DE19927948B4 - Chipthermistoren und Verfahren zum Herstellen derselben - Google Patents

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Abstract

Chipthermistor (11; 11a; 11b) mit
einer Mehrzahl von ebenen Thermistorelementen (12; 12a), die aufeinander gestapelt sind;
Isolierungsschichten (13), von denen jede zwischen benachbarten Thermistorelementen (12; 12a) angeordnet ist und jede die Thermistorelemente eines unterschiedlichen zueinander benachbarten Paars von Thermistorelementen (12; 12a) voneinander isoliert; und
einem Paar von äußeren Elektroden (17, 18; 17b, 18b);
wobei jedes Thermistorelement (12; 12a) ein Paar von Endoberflächen, die einander gegenüberliegen, ein Paar von Hauptoberflächen, die einander gegenüberliegen und sich zwischen dem Paar von Endoberflächen erstrecken, und ein Paar von inneren Elektroden (15, 16; 15a, 16a) aufweist;
wobei sich eine der inneren Elektroden (15, 16; 15a, 16a) teilweise auf einer der Hauptoberflächen befindet und sich zusammenhängend auf eine der Endoberflächen erstreckt, wobei sich die andere innere Elektrode teilweise auf der anderen Hauptoberfläche befindet und sich zusammenhängend auf die andere Endoberfläche erstreckt;
wobei die Thermistorelemente (12; 12a) an ihren Hauptoberflächen aneinander...

Description

  • Diese Erfindung bezieht sich auf Thermistoren eines Chiptyps ("Chipthermistoren") und auf die Verfahren zum Herstellen solcher Thermistoren. Insbesondere bezieht sich die Erfindung auf Thermistoren eines Chiptyps mit einer positiven Temperaturcharakteristik (PTC; PTC = positive temperature characteristic), die zum Schutz gegen Überströme verwendet werden, und auf Verfahren zum Herstellen solcher Chipthermistoren.
  • PTC-Chipthermistoren, die für einen Schutz gegen Überströme verwendet werden, sind in der Schaltungsanordnung einer elektronischen Vorrichtung umfaßt, derart, daß dieselben Wärme emittieren, wenn ein Überstrom in einer Überschreitung einer spezifizierten Stromintensität vorhanden ist, der durch denselben fließt, wobei bewirkt wird, daß dessen Widerstandswert aufgrund dessen positiver Temperaturcharakteristik zunimmt, wodurch der Strom, der in die Vorrichtung fließt, auf einen Pegel unterhalb eines spezifizierten maximalen Stromwerts reduziert wird. Es ist wünschenswert, daß solche PTC-Thermistoren einen reduzierten Widerstandswert aufweisen, derart, daß deren Leistungsverlust aufgrund des Verringerns der Spannung reduziert werden kann, und es ist vorgeschlagen worden, eine Mehrzahl von PTC-Thermistorelementen elektrisch parallel zu schalten, derart, daß der Gesamtwiderstandswert der Kombination gemäß der Anzahl an Thermistoren, die angeschlossen werden sollen, reduziert werden kann.
  • Die Japanische Patentanmeldung Tokkai 6-267709 offenbart beispielsweise einen PTC-Thermistor 1a, wie er in 7 gezeigt ist, der durch das Aufeinanderstapeln einer Mehrzahl von ebenen PTC-Thermistorelementen 2 gebildet ist, wobei jedes der PTC-Thermistorelemente 2 Elektroden 3a und 4a aufweist, die auf dessen Hauptoberflächen gebildet sind. Das sich einander gegenüberliegende Paar von Elektroden 3a oder 4a jedes zueinander benachbarten Paars dieser PTC-Thermistorelemente 2 ist miteinander mittels eines elektrisch leitfähigen Haftmittels 5 verbunden. Um einen gegenseitig isolierten Zustand einzurichten, füllt darüber hinaus ein elektrisch isolierendes Material 6a offene Räume zwischen den Elektroden 3a und 4a.
  • Als ein weiteres Beispiel offenbart die Japanische Patentanmeldung Tokkai 6-302404 einen PTC-Thermistor 1b, wie er in 8 gezeigt ist, der durch Aufeinanderstapeln einer Mehrzahl von ebenen PTC-Thermistorelementen 2 gebildet ist, wobei jedes der PTC-Thermistorelemente 2 Elektroden 3b oder 4b aufweist, die auf dessen Hauptoberflächen gebildet sind. Die sich einander gegenüberliegenden Paare von Elektroden 3b oder 4b jedes zueinander benachbarten Paars dieser PTC-Thermistorelemente erstreckt sich in derselben Richtung. Jedes benachbarte Paar der PTC-Thermistorelemente 2 ist mittels eines Glasmaterials 6b zusammen verbunden. Die Paare von Elektroden 3b und 4b sind in entgegengesetzte Richtungen in sich abwechselnden Schichten erstreckt, und äußere Elektroden 7 und 8 sind auf den sich einander gegenüberliegenden Endoberflächen der gestapelten Anordnung der PTC-Thermistorelemente 2 gebildet, derart, daß die Elektroden 3b und 4b elektrisch parallel geschaltet werden können.
