DE202008000488U1 - Master device - Google Patents

Abstract

Mastervorrichtung, verwendbar im Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsmediums, wobei auf der Mastervorrichtung eine im Wesentlichen spiralförmig oder konzentrisch verlaufenden Hauptspurstruktur und wenigstens eine im Wesentlichen spiralförmig oder konzentrisch verlaufenden Nebenspurstruktur ausgebildet ist, wobei die Nebenspurstruktur wenigstens auf einer Seite der Hauptspurstruktur angeordnet ist, und die Nebenspurstruktur Unterbrechungen aufweist, die eine optische erfassbare Oberflächenbeschaffenheit des Aufzeichnungsmediums derart variieren, dass auf dem Aufzeichnungsmedium wenigstens eine erste Hilfsinformation abgebildet wird.A master device usable in the method of manufacturing a recording medium, wherein the master device has a substantially spiral or concentric main track structure and at least one substantially spiral or concentric sub track structure, the sub track structure being disposed on at least one side of the main track structure, and the sub track structure Have interruptions that vary an optically detectable surface condition of the recording medium such that at least a first auxiliary information is displayed on the recording medium.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Mastervorrichtung, verwendbar im Verfahren zur Herstellung eines optischen Aufzeichnungsmediums, eine Vorrichtung zur Herstellung dieser Mastervorrichtung und ein optisches Aufzeichnungsmedium.The The present invention relates to a master device usable in Method for producing an optical recording medium, a device for producing this master device and a optical recording medium.

Die Erfindung wird in Bezug auf die Abtastung eines optischen Aufzeichnungsmediums mit elektromagnetischer Strahlung mit einer Wellenlänge beschrieben, welche sichtbarem Licht entspricht. Es wird jedoch darauf hingewiesen, dass zur Abtastung eines Aufzeichnungsmediums elektromagnetische Strahlung auch deutlich kürzerer oder längerer Wellenlänge geeignet ist. Für diese Fälle können sich angegebene Maße ändern. Optische Aufzeichnungsmedien werden durch einen mehrstufigen Prozess, unter Verwendung einer Mastervorrichtung, hergestellt. Auf der Mastervorrichtung werden Informationen in Form von Hauptspur- und Nebenspurstrukturen gespeichert, welche auf die Aufzeichnungsmedien als Haupt- und Nebenspuren, allgemein Spur genannt, übertragen werden.The The invention will be related to the scanning of an optical recording medium described with electromagnetic radiation of one wavelength, which corresponds to visible light. It is noted, however, that for scanning a recording medium electromagnetic radiation also significantly shorter or longer wavelength suitable is. For these cases can change specified dimensions. Optical recording media be through a multi-step process, using a Master device, manufactured. On the master device will be Stored information in the form of main lane and secondary lane structures, which on the recording media as main and secondary tracks, in general Track called, transferred.

Bei den optischen Aufzeichnungsmedien ist die vorgeformte Spur, entweder als eine Vertiefung oder eine Erhöhung gegenüber der umgebenden Fläche, dem sogenannten "Land", ausgebildet. Eine als Vertiefung ausgebildete Spur kann zumindest teilweise mit einem Material gefüllt sein, dessen Reflexions- und/oder Transmissionseigenschaften durch Lichteinstrahlung vorbestimmter Intensität und Wellenlänge, vorzugsweise Laserlicht, reversibel oder irreversibel, veränderbar sind.at the optical recording media is the preformed track, either as a depression or an increase over the surrounding area, the so-called "land" trained. A trained as a groove track can at least partially with be filled with a material whose reflection and / or Transmission properties by light irradiation predetermined Intensity and wavelength, preferably laser light, reversible or irreversible, are changeable.

Die vorgeformte Spur dient in erste Linie dazu, dass in ihr Daten mittels einer Informationsaufzeichnungsvorrichtung aufgezeichnet werden können. Dies erfolgt durch eine vorbestimmte Veränderung eines ersten Merkmals der Spur, wie bevorzugt des Reflexions- oder Transmissionsverhaltens bestimmter Bereiche der Spur. Diese Veränderungen sind von dieser Vorrichtung, und bevorzugt von jeder handelsüblichen optischen Informationsaufzeichnungs- und/oder Wiedergabevorrichtung, optisch erfass- und damit lesbar. Die Bereiche der Spur, in denen eine vorbestimmte optische Veränderung vorgenommen ist, werden als Hauptdaten-Pits bezeichnet.The preformed track is primarily used in that data in it an information recording device can. This is done by a predetermined change a first feature of the track, as preferably the reflection or Transmission behavior of certain areas of the track. These changes are from this device, and preferably from any commercial one optical information recording and / or reproducing apparatus, optically detectable and thus readable. The areas of the track in which a predetermined optical change is made, are called main data pits.

Die Erzielung einer möglichst hohen Speicherkapazität derartiger Aufzeichnungsmedien erfordert möglichst geringe Abmessungen der Hauptdaten-Pits und der dazwischen liegenden Flächen, die üblicherweise als "Land" bezeichnet werden. Um die Genauigkeitsanforderungen an die mechanischen Komponenten einer entsprechenden Informationsaufzeichnungs- und/oder Wiedergabevorrichtung praktikabel zu halten, dient die Spur durch die Erfassung zweiter optisch erfassbarer Merkmale üblicherweise auch zur Nachführung des abtastenden Lichtstrahles der Informationsaufzeichnungs- und/oder Wiedergabevorrichtung.The Achieving the highest possible storage capacity Such recording media requires the lowest possible Dimensions of the main data pits and the intervening areas, commonly referred to as "land". To the accuracy requirements to the mechanical components of a corresponding information recording and / or rendering apparatus practicable to hold, serves the Track by detecting second optically detectable features usually also for tracking the scanning light beam of the Information recording and / or reproducing apparatus.

Auf diese Weise kann die geforderte Positionierungspräzision des Schreib- und Leselichtstrahls auch bei einer hohen Flächendichte der zu schreibenden Datenstrukturen erzielt werden.On this way, the required positioning precision the writing and reading light beam even at a high surface density the data structures to be written are achieved.

Häufig wird die Spur mit dritten, optisch erfassbaren Merkmalen versehen, aus denen eine Information über die lineare Aufzeichnungsgeschwindigkeit abgeleitet werden kann, mit der die Datenstrukturen bevorzugt zu schreiben sind. So kann beispielsweise die Spur sinusförmig um die Spurmitte mit einer vorbestimmten Wellenlänge ausgelenkt sein. Über diese Wellenlänge kann für ein scheibenförmiges Aufzeichnungsmedium zum Beispiel die Drehzahl des Motors gesteuert werden, der dieses Aufzeichnungsmedium in Rotation versetzt.Often the track is provided with third, optically detectable features, from which information about the linear recording speed can be derived, with the data structures preferred to are writing. For example, the track may be sinusoidal be deflected about the track center with a predetermined wavelength. about this wavelength can be for a disk-shaped Recording medium, for example, the speed of the motor controlled which rotates this recording medium.

In bestimmten Aufzeichnungsmedien des Standes der Technik ist die Spur mit vierten, optisch erfassbaren Merkmalen versehen. Zur Positionierung des Schreib- und Lesekopfes – insbesondere über einem unbeschriebenen Aufzeichnungsmedium – werden bei diesen Aufzeichnungsmedien Hilfsinformationen in der Spur voraufgezeichnet, die einen fortlaufenden Adressencode enthalten.In certain prior art recording media is the track provided with fourth, optically detectable features. For positioning of the read and write head - in particular via an unrecorded recording medium - be included pre-recorded auxiliary information in the track to these recording media, which contain a consecutive address code.

Die Druckschriften EP 0 265 695 B1 und EP 0 325 330 B1 beschreiben Aufzeichnungsmedien, bei denen die Wellenlänge der Spurschwingung in Abhängigkeit der Hilfsinformation verändert wird.The pamphlets EP 0 265 695 B1 and EP 0 325 330 B1 describe recording media in which the wavelength of the track vibration is changed depending on the auxiliary information.

Bevorzugt akzeptieren optische Informationsaufzeichnungs- und/oder Wiedergabevorrichtungen eine – stetig zunehmende – Zahl von unterschiedlichen Aufzeichnungsmedien unterschiedlicher Aufzeichnungsmaterialen, die mitunter verschiedene Aufzeichnungsverfahren und/oder Aufzeichnungsgeschwindigkeiten erfordern. Daher sind zur Aufzeichnung entsprechend unterschiedliche, für das jeweilige Aufzeichnungsmedium spezifische Schreibparameter erforderlich. Aus diesem Grunde werden in bestimmten Formen bekannter Aufzeichnungsmedien die vorabgespeicherten Hilfsinformationen der Spur um Steuercodes erweitert, welche unter anderem die für das jeweilige Aufzeichnungsmedium spezifizierten Schreibparameter enthalten können.Prefers accept optical information recording and / or reproducing devices an ever increasing number of different ones Recording media of different recording materials, the sometimes different recording methods and / or recording speeds require. Therefore, for recording accordingly different, Write parameters specific to the particular recording medium required. For this reason, are known in certain forms The pre-stored auxiliary information of the Track to control codes extended, which among other things for the respective recording medium specified write parameters can contain.

