DE19933762C2 - Gepulste magnetische Öffnung von Elektronen-Zyklotron-Resonanz-Jonenquellen zur Erzeugung kurzer, stromstarker Pulse hoch geladener Ionen oder von Elektronen - Google Patents
Gepulste magnetische Öffnung von Elektronen-Zyklotron-Resonanz-Jonenquellen zur Erzeugung kurzer, stromstarker Pulse hoch geladener Ionen oder von ElektronenInfo
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Abstract
Um aus Elektronen-Zyklotron-Resonanz-(EZR)-Ionenquellen mit allseitigen magnetischen Einschluß eines EZR-geheizten Plasmas große, kontinuierliche Ströme von Ionen zu extrahieren, müssen sie bekanntlich so asymmetrisch gebaut werden, der der axiale magnetische Einschluß auf der Extraktionsseite schlechter wird als auf der entgegengesetzten Seite, wodurch Ionenverluste in Richtung der Extraktion zu größeren extrahierten Ionenströmen führen. Durch plötzliches Herunterschalten des magnetischen Einschlußfeldes im Bereich der Extraktion einer mit symmetrischem, axialen Magneteinschluß betriebenen EZR-Ionenquelle, d. h. durch plötzliche und vollständige Öffnung des magnetischen Einschlusses im Bereich der Extraktion, bewegt sich das ganze Plasma plötzlich zur Extraktionsöffnung, so daß dort die extrahierten Ionenströme plötzlich vergrößert werden. der große Ionenstrompuls dauert entweder bis sich der Plasmavorrart erschöpft hat oder bis der magnetische Einschluß wieder eingeschaltet wird. Die Pulswiederholrate ist bestimmt durch die Aufbauzeit des Plasmas nach Wiedereinschalten des magnetischen Einschlusses. Statt Ionenstrompulsen können auch Elektronenstrompulse extrahiert werden.
Description
Die Erfindung betrifft eine Ionenquelle mit zeitlich variabler Extraktion hoch geladener Io
nen- oder Elektronen-Strahlen aus einem Plasma mit magnetischem Minimum-B-Einschluß, das
mit elektromagnetischen Mikrowellen unter Ausnutzung der Elektronen-Zykolotron-Reso
nanz (EZR) erzeugt und geheizt wird, und das mit beliebigen, zu ionisierenden Elementen aus
einem Gasreservoir oder einem integrierten Verdampferofen beschickt wird.
Es ist bekannt, daß Strahlen hochgeladener Ionen mit großer Ausbeute aus solchen EZR-
Ionen-Quellen (EZRIQ), im Englischen unter dem Begriff "Electron-Cyclotron-Resonance-
Ion-Sources" (ECRIS) bekannt, extrahiert werden können. Die Konstruktionsmerkmale dieser
EZR-Ionenquellen sind in Patentschriften [DE 31 04 461 A1, US 4,631,438, US 4,638,216,
EPAO 138642, EPAO 130907, FR 2475798, FR 2512623, EPAO 142414, EPAO 145586, FR 2592518,
EPAO 238397, EPAO 252845, DE 44 19 970 A1, JP-A2 5-109365 (A), JP-A2 6-
76751 (A), FR 94 04027, EP 0813223 A1, WO 94/03919] und wissenschaftlich-technischen
Veröffentlichungen publiziert [Ref. 1: B. Jacquot et M. Pontonnier, "La Source CAPRICE 10 GHz
en Mode Harmonique 2(ωHF - ωCE) = 0", Nuclear Instruments and Methods in Nuclear
Research A287, 341-347 (1990); Ref. 2: A. G. Drentje, "Review of the Eleventh International
Workshop on ECR ion sources", Review of Scientific-Instruments 65, 104-1050 (1994),
Ref. 3: R. Geller, "Electron Cyclotron Resonance Ion Sources and ECR-Plasmas", Institute of
Physics Publishing, Bristol and Philadelphia, 1996, ISBN 0 7503 0107 4, Ref. 4: R. Geller, "Re
view of Scientific-Instruments", 69, 1302-1310 (1998)]. Demnach wird ein axialer, magnetischer
Plasmaeinschluß durch zwei oder mehrere kreisförmige, nicht notwendigerweise identische
Magnetspulen in einem gewissen, axialen Abstand voneinander derart erzeugt, daß auf die
Symmetrieachse der Ionenquelle jeweils am Ort der Spulen ein Maximum und zwischen den
Spulen ein Minimum der Magnetfeldstärke entsteht, das durch Zusatzspulen speziell konfigu
riert werden kann. Eine solche, axiale Magnetfeldstruktur wird Spiegelfeld genannt und läßt
sich mit herkömmlichen oder mit supraleitenden Spulen mit gleichsinniger oder ent
gegengesetzter Stromrichtung realisieren. In neueren Konzeptionen wird diese axiale Magnet
feldstruktur auch mit Permanentmagneten ohne Verwendung von Spulen realisiert. Der radiale
Plasmaeinschluß wird durch magnetische Multipolfelder (meist Hexapolfelder) bewirkt, die
meist mit Permanentmagneten aufgebaut sind, aber auch mit supraleitenden Spulen oder mit
eisenbewehrten Kupferspulen ausgeführt werden können. Im Inneren dieser Magnetfeldstruk
tur existiert also ein Minimum des Betrages des Magnetfeldes, von dem aus in alle Richtungen
nach außen hin der Betrag des Magnetfeldes zunimmt, so daß man sie auch abgekürzt Mini
mum-B-Magnetfeldstruktur (MBM) nennt.