  • Die herkömmlichen PTC-Thermistoren 1a und 1b, die im vorhergehenden beschrieben wurden, können nicht mit einer hohen Arbeitseffizienz hergestellt werden, da die PTC-Thermistorelemente 2 vorsichtig gestapelt werden müssen, derart, daß in dem Fall der Thermistoren 1a von 7 die Elektroden 3a und 4a durch die Schichten des Haftmittels 5 korrekt ausgerichtet sind, und derart, daß sich in dem Fall des Thermistors 1b von 8 die Elektroden 3b und 4b in dem Fall des Thermistors 1b von 8 abwechselnd in unterschiedlichen Richtungen erstrecken.
  • Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht folglich darin, einen Chipthermistor mit einer einfachen Herstellung und ein einfaches Verfahren zum Herstellen eines Chipthermistors zu schaffen.
  • Die Aufgabe wird durch einen Chipthermistor gemäß Anspruch 1 und ein Verfahren zum Herstellen eines Chipthermistors gemäß Anspruch 8 gelöst.
  • Es ist ein Ziel dieser Erfindung, Thermistoren eines Chiptyps mit einem niedrigen Widerstandswert zu schaffen, die einfach hergestellt werden können, ohne daß ein Anordnen der Richtung der Erstreckung der inneren Elektroden notwendig ist, wenn die Thermistorelemente aufeinander gestapelt werden, sowie Verfahren zum Herstellen solcher Thermistoren eines Chiptyps zu schaffen.
  • Um einen Chipthermistor, der diese Erfindung aufweist, zu schaffen, mit dem die im vorhergehenden erwähnten und andere Aufgaben und Ziele durchgeführt werden können, kann mit einem ebenen rechteckigen Thermistorblock gestartet werden, wobei ein Paar von Elektroden auf dessen Oberflächen gebildet wird. Der Thermistorblock weist ein Paar von einander gegenüberliegenden Hauptoberflächen, die in einer longitudinalen Richtung verlängert sind, und ein Paar von einander gegenüberliegenden Seitenoberflächen auf. Eine erste Elektrode ist gebildet, um sich teilweise auf einer der Hauptoberflächen zu befinden und sich zusammenhängend auf eine der Seitenoberflächen zu erstrecken, wohingegen sich die zweite Elektrode teilweise auf der anderen Hauptoberfläche befindet und sich gleichmäßig auf die andere Seitenoberfläche erstreckt. Der Thermistorblock, der auf diese Weise präpariert ist, wird daraufhin transversal zu der longitudinalen Richtung geschnitten, wobei eine Mehrzahl von Thermistorelementen erhalten wird, wobei die Seitenoberflächen des ursprünglichen Thermistorblocks die Endoberflächen der einzelnen Thermistorelemente werden. Eine spezifizierte An zahl dieser Thermistorelemente werden daraufhin ausgerichtet und aufeinander gestapelt, wobei sich ihre Hauptoberflächen gegenüber liegen. Eine Schicht eines Isolierungsmaterials, wie z. B. Glas, mit einer Dicke, die größer als 10 μm ist, wird zwischen jedem zueinander benachbarten gestapelten Paar dieser Thermistorelemente eingefügt. Eine gestapelte Struktur, die auf diese Weise gebildet ist, weist einander gegenüberliegende äußere Oberflächen auf, an denen die Elektroden auf den einzelnen gestapelten Thermistorelementen nach außen freiliegen. Auf diesen äußeren Oberflächen der gestapelten Struktur werden äußere Elektroden gebildet, um dieselben mit den Elektroden auf den gestapelten Thermistorelementen elektrisch zu verbinden.
  • Die erste und zweite Elektrode auf jedem Thermistorelement kann gebildet sein, damit jede einen Großteil einer der Hauptoberflächen bedeckt, um sich zusammenhängend über eine der Endoberflächen und ferner über einen Teil der anderen Hauptoberfläche zu erstrecken. Jede der Hauptoberflächen der gestapelten Struktur kann mit einer Schicht eines elektrisch isolierenden Materials, wie z. B. Glas, bedeckt sein.
  • Ein Chipthermistor, der auf diese Weise strukturiert ist, ist vorteilhaft darin, daß die Thermistorelemente, die aufeinander gestapelt werden, voneinander zuverlässig isoliert sind, und daß keine Vorsicht bezüglich der Richtungen genommen werden muß, in die dieselben gerichtet sind, wenn dieselben gestapelt werden. Folglich wird die Herstellungsarbeitseffizienz verbessert, und der Temperaturanstieg der Schaltungsplatine, auf die derselbe angebracht wird, kann reduziert werden.
  • Bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend bezugnehmend auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
  • 1 eine Schnittansicht eines PTC-Chipthermistors, der diese Erfindung darstellt;
  • 2 ein Verfahren zum Bilden des PTC-Chipthermistors, der in 1 gezeigt ist, wobei 2A einen PTC-Thermistorblock zeigt, 2B den PTC-Thermistorblock zeigt, nachdem ein Ni-Film auf dessen Oberflächen gebildet ist, und wobei 2C den PTC-Thermistorblock zeigt, nachdem Teile dessen Films entfernt worden sind;
  • 3 eine Schnittansicht, die longitudinal einer der Linien X-X' entnommen ist, die in 2C gezeigt sind;
  • 4 eine Schnittansicht eines weiteren PTC-Thermistorelements;
  • 5 eine Schnittansicht eines weiteren PTC-Chipthermistors, der diese Erfindung darstellt;
  • 6 eine Schnittansicht eines ferner weiteren PTC-Chipthermistors, der diese Erfindung darstellt;
  • 7 eine Schnittansicht eines herkömmlichen PTC-Chipthermistors; und
  • 8 eine Schnittansicht eines weiteren herkömmlichen PTC-Chipthermistors.