Das europäische Patent EP 0 397 238 B1 beansprucht beispielsweise einen Aufzeichnungsträger, bei dem die Hilfsinformationen, bestehend aus Adressen- und Steuercodes, in die vorgeformte Spur mittels einer vorgebildeten Spurmodulation, die eine radiale, sinusförmige Modulation entweder durch Spurschwingung (engl. track wobble) oder Spurbreitenveränderung beinhaltet, aufgezeichnet ist.The European patent EP 0 397 238 B1 claims, for example, a record carrier in which the auxiliary information consisting of address and control codes is fed into the preformed track by means of a pre-formed track modulation which produces a radial sinusoidal modulation by either track wobble or track curl change is recorded.

Nachteilig bei Aufzeichnungsträgern gemäß dem EP 0 397 238 B1 ist, dass die Datendichte der Hilfsinformation, die über eine derartige Modulation in die Spur eingebracht werden kann, durch die Forderung einer möglichst geringen Beeinflussung der fehlerfreien Erfassbarkeit der aufzuzeichnenden Datenstrukturen erheblich eingeschränkt wird.A disadvantage of recording media according to the EP 0 397 238 B1 is that the data density of the auxiliary information that can be introduced via such a modulation in the track is significantly limited by the requirement of the least possible influence on the error-free detectability of the data structures to be recorded.

Aus den Offenlegungsschriften DE 10 2005 027 222 A1 und DE 10 2005 018 089 A1 der Anmelderin ist ein Verfahren bekannt, bei dem die Hilfsinformationen mittels einer Auslenkung senkrecht zur jeweiligen Spurrichtung abgebildet wird.From the publications DE 10 2005 027 222 A1 and DE 10 2005 018 089 A1 The applicant is aware of a method in which the auxiliary information is imaged by means of a deflection perpendicular to the respective track direction.

Nachteilig bei Aufzeichnungsträgern gemäß der DE 10 2005 027 222 A1 und DE 10 2005 018 089 A1 ist, dass die Hilfsinformation in die Spur eingebracht wird, wodurch es zu einer Beeinflussung der aufzuzeichnenden Datenstrukturen kommen kann.A disadvantage of recording media according to the DE 10 2005 027 222 A1 and DE 10 2005 018 089 A1 is that the auxiliary information is introduced into the track, which can lead to an influence on the data structures to be recorded.

Es ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Mastervorrichtung zu schaffen, welche es ermöglicht ein Aufzeichnungsmedium zu schaffen, das die vorgenannten Nachteile bei größtmöglicher Kompatibilität zu bestehenden Aufzeichnungsmedien umgeht. Gelöst wird diese Aufgabe durch den Gegenstand des Anspruchs 1.It Therefore, the object of the present invention is a master device to provide which enables a recording medium to create the aforementioned disadvantages with the greatest possible Compatibility with existing recording media bypasses. This problem is solved by the subject matter of the claim 1.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, eine Vorrichtung zur Herstellung eines erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmediums zu schaffen. Diese Aufgabe wird durch den Gegenstand von Anspruch 7 gelöst.A Another object of the invention is an apparatus for manufacturing a recording medium according to the invention create. This object is solved by the subject matter of claim 7.

Ferner stellt sich die Erfindung die Aufgabe, eine Vorrichtung zur Herstellung einer Mastervorrichtung zur Verfügung zu stellen. Diese Aufgabe wird durch den Gegenstand von Anspruch 17 gelöst.Further The invention has the object, a device for manufacturing a master device to provide. These The object is solved by the subject matter of claim 17.

Das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmedium, sowie die Vorrichtung zur Herstellung des Aufzeichnungsmediums und der Mastervorrichtung sind Gegenstand der Ansprüche 16, 27 beziehungsweise 28.The Inventive recording medium, and the Apparatus for manufacturing the recording medium and the master device are the subject matter of claims 16, 27 and 28, respectively.

Die erfindungsgemäße Mastervorrichtung weist eine im Wesentlichen spiralförmig oder konzentrisch verlaufende Hauptspurstruktur und wenigstens eine im Wesentlichen spiralförmig oder konzentrisch verlaufende Nebenspurstruktur auf.The inventive master device has a essentially spiral or concentric Main track structure and at least one substantially spiral or concentric secondary track structure.

Im Sinne der Erfindung ist die Hauptspurstruktur eine Spurstruktur, mittels der auf einem erfindungsgemäß hergestellten optischen Aufzeichnungsmedium eine Hauptspur ausgebildet wird. Die Hauptspur dient zur Führung wenigstens eines Strahls einer Informationsaufzeichnungs- und/oder Wiedergabevorrichtung. Entlang der Hauptspur sind wenigstens abschnittsweise Bereiche angeordnet, in denen eine Vielzahl von Hauptdaten-Pits ausgebildet werden können. Die Bereiche der Spur, in denen eine vorbestimmte optische Veränderung vorgenommen ist, werden im Rahmen der vorliegenden Erfindung als Hauptdaten-Pits bezeichnet.in the According to the invention, the main track structure is a track structure, by means of the produced according to the invention optical recording medium, a main track is formed. The main track serves to guide at least one beam of an information recording and / or reproducing apparatus. At least along the main track arranged in sections, in which a variety of Main data pits can be trained. The areas the lane in which a predetermined optical change is made in the context of the present invention as Main data pits are called.

Nebenspurstruktur im Sinne der Erfindung bezeichnet eine Spurstruktur mittels der auf einem erfindungsgemäß hergestellten optischen Aufzeichnungsmedium eine Nebenspur ausgebildet wird. Die Nebenspur hat dabei einen im Wesentlichen gleichbleibenden Abstand zur Mitte der Hauptspur. Insbesondere hat die geometrische Mitte der Nebenspur einen im Wesentlichen gleichbleibenden Abstand zur geometrischen Mitte der Hauptspur.In addition to the track structure For the purposes of the invention, a track structure by means of on an optical device produced according to the invention Recording medium is formed an auxiliary track. The secondary lane has a substantially constant distance to the center the main track. In particular, the geometric center of the secondary track has one substantially constant distance to the geometric center the main track.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung weist die geometrische Mittellinie der Nebenspurstruktur einen radialen Abstand von TP/N von der geometrischen Mittellinie der Hauptspurstruktur auf, wobei TP den Spurabstand zwischen benachbarten Hauptspurstrukturen bezeichnet und N eine Zahl ist, die bevorzugt zwischen 8/3 und 12/3 liegt.In a preferred embodiment of the invention, the geometric center line of the secondary track structure a radial distance of TP / N from the geometric centerline of the main track structure where TP is the track pitch between adjacent main track structures and N is a number preferably between 8/3 and 12/3.

In einer bevorzugten Ausführungsform weist die Nebenspurstruktur eine geringere Breite als die Hauptspurstruktur auf.In A preferred embodiment has the secondary track structure a smaller width than the main track structure.

In einer bevorzugten Ausführungsform weist die Nebenspurstruktur eine geringere Tiefe als die Hauptspurstruktur auf.In A preferred embodiment has the secondary track structure a smaller depth than the main track structure.

In einer bevorzugten Ausführungsform enthält die erste Hilfsinformation Anwendungs- und/oder Steuerungs- und/oder Sicherheitsdaten.In a preferred embodiment contains the first auxiliary information application and / or control and / or Safety data.

In einer bevorzugten Ausführungsform enthält die zweite Hilfsinformation Anwendungs- und/oder Steuerungs- und/oder Sicherheitsdaten.In a preferred embodiment contains the second auxiliary information application and / or control and / or Safety data.

Erfindungsgemäß ist die Nebenspurstruktur wenigstens auf einer Seite der Hauptspurstruktur angeordnet, und kann Unterbrechungen aufweisen, die eine optisch erfassbare Oberflächenbeschaffenheit des Aufzeichnungsmediums derart variieren, dass auf dem Aufzeichnungsmedium wenigstens eine erste Hilfsinformation abgebildet wird. Durch diese Anordnung ist es einerseits möglich die Beeinflussung der Hauptspurstruktur durch die Nebenspurstruktur zu reduzieren und andererseits wird der Platzbedarf für die Spurstruktur reduziert, was wiederum zu einer höheren Aufzeichnungsdichte führt.According to the invention the sub-track structure at least on one side of the main track structure arranged, and may have interruptions, which is an optical detectable surface condition of the recording medium vary such that on the recording medium at least one first auxiliary information is displayed. By this arrangement is On the one hand it is possible to influence the main track structure through the secondary track structure to reduce and on the other hand becomes the space required for the track structure is reduced, which in turn leads to a higher recording density.

Die optisch erfassbaren Oberflächenbeschaffenheiten im Sinne der Erfindung sind Reflexions- und/oder Transmissionseigenschaften des optischen Aufzeichnungsmediums, die durch eine Lichteinstrahlung vorbestimmter Intensität, bevorzugt Laserlicht, reversibel oder irreversibel, veränderbar sind.The optically detectable surface textures in the sense of the invention are reflection and / or transmission properties of the optical recording medium, which are characterized by a light irradiation of a predetermined intensity, preferably La serlicht, reversible or irreversible, are changeable.

Im Sinne der Erfindung ist ein optisches Aufzeichnungsmedium eine Scheibe mit einem Durchmesser von 110 bis 130 mm, vorzugsweise 115–125 mm, weiter vorzugsweise 120 mm. Aber auch kleinere Durchmesser von z. B. 80 mm sind möglich. Das optische Aufzeichnungsmedium weist ferner auf einer Seite und/oder beiden Seiten ein vorgegebenes Oberflächenniveau auf, das im Wesentlichen auf der gesamten Fläche einer Seite gleich ist.in the According to the invention, an optical recording medium is a disk with a diameter of 110 to 130 mm, preferably 115-125 mm, more preferably 120 mm. But smaller diameter of z. B. 80 mm are possible. The optical recording medium also has a predetermined surface level on one side and / or both sides on, essentially on the entire surface of a Page is the same.