In diese MBM wird auf der Symmetrieachse eine meist zylindrische Plasmakammer aus
Metall eingesetzt, die im wesentlichen als Vakuumkammer dient, um im Zusammenwirken mit
radial oder axial angeordneten Vakuumpumpen einen Druck des zu ionisierenden Gases oder
Gasgemisches im Plasmabereich von 10-2 bis 10-5 Pa zu gewährleisten. Die Mikrowellenenergie
wird mit Hochfrequenz-Hohlleitern oder mit Koaxialleitungen, eventuell in Kombination mit
Antennen, radial oder axial in die Plasmakammer eingekoppelt, wobei ein mikrowellendurchläs
siges, aber vakuumdichtes Fenster den Vakuumabschluß der Plasmakammer gewährleistet. Im
Bereich eines der beiden axialen Magnetfeldmaxima, der im folgenden als Extraktionsseite be
zeichnet wird, ist die Plasmakammer durch eine durchbohrte Elektrode, die sogenannte Plasmae
lektrode abgeschlossen, durch welche die Ionen oder Elektronen von einem elektrischen Zieh
feld angepaßter Polarität axial extrahiert werden.
In dieser Plasmakammer werden Elektronen durch EZR-Heizung auf hohe Energie ge
bracht, räumlich konzentriert und ausreichende Zeiten gespeichert [Ref. 5., A. Heinen, Ch. Vitt,
and H. J. Andrä, "Density and Energy Density Distributions of Electrons in Compact ECRIS",
in Conference on the Physics with Highly Charged Ions, Bensheim, Germany, Sept. 1998,
Physica Scripta (1999), Ref. 6:, A. Heinen, M. Rüther, H. W. Ortjohann, Ch. Vitt, S. Rhode,
and H. J. Andrä, "Heating and Trapping of Electrons in ECRIS, from Scratch to Afterglow",
Proceedings of the "14th International Workshop on ECR Sources", 3-6 Mai 1999, CERN,
Genf, Schweiz, Seiten 224-232.], so daß sie die eingelassenen Elemente bis zu hohen La
dungszuständen ionisieren können. Es wird angenommen, daß diese Ionisation vorwiegend in
den räumlichen Bereichen großer Elektronen-Energiedichte stattfindet, in denen die entstande
nen Ionen auch in der großen Elektronendichte zwecks negativer Ladungskompensation fest
gehalten werden. Da die Ionen in diesen EZR-Ionenquellen nur sehr wenig Energie gewinnen,
können sie also unter der doppelten, einschließenden Wirkung der Raumladung der Elektronen
und des magnetischen Einschlusses der MBM lange und mittlere Zeiten τ in der EZR-Ionenquelle
festgehalten werden und nur mit geringer Wahrscheinlichkeit bis zur Extraktionsöffnung gelan
gen und extrahiert werden. Dies ist vor allem dann der Fall, wenn das magnetische Spiegelfeld
symmetrisch aufgebaut ist, d. h. wenn die beiden Magnetfeldmaxima auf der Achse gleiche
Magnetfeldstärke besitzen, und damit ein besonders guter, axialer, magnetischer Einschluß der
geladenen Partikel in der MBM gegeben ist. Um den kontinuierlichen Strom hoch geladener
Ionen aus den EZR-Ionenquellen möglichst groß zu machen, wird deshalb der magnetische
Einschluß in Richtung der Extraktionsseite dadurch verschlechtert, daß das axiale Magnet
feldmaximum des Spiegelfeldes auf der Extraktionsseite kleiner als das auf der entgegengesetz
ten Seite gemacht wird. Dadurch wird der Verlust von Ionen aus der MBM in Richtung der
Extraktionsseite erhöht, der größeren, extrahierten Ionenströmen entspricht. Da diese Verluste
die mittlere Verweilzeit τ der Ionen in der MBM verkürzen und umgekehrt aber ein langes τ
für die Erzeugung der hohen Ladungszustände benötigt wird [Ref. 1], kann nur ein Kompromiß
zwischen langem τ für die Produktion und kurzem τ für die Extraktion zum Optimum des ext
rahierten, kontinuierlichen Stroms eines bestimmten Ladungszustandes führen.