  • Durch die gesamte Beschreibung hindurch werden aus Übersichtlichkeitsgründen die selben oder ähnliche Bestandteile manchmal durch die selben Bezugszeichen angezeigt und werden nicht notwendigerweise wiederholt beschrieben oder erklärt, sogar wenn dieselben Bestandteile von unterschiedlichen PTC-Chipthermistoren oder -Elementen sind.
  • 1 zeigt einen PTC-Chipthermistor 11, der diese Erfindung darstellt (Beispiel 1), mit drei ebenen PTC-Thermistor elementen 12, die mit Isolierungsschichten 13 zwischen sich aufeinander gestapelt sind, und mit äußeren Elektroden 17 und 18 auf beiden Seitenoberflächen der gestapelten PTC-Thermistorelemente 12.
  • Dieser PTC-Chipthermistor 11 wird zuerst durch Präparieren eines länglichen rechteckigen ebenen PTC-Thermistorblocks 14 hergestellt, wie er in 2A gezeigt ist. Als nächstes wird durch stromloses Plattieren ein dünner Film von Ni 141 durch stromloses Plattieren auf den Oberflächen dieses PTC-Thermistorblocks 14 gebildet, wie es in 2B gezeigt ist. Nachdem durch Sandstrahlen streifenförmige lineare Teile des Ni-Films 141 auf jeder Hauptoberfläche des PTC-Thermistorblocks 14 entlang und in der Nähe einer sich longitudinal erstreckenden Seitenoberfläche entfernt sind, wie es in 2C gezeigt ist, wird der PTC-Thermistorblock 14 entlang der Linien X-X' geschnitten. Die PTC-Elemente 12 mit einer Länge von 4, 5 mm, einer Breite von 3, 2 mm, einer Höhe von 0,3 mm und mit inneren Elektroden (sie werden hierin auf diese Weise bezeichnet, obwohl dieselben nicht im Inneren angeordnet sind, bevor die einzelnen PTC-Thermistorelemente 12 gestapelt werden) 15 und 16 auf denselben, wie sie in 3 gezeigt sind, wurden auf diese Weise erhalten. Die Seitenoberflächen des PTC-Thermistorblocks 14, bevor derselbe geschnitten wurde, sind nun die Endoberflächen der PTC-Thermistorelemente 12. Die innere Elektrode 15 bedeckt einen Großteil einer der (ersten) Hauptoberflächen des PTC-Thermistorblocks 14, wobei sich dieselbe von dort über eine der Endoberflächen erstreckt, um einen kleinen Teil der anderen (zweiten) Hauptoberfläche zu erreichen und zu bedecken. Die andere innere Elektrode 16 bedeckt einen Großteil der anderen (zweiten) Hauptoberfläche, wobei sich dieselbe von dort über die andere Endoberfläche erstreckt, um einen kleinen Teil der ersten Hauptoberfläche zu erreichen und zu bedecken.
  • Es ist vorzuziehen, vor dem stromlosen Plattierungsprozeß die Kantenteile 142 des PTC-Thermistorblocks 14 jeweils zwischen einer der Hauptoberflächen und einer der Seitenoberflächen abzuschrägen, derart, daß der Ni-Film 141 gleichermaßen über jeden Kantenteil 142 des PTC-Thermistorblocks 14 befestigt werden kann, und daß eine Unterbrechung in den inneren Elektroden 15 und 16 bei den Kantenteilen 142, sowie das Auftreten eines Zustands einer schlechten elektrischen Leitung, die durch eine solche Unterbrechung bewirkt wird, zuverlässig verhindert werden kann.
  • Als nächstes wird eine der Hauptoberflächen eines ersten der PTC-Thermistorelemente 12 vollständig mit einer Glaspaste bedeckt. Ein zweites der PTC-Thermistorelemente 12 wird oben auf dasselbe plaziert, wobei sich die zweite Hauptoberfläche des zweiten PTC-Thermistorelements mit dem ersten PTC-Thermistorelement in einer Seite-an-Seite-Beziehung überlappt, und die erste Hauptoberfläche des zweiten PTC-Thermistorelements vollständig auf gleiche Weise mit der Glaspaste bedeckt wird. Ein drittes PTC-Thermistorelement wird auf gleiche Weise oben auf das zweite PTC-Thermistorelement plaziert, wobei seine erste Hauptoberfläche mit der Glaspaste entweder vollständig oder mit Ausnahme der Kantenteile bedeckt wird, wo die äußeren Elektroden 17 und 18 gebildet werden sollen. Durch einen Brennprozeß werden diese drei PTC-Thermistorelemente 12 mit den isolierenden Glasschichten 13 zwischen denselben nicht nur miteinander verbunden, sondern es werden ferner die nach außen gerichteten Hauptoberflächen der gestapelten Struktur (die erste Hauptoberfläche des ersten PTC-Thermistorelements an der Unterseite und die zweite Hauptoberfläche des dritten PTC-Thermistorelements an der Oberseite, wie es in 1 gezeigt ist) mit einer isolierenden Glasschicht 13 bedeckt. Um die Elektroden 15 und 16 auf zueinander benachbarten Paaren der gestapelten PTC-Thermistorelemente 12 in einer voneinander isolierten Beziehung zu halten, ist es vorzuziehen, die Dicke der isolierenden Glasschichten 13 zwischen denselben größer als 10 μm herzustellen. Der PTC-Chipthermistor 11 wird erhalten, indem daraufhin die äußeren Elektroden 17 und 18 durch Brennen einer Ag-Paste auf den beiden Endoberflächen der gestapelten Struktur der PTC-Thermistorelemente 12 gebildet werden, derart, daß die Teile der inneren Elektroden 15 und 16, die an ihren Endoberflächen frei liegen, einzeln elektrisch angeschlossen werden können.