Die Nebenspurstruktur kann auf dem Aufzeichnungsmedium Pilotmarkierungsbereiche mit Pilotmarkierungen erstellen in denen Hilfsinformationen hinterlegt sind.The Secondary track structure can be pilot mark areas on the recording medium create with pilot marks in which auxiliary information deposited are.

Bei Pilotmarkierung handelt es sich im Sinne der Erfindung um Bereiche in der Nebenspur, in denen vorbestimmte optische/optisch erfassbare Veränderungen vorgenommen werden, die als Hilfsinformationen dienen können.at Pilot marking is within the meaning of the invention to areas in the secondary track, in which predetermined optical / optically detectable Changes are made as auxiliary information can serve.

Beispielsweise können diese Nebenspurstrukturen mit enthaltenen Pilotmarkierungen in Leserichtung sowohl auf beiden Seiten einer Hauptspurstruktur, oder auch nur auf einer Seite der Hauptspurstruktur angeordnet sein. Eine herkömmlich Anordnung von Photodioden ist so ausgebildet, dass die Positionen der Photodioden symmetrisch zu einer Mittellinie in Verlaufsrichtung der Spuren sind. 4 Zentraldioden sind zum Detektieren der Hauptspurstruktur bestimmt. Weiter außen sind zwei Gruppen zu je zwei Photodioden angeordnet, nachfolgend Nebenspurdioden, welche zum Detektieren der Nebenspurstrukturen dienen. Die Signale dieser Nebenspurdioden sind von der Steuerung des Detektors so verknüpft, daß auch bei Vorliegen einer nur einseitigen Nebenspurstruktur die Pilotmarkierungen sinnhaft detektiert werden.For example These subspot structures can be included with pilot marks in reading direction both on both sides of a main track structure, or even be arranged only on one side of the main track structure. A conventional arrangement of photodiodes is designed that the positions of the photodiodes are symmetrical to a center line in the direction of the tracks are. 4 central diodes are for detection the main track structure determined. Further out are two Groups of two photodiodes arranged, followed by secondary track diodes, which serve to detect the secondary track structures. The signals these sub-track diodes are linked by the control of the detector so that even in the presence of only one-sided secondary track structure the pilot marks are sensibly detected.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die Nebenspurstruktur nur auf einer Seite der Hauptspurstruktur ausgebildet.In a further preferred embodiment of the master device the secondary track structure is only on one side of the main track structure educated.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die bei dem Aufzeichnungsmedium optisch erfassbare Eigenschaft eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete Vertiefung der Oberfläche zwischen zwei Unterbrechungen.In a preferred embodiment of the master device is the optically detectable property of the recording medium a substantially in the direction of track arranged recess of the surface between two interruptions.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung hat eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete Vertiefung der Oberfläche zwischen zwei Unterbrechungen, welche beim Aufzeichnungsmedium optisch erfasst werden kann, eine variable Tiefe.In a preferred embodiment of the master device has a recess arranged substantially in the track direction the surface between two interruptions, which at the Recording medium can be optically detected, a variable depth.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete Vertiefung der Oberfläche zwischen zwei Unterbrechungen, welche beim Aufzeichnungsmedium optisch erfasst werden kann, nicht klar begrenzt sondern geht im Wesentlichen stetig in mindestens eine (nicht vertiefte) Unterbrechung über.In a preferred embodiment of the master device is a substantially arranged in the direction of track depression the surface between two interruptions, which at the Recording medium can be optically detected, not clearly limited but essentially goes steadily into at least one (not recessed) Interruption over.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist mindestens eine der im Wesentlichen senkrecht zur Spurrichtung angeordneten Flanken einer im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete Vertiefung der Oberfläche zwischen zwei Unterbrechungen, welche beim Aufzeichnungsmedium optisch erfasst werden kann, bevorzugt weitgehend oder vollständig abgerundetIn a preferred embodiment of the master device is at least one of the substantially perpendicular to the track direction arranged flanks of a substantially arranged in the track direction Deepen the surface between two breaks, which can be detected optically in the recording medium is preferred largely or completely rounded

Eine Mastervorrichtung bezeichnet im Sinne der Erfindung einen Master für Aufzeichnungsmedien, vorzugsweise aus Glas, auf welchen die Hauptspurstruktur und die Nebenspurstruktur ausgebildet werden. Unter Verwendung dieser Mastervorrichtung werden in nachfolgenden Schritten optische Aufzeichnungsmedien hergestellt.A Master device referred to in the context of the invention, a master for recording media, preferably of glass, on which the main track structure and the sub-track structure are formed. Using this master device will be described in subsequent ones Steps made of optical recording media.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die bei dem Aufzeichnungsmedium optisch erfassbare Eigenschaft eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete im Wesentlichen punktförmige Oberflächenbeschaffenheit zwischen zwei Unterbrechungen.In a preferred embodiment of the master device is the optically detectable property of the recording medium a substantially punctiform arranged substantially in the track direction Surface texture between two breaks.

Punktförmig bedeutet im Sinne der Erfindung eine Ausdehnung im Spurrichtung von 1–20 μm, vorzugsweise 3–15 μm, weiter vorzugsweise 5–10 μm.punctual means according to the invention, an extension in the track direction from 1-20 μm, preferably 3-15 μm, more preferably 5-10 μm.

Dabei bedeutet Spurrichtung im Sinne der Erfindung die Richtung in der auf das bzw. von dem optischen Aufzeichnungsmedium geschrieben bzw. gelesen wird.there Spur direction in the sense of the invention means the direction in the written on or read from the optical recording medium becomes.

Im Sinne der Erfindung ist eine Unterbrechung ein Wechsel der Oberflächenbeschaffenheit in Spurrichtung.in the Meaning of the invention is an interruption, a change of the surface texture in track direction.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die Hauptspurstruktur wenigstens abschnittsweise insbesondere aber vollständig als in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet.In a preferred embodiment of the master device the main track structure is at least partially in particular but completely as in track direction homogeneous surface texture educated.

Als homogen wird im Sinne der Erfindung ein Bereich bezeichnet, der im Wesentlichen in Spurrichtung keine Änderung der Oberflächenbeschaffenheit aufweist.When Homogeneous in the context of the invention, an area is called, the has substantially no change in the surface condition in the track direction.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die Hauptspurstruktur wenigstens abschnittsweise als in Spurrichtung im Wesentlichen punktförmige Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet.In a preferred embodiment of the master device, the main track structure is at least partially in the form of a substantially punctiform surface texture in the track direction educated.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die Nebenspurstruktur wenigstens abschnittsweise als in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet.In a preferred embodiment of the master device the secondary track structure is at least partially as in the track direction homogeneous surface texture formed.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die Nebenspurstruktur wenigstens abschnittsweise als in Spurrichtung im Wesentlichen punktförmige Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet.In a preferred embodiment of the master device the secondary track structure is at least partially as in the track direction essentially punctiform surface texture educated.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung weist die Nebenspurstruktur eine Oberflächenbeschaffenheit auf, die eine optisch erfassbare Oberflächenbeschaffenheit einer Nebenspurstruktur des Aufzeichnungsmediums derart variiert, dass auf dem Aufzeichnungsmedium eine zweite Hilfsinformation abgebildet wird.In a preferred embodiment of the master device the secondary track structure has a surface finish which has an optically detectable surface finish an auxiliary track structure of the recording medium varies so that a second auxiliary information is displayed on the recording medium becomes.

Die optisch erfassbaren Eigenschaften können den Bits eines Leitungscodes, beispielsweise des Biphase-Mark-Code, zugeordnet sein. Hierbei repräsentiert zum Beispiel eine vorangegangene erfassbare Eigenschaft eine logische „1" und eine Unterbrechung eine logische „0" des Leitungscodes. Dabei wird eine logische „0" des digitalen Codes für die Hilfsinformation entweder einer „00" oder einer „11" des Biphase-Mark-Codes und eine logische „1" des digitalen Codes für die Hilfsinformation entweder einer „01" oder einer „10" des Biphase-Mark-Codes so zugeordnet, das nicht mehr als zwei aufeinanderfolgende Nullen oder Einsen im Biphase-Mark-Code auftreten.The optically detectable properties can be the bits of a Line codes, for example, the Biphase Mark Code assigned be. For example, a previous one represents detectable property a logical "1" and an interrupt a logical "0" of the line code, whereby a logical "0" the digital code for the auxiliary information either a "00" or an "11" of the Biphase Mark code and a logical "1" of the digital codes for the auxiliary information either a "01" or a "10" of the Biphase Mark code so assigned, the no more than two consecutive zeros or ones occur in the Biphase Mark code.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung wird die Hauptspurstruktur ohne Spurmodulation ausgebildet.In a preferred embodiment of the master device the main track structure is formed without track modulation.

Unter Spurmodulation ist im Sinne der Erfindung eine Veränderung der Spurbreite senkrecht zur Spurrichtung zu verstehen und/oder eine Veränderung der Spurmitte um einen geometrischen Mittelwert. Dabei kann die Spurbreite um einen festen Wert und/oder um einen variablen Wert variiert werden.Under Track modulation is a change in the meaning of the invention to understand the track width perpendicular to the track direction and / or a change in the center of the lane around a geometric mean. The track width can be a fixed value and / or a variable value can be varied.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung wird die Hauptspurstruktur mit Spurmodulation ausgebildet.In a further preferred embodiment of the master device the main track structure is formed with track modulation.

Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Spurmodulation eine radiale, im Wesentlichen sinusförmige Spurmodulation ist.Master device according to at least one of the preceding claims, characterized characterized in that the track modulation is a radial, substantially sinusoidal track modulation is.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die Spurmodulation eine monofrequenten Spurmodulation.In a further preferred embodiment of the master device is the track modulation a monofrequente track modulation.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die Spurmodulation eine Spurbreitenmodulation.In a further preferred embodiment of the master device track modulation is a track width modulation.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung stellt die Spurmodulation eine weitere Hilfsinformation dar.In a further preferred embodiment of the master device the track modulation represents another auxiliary information.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Mastervorrichtung ist die Nebenspurstruktur im Wesentlichen im gleichbleibenden radialen Abstand zur geometrischen Mitte der Hauptspurstruktur angeordnet.In a further preferred embodiment of the master device the secondary track structure is essentially the same radial Distance from the geometric center of the main track structure arranged.

Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Herstellung einer Mastervorrichtung, weist zumindest eine erste optische Einrichtung zur Aufzeichnung einer Hauptspurstruktur mittels eines ersten Lichtstrahls auf einem Grundträger, einen elektrooptischen Strahldeflektor, der von dem ersten Lichtstrahl durchlaufen wird, und/oder eine zweite optische Einrichtung zur Aufzeichnung einer Nebenspurstruktur mittels eines zweiten Lichtstrahls auf dem Grundträger auf. Erfindungsgemäß durchläuft der zweite Lichtstrahl einen zweiten elektrooptischen Strahldeflektor, der einen im Wesentlichen gleichen radialen Abstand zwischen der Mitte der Hauptspurstruktur und der Nebenspurstruktur mittels eines zugeführten Steuersignals einstellt, und ein Nebenspurstrukturgenerator steuert den zweiten Lichtstrahls wenigstens in Abhängigkeit einer ersten und/oder zweiten Hilfsinformation an. Zum Ausgleich eventueller Unebenheiten einer Mastervorrichtung durchlaufen beide Lichtstrahlen eine Regeleinheit, welche dieser Lichtstrahlen zur Erzielung eines gleichförmigen Lichtflecks auf dem Grundträger fokussiert.The inventive device for producing a Master device, has at least a first optical device for recording a main track structure by means of a first light beam on a base carrier, an electro-optical beam deflector, which is traversed by the first light beam, and / or a second optical device for recording a secondary track structure by means of a second light beam on the base support. Runs according to the invention the second light beam a second electro-optical beam deflector, a substantially same radial distance between the Center of the main track structure and the secondary track structure by means of a supplied control signal, and a sub-track structure generator controls the second light beam at least in dependence a first and / or second auxiliary information. To compensate Any bumps in a master device go through both Light rays a control unit, which of these light beams for Achieving a uniform spot of light on the base support focused.

Bei einer weiteren erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Herstellung einer Mastervorrichtung wird ein erster Lichtstrahl zur Aufzeichnung einer Hauptstrukturspur ohne Einrichtungen zur Lenkung des Strahls auf den Grundträger gerichtet. Vor Auftreffen auf diesen Grundträger durchläuft dieser erste Lichtstrahl wie zuvor diese fokussierende Regeleinheit zum Ausgleich etwaiger Unebenheiten dieser Mastervorrichtung. Ein zweiter Lichtstrahl durchläuft, wie zuvor beschrieben, einen elektrooptischen Strahldeflektor und wird mit nachfolgenden Strahllenkungseinrichtungen mit diesem ersten Lichtstrahl vor dieser fokussierenden Regeleinheit zusammengebracht. Somit kann auf einen elektrooptischem Strahldeflektor und eine Strahllenkungseinrichtung für diesen ersten Lichtstrahl verzichtet werden.at a further device according to the invention for Production of a master device becomes a first light beam for recording a main structure track without facilities for Direction of the beam directed at the base. In front Impact on this basic carrier goes through this first light beam as before this focusing control unit for Compensation of any unevenness of this master device. A second Light beam passes through, as described above, an electro-optical beam deflector and is with subsequent beam steering devices with this first light beam brought together in front of this focusing control unit. Thus, an electro-optical beam deflector and a beam steering device for dispensed with this first light beam.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung wird mittels des elektrooptischen Strahldeflektors eine Spurweitenmodulation des ersten Lichtstrahls durchführt.In a further preferred embodiment of the device is by means of the electro-optical beam deflector a track width modulation of first light beam performs.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung wird der erste Lichtstrahl mittels eines Hauptspurgenerators angesteuert.In a further preferred embodiment Form of the device, the first light beam is driven by means of a main track generator.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung gibt der Hauptspurgenerator zur Ansteuerung des ersten Lichtstrahls ein Gleichsignal und ein Wechselsignal aus.In a further preferred embodiment of the device gives the main track generator for driving the first light beam a DC signal and an AC signal.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung gibt der Hauptspurgenerator zur Ansteuerung des elektrooptischen Strahldeflektors ein Analogsignal aus.In a further preferred embodiment of the device gives the main track generator for controlling the electro-optical Beam deflector an analog signal off.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung wird der zweite Lichtstrahl mittels eines Nebenspurgenerators angesteuert.In a further preferred embodiment of the device the second light beam is driven by means of a secondary track generator.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung gibt der Nebenspurgenerators zur Ansteuerung des zweiten Lichtstrahls ein Gleichsignal und ein Wechselsignal aus.In a further preferred embodiment of the device gives the secondary track generator for driving the second light beam a DC signal and an AC signal.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung gibt der Nebenspurgenerators zur Ansteuerung des zweiten elektrooptischen Strahldeflektors ein Gleichspannungs- und/oder Wechselspannungssignal aus.In a further preferred embodiment of the device gives the secondary track generator for driving the second electro-optical beam deflector a DC and / or AC signal.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung ist das dem zweiten Strahldeflektor zugeführte Steuersignal ein Spannungssignal mit Gleichanteil.In a further preferred embodiment of the device is the control signal supplied to the second beam deflector a voltage signal with DC component.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung wird das von dem Hauptspurgenerator zur Ansteuerung des elektrooptischen Strahldeflektors ausgegebene Analogsignal dem elektrooptischen Strahldeflektor zugeführt.In a further preferred embodiment of the device is that of the main track generator for driving the electro-optical Beam deflector output analog signal to the electro-optical beam deflector fed.

Das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmedium wird durch eine Vorrichtung zur Herstellung eines Aufzeichnungsmediums unter Verwendung einer der oben beschriebenen Mastervorrichtungen erhalten.The Inventive recording medium is characterized an apparatus for producing a recording medium under Using one of the above-described master devices obtained.

Die Herstellung einer Mastervorrichtung weist wenigstens einen der folgenden Schritte auf: Belichten eines Grundträgers mit einer Hauptspurstruktur mittels eines ersten Lichtstrahls, wobei die Oberfläche des Grundträgers mit einem Photolack versehen ist, Belichten des Grundträgers mit einer Nebenspurstruktur mittels eines zweiten Lichtstrahls, Entwickeln des belichteten Photolacks, Entfernen des belichteten oder nicht belichteten Photolacks von dem Grundträger, Aufbringen einer ersten metallischen Schicht auf den Grundträger, und/oder Aufbringen einer zweiten metallischen Schicht auf den Grundträger.The Manufacturing a master device has at least one of the following Steps to: Exposing a base carrier with a main track structure by means of a first light beam, the surface of the base carrier is provided with a photoresist, exposing of the basic carrier with an auxiliary track structure by means of a second light beam, developing the exposed photoresist, removing the exposed or unexposed photoresist from the base support, Applying a first metallic layer to the base support, and / or applying a second metallic layer to the base support.

Ausführungsbeispieleembodiments

Weitere Vorteile und Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung ergeben sich aus den beiliegenden Zeichnungen. Darin zeigen:Further Advantages and embodiments of the present invention result from the accompanying drawings. Show:

1 zwei Beispiele für die Anordnung von Hauptspur- und Nebenspurstruktur auf der Mastervorrichtung, 1 two examples of the arrangement of main lane and secondary lane structure on the master device,

2 zwei weitere Beispiele für die Anordnung von Hauptspur- und Nebenspurstruktur, 2 two more examples of the arrangement of main lane and secondary lane structure,

3–16 weitere Beispiele für die Anordnung von Hauptspur- und Nebenspurstruktur, 3 - 16 further examples of the arrangement of main lane and secondary lane structure,

17 vier Beispiele für die Ausbildung der Hauptspurstruktur, 17 four examples of the formation of the main track structure,

18 eine schematische Darstellung der Anordnung der Hauptspur- und Nebenspurstruktur und ein Spurstrukturprofil, 18 a schematic representation of the arrangement of the main lane and secondary track structure and a track structure profile,

19 Beispiele für mögliche Strukturprofile der Nebenspurstruktur 19 Examples of possible structure profiles of the secondary track structure

20 eine schematische Darstellung der Vorrichtung zur Herstellung einer Mastervorrichtung. 20 a schematic representation of the apparatus for producing a master device.