Für die Erzeugung zeitlich kurzer Pulse hoch geladener Ionen wurde deshalb ein Verfahren
entwickelt, das den Ionen-Einschluß in der Raumladung der Elektronen kurzzeitig dadurch
verschlechtert, daß die EZR-Heizung durch plötzliches Abschalten der Mikrowelle ausgeschal
tet wird [Ref. 3 und Ref. 6]. Dieses sog. "Afterglow"-Verfahren (der aus dem Englischen ent
lehnte Begriff für das Nachleuchten eines Plasmas nach Abschalten des Erzeugungmechanis
mus) führt dazu, daß mit dem Abschalten der EZR-Heizung vor allem die Elektronen niedriger
Energie durch Stöße mit anderen geladenen Partikeln aus der MBM herausgestreut werden, so
daß ein Teil der Raumladung der Elektronen für den Einschluß der ursprünglich vorhandenen
Ionen verloren geht und deshalb letztere wegen der Coulomb-Abstoßung untereinander ausei
nanderfliegen. Wegen des starken, axialen Magnetfeldes wird dieses Auseinanderfliegen der Io
nen vorwiegend in ein axiales Auseinanderfliegen der Ionen in beide Richtungen umgewandelt,
so daß an der Extraktionsöffnung ein kurzer Puls von Ionen auftritt. Das "Afterglow"-
Verfahren erzeugt tatsächlich Pulse hoch geladener Ionen von etwa 1 ms Länge, die im Maxi
mum ein bis zwei Größenordnungen größere Ströme eines hoch geladenen Ions ergeben kön
nen als die entsprechenden, kontinuierlichen Ströme. Der Nachteil dieses Verfahrens liegt darin,
daß nur ein Teil des Ionen-Einschlusses im Potential der Elektronen abgeschaltet wird, wäh
rend der magnetische Einschluß konstant erhalten bleibt.
Es wurden deshalb erfolgreiche Versuche unternommen, den magnetischen Einschluß aller
in der MBM befindlichen, geladenen Teilchen kurzzeitig auszuschalten [Ref. 7: C. Mühle, "Un
tersuchung einer ECRIS mit gepulster, magnetischer Extraktion", Dissertation, 1995, Univ.
Frankfurt, durchgeführt in der GSI-Darmstadt, GSI-95-07 Report (1995), Ref. 8: C. Mühle et
al., "Status of the pulsed magnetic field electron cyclotron resonance ion source", Review of
Scientific Instruments 65, 1078-1080 (1993), Ref. 9: C. Mühle et al., "Pulsed magnetic field
electron cyclotron resonance ion source operation", Review of Scientific Instruments 67,
1331-1333 (1996)]. In diesem Experiment wurde gezeigt, daß eine die Plasmakammer um
schließende, axialsymmetrische, zylindrische Spule dazu verwendet werden kann, das Mini
mum des magnetischen Spiegelfeldes in wenigen µs in ein Maximum umzuschalten, das größer
ist als die Maxima des ursprünglichen Spiegelfeldes. Dadurch wird der magnetische Einschluß
aller geladenen Partikel zerstört, so daß für die Ionen sowohl der magnetische wie auch der
Raumladungs-Einschluß durch die Elektronen verloren geht. In Referenzen 7-9 wird dabei das
gepulste Feldmaximum so gelegt, dass die Ionen und Elektronen überall einem Abfall des
Magnetfeldes zur Extraktion hin ausgesetzt sind, so dass sie vorwiegend in Richtung der Ex
traktionsöffnung auseinander fliegen. Wegen des starken axialen Magnetfeldes wird dieses
Auseinanderfliegen der Ionen vorwiegend in ein axiales Auseinanderfliegen der Ionen umge
wandelt, so dass an der Extraktionsöffnung ein kurzer Puls von Ionen auftritt. Das magnetische
Schalten der MBM erzeugt experimentell tatsächlich Pulse hoch geladener Ionen der Länge
< 1 ms, die im Maximum etwa ein bis zwei Größenordnungen größere Ströme eines hoch gela
denen Ions ergeben als die entsprechenden kontinuierlichen Ströme. Das Experiment wurde
aber mit einer EZR-Ionenquelle mit schwachem magnetischen Einschluß durchgeführt, so daß
die erzielbaren Strompulse deutlich kleiner ausfielen als mit dem "Afterglow"-Verfahren bei
Hochleistungs-EZR-Ionenquellen, obwohl sie prinzipiell größer ausfallen sollten. Der große
Nachteil dieses magnetischen Schaltens einer ganzen MBM liegt aber vor allem darin, daß ein
großes Magnetfeld der Größenordnung Tesla innerhalb von wenigen µs zu Schalten ist, was
einen großen elektrischen Leistungsbedarf erfordert und deshalb aus wirtschaftlichen Gründen
nicht mit großen Puls-Wiederholraten durchgeführt werden kann.