  • Eine Glaspaste kann ferner auf beiden Hauptoberflächen und Seitenoberflächen der gestapelten PTC-Thermistorelemente 12 (d. h. an den Oberflächen, die in der Seitenansicht von 1 zu und von dem Betrachter hin bzw. weg gerichtet sind) aufgebracht werden, und zwar entweder vollständig oder mit Ausnahme der Bereiche, an denen die äußeren Elektroden 17 und 18 gebildet werden sollen, wobei dieselbe derart gebacken wird, daß vier der nach außen gerichteten Oberflächen (die zwei Hauptoberflächen und die zwei Seitenoberflächen, aber nicht die zwei Endoberflächen) durch ein isolierendes Material bedeckt sind.
  • Die äußeren Elektroden 17 und 18 können alternativ, nachdem die PTC-Thermistorelemente 12 mit den Glasschichten 13 zwischen denselben aufeinander gestapelt sind, wie es im vorhergehenden beschrieben wurde, gebildet werden, indem dieselben in eine Glaspaste getaucht werden, um deren Oberflächen mit Glasschichten zu bedecken, eine Ag-Paste auf beiden Endoberflächen dieser gestapelten Struktur aufgebracht wird und daraufhin dieselben einem Brennprozeß unterworfen werden. Durch diesen Brennprozeß diffundiert das Glasmaterial der Glasschichten 13 in das Ag-Material, das dieselben bedeckt, wodurch die äußeren Elektroden 17 und 18 gebildet werden, die mit den Abschnitten der inneren Elektroden 15 und 16 auf den Endoberflächen der einzelnen PTC-Thermistorelemente 12 elektrisch verbunden sind. Dieses Verfahren ist zweckmäßiger zum Bedecken der vier äußeren Oberflächen der gestapelten PTC-Thermistorelemente 12 (ausgenommen der zwei Endoberflächen) mit den Glasschichten 13 als das Verfahren durch Aufbringen einer Ag-Paste.
  • Der PTC-Chipthermistor 11, der auf solche Weise strukturiert ist, ist dadurch charakterisiert, daß derselbe Glasschichten 13 mit einer ausreichenden Dicke für eine Isolierung, die zwischen den gestapelten PTC-Thermistorelementen 12 eingefügt ist, aufweist. Folglich sind die inneren Elektroden 15 und 16 an zueinander benachbarten PTC-Thermistorelementen 12 zuverlässig voneinander isoliert, und zwar unabhängig von ihren Ausrichtungen. Folglich kann eine Mehrzahl von PTC-Thermistorelementen 12 durch Bilden der äußeren Elektroden 17 und 18 an den beiden Endoberflächen der gestapelten PTC-Thermistorelemente 12 elektrisch parallel geschaltet werden. Da die inneren Elektroden 15 und 16 von den gestapelten PTC-Thermistorelementen 12 nach außen freiliegen, können dieselben darüber hinaus mit den äußeren Elektroden 17 und 18 zuverlässig elektrisch verbunden werden, wobei die Zuverlässigkeit verbessert wird. Da jede innere Elektrode 15 und 16 über drei Oberflächen (zwei Haupt- und eine Endoberfläche) des entsprechenden PTC-Thermistorelements 12 gebildet ist, kann dieselbe von der anderen inneren Elektrode 15 oder 16 an dem PTC-Thermistorelement 12 sogar an dem oberen Ende oder dem unteren Ende des Stapels zuverlässig isoliert werden, obwohl sich die äußeren Elektroden 17 und 18 etwas auf die Hauptoberflächen des PTC-Chipthermistors 11 erstrecken. Ein weiterer Vorteil des PTC-Chipthermistors 11, der auf eine solche Weise strukturiert ist, besteht darin, daß ein Kurzschluß aufgrund eines Versatzes oder einer Verlagerung zuverlässig verhindert werden kann, nachdem der PTC-Chipthermistor 11 auf einer Schaltungsplatine angebracht und mit einer leitfähigen Kontaktfläche auf derselben verbunden ist, da zumindest die Hauptoberflächen desselben mit Glasschichten 13 bedeckt sind.
