspruch 1 angegeben. Vorteilhafte Ausgestaltungen und Fortbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen und der Beschreibung dargelegt.In the context of the invention, a multilayer printed circuit board with the features of claim 1 is specified. Advantageous refinements and developments of the invention are set out in the subclaims and the description.

Das Verfahren zum Herstellen einer mehrlagigen Leiterplatte, die derart konfiguriert ist, dass Isolierschichten und leitfähige Metallschichten alternierend gestapelt sind, wobei zumindest eine innenliegende leitfähige Metallschicht beidseitig an Isolierschichten anliegt, umfasst die folgenden Schritte:

  • - Bereitstellen zumindest einer Innenlage, welche zumindest eine leitfähige Metallschicht umfasst, welche unstrukturiert und somit frei von Ätzstrukturen eines photochemischen Ätzverfahrens ist sowie über ihre gesamte Schichtenlage eine einheitliche Schichtdicke aufweist;
  • - Anordnen einer oberen Außenlage an einer Oberseite der zumindest einen Innenlage, wobei die obere Außenlage zumindest eine Isolierschicht sowie zumindest eine leitfähige Metallschicht, welche Metallschicht beispielsweise bereits unter Bildung von Leiterbahnen strukturiert ist, umfasst, wobei die obere Außenlage derart ausgerichtet wird, dass die zumindest eine Isolierschicht der oberen Außenlage auf einer unstrukturierten Metallschicht der zumindest einen Innenlage aufliegt;
  • - Anordnen einer unteren Außenlage an einer Unterseite der zumindest einen Innenlage, wobei die untere Außenlage zumindest eine Isolierschicht sowie zumindest eine leitfähige Metallschicht aufweist, wobei die untere Außenlage derart ausgerichtet wird, dass die zumindest eine Isolierschicht der unteren Außenlage auf einer unstrukturierten Metallschicht der zumindest einen Innenlage aufliegt;
  • - Laminieren des Lagenstapels, der aus der zumindest einen Innenlage, der oberen Außenlage sowie der unteren Außenlage gebildet wird, zu einem mehrlagigen Leiterplattenverbund.
The method for producing a multilayer printed circuit board, which is configured in such a way that insulating layers and conductive metal layers are stacked alternately, with at least one inner conductive metal layer resting on both sides against insulating layers, comprises the following steps:
  • - Providing at least one inner layer which comprises at least one conductive metal layer which is unstructured and thus free of etching structures of a photochemical etching process and has a uniform layer thickness over its entire layer layer;
  • Arranging an upper outer layer on an upper side of the at least one inner layer, the upper outer layer comprising at least one insulating layer and at least one conductive metal layer, which metal layer is already structured, for example, to form conductor tracks, the upper outer layer being aligned in such a way that the at least an insulating layer of the upper outer layer rests on an unstructured metal layer of the at least one inner layer;
  • Arranging a lower outer layer on an underside of the at least one inner layer, the lower outer layer having at least one insulating layer and at least one conductive metal layer, the lower outer layer being aligned in such a way that the at least one insulating layer of the lower outer layer is on an unstructured metal layer of the at least one Inner layer rests;
  • - Laminating the stack of layers, which is formed from the at least one inner layer, the upper outer layer and the lower outer layer, to form a multilayer circuit board assembly.

Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass mehrlagige Leiterplatten, die im Wesentlichen als Kühlkörper für eine ausreichende thermische Kühlung der darauf bestückten elektronischen Bauteile, beispielsweise von LEDs, dienen sollen, wesentlich einfacher und kostengünstiger hergestellt werden können, wenn die innerhalb der Leiterplatte angeordnete zumindest eine leitfähige Metallschicht unstrukturiert ist. Vorteilhaft wird demnach bei der Fertigung der mehrlagigen Leiterplatte zumindest eine Innenlage bereitgestellt, welche zumindest eine leitfähige Metallschicht umfasst, die unstrukturiert und somit frei von Ätzstrukturen eines photochemischen Ätzverfahrens ist. Aufgrund der fehlenden photochemischen Ätzung und Strukturierung weist diese unstrukturierte Metallschicht über ihre gesamte Schichtenlage, also ihre Schichtfläche, vorteilhaft eine einheitliche Schichtdicke auf.According to the invention, it was recognized that multi-layer circuit boards, which are intended to serve essentially as heat sinks for adequate thermal cooling of the electronic components fitted on them, for example LEDs, can be produced much more easily and cost-effectively if the at least one conductive metal layer arranged within the circuit board is unstructured is. Accordingly, during the manufacture of the multilayer printed circuit board, at least one inner layer is advantageously provided which comprises at least one conductive metal layer which is unstructured and thus free from etching structures of a photochemical etching process. Due to the lack of photochemical etching and structuring, this unstructured metal layer advantageously has a uniform layer thickness over its entire layer layer, that is to say its layer surface.

Im einfachsten Fall wird eine Innenlage bereitgestellt, welche genau eine leitfähige, unstrukturierte Metallschicht ist, welche frei von Ätzstrukturen eines photochemischen Ätzverfahrens ist sowie die über ihre gesamte Schichtenlage eine einheitliche Schichtdicke aufweist.In the simplest case, an inner layer is provided which is precisely a conductive, unstructured metal layer which is free of etching structures from a photochemical etching process and which has a uniform layer thickness over its entire layer layer.

Je nach Verfahrensweise kann eine obere Außenlage, die an der Oberseite der zumindest einen Innenlage angeordnet und mit dieser verpresst bzw. laminiert wird, wahlweise eine leitfähige Metallschicht an deren Außenseite bzw. Oberseite der Leiterplatte tragen, die während des Laminierens noch unstrukturiert ist. Somit muss also nach dem Laminieren des Lagenstapels, der aus der zumindest einen Innenlage, der oberen Außenlage sowie der unteren Außenlage gebildet wird, zu einem mehrlagigen Leiterplattenverbund, die obere Außenschicht des Leiterplattenverbunds noch beispielsweise mit einem photochemischen Ätzverfahren unter Bildung von Leiterbahnen strukturiert werden.Depending on the procedure, an upper outer layer, which is arranged on the upper side of the at least one inner layer and pressed or laminated with this, can optionally carry a conductive metal layer on the outer side or upper side of the circuit board, which is still unstructured during lamination. Thus, after the stack of layers, which is formed from the at least one inner layer, the upper outer layer and the lower outer layer, has been laminated to form a multilayer circuit board assembly, the upper outer layer of the circuit board assembly still has to be structured, for example with a photochemical etching process, with the formation of conductor tracks.

Alternativ dazu kann die außenliegende Metallschicht der oberen Außenlage bereits vor dem Laminieren zu einem Leiterplattenverbunds unter Bildung von Leiterbahnen strukturiert worden sein. Jedenfalls wird die obere Außenlage derart ausgerichtet, dass die zumindest eine Isolierschicht der oberen Außenlage vor dem Verpressen auf einer unstrukturierten Metallschicht der zumindest einen Innenlage aufliegt.As an alternative to this, the outer metal layer of the upper outer layer can already have been structured before lamination to form a printed circuit board assembly with the formation of conductor tracks. In any case, the upper outer layer is aligned in such a way that the at least one insulating layer of the upper outer layer rests on an unstructured metal layer of the at least one inner layer before pressing.