21 eine schematische Darstellung einer weiteren Vorrichtung zur Herstellung einer Mastervorrichtung mit geradlinig geführtem erstem Lichtstrahl als kostengünstigere Variante der Vorrichtung aus 20 21 a schematic representation of another device for producing a master device with rectilinearly guided first light beam as a cheaper variant of the device 20

22 eine Darstellung der Anordnung der zentralen Photodioden A, B, C, D sowie der Photodioden der Nebenstrahlen E, F bzw. G, H eines herkömmlichen Lesegeräts/Detektors. 22 a representation of the arrangement of the central photodiodes A, B, C, D and the photodiodes of the secondary beams E, F and G, H of a conventional reader / detector.

In 1 sind zwei Beispiele für die Anordnung von Hauptspurstruktur 1 und Nebenspurstruktur 2 auf der Mastervorrichtung gezeigt. In 1a) ist die Hauptspurstruktur 1 als im Wesentlichen in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet. Die Nebenspurstruktur 2 ist ebenfalls als eine im Wesentlichen in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet und auf einer Seite der Hauptspurstruktur 1 angeordnet, wobei die Nebenspurstruktur 2 Unterbrechungen aufweist. Die Nebenspurstruktur 2 kann auch auf der gegenüberliegenden Seite der Hauptspurstruktur 1 angeordnet sein.In 1 are two examples of the arrangement of main track structure 1 and secondary track structure 2 shown on the master device. In 1a ) is the main track structure 1 formed as a substantially homogeneous track surface texture. The secondary track structure 2 is also formed as a substantially homogeneous in track direction surface texture and on one side of the main track structure 1 arranged, with the secondary track structure 2 Has interruptions. The secondary track structure 2 can also be on the opposite side of the main track structure 1 be arranged.

Die in 1b) dargestellte Nebenspurstruktur 2 entspricht im Wesentlichen der in Nebenspurstruktur 2 in 1a), wobei die Unterbrechungen in der Nebenspurstruktur 2 in Spurrichtung größer sind als die im Wesentlichen in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit der Nebenspurstruktur 2.In the 1b ) shown secondary track structure 2 essentially corresponds to the secondary track structure 2 in 1a ), with the breaks in the secondary track structure 2 in the track direction are greater than the substantially homogeneous in track direction surface texture of the secondary track structure 2 ,

Die Hauptspurstruktur 1 korrespondiert mit der Hauptspur auf einem optischen Aufzeichnungsmedium, und die Nebenspurstruktur 2 korrespondiert mit der Nebenspur bzw. Pilotspur auf einem optischen Aufzeichnungsmedium. Die Abstände zwischen den Hauptspurstrukturen 1 werden bevorzugt im Wesentlichen konstant gewählt, um die Positionierung des Schreib- und Lesekopfes über einem optischen Aufzeichnungsmedium zu vereinfachen.The main track structure 1 corresponds to the main track on an optical recording medium, and the sub-track structure 2 corresponds to the sub-track or pilot track on an optical recording medium. The distances between the main track structures 1 are preferably chosen to be substantially constant in order to facilitate the positioning of the write and read heads over an optical recording medium.

Die Nebenspurstruktur 2 ist ferner im Wesentlichen im gleichen Abstand zur Mitte der Hauptspurstruktur 1 angeordnet. Besonders bevorzugt wird der Abstand zwischen den Hauptstrukturen 1, sowie zwischen Hauptspurstruktur 1 und Nebenspurstruktur 2 minimal gewählt, um die Informationsdichte auf dem resultierenden Aufzeichnungsmedium zu maximieren.The secondary track structure 2 is also substantially equidistant from the center of the main track structure 1 arranged. Particularly preferred is the distance between the main structures 1 , as well as between main track structure 1 and secondary track structure 2 minimally chosen to maximize the information density on the resulting recording medium.

Die 2a) und 2b) entsprechen im Wesentlichen den 1a) und 1b) wobei die Nebenspurstruktur 2 symmetrisch auf beiden Seiten der Hauptspurstruktur 1 angeordnet ist. In 2a) ist ferner die Nebenspurstruktur 2 abschnittsweise abwechselnd auf der jeweils gegenüberliegenden Seite der Hauptspurstruktur 1 angeordnet.The 2a ) and 2 B ) essentially correspond to the 1a ) and 1b ) wherein the secondary track structure 2 symmetrical on both sides of the main track structure 1 is arranged. In 2a ) is also the secondary track structure 2 sections alternately on the opposite side of the main track structure 1 arranged.

Die Anordnung der Nebenspurstruktur 2 auf abwechselnd gegenüberliegenden Seiten der Hauptspurstruktur 1, ist insofern vorteilhaft, als insbesondere bei im Wesentlichen gleich verteilten Anzahlen von Nebenspurstrukturen 2 auf beiden Seiten der Hauptspurstruktur 1 ein gleichstromfreies Spurfolgesignal aus der optischen Erfassung der Nebenspur auf dem Aufzeichnungsmedium gewonnen werden kann.The arrangement of the secondary track structure 2 on alternate opposite sides of the main track structure 1 , is advantageous insofar as, in particular, at substantially evenly distributed numbers of secondary track structures 2 on both sides of the main track structure 1 a DC-free tracking signal can be obtained from the optical detection of the sub-track on the recording medium.

In 3 ist die Nebenspurstruktur 3 als eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete, im Wesentlichen punktförmige Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet und auf einer Seite der Hauptspurstruktur 1 angeordnet.In 3 is the secondary track structure 3 is formed as a substantially point-directional substantially point-like surface finish and on one side of the main track structure 1 arranged.

Die 4 zeigt die Nebenspurstruktur 3, die symmetrisch auf beiden Seiten der Hauptspurstruktur 1 angeordnet ist.The 4 shows the secondary track structure 3 that are symmetrical on both sides of the main track structure 1 is arranged.

In den 5–8 ist die Hauptspurstruktur 4 als im Wesentlichen in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit mit Unterbrechungen ausgebildet. Die Nebenspurstrukturen 2, 3 können dabei als im Wesentlichen in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit (5 und 6) oder als im Wesentlichen punktförmige Oberflächenbeschaffenheit (7 und 8) ausgebildet sein. In den 5 und 7 sind die Nebenspurstrukturen 2, 3 auf einer Seite der Hauptspurstruktur 4 angeordnet. In den 6 und 8 sind die Nebenspurstrukturen 2, 3 symmetrisch auf beiden Seiten der Hauptspurstruktur 4 angeordnet.In the 5 - 8th is the main track structure 4 formed as a substantially homogeneous in track direction surface texture with breaks. The secondary track structures 2 . 3 can be considered as substantially in track direction homogeneous surface texture ( 5 and 6 ) or as a substantially point-like surface condition ( 7 and 8th ) be formed. In the 5 and 7 are the secondary track structures 2 . 3 on one side of the main track structure 4 arranged. In the 6 and 8th are the secondary track structures 2 . 3 symmetrical on both sides of the main track structure 4 arranged.

Die Unterbrechungen in der Hauptspurstruktur 4 können regelmäßig oder unregelmäßig sein, bzw. periodische Muster aufweisen. Durch die Unterbrechungen in der Hauptspurstruktur 4 ist es mögliche Hilfsinformationen in die Hauptspurstruktur zu integrieren und somit die Informationsdichte auf dem Aufzeichnungsmedium weiter zu erhöhen.The breaks in the main track structure 4 can be regular or irregular, or have periodic patterns. Through the breaks in the main track structure 4 it is possible to integrate possible auxiliary information into the main track structure and thus further increase the information density on the recording medium.

Die 9 und 10 entsprechen im Wesentlichen den 1 und 2, wobei die Hauptspurstruktur 5 als eine im Wesentlichen in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit, die monofrequent moduliert ist, ausgebildet ist.The 9 and 10 essentially correspond to the 1 and 2 , wherein the main track structure 5 is formed as a substantially homogeneous in track direction surface texture, which is monofrequently modulated.

Die 11 und 12 entsprechen im Wesentlichen den 9 und 10, wobei die Hauptspurstruktur 6 als eine im Wesentlichen in Spurrichtung homogene Oberflächenbeschaffenheit, die monofrequent moduliert ist, ausgebildet ist, wobei die Hauptspurstruktur 6 Unterbrechungen aufweist.The 11 and 12 essentially correspond to the 9 and 10 , wherein the main track structure 6 is formed as a substantially in-track homogeneous surface texture, which is monofrequently modulated, wherein the main track structure 6 Has interruptions.

Die 13–16 entsprechen im Wesentlichen den 9–12, mit dem Unterschied, dass die Nebenspurstruktur 3 als eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete, im Wesentlichen punktförmige Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet ist.The 13 - 16 essentially correspond to the 9 - 12 , with the difference that the secondary track structure 3 as a substantially arranged in the direction of track, substantially punctiform surface finish is formed.

17 zeigt nochmals vier verschiedene mögliche Ausführungsbeispiele für die Form der Hauptspurstrukturen 1, 4, 5 und 7. 17 again shows four different possible embodiments of the shape of the main track structures 1 . 4 . 5 and 7 ,

18 stellt eine schematische Darstellung der Anordnung der Hauptspur- und Nebenspurstruktur als Draufsicht (18a) sowie einen Querschnitt der Spurstruktur (18b) der Mastervorrichtung dar. 18 FIG. 2 is a schematic representation of the arrangement of the main lane and secondary lane structure as a plan view (FIG. 18a ) and a cross section of the track structure ( 18b ) of the master device.