  • Als nächstes wird ein weiterer PTC-Chipthermistor 11a, der diese Erfindung darstellt (Beispiel 2), bezugnehmend auf 4 und 5 erklärt, bei denen gleiche oder äquivalente Bestandteile wie diejenigen, die im vorhergehenden beschrieben wurden, mit den selben Symbolen angezeigt sind. Um einen solchen PTC-Chipthermistor 11a herzustellen, werden PTC-Thermistorelemente 12a mit einem Entwurf, der sich von dem des PTC-Thermistorelements 12, der in 3 gezeigt ist, unterscheidet, zusätzlich präpariert, d. h., daß das PTC-Thermistorelement 12a eine innere Elektrode 15a, die auf einer der Endoberflächen eines ebenen rechteckigen PTC-Thermistorblocks 14 gebildet ist, sich zu einem Großteil einer der Hauptoberflächen des PTC-Thermistorblocks 14 erstreckt und denselben bedeckt, und eine weitere innere Elektrode 16a aufweist, die auf der anderen Endoberfläche des PTC-Thermistorblocks 14 gebildet ist, sich zu einem Großteil der anderen Hauptoberfläche des PTC-Thermistorblocks 14 erstreckt und denselben bedeckt. Bei einer schnittmäßigen Betrachtung, wie sie in 4 gezeigt ist, sind diese inneren Elektroden 15a und 16a jeweils in der Form eines L gezeigt, wobei sich dieselben einander nicht berühren.
  • Als nächstes wird eine Glaspaste auf eine der Hauptoberflächen eines (ersten) PTC-Thermistorelements aufgebracht, wobei ein weiteres (zweites) PTC-Thermistorelement 12a auf demselben plaziert wird, wobei sich eine Hauptoberflächen des zweiten PTC-Thermistorelements in einer Seite-an-Seite-Beziehung mit der Hauptoberfläche des ersten PTC-Thermistorelements 12, die die Glasplatte auf sich aufgebracht aufweist, befindet. Die andere Hauptoberfläche des zweiten PTC-Thermistorelements 12a, die sich von dem ersten PTC-Thermistorelement 12 weiter weg befindet, wird mit der Glasplatte vollständig bedeckt, wobei ein noch weiteres (drittes) PTC-Thermistorelement 12 des Typs, der in 3 gezeigt ist, auf dasselbe plaziert wird, wobei sich eine von dessen Hauptoberflächen in einer Seite-an-Seite-Beziehung mit dem zweiten PTC-Thermistorelement 12a befindet. wird. Die Glaspaste wird auf die andere Hauptoberfläche (die an der Oberseite freiliegt) des dritten PTC-Thermistors 12 entweder vollständig oder mit Ausnahme der Bereiche, bei denen äußere Elektroden gebildet werden können, aufgebracht. Die Glaspaste wird ferner auf der Hauptoberfläche des ersten PTC-Thermistorelements 12, die von dem zweiten PTC-Thermistorelement 12a weiter weg liegt, entweder vollständig oder mit Ausnahme der Bereiche für die äußeren Elektroden, die gebildet werden sollen, aufgebracht. Die gestapelte Struktur, die auf diese Weise gebildet ist, wird als nächstes gebacken, wobei schließlich durch Brennen eines Ag-Materials äußere Elektroden 17 und 18 auf den jeweiligen Endoberflächen der gestapelten Struktur gebildet werden, damit dieselben mit den inneren Elektroden 15, 15a, 16 und 16a elektrisch verbunden sind. Auf diese Weise wird der PTC-Chipthermistor 11a (Beispiel 2) erhalten.
  • Der PTC-Chipthermistor 11a von Beispiel 1 unterscheidet sich von dem PTC-Chipthermistor 11 von Beispiel 2 darin, daß die zwei inneren Elektroden 15a und 16a auf dem zweiten PTC-Thermistorelement 12a einander über einen größeren Bereich hinweg gegenüber liegen. Auf diese Weise kann der Gesamtwiderstandswert des PTC-Chipthermistors 11a, der die drei PTC-Thermistorelemente 12 und 12a (zwei von dem Typ 12 und einen von dem Typ 12a) , wie es in 5 gezeigt ist, verbindet, kleiner als derjenige des PTC-Chipthermistors 11 gemacht werden, der drei PTC-Thermistorelemente 12 verbindet, wie es in 1 gezeigt ist.
  • Ein ferner weiterer PTC-Chipthermistor 11b, der diese Erfindung darstellt (Beispiel 3), wird als nächstes bezugnehmend auf 6 erklärt, wobei gleiche oder äquivalente Bestandteile, wie sie im vorhergehenden beschrieben wurden, wiederum durch die selben Symbolen angezeigt werden. Um diesen PTC-Chipthermistor 11b herzustellen, wird zusätzlich zu den drei PTC-Thermistorelementen 12, die in 3 gezeigt sind, ein PTC-Thermistorblock 14 mit keinen auf demselben gebildeten inneren Elektroden 15 und 16 präpariert. Nachdem eine der Hauptoberflächen des PTC-Thermistorblocks 14 mit einer Glaspaste vollständig bedeckt ist, wird eines der drei PTC-Thermistorelemente 12 auf denselben plaziert, wobei der Prozeß des Bildens der gestapelten Struktur für die Herstellung der PTC-Thermistoreinheit 11, die im vorhergehenden beschrieben wurde, wiederholt wird. Die andere Hauptoberfläche des PTC-Thermistorblocks 14 wird mit der Glaspaste entweder vollständig oder mit Ausnahme der Bereiche zum Bilden der äußeren Elektroden bedeckt, wobei die äußeren Elektroden 17b und 18b für das gebackene Ag-Material auf den Endoberflächen der gestapelten Struktur mit dem PTC-Thermistorblock 14 und den drei PTC-Thermistorelementen 12 gebildet werden.