Nach dem gegebenenfalls noch erforderlichen Strukturieren der außenliegenden Metallschicht der oberen Außenlage unter Bildung von Leiterbahnen erfolgt noch ein entsprechendes Bestücken der Leiterbahnen mit einem oder mit mehreren elektronischen Bauteilen, woraufhin mit dem Herstellungsverfahren eine einsatzfähige mehrlagige Leiterplatte erhalten wird. Die strukturierten Leiterbahnen befinden sich bei einer derartigen Leiterplatte nur an der Oberseite der Leiterplatte. Die zumindest eine innenliegende Metallschicht ist definitionsgemäß unstrukturiert und somit frei von photochemischen Ätzstrukturen. Aufgrund des erfindungsgemäßen Aufbaus der mehrlagigen Leiterplatte wird das Herstellungsverfahren im Vergleich zu herkömmlichen Verfahren wesentlich vereinfacht. Einerseits entfällt das aufwendige photochemische Ätzen der zumindest einen innenliegenden Metallschicht. Da beim Verfahren eine oder mehrere Innenlagen miteinander verpresst werden, deren innenliegende leitfähige Metallschichten unstrukturiert sind und die keine Leiterstrukturen bzw. Leiterzüge sowie weiters über ihre gesamte Schichtenlage jeweils eine einheitliche Schichtdicke aufweisen, kann hier vorteilhaft auch das Anordnen von Referenzbohrungen in den Lagen des Lagenstapels entfallen.After structuring the outer metal layer of the upper outer layer with the formation of conductor tracks, the conductor tracks are fitted with one or more electronic components, whereupon a usable multi-layer circuit board is obtained with the manufacturing process. In such a circuit board, the structured conductor tracks are only located on the upper side of the circuit board. The at least one inner metal layer is by definition unstructured and thus free of photochemical etching structures. Due to the structure of the multilayer circuit board according to the invention, the Manufacturing process is significantly simplified compared to conventional processes. On the one hand, the complex photochemical etching of the at least one inner metal layer is no longer necessary. Since one or more inner layers are pressed together in the process, the inner conductive metal layers of which are unstructured and which do not have any conductor structures or conductor tracks and furthermore each have a uniform layer thickness over their entire layer layer, the arrangement of reference bores in the layers of the layer stack can advantageously be dispensed with here .

In einer vorteilhaften Ausführung des Verfahrens kann die zumindest eine bereitgestellte Innenlage weiterhin zumindest eine Isolierschicht umfassen, wobei die zumindest eine Isolierschicht mit der zumindest einen unstrukturierten Metallschicht zu einem Innenlagenverbund laminiert ist.In an advantageous embodiment of the method, the at least one provided inner layer can furthermore comprise at least one insulating layer, the at least one insulating layer being laminated with the at least one unstructured metal layer to form an inner layer composite.

In dieser Ausführung ist die zumindest eine bereitgestellte Innenlage beispielsweise ein Prepreg-Material, welches auf einer Seite mit einer Metallschicht, beispielsweise einer Kupferschicht, laminiert ist.In this embodiment, the at least one provided inner layer is, for example, a prepreg material which is laminated on one side with a metal layer, for example a copper layer.

In einer weiteren zweckmäßigen Variante des Verfahrens kann die zumindest eine bereitgestellte Innenlage zumindest zwei unstrukturierte Metallschichten umfassen, die jeweils frei von Ätzstrukturen eines photochemischen Ätzverfahrens sind sowie über ihre gesamte Schichtenlage jeweils eine einheitliche Schichtdicke aufweisen, wobei die zumindest zwei unstrukturierten Metallschichten mit zumindest einer dazwischen angeordneten innenliegenden Isolierschicht zu einem Innenlagenverbund laminiert sind.In a further expedient variant of the method, the at least one provided inner layer can comprise at least two unstructured metal layers, which are each free of etching structures of a photochemical etching process and each have a uniform layer thickness over their entire layer layer, the at least two unstructured metal layers with at least one in between inner insulating layer are laminated to form an inner layer composite.

In dieser Ausführung ist die zumindest eine bereitgestellte Innenlage beispielsweise ein Prepreg-Material, welches auf beiden Außenseiten jeweils mit einer Metallschicht, beispielsweise einer Kupferschicht, laminiert ist.In this embodiment, the at least one provided inner layer is, for example, a prepreg material which is laminated on both outer sides with a metal layer, for example a copper layer.

In einer alternative Variante des Verfahrens kann es von Vorteil sein, dass zumindest zwei oder mehrere Innenlagen bereitgestellt und wahlweise direkt übereinander oder aber unter Zwischenlegen zumindest einer weiteren Isolierschicht übereinander gestapelt werden, wobei jede der Innenlagen zumindest eine unstrukturierte Metallschicht umfasst, welche frei von Ätzstrukturen eines photochemischen Ätzverfahrens ist sowie über ihre gesamte Schichtenlage jeweils eine einheitliche Schichtdicke aufweist.In an alternative variant of the method, it can be advantageous that at least two or more inner layers are provided and optionally stacked directly on top of one another or with the interposition of at least one further insulating layer, each of the inner layers comprising at least one unstructured metal layer which is free of etched structures photochemical etching process and has a uniform layer thickness over its entire layer layer.

Zweckmäßig können demnach zumindest zwei Innenlagen separat vorbereitet und bereitgestellt werden, um rasch und kostengünstig einen mehrlagigen Lagenstapel zum anschließenden Laminieren bereitstellen zu können. Für den Fall, dass beispielsweise zwei oder mehr vorbereitete Innenlagen jeweils aus zweiseitig beschichtetem Prepreg-Material aufgebaut sind, würden außenseitig gelegene Metallschichten der Innenlagen beim Stapeln aneinander grenzen. In diesem Fall wird einfach eine weitere Isolierschicht, beispielsweise eine unbeschichtete Prepreg-Schicht, zwischen zwei vorbereitete Innenlagen gestapelt.Accordingly, at least two inner layers can expediently be prepared and provided separately in order to be able to provide a multilayer stack of layers for subsequent lamination quickly and inexpensively. In the event that, for example, two or more prepared inner layers are each made up of prepreg material coated on both sides, metal layers of the inner layers located on the outside would adjoin one another during stacking. In this case, another insulating layer, for example an uncoated prepreg layer, is simply stacked between two prepared inner layers.

In einer weiteren bevorzugten Verfahrensvariante kann jede im mehrlagigen Leiterplattenverbund innenliegende Metallschicht unstrukturiert und somit frei von Ätzstrukturen eines photochemischen Ätzverfahrens sein und über ihre gesamte Schichtenlage jeweils eine einheitliche Schichtdicke aufweisen.In a further preferred variant of the method, each inner metal layer in the multilayer printed circuit board assembly can be unstructured and thus free from etching structures of a photochemical etching process and each have a uniform layer thickness over its entire layer layer.

In dieser Ausführung wird das Herstellungsverfahren weiter vereinfacht, da jede der innenliegenden Metallschichten unstrukturiert ist.In this embodiment, the manufacturing process is further simplified, since each of the inner metal layers is unstructured.

Vorteilhaft kann bei einem Verfahren jede im mehrlagigen Leiterplattenverbund innenliegende unstrukturierte Metallschicht jeweils dieselbe einheitliche Schichtdicke aufweisen.In one method, each unstructured metal layer on the inside in the multilayer circuit board assembly can advantageously have the same uniform layer thickness.

Vorteilhaft können in dieser Ausführung beispielsweise sämtliche innenliegende unstrukturierte Metallschichten aus demselben Kupfermaterial mit einer einheitlichen Schichtdicke gefertigt werden, wodurch die Herstellungskosten weiter reduziert werden können.In this embodiment, for example, all internal, unstructured metal layers can advantageously be manufactured from the same copper material with a uniform layer thickness, as a result of which the manufacturing costs can be further reduced.

In einer alternativen Verfahrensvariante kann es vorteilhaft sein, wenn zumindest eine im mehrlagigen Leiterplattenverbund innenliegende unstrukturierte Metallschicht eine Schichtdicke aufweist, welche von der Schichtdicke einer weiteren innenliegenden unstrukturierten Metallschicht unterschiedlich ist.In an alternative variant of the method, it can be advantageous if at least one unstructured metal layer on the inside in the multilayer circuit board assembly has a layer thickness which is different from the layer thickness of a further inside unstructured metal layer.