Die Hauptspurstruktur 1 hat vorzugsweise eine Breite W von 200–800 nm, weiter vorzugsweise von 400–600 nm, noch weiter vorzugsweise 550 nm. Die effektive Tiefe TH der Hauptspurstruktur liegt vorzugsweise zwischen 80 und 130 nm, weiter vorzugsweise zwischen 90 und 120 nm, noch weiter vorzugsweise bei 105 nm. Der Abstand TP zwischen benachbarten Hauptspurstrukturen 1 beträgt vorzugsweise 1000–2000 nm, weiter vorzugsweise 1600 nm. Ferner weist die Hauptspurstruktur 1 einen Flankenwinkel zwischen einer Normalen zu der im Wesentlichen ebenen Oberfläche der Mastervorrichtung und der Flanke der Hauptspurstruktur 1 von vorzugsweise 30–50°, weiter vorzugsweise 40° auf.The main track structure 1 preferably has a width W of 200-800 nm, more preferably 400-600 nm, even more preferably 550 nm. The effective depth TH of the main track structure is preferably between 80 and 130 nm, more preferably between 90 and 120 nm, still more preferably at 105 nm. The distance TP between adjacent main track structures 1 is preferably 1000-2000 nm, more preferably 1600 nm. Further, the main track structure 1 a flank angle between a normal to the substantially planar surface of the master device and the flank of the main track structure 1 of preferably 30-50 °, more preferably 40 °.

Die Nebenspurstruktur 2 hat vorzugsweise eine Breite Wn von 100–400 nm, weiter vorzugsweise von 200–300 nm, noch weiter vorzugsweise 250 nm. Die effektive Tiefe TN der Nebenspurstruktur liegt vorzugsweise zwischen 25 und 75 nm, weiter vorzugsweise zwischen 40 und 60 nm, noch weiter vorzugsweise bei 50 nm. Der Abstand S zwischen Hauptspurstruktur 1 und Nebenspurstruktur 2 beträgt vorzugsweise 350–600 nm, weiter vorzugsweise von 450–550 nm, noch weiter vorzugsweise 500 nm.The secondary track structure 2 preferably has a width Wn of 100-400 nm, more preferably 200-300 nm, even more preferably 250 nm. The effective depth TN of the sub-track structure is preferably between 25 and 75 nm, more preferably between 40 and 60 nm, still more preferably at 50 nm. The distance S between the main track structure 1 and secondary track structure 2 is preferably 350-600 nm, more preferably from 450-550 nm, even more preferably 500 nm.

Ferner liegt die Länge L der Nebenspurstruktur 2 in Spurrichtung vorzugsweise zwischen 10 und 60 μm.Further, the length L of the sub-track structure is 2 in the track direction preferably between 10 and 60 microns.

Der radiale Abstand S (bevorzugt ca. 400–600 nm) der Hauptspurstruktur 1 und der Nebenspurstruktur 2 wird bevorzugt so gewählt, dass weder eine erhebliche Überlappung mit der Spur noch ein störendes Übersprechen durch die benachbarten Spuren entsteht. Die Länge der Pilotmarkierungen d. h. der innerhalb der Nebenspurstruktur angebrachten Vertiefungen ist variabel und entspricht annähernd der Hälfte der Wellenlänge, die zu der üblichen Spurschwingungsfrequenz in Höhe von 22,05 kHz gehört. Bei einer Lineargeschwindigkeit der Abtasteinrichtung gegenüber des Aufzeichnungsmediums in Höhe von ca. 1,2 m/s ergibt sich eine bevorzugte mittlere Länge L der Pilotmarkierungen von 54,4/2 μm = 27 μm. Der übliche Frequenzhub von ±1 kHz der modulierten Spurschwingungsfrequenz wird durch geeignete Längenveränderung (±ΔL = 1,22 μm) der Pilotmarkierungen realisiert.The radial distance S (preferably about 400-600 nm) of the main track structure 1 and the secondary track structure 2 is preferably chosen so that neither a considerable overlap with the track nor a disturbing crosstalk by the adjacent tracks arises. The length of the pilot marks, that is, the pits mounted within the sub-track structure, is variable and corresponds to approximately half the wavelength associated with the usual track frequency of 22.05 kHz. At a linear speed of the scanning device with respect to the recording medium in the amount of about 1.2 m / s results in a preferred average length L of the pilot marks of 54.4 / 2 microns = 27 microns. The usual frequency deviation of ± 1 kHz of the modulated track vibration frequency is realized by suitable change in length (± ΔL = 1.22 μm) of the pilot marks.

Ferner weist die Nebenspurstruktur 2 einen Flankenwinkel zwischen einer Normalen zu der im Wesentlichen ebenen Oberfläche der Mastervorrichtung und der im Wesentlichen parallel zur Spurrichtung verlaufenden Flanke der Nebenspurstruktur von vorzugsweise 10–40°, weiter vorzugsweise 25° auf.Furthermore, the secondary track structure 2 a flank angle between a normal to the substantially planar surface of the master device and the flank of the sub-track structure extending substantially parallel to the track direction of preferably 10-40 °, more preferably 25 °.

Wie in 18 dargestellt, kann die Nebenspurstruktur auch nur einseitig der Hauptspurstruktur ausgebildet sein.As in 18 illustrated, the secondary track structure may also be formed only on one side of the main track structure.

19 stellt eine schematische Darstellung der Nebenspurstruktur 2 als Draufsicht (19a) sowie vier Beispiele eines Längsschnitt der Spurstruktur der Mastervorrichtung (Strukturprofile 19b, 19c, 19d, 19e) dar. 19 provides a schematic representation of the secondary track structure 2 as a top view ( 19a ) and four examples of a longitudinal section of the track structure of the master device (structural profiles 19b . 19c . 19d . 19e ).

19b zeigt einen Ausschnitt eines Strukturprofils einer Nebenspurstruktur 2 in der drei Pilotmarkierungen d. h. Vertiefungen eingebracht sind. Die die Vertiefung im Wesentlichen in Spurrichtung begrenzenden Flanken 8 stehen senkrecht zu der im Wesentlichen ebenen Oberfläche der Mastervorrichtung. 19b shows a section of a structure profile of a secondary track structure 2 in the three pilot marks ie recesses are introduced. The flanks defining the recess substantially in the track direction 8th are perpendicular to the substantially planar surface of the master device.

19c zeigt einen Ausschnitt eines Strukturprofils einer Nebenspurstruktur in der drei Pilotmarkierungen d. h. Vertiefungen eingebracht sind. Die die Vertiefung im Wesentlichen in Spurrichtung begrenzenden geradlinig verlaufenden Flanken 8 schließen mit einer Normalen zu der im Wesentlichen ebenen Oberfläche der Mastervorrichtung einen Flankenwinkel vorzugsweise zwischen 10°–40°, weiter vorzugsweise zwischen 20°–30° ein. 19c shows a section of a structural profile of a secondary track structure in the three pilot marks ie recesses are introduced. The recess essentially delimiting in the track direction rectilinear flanks 8th With a normal to the substantially planar surface of the master device, include a flank angle preferably between 10 ° -40 °, more preferably between 20 ° -30 °.

19d zeigt einen Ausschnitt eines Strukturprofils einer Nebenspurstruktur in der drei Pilotmarkierungen d. h. Vertiefungen eingebracht sind. Die die Vertiefung im Wesentlichen in Spurrichtung begrenzenden Flanken 8 verlaufen dabei nicht geradlinig sondern sind wie dargestellt konkav. In einer alternativen Ausgestaltung können die Flanken aber auch konvex ausgestaltet sein. 19d shows a section of a structural profile of a secondary track structure in the three pilot marks ie recesses are introduced. The flanks defining the recess substantially in the track direction 8th do not run in a straight line but are concave as shown. In an alternative embodiment, however, the flanks can also be configured convex.

19e zeigt einen Ausschnitt eines Strukturprofils einer Nebenspurstruktur in der drei Pilotmarkierungen d. h. Vertiefungen eingebracht sind. Die die Vertiefung im Wesentlichen in Spurrichtung begrenzenden Flanken 8 verbinden dabei stetig ein erstes Oberflächenelement 5 der Mastervorrichtung mit einem zweiten Oberflächenelement 6 der Mastervorrichtung. 19e shows a section of a structural profile of a secondary track structure in the three pilot marks ie recesses are introduced. The flanks defining the recess substantially in the track direction 8th constantly connect a first surface element 5 the master device with a second surface element 6 the master device.

In 20 ist ein Ausführungsbeispiel für eine erfindungsgemäße Vorrichtung zur Erzeugung der Hauptspurstruktur 1 und der Nebenspurstruktur 2 auf der Mastervorrichtung 16 dargestellt. Eine erste monochromatische Lichtquelle 11, die beispielsweise einen Laser aufweist, erzeugt einen ersten Lichtstrahl mit einer ersten Wellenlänge, die ungefähr der Breite der Hauptspurstruktur 1 entspricht. Mit Hilfe eines Hauptspurgenerators 18 kann die Intensität des ersten Lichtstrahls so eingestellt werden, dass ein auf der Oberfläche der Mastervorrichtung 16 vorgesehener Photolack zur Erzeugung der vorbestimmten Geometrie der Hauptspurstruktur 1 geeignet belichtet wird.In 20 is an embodiment of an inventive device for generating the main track structure 1 and the secondary track structure 2 on the master device 16 shown. A first monochromatic light source 11 For example, having a laser generates a first light beam having a first wavelength approximately the width of the main track structure 1 equivalent. With the help of a main track generator 18 For example, the intensity of the first light beam may be set to be on the surface of the master device 16 provided photoresist for generating the predetermined geometry of the main track structure 1 is exposed appropriately.

