DE19928658C2 - Verfahren zur Erzeugung geordneter Kanalstrukturen durch Benetzungsinstabilitäten - Google Patents
Verfahren zur Erzeugung geordneter Kanalstrukturen durch BenetzungsinstabilitätenInfo
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Description
Die fortschreitende Entwicklung in der Halbleiterindustrie und der chemischen Analytik
erfordert die Herstellung immer kleinerer Strukturen. Die wohl am meisten genutzte Methode
stellt die Photolithographie dar, welche allerdings aufgrund der Beugungslimitierung nicht
beliebig kleine Strukturen schreiben kann. Andere Verfahren wurden in den letzten Jahren
entwickelt, wie das Mikrokontakt-Drucken oder die Gasdeposition durch geeignete Masken.
Wir stellen eine davon abweichende Methode vor, die zuverlässig und schnell ein
periodisches Streifenmuster erzeugt, verursacht durch Benetzungsinstabilitäten. Diese erreicht
zunächst nicht eine weitere Miniaturisierung der oben beschriebenen Methoden, sondern stellt
einen neuen Ansatz dar. Zur Herstellung elektronischer Bauteile müssen komplizierte Muster
beliebiger Form geschrieben werden können, für andere Zwecke ist die Erzeugung einfacher,
periodischer Streifenmuster ausreichend. Hierbei werden die Adsorptionseigenschaften eines
geeigneten Molekül-Substrat Systems während einer dynamischen Langmuir-Benetzung
ausgenutzt, um eine bezüglich der Benetzbarkeit anisotrope Oberflächenstruktur zu erzeugen.
Die Herstellung von Strukturen mit unterschiedlichen physikalischen Eigenschaften, wie z. B.
der Benetzbarkeit, kann in der chemischen bzw. biologischen Analytik mit extrem kleinen
Volumina (femtoliter) ihre Anwendung finden. Die "femtoliter" Analyse erlaubt die
Reduktion der Kosten und eine Steigerung der Prozeßgeschwindigkeit.
Monomolekulare organische Schichten gebildet aus amphiphilen Molekülen können an der
Wasser-Luft Grenzfläche mit Hilfe der bekannten Langmuir Blodgett (LB) Technik
hergestellt werden. Durch Kompression dieser monomolekularen Filme lassen sich diese in
einem durch Temperatur, Oberflächengröße und durch die Abnahme der Oberflächenspannung
(Lateraldruck) charakterisierten Zustand präparieren. Durch Herausziehen eines hydrophilen
Substrates (Glimmer, behandelte Si-Wafer, Glas, Metalle) aus der wäßrigen Subphase lassen
sich diese Schichten als monomolekularer Film (Monofilm) übertragen. Die Güte dieses
Transfers (Belegungsdichte des Substrates) hängt neben den oben genannten Parametern auch
von der relativen Geschwindigkeit des Substrates und von der Adsorptionskinetik
(Wechselwirkung Molekül-Substrat) ab. Jedem molekularen Transfer liegt eine maximal
mögliche Ziehgeschwindigkeit zugrunde, deren Überschreitung eine Reduktion der
Belegungsdichte zur Folge hat. Sehr schnell adsorbierende Moleküle (starke Molekül/Substrat
Wechselwirkung) lassen demzufolge hohe Transfergeschwindigkeiten zu. Für derartige
Systeme wurden Instabilitäten der Benetzung beobachtet, derart daß der Meniskus der
wäßrigen Subphase am Substrat einer Oszillation parallel zur Oberflächennormalen
unterworfen wird. Diese erzeugt auf der Substratoberfläche Streifen senkrecht zur
Transferrichtung mit vollständiger Unterdrückung des molekularen Transfers. Dieses läßt sich
mit einer Betrachtung der Dynamik des LB-Transfers für schnell adsorbierende Moleküle
verstehen: Das Substrat wird mit einer konstanten Geschwindigkeit in Richtung der
Oberflächennormalen bewegt. Dieses führt zu einem überhöhten Meniskus, entsprechend
einer Verkleinerung des Kontaktwinkels und zu einer schnelleren Adsorption. Die
Oberflächenspannung bzw. Oberflächenenergie sinkt durch die an der Oberfläche
adsorbierten Moleküle. Eine Verkleinerung der Oberflächenenergie resultiert in einem
größeren Kontaktwinkel, entsprechend einer Erniedrigung des Meniskus. Diese sich
entgegengesetzten Prozesse führen zu der Oszillation der Kontaktlinie Wasser-Substrat.
Diese Tatsache ist seit einigen Jahren wohlbekannt, führte bis heute nicht zur Erzeugung von
periodischen Streifenmustern. Dieser Prozeß erzeugt abwechselnd hydrophobe Streifen,
bestehend aus einer monomolekularen Molekülschicht und hydrophilen Kanälen ohne
Beschichtung. Die Streifenbreite stellt sich dabei als Funktion der inversen
Transfergeschwindigkeit dar. Ein genaueres Verständnis des Mechanismus liegt zu diesem
Zeitpunkt nicht vor.