Ebenso können ein Material oder auch unterschiedliche Materialien in unterschiedlichen Schichtdicken zur Herstellung der innenliegenden unstrukturierten Metallschichten verwendet werden. Beispielsweise können mehrere Kupferfolien in unterschiedlichen Schichtdicken als Metallschichten in den mehrlagigen Leiterplattenverbund einlaminiert werden. Die einzelnen unstrukturierten Metallschichten weisen allerdings definitionsgemäß jeweils eine einheitliche Schichtdicke über ihre Schichtfläche hinweg auf.Likewise, one material or also different materials in different layer thicknesses can be used to produce the unstructured metal layers on the inside. For example, several copper foils in different layer thicknesses can be laminated into the multilayer circuit board assembly as metal layers. However, by definition, the individual unstructured metal layers each have a uniform layer thickness over their layer surface.

Zweckmäßig kann bei einem Verfahren sein, wenn die zumindest eine bereitgestellte Innenlage vor dem Anordnen zu einem Lagenstapel gereinigt wird.In the case of a method, it can be expedient if the at least one provided inner layer is cleaned before it is arranged to form a stack of layers.

In einer weiteren zweckmäßigen Variante kann bei einem Verfahren die zumindest eine unstrukturierte Metallschicht der bereitgestellten Innenlage vor dem Anordnen der Innenlage zu einem Lagenstapel chemisch und/oder mechanisch aufgeraut werden.In a further expedient variant, in a method, the at least one unstructured metal layer of the provided inner layer can be combined into one before the inner layer is arranged Layer stacks are chemically and / or mechanically roughened.

Die Oberflächen der unstrukturierten Metallschichten der zumindest einen Innenlage sowie die strukturierten oder auch unstrukturierten Metallschichten der Außenlagen können erforderlichenfalls chemisch aufgeraut werden, um später eine verbesserte Haftung der Metallschichten zwischen den einzelnen Multilayer-Schichten des Leiterplattenverbunds zu erzielen. Diesen chemischen Prozess nennt man auch Braunoxidieren. Je glatter die Oberfläche der Metallschichten ist, umso schlechter ist die Haftung zwischen den einzelnen Schichten der Leiterplatte. Es kann erforderlich sein, die an sich unstrukturierten Metallschichten, die ohne photochemische Ätzstrukturen sind, dennoch durch Braunoxidieren entsprechend aufzurauen, um eine verbesserte Schichtenhaftung beim Laminieren zu erzielen. Auch entsprechend chemisch aufgeraute Metallschichten sind definitionsgemäß frei von Ätzstrukturen eines photochemischen Ätzverfahrens und weisen über ihre gesamte Schichtenlage jeweils eine einheitliche Schichtdicke auf. Alternativ zum chemischen Aufrauen oder in Ergänzung dazu können die an sich unstrukturierten Metallschichten, die frei von photochemischen Ätzstrukturen sind, auch mechanisch aufgeraut werden, um deren Haftungsvermögen beim Laminieren zu verbessern.The surfaces of the unstructured metal layers of the at least one inner layer and the structured or unstructured metal layers of the outer layers can, if necessary, be chemically roughened in order to later achieve improved adhesion of the metal layers between the individual multilayer layers of the circuit board assembly. This chemical process is also called brown oxidation. The smoother the surface of the metal layers, the worse the adhesion between the individual layers of the circuit board. It may be necessary to roughen the essentially unstructured metal layers, which are without photochemical etching structures, by brown oxidation in order to achieve improved layer adhesion during lamination. Also, correspondingly chemically roughened metal layers are by definition free from etching structures of a photochemical etching process and each have a uniform layer thickness over their entire layer layer. As an alternative to chemical roughening or in addition to this, the essentially unstructured metal layers, which are free of photochemical etching structures, can also be mechanically roughened in order to improve their adhesion during lamination.

In einer Weiterbildung des Verfahrens kann nach dem Laminieren des Lagenstapels zu einem mehrlagigen Leiterplattenverbund zumindest eine metallische Durchkontaktierung angeordnet werden, welche zumindest zwei benachbarte Metallschichten miteinander wärmeleitend verbindet. Zur metallischen Durchkontaktierung können beispielsweise eine oder mehrere Thermal Vias und/oder Plated-Trough-Holes (PTH) dienen. Thermal Vias verbessern den Wärmetransport senkrecht zur Leiterplatte. Die Wärmeleitung von kostengünstigen Basismaterialien für Isolierschichten wie beispielsweise ein FR-4 Basismaterial zur Herstellung eines Prepregs ist oftmals zur Wärmeableitung für thermisch hochbelastete elektronische Bauteile zu gering. Metallische Durchkontaktierungen haben primär die Aufgabe, die Wärmeleitfähigkeit zu verbessern. Dabei wird meist der hohe Wärmeleitwert von etwa 300 W / (m.K) von Kupfer als bevorzugtem Material für eine derartige Durchkontaktierung genutzt. Vorzugsweise werden metallische Durchkontaktierungen dort gesetzt, wo später die elektronischen Bauteile bestückt werden. Somit kann im Bereich der Grundflächen der Bauteile eine verbesserte Wärmeableitung durch die mehrlagige Leiterplatte erzielt werden. Da die innenliegenden Metallschichten unstrukturiert und damit frei von Leiterbahnen sind, müssen bei den metallischen Durchkontaktierungen vorteilhaft keine Freistellungen zur Kurzschlussabschirmung gegenüber den durchgebohrten Metallschichten beachtet werden.In a further development of the method, after lamination of the stack of layers to form a multilayer printed circuit board assembly, at least one metallic through-hole connection can be arranged, which connects at least two adjacent metal layers to one another in a thermally conductive manner. For example, one or more thermal vias and / or plated through holes (PTH) can be used for the metallic through-hole plating. Thermal vias improve the heat transport perpendicular to the circuit board. The heat conduction of inexpensive base materials for insulating layers such as an FR-4 base material for the production of a prepreg is often too low for heat dissipation for thermally highly stressed electronic components. Metallic vias are primarily used to improve thermal conductivity. The high thermal conductivity of around 300 W / (m.K) of copper is usually used as the preferred material for such a through-hole plating. Metallic vias are preferably placed where the electronic components will later be fitted. In this way, improved heat dissipation can be achieved through the multilayer printed circuit board in the area of the base areas of the components. Since the inner metal layers are unstructured and thus free of conductor tracks, there is advantageously no need to consider any clearances for short-circuit shielding with respect to the metal layers drilled through in the metallic vias.

Bei einem Verfahren kann vorteilhaft sein, wenn die zumindest eine metallische Durchkontaktierung von einer Außenseite der oberen Außenlage bis zu zumindest einer innenliegenden unstrukturierten Metallschicht reicht.In one method, it can be advantageous if the at least one metallic plated-through hole extends from an outside of the upper outer layer to at least one unstructured metal layer on the inside.

In dieser Ausführungsvariante kann die vom elektronischen Bauteil abgegebene Abwärme vorteilhaft direkt von der Außenseite der oberen Außenlage der Leiterplatte in die innenliegenden Metallschichten abgeleitet werden.In this embodiment variant, the waste heat given off by the electronic component can advantageously be diverted directly from the outside of the upper outer layer of the circuit board into the inner metal layers.