Der Hauptspurgenerator 18 kann auch durch direkte digitale Laseransteuerung Pitstrukturen, d. h. im Wesentlichen punktförmige Oberflächenveränderungen erzeugen und kann ein Analogsignal zur Erzeugung einer Spurwobbelung mit dem elektrooptischen Strahldeflektor 13 liefern.The main track generator 18 can also by direct digital laser control pit structures, ie produce substantially point-like surface changes and can be an analog signal for generating a track wobble with the electro-optical beam deflector 13 deliver.

Die Dicke des Photolacks entspricht vorzugsweise der Tiefe der zu erzeugenden Hauptspurstruktur 1. Die erforderliche Strahlgeometrie wird mittels eines Strahlformers 13 und einer beweglichen Objektiv-Linse in der Weise erzeugt, dass die Breite des Lichtflecks des ersten Lichtstrahls auf der Oberfläche der Mastervorrichtung 16 ungefähr der Breite der Hauptspurstruktur 1 angepasst ist.The thickness of the photoresist preferably corresponds to the depth of the main track structure to be generated 1 , The required beam geometry is determined by means of a beam former 13 and a movable lens lens in such a manner that the width of the light spot of the first light beam on the surface of the master device 16 about the width of the main track structure 1 is adjusted.

Während des Belichtungsvorgangs wird die Mastervorrichtung geeignet parallel zur Fokusebene des ersten Lichtstrahls bewegt, so dass der Lichtfleck auf dem Photolack die gewünschte spiralförmige oder konzentrisch kreisförmige Hauptspurstruktur 1 beschreibt. Um eventuelle Unebenheiten der Mastervorrichtung 16 zu berücksichtigen wird die bewegliche Objektiv-Linse 15 mittels der Fokussteuereinheit fortlaufend zur Erzielung eines gleichförmigen Lichtflecks nachgeregelt.During the exposure process, the master device is appropriately moved parallel to the focal plane of the first light beam so that the light spot on the photoresist will move to the desired spiral or concentric circular main track structure 1 describes. To any bumps of the master device 16 to take into account is the movable lens lens 15 continuously adjusted by means of the focus control unit to obtain a uniform light spot.

Eine zweite monochromatische Lichtquelle 12, die ebenfalls einen Laser aufweisen kann, erzeugt einen zweiten Lichtstrahl mit einer zweiten Wellenlänge, die ungefähr der Breite der Nebenspurstruktur 2 entspricht. Der zweite Lichtstrahl 12 kann mit Hilfe eines Nebenspurstrukturformatierers 19 in der Intensität so variiert werden, dass der Photolack auf der Oberfläche der Mastervorrichtung 16 zur Erzeugung der vorbestimmten Geometrie der Nebenspurstruktur 2 geeignet belichtet wird. Durch An- und Ausschalten des Lasers mit einem Wechselsignal von dem Nebenspurstrukturformatierer 19 werden Hilfsinformationen in die Nebenspurstruktur 2 eingebracht.A second monochromatic light source 12 , which may also comprise a laser, generates a second light beam having a second wavelength approximately equal to the width of the sub-track structure 2 equivalent. The second light beam 12 can with the help of an auxiliary track format 19 be varied in intensity so that the photoresist on the surface of the master device 16 for generating the predetermined geometry of the sub-track structure 2 is exposed appropriately. By turning the laser on and off with a change signal from the sub track texture formatter 19 auxiliary information is added to the secondary track structure 2 brought in.

Dabei kann die Tiefe der Nebenspurstruktur 2 gegenüber der Tiefe der Hauptspurstruktur 1 verringert werden, indem die Lichtintensität des zweiten Lichtstrahls 12 gegenüber der Lichtintensität des ersten Lichtstrahls 11 geringer gewählt wird.Here, the depth of the secondary track structure 2 opposite the depth of the main track structure 1 be reduced by the light intensity of the second light beam 12 to the light intensity of the first light beam 11 is chosen lower.

Mittels Strahldeflektor 14 und der Abbildungsoptik 15 wird der Lichtfleck des zweiten Lichtstrahls 12 auf der Oberfläche der Mastervorrichtung 16 erzeugt, der in seinem Durchmesser ungefähr der Breite der Nebenspurstruktur 2 entspricht. Wird der Strahldeflektor 14 zusätzlich mit einem Wechselsignal angesteuert, können zwei Nebenspurstrukturen 2 symmetrisch zur Hauptspurstruktur 1 geschrieben werden.By means of jet deflector 14 and the imaging optics 15 becomes the light spot of the second light beam 12 on the surface of the master device 16 which, in its diameter, is approximately the width of the secondary track structure 2 equivalent. Will the beam deflector 14 additionally driven by an alternating signal, two secondary track structures can be used 2 symmetrical to the main track structure 1 to be written.

Eine Spiegeleinheit ermöglicht eine zentrierte Überlagerung der Lichtstrahlen 11 und 12. Der radiale Abstand der Lichtflecken des zweiten Lichtstrahls 12 vom Lichtfleck des ersten Lichtstrahls 11 auf der Oberfläche der Mastervorrichtung entspricht dem radialen Abstand der Symmetrielinien der Nebenspurstruktur 2 von der Symmetrielinie der Hauptspurstruktur 1. Dieser Abstand kann durch Setzen eines Gleichspannungs-Offsets an den elektrooptischen Strahldeflektor 14 eingestellt werden.A mirror unit allows a centered superposition of the light beams 11 and 12 , The radial distance of the light spots of the second light beam 12 from the light spot of the first light beam 11 on the surface of the master device corresponds to the radial distance of the symmetry lines of the secondary track structure 2 from the symmetry line of the main track structure 1 , This distance can be achieved by setting a DC offset to the electro-optical beam deflector 14 be set.

Ferner weist die Vorrichtung zur Erzeugung der Hauptspurstruktur 1 und der Nebenspurstruktur 2 auf der Mastervorrichtung 16 noch einen Steuerrechner 20 auf, der die den Hauptspurstrukturtormatierer 18, den Nebenspurstrukturformatierer 19 und mindestens einen Drehteller 17 auf dem die Mastervorrichtung 16 aufliegt, ansteuert.Furthermore, the device for generating the main track structure 1 and the secondary track structure 2 on the master device 16 another control computer 20 that's the main tracker formatter 18 , the sub track texture formatter 19 and at least one turntable 17 on the the master device 16 rests, drives.

21 zeigt eine weitere erfindungsgemäße Vorrichtung zur Erzeugung der Hauptspurstruktur 1 und der Nebenspurstruktur 2 auf der Mastervorrichtung 16. Zwei monochromatische Lichtquellen 11 und 12 erzeugen je einen Lichtstrahl, welche mit Hilfe einer Strahlführungseinrichtung, beispielsweise einen Spiegel und eine Strahlsammeleinrichtung aufweisend, durch eine Optik 15 in Richtung der Oberfläche der Mastervorrichtung gelenkt werden. 21 shows a further inventive device for generating the main track structure 1 and the secondary track structure 2 on the master device 16 , Two monochromatic light sources 11 and 12 each produce a light beam which by means of a beam guiding device, for example comprising a mirror and a beam collecting device, by an optics 15 directed towards the surface of the master device.

22 stellt eine Anordnung der zentralen Photodioden A, B, C, D sowie der Photodioden E, F bzw. G, H für die Nebenspuren dar, wie sie bei einem handelsüblichen Lesegerät vorgefunden werden können. Die Anordnung der Photodioden ist symmetrisch zur Mittellinie M. Der enthaltene Pfeil zeigt die Verlaufsrichtung der Spuren an. Die mathematische Verknüpfung der Nebenspurdioden durch die Steuerung des Detektors oder des Brenngeräts gestattet die Ausbildung der Nebenspurstruktur auch nur auf einer Seite der Hauptstrukturspur. 22 illustrates an arrangement of the central photodiodes A, B, C, D and the photodiodes E, F and G, H for the secondary tracks, as they can be found in a commercially available reading device. The arrangement of the photodiodes is symmetrical to the center line M. The included arrow indicates the course direction of the tracks. The mathematical combination of the secondary track diodes by the control of the detector or of the burner allows the formation of the secondary track structure only on one side of the main structural track.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.This list The documents listed by the applicant have been automated generated and is solely for better information recorded by the reader. The list is not part of the German Patent or utility model application. The DPMA takes over no liability for any errors or omissions.