  • Falls der Widerstandswert eines Blocks eines Keramikmaterials kleiner gemacht wird, erzeugt das Element, das den Block aufweist, im allgemeinen mehr Wärme, wobei Probleme verursacht werden, da die erzeugte Überschußwärme zu der Schaltungsplatine geleitet wird, auf der dasselbe angebracht ist, und dasselbe seine Temperatur derart erhöht, daß nicht nur die Schaltungsplatine selbst, sondern auch die Vorrichtungen, die in der Nähe angebracht sind, ungünstig beeinträchtigt werden. Der zusätzliche PTC-Thermistorblock 14 des PTC-Chipthermistors 11b dient dazu, die Ausbreitung von Wärme von den PTC-Thermistorelementen 12 zu der Schaltungsplatine zu hemmen, wobei der Anstieg der Temperatur der Schaltungsplatine reduziert wird.
  • Um die Beispiele 1 und 3 zu vergleichen, wurden sechs Probeelemente jedes PTC-Chipthermistors 11 und 11b einzeln an einer Schaltungsplatine angebracht, wobei die Oberflächentemperatur jeder Schaltungsplatine gemessen wurde, wenn eine gleiche Spannung angelegt wurde. Die gemessenen Oberflächentemperaturwerte betrugen 148°C, 155°C, 150°C, 153°C, 147°C und 150°C bei den Probeelementen des Beispiels 1 und 112°C, 110°C, 105°C, 108°C, 111°C und 110°C bei den Probeelementen von Beispiel 3. Die Durchschnittswerte betrugen 150°C für Beispiel 1 und 109°C für Beispiel 3, wobei der Unterschied zwischen denselben mehr als 40°C beträgt. Dies zeigt deutlich, daß es weniger wahrscheinlich ist, daß sich die Wärme von dem PTC-Chipthermistor 11b zu der Schaltungsplatine ausbreitet, wobei folglich deren Oberflächentemperatur weniger schnell zunimmt.
  • Obwohl die Erfindung im vorhergehenden bezugnehmend auf lediglich eine begrenzte Anzahl von Beispielen beschrieben worden ist, sind diese Beispiele nicht dazu gedacht, den Schutzbereich der Erfindung zu begrenzen. Viele Modifikati onen und Variationen sind innerhalb des Schutzbereiches der Erfindung möglich. Die PTC-Thermistorblöcke 14 können aus einem beliebigen anderen isolierenden oder beinahe isolierenden Material bestehen, das einen Widerstandswert von größer als 106 Ω zwischen den Elektroden 17b und 18b bereitstellt. Ein zusätzlicher PTC-Thermistorblock 14 kann durch eine Glaspaste ferner an der Oberseite des oberen PTC-Thermistorelements 12 des PTC-Chipthermistors 11b befestigt werden, derart, daß der resultierende PTC-Chipthermistor einen PTC-Thermistorblock sowohl auf dessen oberen als auch unteren Seite aufweist.
  • Bei allen Beispielen können die inneren Elektroden 15, 15a, 16 und 16a ein Metall jeglicher Art aufweisen, das in der Lage ist, eine ohmsche Charakteristik aufzuweisen, wie z. B. Cr und Al. Dieselben können durch Sputtern, Dampfaufbringung, Drucken und Brennen oder jegliche Kombinationen derselben gebildet werden. Die äußeren Elektroden 17 und 18 können jegliches Metall mit einer guten Lötbarkeit aufweisen, und können durch Bilden einer oberen Schicht eines lötbaren Metalls, wie z. B. Sn oberhalb einer gebackenen Ag-Schicht, gebildet werden. Dieselben können ferner durch jegliche von verschiedenen Methoden, wie z. B. durch Sputtern, Dampfaufbringung, Drucken und Brennen, Löten und jegliche Kombination derselben, gebildet werden. Die Anzahl von PTC-Thermistorelementen 12 und/oder 12a, die gestapelt werden sollen, um einen PTC-Chipthermistor 11, 11a oder 11b zu bilden, ist nicht auf drei begrenzt. Die Anzahl kann frei geändert werden, wobei es vorzuziehen ist, diese Anzahl abhängig von dem Verwendungszweck zu erhöhen oder zu verringern, obwohl im allgemeinen fünf bis sechs Thermistorelemente gestapelt werden. Obwohl Glasschichten 13 verwendet wurden, um die PTC-Thermistorelemente 12 und 12a und die PTC-Thermistorblöcke 14 zu befestigen, kann ein beliebiges anderes isolierendes Material anstatt des Glases, wie z. B. Harzmaterialien, eingesetzt werden. Bezüglich der Herstellungsverfahren kann eine Glaspaste auf die einzelnen PTC-Thermistorelementen 12 und/oder 12b aufgebracht werden, um dieselben zu isolieren, bevor dieselben miteinander verbunden werden. Auf diese Art und Weise ist es möglich, Glasschichten einer spezifizierten Dicke zu erhalten, und dieselben auf eine zuverlässige Art und Weise zu isolieren.