Das alleinige Schalten der extraktionsseitigen Spiegelspule wird in Referenzen 7-9 wegen
der zu großen Induktivität dieser Spule ausdrücklich ausgeschlossen. Es wird darin außerdem
darauf verwiesen, dass wegen Wirbelströmen in den Plasmakammerwänden das Eindringen des
gepulsten Feldes in die Plasmakammer dann nicht möglich sei.
In [JP-A2 6-76751 (A)] wird trotzdem eine gepulste Spiegelspule vorgeschlagen. Sie soll
aber zum Erreichen der Resonanzfeldstärke eingesetzt werden, um während des Pulses Ionen
zu produzieren, die dann bei ausgeschalteter Spiegelspule extrahiert werden sollen. Es handelt
sich dabei also um eine Pulssteuerung der Ionenproduktion.
In [DE 31 04 461 A1] wird im Anspruch 4 zwar beansprucht, dass "wenigstens eines der a
xialen oder radialen, magnetischen Felder pulsierend" sein kann, aber es wird nicht erläutert,
was damit erreicht werden soll. Es muss daher davon ausgegangen werden, dass zum Zeit
punkt der Anmeldung von [DE 31 04 461 A1] das Erreichen großer Magnetfeldstärken noch ein
großes Problem darstellte, das damals in der Plasmaphysik, aus der die ECRIS hervorgegangen
sind, mit pulsierenden Feldern gelöst wurde. Es ist auf jeden Fall aus [DE 31 04 461 A1] nicht
ersichtlich, dass mit pulsierenden Feldern die magnetische Extraktion von Ionen gesteuert wer
den soll.
Alle anderen Patentschriften betreffen die Optimierung der ECRIS im allgemeinen oder
Methoden der Modifikation der statischen Magnetfelder, um die kontinuierliche Extraktion von
Ionen zu verbessern. In letztere Kategorie fällt auch Ref. 3.
Zusammenfassend kann also gesagt werden, daß extrahierte Ströme hoch geladener Ionen
aus EZR-Ionenquellen pulsartig dadurch gesteigert werden können, daß der Ionen-Einschluß
pulsartig verschlechtert oder ganz zerstört wird. Die dafür bisher eingesetzten Methoden besit
zen aber prinzipielle oder wirtschaftliche Nachteile.
Es besteht damit die Aufgabe, den Ionen-
Einschluß in EZR-Ionenquellen auf technisch günstige und wirtschaftliche Art und Weise puls
artig für die optimale Extraktion hoch geladener Ionen und auch von Elektronen zu modifizie
ren.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß durch eine pulsartige, magneti
sche Öffnung der MBM, die auf den räumlichen Bereich der Extraktionsöffnung beschränkt ist,
die in der vorher existierenden MBM gespeicherten, geladenen Partikel aus dem Innern der
MBM zur Extraktionsöffnung hin entweichen und dort sehr effizient extrahiert werden können,
wobei durch die räumliche Begrenzung des zu schaltenden Magnetfelds Spulen mit kleinen,
durch diesen räumlichen Bereich definierten Dimensionen ausreichen, deren Pulsung mit gerin
gen technischen und wirtschaftlichen Mitteln möglich ist.
Diese magnetische Öffnung im räumlichen Bereich der Extraktionsöffnung in der Plasmae
lektrode muß die dort existierende Magnetfeldstärke des axialsymmetrischen, magnetischen
Spiegelfeldes auf Werte
kleiner oder gleich Bmin absenken, damit die Plasmapartikel nur noch kleine oder gar keine Axi
alkräfte in Richtung der Mitte der Plasmakammer mehr erfahren. Dieses Herunterschalten des
Magnetfeldes an der Extraktionsöffnung auf Werte ≦ Bmin könnte prinzipiell ohne
mechanische Umbauten sofort dadurch erzielt werden, daß die elektrischen Ströme in den das
ursprüngliche Feld erzeugenden Spulen plötzlich, d. h. technisch so schnell wie möglich,
abgesenkt werden. Da es sich um große Spulenströme in Spulen großer Induktivität handelt,
ist dieses plötzliche Schalten etwa der Hälfte der Spulenströme zwar technisch möglich, aber
technisch aufwendig.