Zitierte PatentliteraturCited patent literature

• - EP 0265695 B1 [0009] - EP 0265695 B1 [0009]
• - EP 0325330 B1 [0009] EP 0325330 B1 [0009]
• - EP 0397238 B1 [0011, 0012] - EP 0397238 B1 [0011, 0012]
• - DE 102005027222 A1 [0013, 0014] - DE 102005027222 A1 [0013, 0014]
• - DE 102005018089 A1 [0013, 0014] DE 102005018089 A1 [0013, 0014]

Claims (28)

Mastervorrichtung, verwendbar im Verfahren zur Herstellung eines Aufzeichnungsmediums, wobei auf der Mastervorrichtung eine im Wesentlichen spiralförmig oder konzentrisch verlaufenden Hauptspurstruktur und wenigstens eine im Wesentlichen spiralförmig oder konzentrisch verlaufenden Nebenspurstruktur ausgebildet ist, wobei die Nebenspurstruktur wenigstens auf einer Seite der Hauptspurstruktur angeordnet ist, und die Nebenspurstruktur Unterbrechungen aufweist, die eine optische erfassbare Oberflächenbeschaffenheit des Aufzeichnungsmediums derart variieren, dass auf dem Aufzeichnungsmedium wenigstens eine erste Hilfsinformation abgebildet wird.Master device, usable in the process of Preparation of a recording medium, wherein on the master device a substantially spiral or concentric Main track structure and at least one substantially spiral or concentric secondary track structure is formed, wherein the sub-track structure is at least on one side of the main track structure is arranged, and the secondary track structure has interruptions, the one optical detectable surface texture of the recording medium vary such that on the recording medium at least a first auxiliary information is displayed. Mastervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Aufzeichnungsmedium ein vorgegebenes Oberflächenniveau aufweist und die optisch erfassbare Eigenschaft eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete Abweichung von dem Oberflächenniveau zwischen zwei Unterbrechungen ist.Master device according to claim 1, characterized in that the recording medium has a predetermined surface level and the optically detectable property is substantially track deviation from the surface level between two breaks. Mastervorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die bei dem Aufzeichnungsmedium optisch erfassbare Eigenschaft eine im Wesentlichen in Spurrichtung angeordnete im We sentlichen punktförmige Abweichung von dem Oberflächenniveau zwischen zwei Unterbrechungen ist.Master device according to claim 1 or 2, characterized characterized in that the optically detectable in the recording medium Property a substantially arranged in the track direction in the We sentlichen punctiform deviation from the surface level between two breaks. Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Abweichung von dem Oberflächenniveau eine Vertiefung ist.Master device according to at least one of the preceding Claims, characterized in that the deviation from the surface level is a depression. Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Abweichung von dem Oberflächenniveau eine Erhöhung ist.Master device according to at least one of the preceding Claims, characterized in that the deviation from the surface level is an increase. Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Hauptspurstruktur wenigstens abschnittsweise insbesondere aber durchgehend in Spurrichtung als im Wesentlichen homogene Oberflächenbeschaffenheit ausgebildet ist.Master device according to at least one of the preceding Claims, characterized in that the main track structure at least in sections, but especially throughout the track direction as a substantially homogeneous surface texture is trained. Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Hauptspurstruktur Unterbrechungen aufweist.Master device according to at least one of the preceding Claims, characterized in that the main track structure Has interruptions. Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Nebenspurstruktur eine Oberflächenbeschaffenheit aufweist, die eine optisch erfassbare Oberflächenbeschaffenheit einer Nebenspurstruktur des Aufzeichnungsmediums derart variiert, dass auf dem Aufzeichnungsmedium eine zweite Hilfsinformation abgebildet wird.Master device according to at least one of the preceding Claims, characterized in that the secondary track structure has a surface finish that is an optical detectable surface quality of an auxiliary track structure of the recording medium varies such that on the recording medium a second auxiliary information is displayed. Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Hauptspurstruktur ohne Spurmodulation ausgebildet wird.Master device according to at least one of the preceding Claims, characterized in that the main track structure is formed without track modulation. Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Hauptspurstruktur mit Spurmodulation ausgebildet wird.Master device according to at least one of the preceding Claims, characterized in that the main track structure is formed with track modulation. Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Spurmodulation eine radiale, im Wesentlichen sinusförmige Spurmodulation ist.Master device according to at least one of the preceding Claims, characterized in that the track modulation a radial, substantially sinusoidal track modulation is. Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Spurmodulation eine monofrequente Spurmodulation ist.Master device according to at least one of the preceding Claims, characterized in that the track modulation is a monofrequent tracking modulation. Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Spurmodulation eine Spurbreitenmodulation ist.Master device according to at least one of the preceding Claims, characterized in that the track modulation is a track width modulation. Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Spurmodulation eine weitere Hilfsinformation darstellt.Master device according to at least one of the preceding Claims, characterized in that the track modulation represents another help information. Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Nebenspurstruktur im Wesentlichen im gleichbleibenden radialen Abstand zur geometrischen Mitte der Hauptspurstruktur angeordnet ist.Master device according to at least one of the preceding Claims, characterized in that the secondary track structure essentially at the same radial distance from the geometric one Center of the main track structure is arranged. Mastervorrichtung nach mindestens einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Nebenspurstruktur nur auf einer Seite der Hauptspurstruktur angeordnet ist.Master device according to at least one of the preceding Claims, characterized in that the secondary track structure is arranged only on one side of the main track structure. Aufzeichnungsmedium erhalten durch ein Herstellungsverfahren unter Verwendung einer Mastervorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1–16.Recording medium obtained by a manufacturing method using a master device according to at least one of Claims 1-16. Vorrichtung zur Herstellung einer Mastervorrichtung, insbesondere nach wenigstens einem der Ansprüche 1–16, mit – einer ersten optischen Einrichtung zur Aufzeichnung einer Hauptspurstruktur mittels eines ersten Lichtstrahls auf einem Grundträger, – einen elektrooptischen Strahldeflektor (3) der von dem ersten Lichtstrahl (1) durchlaufen wird, und – einer zweiten optischen Einrichtung zur Aufzeichnung einer Nebenspurstruktur mittels eines zweiten Lichtstrahls (2) auf dem Grundträger, wobei – der zweite Lichtstrahl (2) einen zweiten elektrooptischen Strahldeflektor (4) durchläuft, der einen im Wesentlichen gleichen radialen Abstand zwischen der Mitte der Hauptspurstruktur und der Nebenspurstruktur mittels eines zugeführten Steuersignals einstellt, und – ein Nebenspurstrukturgenerator (9), den zweiten Lichtstrahls (2) wenigstens in Abhängigkeit einer ersten und/oder zweiten Hilfsinformation ansteuert.Device for producing a master device, in particular according to at least one of Claims 1-16, having - a first optical device for recording a main track structure by means of a first light beam on a base carrier, - an electrooptical beam deflector ( 3 ) of the first light beam ( 1 ), and - a second optical device for recording a secondary track structure by means of a second Light beam ( 2 ) on the base support, wherein - the second light beam ( 2 ) a second electro-optical beam deflector ( 4 passing through a substantially equal radial distance between the center of the main track structure and the sub-track structure by means of a supplied control signal, and - a sub-track structure generator (FIG. 9 ), the second light beam ( 2 ) drives at least in response to a first and / or second auxiliary information. Vorrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, dass mittels des elektrooptischen Strahldeflektors (3) eine Spurweitenmodulation des ersten Lichtstrahls (1) durchführt wird.Apparatus according to claim 18, characterized in that by means of the electro-optical beam deflector ( 3 ) a track width modulation of the first light beam ( 1 ) is performed. Vorrichtung nach Anspruch 18 oder 19, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Lichtstrahl (1) mittels eines Hauptspurgenerators (8) angesteuert wird.Apparatus according to claim 18 or 19, characterized in that the first light beam ( 1 ) by means of a main track generator ( 8th ) is driven. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 18–20, dadurch gekennzeichnet, dass der Hauptspurgenerator (8) zur Ansteuerung des ersten Lichtstrahls (1) ein Gleichsignal und ein Wechselsignal ausgibt.Device according to at least one of claims 18-20, characterized in that the main track generator ( 8th ) for driving the first light beam ( 1 ) outputs a DC signal and an AC signal. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 18–21, dadurch gekennzeichnet, dass der Hauptspurgenerator (8) zur Ansteuerung des elektrooptischen Strahldeflektors (3) ein Analogsignal ausgibt.Device according to at least one of claims 18-21, characterized in that the main track generator ( 8th ) for controlling the electro-optical beam deflector ( 3 ) outputs an analog signal. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 18–22, dadurch gekennzeichnet, dass der zweite Lichtstrahl (2) mittels eines Nebenspurgenerators (9) angesteuert wird.Device according to at least one of claims 18-22, characterized in that the second light beam ( 2 ) by means of an auxiliary track generator ( 9 ) is driven. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 18–23, dadurch gekennzeichnet, dass der Nebenspurgenerators (9) zur Ansteuerung des zweiten Lichtstrahls (2) ein Gleichsignal und ein Wechselsignal ausgibt.Device according to at least one of claims 18-23, characterized in that the secondary track generator ( 9 ) for controlling the second light beam ( 2 ) outputs a DC signal and an AC signal. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 18–24, dadurch gekennzeichnet, dass der Nebenspurgenerators (9) zur Ansteuerung des zweiten elektrooptischen Strahldeflektor (4) ein Gleichspannungs- und/oder Wechselspannungssignal ausgibt.Device according to at least one of claims 18-24, characterized in that the secondary track generator ( 9 ) for driving the second electro-optical beam deflector ( 4 ) outputs a DC and / or AC signal. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 18–25, dadurch gekennzeichnet, dass das dem zweiten Strahldeflektor (4) zugeführte Steuersignal ein Spannungssignal mit Gleichanteil ist.Device according to at least one of claims 18-25, characterized in that the second beam deflector ( 4 ) supplied control signal is a voltage signal with DC component. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 18–26, dadurch gekennzeichnet, dass das von dem Hauptspurgenerator (8) zur Ansteuerung des elektrooptischen Strahldeflektors (3) ausgegebene Analogsignal dem elektrooptischen Strahldeflektor (4) zugeführt wird.Device according to at least one of claims 18-26, characterized in that that of the main track generator ( 8th ) for controlling the electro-optical beam deflector ( 3 ) output analog signal the electro-optical beam deflector ( 4 ) is supplied. Vorrichtung zur Herstellung eines Aufzeichnungsmediums unter Verwendung einer Mastervorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1–16.Apparatus for producing a recording medium using a master device according to at least one of Claims 1-16.