  • schließlich muß, obwohl die Erfindung bezüglich PTC-Chipthermistoren beschrieben wurde, nicht darauf hingewiesen werden, daß sich die Erfindung gleichermaßen auf NTC-Chipthermistoren (NTC; NTC = negative temperature characteristic = negative Temperaturcharakteristik) beziehen kann.
  • Zusammenfassend kann gesagt werden, daß die Chipthermistoren dieser Erfindung viele Vorteile aufweisen. Ihre Widerstandswerte können durch Stapeln einer Mehrzahl von ebenen Thermistorelementen und das Parallelschalten derselben reduziert werden, derart, daß der Gesamtwiderstand gemäß der Anzahl von PTC-Thermistorelementen, die parallel geschaltet sind, reduziert wird. Da eine Mehrzahl von Thermistorelementen aufeinander gestapelt werden, wird die mechanische Stärke des Chips, der auf diese Weise gebildet ist, verbessert, und dies macht es möglich, dünne ebene Thermistorelemente zu verwenden. Da die Thermistorelemente gestapelt werden, wobei Platten eines nahezu isolierenden Materials zwischen dieselben eingefügt werden, sind darüber hinaus die Richtungen, in die die einzelnen Thermistorelemente gestapelt werden, nicht wichtig, wobei dies deren Herstellungsprozeß einfacher macht. Da die inneren Elektroden gebildet sind, um sich von einer Hauptoberfläche des Thermistorblocks über eine Seitenoberfläche zu erstrecken, um die gegenüberliegende Hauptoberfläche zu erreichen, können dieselben mit einer äußeren Elektrode über eine ausreichend große Kontaktfläche sicher verbunden werden. Falls ein zusätzlicher Thermistorblock eingefügt wird, wie bei Beispiel 3, kann darüber hinaus die Oberflächentemperatur der Schaltungsplatine, auf die der Chip angebracht wird, derart reduziert werden, daß negative Effekte von Wärme auf die Schaltungsplatine und andere Vorrichtungen in der Nähe reduziert werden können.

Claims (13)

  1. Chipthermistor (11; 11a; 11b) mit einer Mehrzahl von ebenen Thermistorelementen (12; 12a), die aufeinander gestapelt sind; Isolierungsschichten (13), von denen jede zwischen benachbarten Thermistorelementen (12; 12a) angeordnet ist und jede die Thermistorelemente eines unterschiedlichen zueinander benachbarten Paars von Thermistorelementen (12; 12a) voneinander isoliert; und einem Paar von äußeren Elektroden (17, 18; 17b, 18b); wobei jedes Thermistorelement (12; 12a) ein Paar von Endoberflächen, die einander gegenüberliegen, ein Paar von Hauptoberflächen, die einander gegenüberliegen und sich zwischen dem Paar von Endoberflächen erstrecken, und ein Paar von inneren Elektroden (15, 16; 15a, 16a) aufweist; wobei sich eine der inneren Elektroden (15, 16; 15a, 16a) teilweise auf einer der Hauptoberflächen befindet und sich zusammenhängend auf eine der Endoberflächen erstreckt, wobei sich die andere innere Elektrode teilweise auf der anderen Hauptoberfläche befindet und sich zusammenhängend auf die andere Endoberfläche erstreckt; wobei die Thermistorelemente (12; 12a) an ihren Hauptoberflächen aneinander liegend gestapelt sind, um zusammen eine gestapelte Struktur mit einander gegenüberliegenden äußeren Oberflächen zu bilden; und wobei jede der äußeren Elektroden (17, 18; 17b, 18b) derart auf einer äußeren Oberfläche gebildet ist, daß sie mit jeweils einer der inneren Elektroden (15, 16; 15a, 16a) jedes Thermistorelements (12; 12a) auf einer zugeordneten Endoberfläche desselben elektrisch verbunden ist.
  2. Chipthermistor (11; 11a; 11b) gemäß Anspruch 1, bei dem sich eine (15; 15a) der inneren Elektroden (15, 16; 15a, 16a) teilweise auf einem Großteil einer der Hauptoberflächen befindet, und sich die andere innere Elektrode (16; 16a) teilweise auf einem Großteil der anderen Hauptoberflächen befindet.
  3. Chipthermistor (11; 11b) gemäß Anspruch 1, bei dem sich eine (15) der inneren Elektroden (15, 16) teilweise auf einem Großteil einer der Hauptoberflächen befindet und sich zusammenhängend über eine der Endoberflächen und ferner über einen Teil der anderen Hauptoberfläche erstreckt, und bei dem sich die andere innere Elektrode (16) teilweise auf einem Großteil der anderen Hauptoberfläche befindet und sich zusammenhängend über die andere Endoberfläche und ferner über einen Teil der einen Hauptoberfläche erstreckt.