In einer weiteren vorteilhaften Verfahrensvariante kann nach dem Laminieren des Lagenstapels zu einem mehrlagigen Leiterplattenverbund die leitfähige Metallschicht an der Außenseite der oberen Außenlage unter Bildung von Leiterbahnen strukturiert werden, wobei vorzugsweise die Strukturierung der Leiterbahnen mit einem photochemischen Ätzverfahren erfolgt, woraufhin die strukturierten Leiterbahnen mit zumindest einem elektronischen Bauteil bestückt werden.In a further advantageous variant of the method, after the stack of layers has been laminated to form a multilayer circuit board assembly, the conductive metal layer on the outside of the upper outer layer can be structured with the formation of conductor paths, the conductor paths preferably being structured with a photochemical etching process, whereupon the structured conductor paths with at least one electronic component can be fitted.

Wie bereits vorhin erwähnt kann die Ausbildung von strukturierten Leiterbahnen an der Außenseite der Leiterplatte je nach Verfahren vor oder nach dem Laminieren des Lagenstapels zu einem mehrlagigen Leiterplattenverbund durchgeführt werden.As already mentioned above, the formation of structured conductor tracks on the outside of the circuit board can be carried out, depending on the method, before or after the lamination of the stack of layers to form a multilayer circuit board assembly.

Weiters können die eingangs genannten Nachteile des Stands der Technik auch mit einer erfindungsgemäßen mehrlagigen Leiterplatte zumindest verringert werden. Sämtliche zuvor genannten Vorteile des Herstellungsverfahrens gelten gleichermaßen auch für die hergestellten Leiterplatten.Furthermore, the disadvantages of the prior art mentioned at the beginning can also be at least reduced with a multilayer printed circuit board according to the invention. All of the aforementioned advantages of the manufacturing process also apply equally to the printed circuit boards produced.

Eine gattungsgemäße mehrlagige Leiterplatte umfasst eine Innenlage mit zumindest einer leitfähigen Metallschicht, welche unstrukturiert und somit frei von Ätzstrukturen eines photochemischen Ätzverfahrens ist sowie über ihre gesamte Schichtenlage eine einheitliche Schichtdicke aufweist. Eine solche Leiterplatte kann besonders einfach und kostengünstig gefertigt werden, da innenliegende strukturierte Leiterbahnen fehlen. Auch ein Verrutschen der Lagen während des Verpressens ist aufgrund der hier bewusst fehlenden Ätzstrukturen bzw. fehlenden Leiterbahnen unkritisch. Die mehrlagige Leiterplatte kann nach dem Verpressen entsprechend seitlich beschnitten werden. Eine einsatzfähige Leiterplatte ist weiters an ihrer Außenseite mit Leiterbahnen strukturiert sowie mit zumindest einem elektronischen Bauteil, beispielsweise einem LED-Bauteil, bestückt.A generic multi-layer printed circuit board comprises an inner layer with at least one conductive metal layer, which is unstructured and therefore free of etching structures from a photochemical etching process and has a uniform layer thickness over its entire layer layer. Such a printed circuit board can be manufactured in a particularly simple and cost-effective manner, since there are no internal structured conductor tracks. Slipping of the layers during pressing is also uncritical due to the deliberately missing etching structures or missing conductor tracks. The multilayer circuit board can be trimmed laterally after pressing. A usable printed circuit board is also structured on its outside with conductor tracks and equipped with at least one electronic component, for example an LED component.

In einer vorteilhaften Ausführungsvariante der Erfindung kann bei einer Leiterplatte mit zwei oder mehreren innenliegenden Metallschichten jede im mehrlagigen Leiterplattenverbund innenliegende Metallschicht unstrukturiert und somit frei von Ätzstrukturen eines photochemischen Ätzverfahrens sein und über ihre gesamte Schichtenlage jeweils eine einheitliche Schichtdicke aufweisen.In an advantageous embodiment variant of the invention, in the case of a circuit board with two or more internal metal layers each inner metal layer in the multilayer printed circuit board assembly must be unstructured and thus free from etching structures of a photochemical etching process and each have a uniform layer thickness over their entire layer layer.

In einer weiteren Variante der Erfindung kann bei einer Leiterplatte jede im mehrlagigen Leiterplattenverbund innenliegende unstrukturierte Metallschicht jeweils dieselbe einheitliche Schichtdicke aufweisen.In a further variant of the invention, in the case of a printed circuit board, each unstructured metal layer on the inside in the multilayer printed circuit board assembly can each have the same uniform layer thickness.

In einer alternativen Variante kann bei einer erfindungsgemäßen Leiterplatte zumindest eine im mehrlagigen Leiterplattenverbund innenliegende unstrukturierte Metallschicht eine Schichtdicke aufweisen, welche von der Schichtdicke einer weiteren innenliegenden unstrukturierten Metallschicht unterschiedlich ist.In an alternative variant, in a circuit board according to the invention, at least one unstructured metal layer on the inside in the multilayer circuit board assembly can have a layer thickness which is different from the layer thickness of a further inside unstructured metal layer.

In einer zweckmäßigen Weiterbildung der erfindungsgemäßen Leiterplatte kann zumindest eine metallische Durchkontaktierung angeordnet sein, welche zumindest zwei benachbarte Metallschichten miteinander wärmeleitend verbindet. Wie vorhin bereits hinsichtlich des Verfahrens erwähnt wird damit die Wärmeleitfähigkeit der Leiterplatte weiter erhöht. Als metallische Durchkontaktierungen können beispielsweise Thermal Vias oder PTH's dienen. Vorzugsweise sind die metallischen Durchkontaktierungen unterhalb oder zumindest in wärmeleitender Nähe zu den außenseitig bestückten elektronischen Bauteilen angeordnet. Die metallischen Durchkontaktierungen ragen senkrecht in die Leiterplatte und verbinden zumindest zwei oder mehrere leitfähige Metallschichten miteinander.In an expedient development of the circuit board according to the invention, at least one metallic through-contact can be arranged which connects at least two adjacent metal layers to one another in a thermally conductive manner. As mentioned above with regard to the method, this further increases the thermal conductivity of the circuit board. Thermal vias or PTHs, for example, can serve as metallic vias. The metallic vias are preferably arranged below or at least in heat-conductive proximity to the electronic components fitted on the outside. The metallic vias protrude vertically into the circuit board and connect at least two or more conductive metal layers to one another.

Besonders vorteilhaft kann bei einer Leiterplatte gemäß der Erfindung die zumindest eine metallische Durchkontaktierung von der Außenseite der oberen Außenlage bis zu zumindest einer innenliegenden unstrukturierten Metallschicht reichen.In the case of a circuit board according to the invention, the at least one metallic plated-through hole can particularly advantageously extend from the outside of the upper outer layer to at least one unstructured metal layer on the inside.

Zweckmäßig ist bei einer einsatzfertigen Leiterplatte die leitfähige Metallschicht an einer Außenseite der oberen Außenlage mit Leiterbahnen strukturiert, wobei die strukturierten Leiterbahnen mit zumindest einem elektronischen Bauteil bestückt sind.In the case of a ready-to-use printed circuit board, the conductive metal layer is expediently structured with conductor tracks on an outside of the upper outer layer, the structured conductor tracks being equipped with at least one electronic component.

Zusammenfassend erzielt die Erfindung die folgenden Vorteile:

  • - einfache und günstige Herstellung von robusten wärmeleitenden mehrlagigen Leiterplatten ohne aufwendiges Ätzverfahren zur Strukturierung der inneren Metallschichten
  • - Flexibilität der Strukturierung der außenseitigen Leiterbahnen vor oder nach dem Laminieren des mehrlagigen Leiterplattenverbundes
  • - Laminieren des mehrlagigen Leiterplattenverbundes ohne Referenzbohrungen
  • - Optional kann eine weitere Verbesserung der Wärmeableitung durch Anordnen von metallischen Durchkontaktierungen erzielt werden.
In summary, the invention achieves the following advantages:
  • - Simple and inexpensive production of robust, thermally conductive multilayer printed circuit boards without a complex etching process for structuring the inner metal layers
  • - Flexibility of the structuring of the outside conductor tracks before or after the lamination of the multilayer circuit board assembly
  • - Laminating the multi-layer circuit board assembly without reference holes
  • - Optionally, a further improvement of the heat dissipation can be achieved by arranging metallic vias.