Technisch einfacher und wesentlich wirtschaftlicher wird die Absenkung des extraktionssei
tigen Magnetfeldes erfindungsgemäß dadurch bewerkstelligt, daß die Magnetfeldstruktur des ursprünglichen,
magnetischen Einschlusses erhalten bleibt und mechanisch im räumlichen Bereich der Plasmae
lektrode eine oder mehrere Hilfsspulen angeordnet werden, die mit einem plötzlichen Strom
stoß beschickt werden. Dadurch kann dem Magnetfeld an der Extraktionselektrode ein
plötzliches Magnetfeldminimum überlagert werden, so daß dort die Gesamtmagnetfeldstärke
≦ Bmin wird. Eine besonders einfache Lösung wird dadurch
erreicht, daß eine der Hilfsspulen in die Plasmaelektrode integriert wird.
Für die ionenoptische Qualität der erzeugten Stromimpulse stellt das Vorhandensein des
magnetischen Multipols ein Problem dar. Für die Verbesserung kann erwogen werden, daß
gleichzeitig mit dem plötzlichen Öffnen des axialen, magnetischen Einschlusses auch der mag
netische Multipol überall oder zumindest im Bereich der Extraktion ganz oder teilweise plötz
lich abgeschaltet wird, um das Plasma möglichst homogen und in Achsennähe auf die Extraktionsöffnung
in der Plasmaelektrode zuströmen zu lassen, um Ionen- oder Elektronen-
Stromimpulse möglichst guter Homogenität und Emittanz extrahieren zu können.
Für viele technologische Anwendungen ist es nicht notwendig, Ionen und Elektronen ge
trennt zu extrahieren. Die Verwendung des gesamten, neutralen Plasmas ist verfahrenstech
nisch oft sogar wirkungsvoller als die Verwendung reiner Ionen- oder Elektronenstrahlen. Dies
gilt insbesondere für Plasmen großer Energiedichte, wie sie in EZR-Ionenquellen vorliegen.
Durch Verzicht auf das elektrische Ziehfeld und durch Vergrößern der Extraktionsöffnung in
der Plasmaelektrode kann dieses ganze Plasma durch magnetische Öffnung in die vorher defi
nierte Extraktionsrichtung ausströmen und außerhalb der EZR-Ionenquelle nutzbar gemacht
werden. Die Ausströmgeschwindigkeit läßt sich dabei sogar über den Gradienten des abfallen
den Magnetfeldes zur Extraktion hin steuern. Außerhalb der EZR-Ionenquelle kann also ein im
magnetischen Streufeld der EZR-Ionenquelle expandierender Plasmapuls mit großem Anteil
hoch geladener Ionen und regelbarer Geschwindigkeit erzeugt werden. Die Expansion dieses
Plasmapulses kann durch äußere, magnetische Führungsfelder an die jeweiligen Verfahren an
gepaßt werden.
Eine weitere Erläuterung der Erfindung erfolgt mit dem Ausführungsbeispiel 1 (vergl. Fig. 1).
Als Ausführungsbeispiel 1 kann eine EZR-Ionenquelle in Fig. 1 gezeigt werden. Sie besteht aus
einer Plasmakammer (1), in der das für die Plasmaerzeugung erforderliche Vakuum erzeugt
und der Restdruck des gewünschten Gases durch einen Gaseinlaß (2) aufrechterhalten wird,
und in die die Mikrowellen (3) eingekoppelt werden. Auf der Ionen- oder Elektronen-
Extraktionsseite ist die Plasmakammer mit einer Plasmaelektrode (4) abgeschlossen, der in Ex
traktionsrichtung (5) eine Extraktionselektrode (6) folgt. Durch die Öffnungen der Plasma- und
Extraktionselektroden werden die im Plasma (7) erzeugten Ionen oder Elektronen aus dem
Plasma extrahiert, wobei durch eine Spannungsdifferenz zwischen der Plasma- und der Extrak
tionselektrode ein sogenanntes Ziehfeld wählbarer Polarität aufgebaut wird. Die Magnetfeld
struktur wird in diesem Beispiel durch einen radial magnetisierten Permanentmagnetring (8),
vier stromdurchflossene Spulen (9) und einen aus Permanentmagneten zusammengesetzten
Oktopol (10) erzeugt, dessen Einzelmagnete mit den angegebenen Pfeilrichtungen magnetisiert
sind. Der Ring (8) und die Spulen (9) können mechanisch und elektrisch so eingestellt werden,
daß sie zum Beispiel ein Axialfeld Bz (11) auf der z-Achse (12) mit einem sehr flachen Mini
mum (13) erzeugen, dessen kleinster Wert auf der Achse Bmin in der Mitte der Plasmakammer
liegt. Durch dieses axiale Feld Bz (11, 13) wird das Plasma (7) axial gut eingeschlossen. Durch eine Pulsstrombeaufschlagung einer oder mehrerer
Hilfsspulen - insbesondere
kann in die Plasmaelektrode eine erste Hilfsspule
(16) und im Bereich der Plasmaelektrode eine zweite Hilfsspule (17) eingebaut werden - wird
ein lokales, axiales, magneti
sches Feld der Art erzeugt, daß das überlagerte, axiale Gesamtmagnetfeld auf der Achse im Be
reich der Extraktion die Formen (15) annimmt. Um die experimentell zu bestimmende, beste
Form (15) des axialen Gesamtmagnetfeldes auf der Achse im Bereich der Extraktion für die
Extraktion der größten Ionen- oder Elektronen-Stromimpulse oder Plasmaimpulse zu errei
chen, können auch die elektrischen Ströme aller diese Felder erzeugenden Spulen gleichzeitig
um einstellbare positive oder negative Werte geschaltet werden.