Unsere Methode, die auf der Optimierung der Parameter und der Wahl eines passenden
Systems (Molekül-Substrat) besteht, ist in der Lage, periodische Streifenmuster zu
erzeugen. Das Molekül L-α-dipalmitoylphosphatidycholine (DPPC, z. B. Sigma) (positiv
geladen auf wäßriger Subphase) wird zum Aufbau eines LB-Monofilms bei niedrigen
Lateraldrücken (3,0-3,5 mN/m) und einer Temperatur von 22,5°C (±1,0°C) verwendet. Ein
frisch gespaltenes Glimmersubstrat (1 in Abb. 1) (negative Oberflächenladung) wird mit
konstanter Geschwindigkeit (60 mm/min) aus der mit einem DPPC-Monofilm belegten
wäßrigen Subphase (2) gezogen. Durch die starke elektrostatische Wechselwirkung wird
durch die oben beschriebene Benetzungsinstabilität eine Kanalstruktur (3) erzeugt. Der
oszillierende Meniskus (4) schreibt Streifen mit ca. 800 nm Breite, die durch Kanäle separiert
sind mit einer Breite von ca. 200 nm. Diese Methode strukturiert das gesamte Substrat (hier
10 cm2) auf beiden Seiten und benötigt dazu lediglich ca. eine Minute (bei 6 cm
Substratlänge). Eine Begrenzung der zu strukturierenden Fläche liegt im Prinzip nicht vor.
Eine kleine Streuung in der Periode sowie Rauhigkeiten in den Kanalbegrenzungen lassen
sich allerdings nicht unterdrücken. Die Herstellung der strukturierten Substrate wurde mit
einer kommerziellen Langmuir-Filmwaage (NIMA 6100) durchgeführt.
Die in den folgenden Bildern gezeigte Streifenstruktur wurde mit den oben erwähnten
Parametern erzeugt und mit Hilfe eines Rasterkraftmikroskopes dargestellt. Abb. 2a
zeigt die Phasendarstellung (Materialempfindliches Meßsignal) eines gut 30 × 30 µm großen
Bereiches und die Abb. 2b und 2c zwei vergrößerte Darstellungen der Topographie.
Claims (10)
1. Verfahren zur Darstellung von geordneten parallel ausgerichteten Kanalstrukturen in ei
nem auf einem Substrat befindlichen organischen Material, dadurch gekennzeichnet, dass
bei der Anwendung der Langmuir-Blodgett-Technik durch Verwendung der optimalen
Ziehgeschwindigkeit des Substrates aus einer Subphase, die das besagte organische Mate
rial als monomolekulare Schicht enthält, Oszillationen des Meniskus der Subphase ge
genüber dem Substrat hervorgerufen werden, die zu periodischen Benetzungs-Entnet
zungs-Vorgängen des organischen Materials am Substrat führen.
2. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass makroskopisch große Berei
che < 1 µm2, insbesondere 1 mm2 bis < 1 cm2, in ihren Benetzungseigenschaften verändert
werden.
3. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die entstehenden Kanäle < 1
µm breit sind.
4. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die entstehenden Kanal
strukturen mit weiteren Materialien gefüllt werden können, welche von anderer chemi
scher Zusammensetzung als das Substrat und die monomolekulare Schicht sind.
5. Verfahren gemäß Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Füllung der Kanäle über
die Kapillarkraft erfolgt.
6. Verfahren gemäß Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Füllung der Kanäle
durch thermisches Aufdampfen erfolgt.
7. Verfahren gemäß Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Füllung der Kanäle
durch elektrophoretische Methoden erfolgt.
8. Verfahren gemäß Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass insbesondere die Kanäle mit
metallischen Clustern gefüllt werden.
9. Verfahren gemäß Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Kanäle mit magneti
schen Materialien gefüllt werden.
10. Verfahren gemäß Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Kanäle mit biologischen
Materialien gefüllt werden.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1999128658 DE19928658C2 (de) | 1999-06-23 | 1999-06-23 | Verfahren zur Erzeugung geordneter Kanalstrukturen durch Benetzungsinstabilitäten |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19928658A1 DE19928658A1 (de) | 2000-12-28 |
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ID=7912196
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE1999128658 Expired - Fee Related DE19928658C2 (de) | 1999-06-23 | 1999-06-23 | Verfahren zur Erzeugung geordneter Kanalstrukturen durch Benetzungsinstabilitäten |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19928658C2 (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2444036A (en) * | 2006-11-21 | 2008-05-28 | Univ Muenster Wilhelms | Rotating a substrate through material on a liquid surface, to obtain a striped effect |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0119126A1 (de) * | 1983-03-04 | 1984-09-19 | Commissariat A L'energie Atomique | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von abwechselnden monomolekularen Schichten |
EP0330454A2 (de) * | 1988-02-24 | 1989-08-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Verfahren zur Herstellung eines dünnen organischen Films |
EP0385506A2 (de) * | 1989-03-03 | 1990-09-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Herstellung einer organischen Membrane |
DE4021733A1 (de) * | 1990-07-07 | 1992-01-09 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung anorganischer mikrostrukturen aus langmuir-blodgett-schichten |
DE4021196A1 (de) * | 1990-07-02 | 1992-01-23 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung dichter, hochreiner, homogener filme sowie verfahren zu deren struktierung |
-
1999
- 1999-06-23 DE DE1999128658 patent/DE19928658C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0119126A1 (de) * | 1983-03-04 | 1984-09-19 | Commissariat A L'energie Atomique | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von abwechselnden monomolekularen Schichten |
EP0330454A2 (de) * | 1988-02-24 | 1989-08-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Verfahren zur Herstellung eines dünnen organischen Films |
EP0385506A2 (de) * | 1989-03-03 | 1990-09-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Herstellung einer organischen Membrane |
DE4021196A1 (de) * | 1990-07-02 | 1992-01-23 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung dichter, hochreiner, homogener filme sowie verfahren zu deren struktierung |
DE4021733A1 (de) * | 1990-07-07 | 1992-01-09 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung anorganischer mikrostrukturen aus langmuir-blodgett-schichten |
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DE19928658A1 (de) | 2000-12-28 |
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