Die Erfindung samt weiterer Vorzüge wird im Folgenden anhand beispielhafter Ausführungsformen erläutert, die in den schematischen Zeichnungen dargestellt sind.The invention together with further advantages is explained below with reference to exemplary embodiments, which are shown in the schematic drawings.

Es zeigen:

  • - 1 in Schnittansichten den schrittweisen Aufbau bzw. die Strukturierung einer an sich aus dem Stand der Technik bereits bekannten Außenlage einer mehrlagigen Leiterplatte;
  • - 2 in Schnittansichten den schrittweisen Aufbau bzw. die Strukturierung einer an sich aus dem Stand der Technik bereits bekannten Innenlage einer mehrlagigen Leiterplatte;
  • - 3 in Schnittansichten den erfindungsgemäßen Aufbau einer mehrschichtigen Innenlage einer mehrlagigen Leiterplatte;
  • - 4 in einer teilweisen Explosionsdarstellung einen Ausschnitt des neuartigen Herstellungsverfahrens einer mehrlagigen Leiterplatte mit einem Lagenstapel vor dem Laminieren;
  • - 5 den in 4 veranschaulichten Aufbau des Lagenstapels in bereits verpresster Anordnung nach dem Laminieren;
  • - 6 eine erfindungsgemäße Ausführung einer fertigen mehrlagigen Leiterplatte in einer Schnittansicht bereits mit strukturierten Leiterzügen sowie mit einem elektronischen Bauteil (LED) bestückt;
  • - 7 eine weitere erfindungsgemäße Ausführung einer fertigen mehrlagigen Leiterplatte in einer Schnittansicht, wobei die Leiterplatte bereits mit strukturierten Leiterzügen sowie mit einem elektronischen Bauteil (LED) bestückt ist und weiters metallische Durchkontaktierungen aufweist.
Show it:
  • - 1 in sectional views the step-by-step construction or structuring of an outer layer of a multi-layer printed circuit board already known per se from the prior art;
  • - 2 in sectional views the step-by-step construction or structuring of an inner layer of a multi-layer printed circuit board already known per se from the prior art;
  • - 3 in sectional views the structure according to the invention of a multilayer inner layer of a multilayer printed circuit board;
  • - 4th a partial exploded view of a section of the novel manufacturing process for a multilayer printed circuit board with a stack of layers prior to lamination;
  • - 5 the in 4th Illustrated structure of the stack of layers in an already pressed arrangement after lamination;
  • - 6th an embodiment according to the invention of a finished multilayer printed circuit board in a sectional view already equipped with structured conductor tracks and with an electronic component (LED);
  • - 7th Another embodiment according to the invention of a finished multilayer printed circuit board in a sectional view, the printed circuit board already being equipped with structured conductor tracks and an electronic component (LED) and also having metallic vias.

1 zeigt in den Schritten (A) bis (H) den Aufbau bzw. die Strukturierung einer an sich aus dem Stand der Technik bereits bekannten Außenlage 50 einer mehrlagigen Leiterplatte. 1 shows in steps (A) to (H) the construction or the structuring of an outer layer already known per se from the prior art 50 a multilayer printed circuit board.

Schritt (A) zeigt die Außenlage 50 nach zuvor erfolgter Reinigung - also mit bereits gereinigten Oberflächen 70. Die Außenlage 50 umfasst hier eine Isolierschicht 30, die beispielsweise aus einem FR4-basierten Prepreg-Material hergestellt ist. Weiters umfasst die Außenlage 50 eine leitfähige Metallschicht 20, die hier beispielhaft aus Kupfer hergestellt ist. Die Metallschicht 20 ist bereits auf der Isolierschicht 30 auflaminiert.Step (A) shows the outside layer 50 after cleaning has already taken place - i.e. with surfaces that have already been cleaned 70 . The outer layer 50 here includes an insulating layer 30th made from an FR4-based prepreg material, for example. It also includes the outer layer 50 a conductive metal layer 20th that are here exemplarily made of copper is made. The metal layer 20th is already on the insulating layer 30th laminated on.

Schritt (B) zeigt die Außenlage 50 nach dem Laminieren einer Photoresist-Schicht 80, die außenseitig auf der Metallschicht 20 angeordnet ist.Step (B) shows the outside layer 50 after laminating a photoresist layer 80 that is on the outside of the metal layer 20th is arranged.

Schritt (C) zeigt die Belichtung der Photoresist-Schicht 80 durch eine außenseitig angeordnete Maske bzw. Belichtungsschablone 82 hindurch. Mit den Pfeilen 85 ist die Belichtung der Photoresist-Schicht 80 durch die Ausnehmungen der Belichtungsschablone 82 hindurch mit UV-Licht angedeutet.Step (C) shows the exposure of the photoresist layer 80 by a mask or exposure template arranged on the outside 82 through. With the arrows 85 is the exposure of the photoresist layer 80 through the recesses of the exposure template 82 indicated through with UV light.

Schritt (D) zeigt das Aushärten der belichteten Anteile 86 der Photoresist-Schicht 80, wobei diejenigen Abschnitte der Photoresist-Schicht 80, welche unter der Belichtungsschablone 82 vor dem Kontakt mit UV-Licht 85 geschützt waren, nicht ausgehärtet werden.Step (D) shows the curing of the exposed parts 86 the photoresist layer 80 , being those portions of the photoresist layer 80 which is under the exposure mask 82 before contact with UV light 85 were protected, not hardened.

Schritt (E) zeigt die Entwicklung nach dem Entfernen der unbelichteten Anteile der Photoresist-Schicht 80 in einer Entwicklerlösung,Step (E) shows the development after the removal of the unexposed portions of the photoresist layer 80 in a developer solution,

Schritt (F) zeigt die Außenlage 50 nach dem anschließenden photochemischen Ätzen der Außenlage50, wobei nur der freigelegte Teil der metallisierten Oberfläche angegriffen wird und die vom Photolack bzw. Photoresist bedeckten Anteile erhalten bleiben.Step (F) shows the outside layer 50 after the subsequent photochemical etching of the outer layer 50, only the exposed part of the metallized surface being attacked and the parts covered by the photoresist or photoresist being retained.

Schritt (G) zeigt die Außenlage 50 nach dem Strippen der Photoresist-Schicht, wobei das Photoresist (oder auch Ätzresist) gelöst und weggewaschen (gestrippt) wird. Es bleiben somit nach dem photochemischen Ätzverfahren von der Metallschicht 20 nur mehr die strukturierten Leiterbahnen 88 übrig.Step (G) shows the outside layer 50 after stripping the photoresist layer, the photoresist (or etching resist) being dissolved and washed away (stripped). This leaves the metal layer after the photochemical etching process 20th only the structured conductor tracks 88 left over.

Schritt (H) zeigt die obere Außenlage 50 nach dem Anordnen von Referenzbohrungen 90, die zur weiteren Bearbeitung sowie zum Justieren der Außenlage 50 relativ zu den weiteren vorbereiteten Lagen erforderlich sind.Step (H) shows the top outer layer 50 after arranging reference holes 90 for further processing and for adjusting the outer layer 50 relative to the other prepared layers are required.

Die Schritte (B) bis (G) in 1 betreffen also ein photochemisches Ätzverfahren zur Strukturierung von Leiterzügen 88 an der Außenseite einer mehrschichtigen Außenlage 50.Steps (B) through (G) in 1 thus relate to a photochemical etching process for structuring conductor tracks 88 on the outside of a multilayer outer layer 50 .