  4. Chipthermistor (11; 11a; 11b) gemäß einem der Ansprüche 1–3, bei dem jede Hauptoberfläche mit einer Schicht eines elektrisch isolierenden Materials bedeckt ist.
  5. Chipthermistor (11; 11a; 11b) gemäß einem der Ansprüche 1–4, bei dem jede Isolierungsschicht (13) eine Dicke von mehr als 10 μm aufweist.
  6. Chipthermistor (11; 11a; 11b) gemäß einem der Ansprüche 1–5, der ferner eine elektrisch isolierende Platte aufweist, die an einer der Hauptoberflächen der gestapelten Struktur befestigt ist.
  7. Chipthermistor (11; 11a; 11b) gemäß einem der Ansprüche 1–6, bei dem die Thermistorelemente (12; 12a) abgeschrägte Kantenlinien (142) aufweisen.
  8. Verfahren zum Herstellen eines Chipthermistors (11; 11a, 11b) mit folgenden Schritten: Bereitstellen eines ebenen rechteckigen Thermistorblocks (14) mit einem Paar von einander gegenüberliegenden Hauptoberflächen, die in einer longitudinalen Richtung verlängert sind, und einem Paar von einander gegenüberliegenden Endoberflächen, die sich in der longitudinalen Richtung zwischen dem Paar von Hauptoberflächen erstrecken; Bilden einer ersten Elektrode (15; 15a) und einer zweiten Elektrode (16; 16a), wobei sich die erste Elektrode (15; 15a) teilweise auf einer der Hauptoberflächen befindet und sich zusammenhängend auf eine der Endoberflächen erstreckt, wobei sich die zweite Elektrode (16; 16a) teilweise auf der anderen Hauptoberfläche befindet und sich zusammenhängend auf die andere Endoberfläche erstreckt; Daraufhin, Schneiden des Thermistorblocks (14) transversal (X-X') zu der longitudinalen Richtung, um dadurch eine Mehrzahl von Thermistorelementen (12, 12a) zu erhalten; Herstellen einer gestapelten Struktur durch Aufeinanderstapeln der Mehrzahl von Thermistorelementen (12, 12a), wobei eine Isolierungsschicht (13) zwischen den Thermistorelementen jedes zueinander benachbarten gestapelten Paars von Thermistorelementen (12, 12a) eingefügt wird, wobei die gestapelte Struktur einander gegenüberliegende äußere Oberflächen aufweist, wobei Teile der ersten Elektroden (15; 15a) und der zweiten Elektroden (16; 16a) der gestapelten Thermistorelemente (12, 12a) auf den Endoberflächen derselben auf den äußeren Oberflächen ausgerichtet werden; und Bilden eines Paars von äußeren Elektroden (17; 18; 17b, 18b), jede auf einer unterschiedlichen der äußeren Oberflächen der gestapelten Struktur, wobei eine äußere Elektrode (17; 17b) mit den ersten Elektroden (15; 15a) und die andere äußere Elektrode (18; 18b) mit den zweiten Elektroden (16; 16a) der gestapelten Thermistorelemente (12, 12a) elektrisch verbunden wird.
  9. Verfahren gemäß Anspruch 8, bei dem die erste Elektrode (15) gebildet wird, um sich teilweise auf einem Großteil der einen Hauptoberfläche zu befinden, wobei sich dieselbe zusammenhängend auf die eine Endoberfläche und weiter auf die andere Hauptoberfläche erstreckt, und bei dem die zweite Elektrode (16) gebildet wird, um sich teilweise auf einem Großteil der anderen Hauptoberfläche zu befinden, wobei sich dieselbe zusammenhängend auf die andere Endoberfläche und weiter auf die andere Hauptoberfläche erstreckt.
  10. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 8–9, bei dem die erste Elektrode (15) und die zweite Elektrode (16) gebildet werden, indem auf den Hauptoberflächen und auf den Endoberflächen vollständig eine elektrisch leitfähige Schicht (141) gebildet wird, und Streifen der leitfähigen Schicht (141) in der longitudinalen Richtung entfernt werden, um dadurch Abtrennungen zwischen der ersten Elektrode (15) und der zweiten Elektrode (16) auf den Hauptoberflächen zu bilden.
  11. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 8–10, das ferner den Schritt des Bedeckens von zumindest jeder der nach außen freiliegenden Oberflächen der gestapelten Struktur parallel zu den Hauptoberflächen der gestapelten Thermistorelemente (12, 12a) mit einer elektrisch isolierenden Platte aufweist.
  12. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 8–10, das Ferner den Schritt des Befestigens einer elektrisch isolierenden Platte (13) an einer der nach außen freiliegenden Oberflächen der gestapelten Struktur parallel zu den Hauptoberflächen der gestapelten Thermistorelemente (12, 12a) aufweist.
  13. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 8–12, bei dem die äußeren Elektroden (17, 18; 17b, 18b) gebildet werden, in dem die gestapelten Struktur in eine Glaspaste getaucht wird, um Glasschichten über allen äußeren Oberflächen derselben zu bilden, eine Silberpaste auf die äußeren Oberflächen aufgebracht wird und die Silberpaste gebacken wird, um zu bewirken, daß Glasmaterial der Glaspaste auf den äußeren Oberflächen in die Silberpaste diffundiert.
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