Claims (7)
1. Elektronen-Zyklotron-Resonanz-Ionen-Quelle
(ECRIS), insbesondere für hoch geladene Ionen,
wobei die Magnetfeldstruktur für den Plasmaeinschluß mit Permanentmagneten, stromdurch
flossenen Kupferspulensystemen, supraleitenden Spulensystemen oder mit einer Kombination
dieser drei Methoden erzeugt wird, wobei der Betrag des im Innern der Magnetfeldstruktur
herrschenden Bmin-Feldes nach außen in jede Richtung auf mindestens 1,7 Bmin zunimmt und
die das Minimum des Magnetfeldes einschließende Plasmakammer in axia
ler Richtung durch magnetische Spiegelfelder und in radialer Richtung durch ein magnetisches
Multipolfeld begrenzt wird, wobei die zur Mikrowelleneinkopplung vorgesehene Plasmakam
mer auf ihrer Extraktionsseite durch eine axialsymmetrisch angeordnete Plasmaelektrode abge
schlossen ist, durch deren Öffnungen Ionen durch ein elektrisches Ziehfeld extrahiert werden,
gekennzeichnet dadurch, dass
in axialer Richtung in Höhe der Plasmaelektrode eine oder mehrere, pulsstrombeaufschlagte
Hilfsspulen angeordnet sind, die durch einen Strompuls einen Teil des axialen, magnetischen
Spiegelfeldes an der Plasmaelektrode zeitlich abrupt auf einen Wert
≦ Bmin absenken.
2. ECRIS nach Anspruch 1,
gekennzeichnet dadurch, dass
die Hilfsspulen teilweise oder ganz in die Plasmaelektrode integriert sind.
3. ECRIS nach Ansprüchen 1 oder 2,
gekennzeichnet dadurch, dass
die Mikrowellenleistung simultan zur Pulsstrombeaufschlagung der Hilfsspule gestoppt wird.
4. ECRIS nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3,
gekennzeichnet dadurch, dass
die Plasmaelektrode ein Extraktionsgitter als Öffnung erhält.
5. ECRIS nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4,
gekennzeichnet dadurch, dass
das magnetische Multipolfeld simultan zur Pulsstrombeaufschlagung der Hilfsspule zumindest
teilweise abgeschaltet wird.
6. Elektronen-Zyklotron-Resonanz-Ionen-Quelle (ECRIS), insbe
sondere für hoch geladene Ionen, wobei die Magnetfeldstruktur für den Plasmaeinschluß mit
Permanentmagneten, stromdurchflossenen Kupferspulensystemen, supraleitenden Spulensys
temen oder mit einer Kombination dieser drei Methoden erzeugt wird, wobei der Betrag des im
Innern der Magnetfeldstruktur herrschenden Bmin-Feldes nach außen in jede Richtung auf min
destens 1,7 Bmin zunimmt und die das Minimum des Magnetfeldes einschließende
Plasmakammer in axialer Richtung durch magnetische Spiegelfelder und in radialer
Richtung durch ein magnetisches Multipolfeld begrenzt wird, wobei die zur Mikrowellenein
kopplung vorgesehene Plasmakammer auf ihrer Extraktionsseite durch eine axialsymmetrisch
angeordnete Plasmaelektrode abgeschlossen wird,
gekennzeichnet dadurch, dass
die Plasmaelektrode eine nicht zu enge Öffnung aufweist, nicht unter Einfluss eines elektri
schen Ziehfeldes zur Ionenextraktion steht, und in axialer Richtung in Höhe der Plasmaelektro
de eine oder mehrere, strompulsbeaufschlagte Hilfsspulen angeordnet sind, die durch einen
Strompuls einen Teil des axialen, magnetischen Spiegelfeldes an der Plasmaelektrode zeitlich
abrupt auf einen Wert ≦ Bmin absenken.