2 zeigt in den Schritten (A) bis (I) den Aufbau bzw. die Strukturierung von an sich aus dem Stand der Technik bereits bekannten Innenlagen einer mehrlagigen Leiterplatte. 2 shows, in steps (A) to (I), the construction or structuring of inner layers of a multi-layer printed circuit board, which are already known per se from the prior art.

Als Ausgangsmaterial ist in Schritt (A) ein beidseitig beschichtetes Prepreg-Material gezeigt, welches in der Mitte eine Isolierschicht 30 aufweist, die beidseitig mit leitfähigen Metallschichten 20 laminiert ist. Die in 2 gezeigten Schritte (A) bis (H) sind vergleichbar mit jenen zuvor in 1 beschriebenen Schritten (A) bis (H), weshalb hier in 2 auf die gleichlautende Wiederholung verzichtet wird. Die Schritte (B) bis (G) in 2 betreffen also ebenfalls ein photochemisches Ätzverfahren zur Strukturierung von Leiterzügen 88 an beiden Außenseiten einer mehrschichtigen Innenlage.The starting material shown in step (A) is a prepreg material coated on both sides, which has an insulating layer in the middle 30th having conductive metal layers on both sides 20th is laminated. In the 2 Steps (A) through (H) shown are similar to those previously in FIG 1 described steps (A) to (H), which is why here in 2 the repetition of the same name is dispensed with. Steps (B) through (G) in 2 thus also relate to a photochemical etching process for structuring conductor tracks 88 on both outer sides of a multi-layer inner layer.

Schritt (I) in 2 zeigt die aus dem Stand der Technik bekannte Innenlage nach dem Braunoxidieren - also nach dem chemischen Aufrauen der Kupferoberfläche. Somit weisen die Leiterzüge 88 eine chemisch aufgeraute Oberfläche 75 auf, wodurch eine bessere Haftung erzielt wird.Step (I) in 2 shows the inner layer known from the prior art after brown oxidation - i.e. after the chemical roughening of the copper surface. Thus, the conductor tracks show 88 a chemically roughened surface 75 resulting in better adhesion.

Die Schritte (B) bis (G) in 2 betreffen also ebenfalls ein photochemisches Ätzverfahren zur Strukturierung von Leiterzügen 88 hier an beiden Außenseiten der mehrschichtigen Innenlage.Steps (B) through (G) in 2 thus also relate to a photochemical etching process for structuring conductor tracks 88 here on both outer sides of the multi-layer inner layer.

3 zeigt in Ansicht (A) den erfindungsgemäßen Aufbau einer Innenlage 40 einer mehrlagigen Leiterplatte. Hierzu erfolgt der Aufbau der Innenlage 40 ohne ein photochemisches Ätzverfahren. Die leitenden metallischen Schichten 20 sind hier also frei von Ätzstrukturen und weisen somit über die gesamte Fläche ihrer Schichtenlage 23 jeweils eine einheitliche Schichtdicke 22 ohne Strukturierungen auf. Im Folgenden werden jene Metallschichten, welche erfindungsgemäß unstrukturiert und frei von Ätzstrukturen sind, mit dem Positionszeichen 21 gekennzeichnet. Die Innenlage 40 besteht hier also aus einem Kern einer Isolierschicht 30, welche beidseitig mit unstrukturierten Metallschichten 21 frei von Ätzstrukturen laminiert ist. In Ansicht (A) weisen die unstrukturierten Metallschichten 21 bereits gereinigte Oberflächen 70 auf. In Ansicht (B) sind die unstrukturierten Metallschichten 21 der vorbereiteten Innenlage 40 als mögliche Option beispielsweise mittels Braunoxidieren vorbehandelt und weisen eine chemisch aufgeraute Oberfläche 75 auf. Ätzstrukturen eines photochemischen Ätzverfahrens zur Strukturierung von Leiterbahnen fehlen auch hier. Weiters ist das Anordnen von Referenzbohrungen, wie dies bei dem in 2 veranschaulichten Herstellungsverfahren herkömmlicher Innenlagen erforderlich ist, bei einer erfindungsgemäßen Innenlage 40 nicht erforderlich. 3 shows in view (A) the structure of an inner layer according to the invention 40 a multilayer printed circuit board. For this purpose, the inner layer is built up 40 without a photochemical etching process. The conductive metallic layers 20th are therefore free of etched structures and thus cover the entire surface of their layer position 23 a uniform layer thickness in each case 22nd without structuring. In the following, those metal layers which, according to the invention, are unstructured and free of etched structures are given the position symbol 21 marked. The inner layer 40 consists here of a core of an insulating layer 30th , which have unstructured metal layers on both sides 21 is laminated free of etch structures. In view (A) show the unstructured metal layers 21 surfaces that have already been cleaned 70 on. In view (B) are the unstructured metal layers 21 the prepared inner layer 40 as a possible option, pretreated using brown oxidation, for example, and have a chemically roughened surface 75 on. Etching structures of a photochemical etching process for structuring conductor tracks are also missing here. Furthermore, the arrangement of reference holes, as in the case of the in 2 illustrated manufacturing method of conventional inner layers is required in an inner layer according to the invention 40 not mandatory.

4 zeigt in einer teilweisen Explosionsdarstellung für das neuartige Herstellungsverfahren einer mehrlagigen Leiterplatte das Anordnen eines Lagenstapels vor dem Verpressen. 4th shows in a partial exploded view for the novel manufacturing process of a multilayer printed circuit board the arrangement of a stack of layers before pressing.

In 4 ist die mit Lage (A) bezeichnete Lage eine obere Außenlage 50. Diese ist vergleichbar mit der in 1 (A) gezeigten vorbereiteten Außenlage 50. Die Außenlage 50 umfasst hier eine Isolierschicht 30, die beispielsweise aus einem FR4-basierten Prepreg-Material hergestellt ist. Weiters umfasst die obere Außenlage 50 eine leitfähige Metallschicht 20, die hier beispielhaft aus Kupfer hergestellt ist. Die Metallschicht 20 ist bereits auf der Isolierschicht 30 auflaminiert. Die hier in 4 (A) gezeigte Außenlage 50 ist noch unstrukturiert und noch ohne bestückten elektronischen Bauteilen.In 4th the layer labeled with layer (A) is an upper outer layer 50 . This is comparable to the in 1 (A) prepared outer layer shown 50 . The outer layer 50 here includes an insulating layer 30th made from an FR4-based prepreg material, for example. Also includes the upper outer layer 50 a conductive metal layer 20th , which is made here from copper as an example. The metal layer 20th is already on the insulating layer 30th laminated on. The one here in 4 (A) Outer layer shown 50 is still unstructured and still without any electronic components.

In 4 ist die mit Lage (B) bezeichnete Lage eine erste Innenlage 44, die in ihrem Aufbau der zuvor zu 3 (A) beschriebenen Innenlage 40 entspricht. Die Lage (C) entspricht einer Prepreg-Schicht 35, welche zwischen der ersten vorbereiteten Innenlage 40 und einer zweiten bzw. weiteren Innenlage 44 eingelegt wird. Die weitere Innenlage 44 ist in 4 mit der Lage (D) bezeichnet. Sowohl die erste Innenlage 40, als auch die zweite bzw. weitere Innenlage 44 bestehen hier jeweils aus einem Kern einer Isolierschicht 30, welche beidseitig mit unstrukturierten Metallschichten 21 frei von Ätzstrukturen laminiert ist.In 4th the layer labeled with layer (B) is a first inner layer 44 that in their build the previously too 3 (A) described inner layer 40 is equivalent to. The layer (C) corresponds to a prepreg layer 35 , which is between the first prepared inner layer 40 and a second or further inner layer 44 is inserted. The further inner layer 44 is in 4th denoted by position (D). Both the first inner layer 40 , as well as the second or further inner layer 44 each consist of a core of an insulating layer 30th , which have unstructured metal layers on both sides 21 is laminated free of etch structures.

In 4 ist mit der Lage (E) eine untere Außenlage 60 bezeichnet, welche hier eine Isolierschicht 30 umfasst, die beispielsweise aus einem FR4-basierten Prepreg-Material hergestellt ist. Weiters umfasst die untere Außenlage 60 eine leitfähige Metallschicht 20, die hier beispielhaft aus Kupfer hergestellt ist. Die Metallschicht 20 ist bereits auf der Isolierschicht 30 auflaminiert.In 4th is a lower outer layer with layer (E) 60 denotes, which here is an insulating layer 30th includes, which is made for example from an FR4-based prepreg material. It also includes the lower outer layer 60 a conductive metal layer 20th , which is made here from copper as an example. The metal layer 20th is already on the insulating layer 30th laminated on.

Die in 4 gezeigten Lagen (B), (C) und (D) können je nach Verfahrensführung wahlweise zuvor bereits als separater Lagenstapel der Innenlagen 40, 35, 44 laminiert werden, bevor anschließend in einem weiteren Laminierungsschritt die obere Außenlage 50 sowie die untere Außenlage 60 mit den zuvor laminierten Innenlagen laminiert werden. Oder aber - wie dies hier in 4 der Fall ist - kann der nachfolgende Laminierungsschritt auch einstufig erfolgen. Dazu werden hier die Lagen (B), (C) und (D) zu einem inneren Lagenstapel 100 angelegt bzw. übereinander gestapelt.In the 4th Layers (B), (C) and (D) shown can, depending on how the process is carried out, optionally beforehand as a separate layer stack of the inner layers 40 , 35 , 44 are laminated before the upper outer layer is then subsequently in a further lamination step 50 as well as the lower outer layer 60 be laminated with the previously laminated inner layers. Or - like this here in 4th is the case - the subsequent lamination step can also be carried out in one step. For this purpose, layers (B), (C) and (D) become an inner layer stack 100 laid out or stacked on top of each other.

Anschließend wird die obere Außenlage 50 so aufgestapelt, dass diese an einer Oberseite 41 der ersten Innenlage 40 anliegt. Die obere Außenlage 50 wird derart ausgerichtet, dass die Isolierschicht 30 der oberen Außenlage 50 auf einer unstrukturierten Metallschicht 21 der ersten Innenlage 40 aufliegt.Then the top outer layer 50 stacked so that these are on one top 41 the first inner layer 40 is present. The upper outer layer 50 is aligned so that the insulating layer 30th the upper outer layer 50 on an unstructured metal layer 21 the first inner layer 40 rests.

Ebenso wird die untere Außenlage 60 an der Unterseite 42 der weiteren Innenlage 44 angeordnet. Die untere Außenlage 60 wird derart ausgerichtet, dass die Isolierschicht 30 der unteren Außenlage 60 auf einer unstrukturierten Metallschicht 21 der weiteren Innenlage 44 aufliegt. Der somit erhaltene Lagenstapel 100 umfasst die beiden vorbereiteten Innenlagen 40 und 44 samt dem dazwischen angeordneten Prepreg-Material 35, die obere Außenlage 50 sowie die untere Außenlage 60.The same is true for the lower outer layer 60 on the bottom 42 the further inner layer 44 arranged. The lower outer layer 60 is aligned so that the insulating layer 30th the lower outer layer 60 on an unstructured metal layer 21 the further inner layer 44 rests. The stack of layers thus obtained 100 includes the two prepared inner layers 40 and 44 including the prepreg material arranged in between 35 , the upper outer layer 50 as well as the lower outer layer 60 .

5 zeigt den in 4 veranschaulichten Aufbau des Lagenstapels 100 in bereits verpresster Anordnung nach dem Laminieren 110. Die Außenlagen 50, 60 und Innenlagen 40, 35, 44 werden dabei in geeigneter Weise zu einem Lagenstapel 100 angeordnet und miteinander verpresst. 5 shows the in 4th illustrated structure of the stack of layers 100 in an already pressed arrangement after lamination 110 . The outer layers 50 , 60 and inner layers 40 , 35 , 44 become a stack of layers in a suitable manner 100 arranged and pressed together.

Das Laminieren 110, also das Verpressen des vorbereiteten Lagenstapels 100 unter erhöhtem Druck und bei erhöhter Temperatur, ist in 5 mit einem Pfeil 110 symbolisiert.The lamination 110 , i.e. the pressing of the prepared stack of layers 100 under increased pressure and temperature, is in 5 with an arrow 110 symbolizes.

Nach dem Laminieren 110 des in 4 gezeigten Lagenstapels 100wird ein mehrlagiger Leiterplattenverbund 10 erhalten.After lamination 110 of the in 4th The stack of layers 100 shown is a multilayer printed circuit board assembly 10 obtain.

Üblicherweise werden nach dem Stand der Technik beim Verpressen eines Multilayerkerns für die Innenlagen mit weiteren äußeren Lagen entsprechende Referenzbohrungen in den vorbereiteten Lagen angeordnet, damit die einzelnen Schichten oder vorbereiteten Lagenpakete über Referenzstifte in der Presseinrichtung in ihren Lagen fixiert werden können. Somit kann ein unbeabsichtigtes Verschieben der übereinander gestapelten Einzelschichten oder Lagenpakete während des Pressens verhindert werden. Damit kann auch ein unerwünschter Lagenversatz vermieden werden.According to the prior art, when pressing a multilayer core for the inner layers with further outer layers, corresponding reference bores are usually arranged in the prepared layers so that the individual layers or prepared layer packages can be fixed in their positions using reference pins in the pressing device. In this way, unintentional displacement of the stacked individual layers or bundles of layers during pressing can be prevented. An undesired layer misalignment can thus also be avoided.

Da beim Verfahren eine oder mehrere Innenlagen 40, 44 miteinander verpresst werden, deren innenliegende leitfähige Metallschichten 21 unstrukturiert sind und die keine Leiterstrukturen bzw. Leiterzüge sowie weiters über ihre gesamte Schichtenlage 23 jeweils eine einheitliche Schichtdicke 22 aufweisen, kann hier vorteilhaft das Anordnen von Referenzbohrungen in den Lagen des Lagenstapels entfallen.As one or more inner layers during the process 40 , 44 are pressed together, their inner conductive metal layers 21 are unstructured and have no conductor structures or conductor tracks and also over their entire layer position 23 a uniform layer thickness in each case 22nd have, the arrangement of reference bores in the layers of the layer stack can advantageously be dispensed with here.

Durch das Verpressen entsteht bei jedem Multilayer ein unsauberer Rand, der vor der Weiterverarbeitung beispielsweise durch Besäumen bzw. durch Fräsen wieder in ein brauchbares Format gebracht werden kann.The pressing creates an unclean edge on every multilayer, which can be brought back into a usable format before further processing, for example by trimming or milling.

Vorteilhaft sind für die Ausrichtung der in 4 gezeigten vorbereiteten Baugruppen bzw. Lagen (A) bis (D) zum Laminieren keine Referenzbohrungen erforderlich.Advantages for aligning the in 4th The prepared assemblies or layers (A) to (D) shown, no reference holes required for lamination.

6 zeigt eine mögliche Ausführung einer hergestellten mehrlagigen Leiterplatte 1 bereits mit strukturierten Leiterbahnen 88 an der oberen Außenseite 51 der oberen Außenlage 50. 6th shows a possible embodiment of a manufactured multilayer printed circuit board 1 already with structured conductor tracks 88 on the upper outside 51 the upper outer layer 50 .