7. ECRIS nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6,
gekennzeichnet dadurch, dass
den zu extrahierenden Ionen vor der Pulsstrombeaufschlagung der Hilfsspule durch Ionen-
Zyklotron-Resonanz-Heizung Rotationsenergie zugeführt wird.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE1999133762 DE19933762C2 (de) | 1999-07-19 | 1999-07-19 | Gepulste magnetische Öffnung von Elektronen-Zyklotron-Resonanz-Jonenquellen zur Erzeugung kurzer, stromstarker Pulse hoch geladener Ionen oder von Elektronen |
PCT/DE2000/002287 WO2001006533A2 (de) | 1999-07-19 | 2000-07-13 | Gepulste magnetische öffnung von elektronen-zyklotron-resonanz-ionen-quellen zur erzeugung kurzer, stromstarker pulse hoch geladener ionen oder elektronen |
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---|---|---|---|
DE1999133762 DE19933762C2 (de) | 1999-07-19 | 1999-07-19 | Gepulste magnetische Öffnung von Elektronen-Zyklotron-Resonanz-Jonenquellen zur Erzeugung kurzer, stromstarker Pulse hoch geladener Ionen oder von Elektronen |
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---|---|
DE19933762A1 DE19933762A1 (de) | 2001-02-01 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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DE (1) | DE19933762C2 (de) |
WO (1) | WO2001006533A2 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008011015A1 (de) * | 2008-02-25 | 2009-09-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Partikeltherapieanlage |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10306936B3 (de) * | 2003-02-19 | 2004-06-24 | Gesellschaft für Schwerionenforschung mbH | Multi-Mode-Metall-Ionenquelle mit der Struktur einer Hohlkathoden-Sputter-Ionenquelle mit radialer Ionenextraktion |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3104461A1 (de) * | 1980-02-13 | 1982-02-18 | Commissariat à l'Energie Atomique, 75015 Paris | Verfahren zur erzeugung von stark geladenen schweren ionen, vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens und eine verwendung dieses verfahrens |
FR2512623A1 (fr) * | 1981-09-10 | 1983-03-11 | Commissariat Energie Atomique | Procede de fusion et/ou d'evaporation pulsee d'un materiau solide |
EP0130907A1 (de) * | 1983-06-30 | 1985-01-09 | Commissariat A L'energie Atomique | Verfahren zur Erzeugung mehrfach geladener Ionen |
EP0138642A1 (de) * | 1983-08-30 | 1985-04-24 | Commissariat A L'energie Atomique | Mittels Dauermagneten und Solenoiden erzeugte ferromagnetische Struktur einer Ionenquelle |
EP0142414A2 (de) * | 1983-10-17 | 1985-05-22 | Commissariat A L'energie Atomique | Ionenquelle insbesondere zum Erzeugen eines Stroms mehrfachgeladener metallischer Ionen, bei der der Ionenstrom geregelt wird |
US4631438A (en) * | 1983-12-07 | 1986-12-23 | Commissariat A L'energie Atomique | Multicharged ion source with several electron cyclotron resonance zones |
US4638216A (en) * | 1983-05-20 | 1987-01-20 | Commissariat A L'energie Atomique | Electron cyclotron resonance ion source |
EP0238397A1 (de) * | 1986-03-13 | 1987-09-23 | Commissariat A L'energie Atomique | Elektronenzyklotronresonanz-Ionenquelle mit koaxialer Injektion elektromagnetischer Wellen |
EP0252845A1 (de) * | 1986-07-10 | 1988-01-13 | Commissariat A L'energie Atomique | Elektronzyklotronresonanz-Ionenquelle |
JPH05109365A (ja) * | 1991-10-11 | 1993-04-30 | Japan Steel Works Ltd:The | 電子サイクロトロン共振イオン源 |
WO1994003919A1 (de) * | 1992-08-08 | 1994-02-17 | Andrae Juergen | Verfahren zur erzeugung von strahlen beliebiger, hochgeladener ionen niedriger kinetischer energie sowie vorrichtung zur durchführung des verfahrens |
JPH0676751A (ja) * | 1992-08-28 | 1994-03-18 | Japan Steel Works Ltd:The | パルス駆動型の電子サイクロトロン共振イオン源 |
FR2718568A1 (fr) * | 1994-04-06 | 1995-10-13 | France Telecom | Procédé d'implantation haute énergie à partir d'un implanteur de type faible ou moyen courant et dispositifs correspondants. |
DE4419970A1 (de) * | 1994-06-08 | 1995-12-21 | Juergen Prof Dr Andrae | Vorrichtung zur Erzeugung von Strahlen hochgeladener Ionen |