Die Leiterbahnen 88 sind bereits mit einem elektronischen Bauteil 120, welches hier als LED ausgebildet ist, bestückt.The conductor tracks 88 are already with an electronic component 120 , which is designed as an LED here.

7 zeigt eine weitere Ausführungsvariante einer hergestellten mehrlagigen Leiterplatte 1, die bereits mit strukturierten Leiterbahnen 88 an der oberen Außenseite 51 der oberen Außenlage 50 ausgeführt ist. Die Leiterbahnen 88 sind bereits mit einem elektronischen Bauteil 120, welches hier als LED ausgebildet ist, bestückt. Weiters sind in 7 mehrere metallische Durchkontaktierungen 130 angeordnet, die beispielsweise als Thermal Vias oder als Plated Through Holes (PTH) ausgeführt sind. 7th shows a further variant of a manufactured multilayer printed circuit board 1 that already have structured conductor tracks 88 on the upper outside 51 the upper outer layer 50 is executed. The conductor tracks 88 are already with an electronic component 120 , which is designed as an LED here. Furthermore, in 7th several metallic vias 130 arranged, which are designed for example as thermal vias or as Plated Through Holes (PTH).

Die Thermal Vias können wahlweise nach dem in 5 gezeigten Verpressen bzw. Laminieren hergestellt werden - durch Bohren, vorzugsweise Laserbohren - und anschließendes Auffüllen der Bohrlöcher mit Kupfer. Optional können Thermal Vias bzw. PTH's auch bereits in den vorhergehenden Schritten zur Fertigung der Außenlagen 50, 60 bzw. der Vorbereitung der Innenlagen 40, 44 gemäß 3 angeordnet werden.The thermal vias can optionally be made according to the in 5 Pressing or lamination shown are produced - by drilling, preferably laser drilling - and then filling the drill holes with copper. Optionally, thermal vias or PTHs can also be used in the previous steps to manufacture the outer layers 50 , 60 or the preparation of the inner layers 40 , 44 according to 3 to be ordered.

BezugszeichenlisteList of reference symbols

11
mehrlagige Leiterplattemultilayer printed circuit board
1010
mehrlagiger Leiterplattenverbundmultilayer circuit board composite
2020th
leitfähige Metallschichtconductive metal layer
2121
unstrukturierte leitfähige Metallschichtunstructured conductive metal layer
2222nd
einheitliche Schichtdicke der unstrukturierten Metallschichtuniform layer thickness of the unstructured metal layer
2323
flächige Schichtenlage der unstrukturierten Metallschichtflat layer of the unstructured metal layer
3030th
IsolierschichtInsulating layer
3535
Prepreg-SchichtPrepreg layer
4040
InnenlageInner layer
4141
Oberseite der InnenlageTop of the inner layer
4242
Unterseite der InnenlageUnderside of the inner layer
4444
weitere Innenlagefurther inner layer
4545
InnenlagenverbundInner layer composite
5050
obere Außenlageupper outer layer
5151
(obere) Außenseite der oberen Außenlage(upper) outside of the upper outer layer
6060
untere Außenlagelower outer layer
7070
gereinigte Oberflächecleaned surface
7575
chemisch aufgeraute Oberflächechemically roughened surface
8080
Photoresist-SchichtPhotoresist layer
8282
BelichtungsschabloneExposure template
8585
UV-Licht (Pfeil)UV light (arrow)
8686
ausgehärtete Photoresist-Schichtcured photoresist layer
8888
strukturierte Leiterbahnstructured conductor path
9090
ReferenzbohrungReference hole
100100
LagenstapelStack of layers
110110
Laminieren (Pfeil)Lamination (arrow)
120120
elektronischer Bauteilelectronic component
130130
metallische Durchkontaktierungmetallic through-hole plating

Claims (7)

Mehrlagige Leiterplatte (1), die derart konfiguriert ist, dass Isolierschichten (30) und leitfähige Metallschichten (20) alternierend gestapelt und zu einem Leiterplattenverbund (10) laminiert sind, wobei zumindest eine innenliegende leitfähige Metallschicht (20) beidseitig an Isolierschichten (30) anliegt, dadurch gekennzeichnet, dass eine Innenlage (40, 44) zumindest eine leitfähige Metallschicht (21) umfasst, welche unstrukturiert (21) und somit frei von Ätzstrukturen eines photochemischen Ätzverfahrens ist sowie über ihre gesamte Schichtenlage (23) eine einheitliche Schichtdicke (22) aufweist.Multi-layer circuit board (1) which is configured in such a way that insulating layers (30) and conductive metal layers (20) are stacked alternately and laminated to form a circuit board assembly (10), with at least one inner conductive metal layer (20) lying on both sides of insulating layers (30) , characterized in that an inner layer (40, 44) comprises at least one conductive metal layer (21) which is unstructured (21) and thus free of etching structures of a photochemical etching process and has a uniform layer thickness (22) over its entire layer layer (23) . Leiterplatte (1) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass bei zwei oder mehreren innenliegenden Metallschichten (20) jede im mehrlagigen Leiterplattenverbund (10) innenliegende Metallschicht (21) unstrukturiert und somit frei von Ätzstrukturen eines photochemischen Ätzverfahrens ist sowie über ihre gesamte Schichtenlage (23) jeweils eine einheitliche Schichtdicke (22) aufweist.Circuit board (1) Claim 1 , characterized in that in the case of two or more inner metal layers (20), each inner metal layer (21) in the multilayer circuit board assembly (10) is unstructured and thus free of etching structures from a photochemical etching process and has a uniform layer thickness (22) over its entire layer layer (23) ) having. Leiterplatte (1) nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass jede im mehrlagigen Leiterplattenverbund (10) innenliegende unstrukturierte Metallschicht (21) jeweils dieselbe einheitliche Schichtdicke (22) aufweist.Circuit board (1) Claim 1 or 2 , characterized in that each unstructured metal layer (21) on the inside in the multilayer circuit board assembly (10) has the same uniform layer thickness (22). Leiterplatte (1) nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine im mehrlagigen Leiterplattenverbund (10) innenliegende unstrukturierte Metallschicht (21) eine Schichtdicke (22) aufweist, welche von der Schichtdicke (22) einer weiteren innenliegenden unstrukturierten Metallschicht (23) unterschiedlich ist.Circuit board (1) Claim 1 or 2 , characterized in that at least one unstructured metal layer (21) inside the multilayer printed circuit board assembly (10) has a layer thickness (22) which is different from the layer thickness (22) of a further inside unstructured metal layer (23). Leiterplatte (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine metallische Durchkontaktierung (130) angeordnet ist, welche zumindest zwei benachbarte Metallschichten (20, 21) miteinander wärmeleitend verbindet.Circuit board (1) according to one of the Claims 1 until 4th , characterized in that at least one metallic plated-through hole (130) is arranged which connects at least two adjacent metal layers (20, 21) to one another in a thermally conductive manner. Leiterplatte (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine metallische Durchkontaktierung (130) von einer Außenseite (51) der oberen Außenlage (50) bis zu zumindest einer innenliegenden unstrukturierten Metallschicht (21) reicht.Circuit board (1) according to one of the Claims 1 until 5 , characterized in that the at least one metallic plated-through hole (130) extends from an outer side (51) of the upper outer layer (50) to at least one inner unstructured metal layer (21). Leiterplatte (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die leitfähige Metallschicht (20) an der Außenseite (51) der oberen Außenlage (50) mit Leiterbahnen (88) strukturiert ist, wobei die strukturierten Leiterbahnen (88) mit zumindest einem elektronischen Bauteil (120) bestückt sind.Circuit board (1) according to one of the Claims 1 until 6th , characterized in that the conductive metal layer (20) on the outside (51) of the upper outer layer (50) is structured with conductor tracks (88), the structured conductor tracks (88) being equipped with at least one electronic component (120).
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