EP0813223A1 (de) * | 1996-06-11 | 1997-12-17 | Commissariat A L'energie Atomique | Magnetfelderzeugungsvorrichtung und ECR Ionenquelle dafür |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2779317B1 (fr) * | 1998-05-26 | 2000-08-18 | Pantechnik | Procede de modulation de la configuration d'un champ magnetique |
-
1999
- 1999-07-19 DE DE1999133762 patent/DE19933762C2/de not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-07-13 WO PCT/DE2000/002287 patent/WO2001006533A2/de active Application Filing
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3104461A1 (de) * | 1980-02-13 | 1982-02-18 | Commissariat à l'Energie Atomique, 75015 Paris | Verfahren zur erzeugung von stark geladenen schweren ionen, vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens und eine verwendung dieses verfahrens |
FR2512623A1 (fr) * | 1981-09-10 | 1983-03-11 | Commissariat Energie Atomique | Procede de fusion et/ou d'evaporation pulsee d'un materiau solide |
US4638216A (en) * | 1983-05-20 | 1987-01-20 | Commissariat A L'energie Atomique | Electron cyclotron resonance ion source |
EP0130907A1 (de) * | 1983-06-30 | 1985-01-09 | Commissariat A L'energie Atomique | Verfahren zur Erzeugung mehrfach geladener Ionen |
EP0138642A1 (de) * | 1983-08-30 | 1985-04-24 | Commissariat A L'energie Atomique | Mittels Dauermagneten und Solenoiden erzeugte ferromagnetische Struktur einer Ionenquelle |
EP0142414A2 (de) * | 1983-10-17 | 1985-05-22 | Commissariat A L'energie Atomique | Ionenquelle insbesondere zum Erzeugen eines Stroms mehrfachgeladener metallischer Ionen, bei der der Ionenstrom geregelt wird |
US4631438A (en) * | 1983-12-07 | 1986-12-23 | Commissariat A L'energie Atomique | Multicharged ion source with several electron cyclotron resonance zones |
EP0238397A1 (de) * | 1986-03-13 | 1987-09-23 | Commissariat A L'energie Atomique | Elektronenzyklotronresonanz-Ionenquelle mit koaxialer Injektion elektromagnetischer Wellen |
EP0252845A1 (de) * | 1986-07-10 | 1988-01-13 | Commissariat A L'energie Atomique | Elektronzyklotronresonanz-Ionenquelle |
JPH05109365A (ja) * | 1991-10-11 | 1993-04-30 | Japan Steel Works Ltd:The | 電子サイクロトロン共振イオン源 |
WO1994003919A1 (de) * | 1992-08-08 | 1994-02-17 | Andrae Juergen | Verfahren zur erzeugung von strahlen beliebiger, hochgeladener ionen niedriger kinetischer energie sowie vorrichtung zur durchführung des verfahrens |
JPH0676751A (ja) * | 1992-08-28 | 1994-03-18 | Japan Steel Works Ltd:The | パルス駆動型の電子サイクロトロン共振イオン源 |
FR2718568A1 (fr) * | 1994-04-06 | 1995-10-13 | France Telecom | Procédé d'implantation haute énergie à partir d'un implanteur de type faible ou moyen courant et dispositifs correspondants. |
DE4419970A1 (de) * | 1994-06-08 | 1995-12-21 | Juergen Prof Dr Andrae | Vorrichtung zur Erzeugung von Strahlen hochgeladener Ionen |
EP0813223A1 (de) * | 1996-06-11 | 1997-12-17 | Commissariat A L'energie Atomique | Magnetfelderzeugungsvorrichtung und ECR Ionenquelle dafür |
Non-Patent Citations (9)
Title |
---|
GELLER, R.: "Electron Cyclotron Resonance Ion Sources and ECR-Plasmas", Inst. of Physics Publish Bristol/Philadelphia 1996, S. 398-412 * |
MÜHLE, C.: "Untersuchung einer ECRIS mit gepuls- ter magnetischer Extraktion", Diss. Univ. Frankfurt/M, 1995 * |
Nucl.Instr. and Meth. in Phys.Res. A287 (1990) 341-347 (B. Jacquot, M. Pontonnier) * |
Physica Scripta T89 (1999) 517f * |
Proceed. of 14th Int. Workshop on ECR-Sources, 3.-6.5.99, CERN, Genf, S. 224-232(A.Heinen et al) * |
Rev.Sci.Instr. 65 (1994) 4, 1045-1050 (A.G. Drentje) * |
Rev.Sci.Instr. 65 (1994) 4, 1078-1080 (C. Mühle et al) * |
Rev.Sci.Instr. 67, (1996) 3, 1331-1333 (C. Mühle et al) * |
Rev.Sci.Instr. 69 (1998) 3, 1302-1310 (R. Geller) * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008011015A1 (de) * | 2008-02-25 | 2009-09-03 | Siemens Aktiengesellschaft | Partikeltherapieanlage |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19933762A1 (de) | 2001-02-01 |
WO2001006533A3 (de) | 2002-05-10 |
WO2001006533A2 (de) | 2001-01-25 |
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8122 | Nonbinding interest in granting licenses declared | ||
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8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |