DE19653983A1 - REMA-Objektiv für Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen - Google Patents
REMA-Objektiv für Mikrolithographie-ProjektionsbelichtungsanlagenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein REMA-Objektiv. Dies ist ein
Objektiv, mit dem eine Retikel-Maskiereinrichtung (REMA) in die
Ebene des Retikels, das die strukturierte Maske für die
Lithographie trägt, abgebildet wird. Der auf dem Retikel
ausgeleuchtete Bereich wird damit scharf berandet. Gewöhnlich
ist die Retikel-Maskiereinrichtung mit verstellbaren Schneiden
aufgebaut. Die Abbildung ist normalerweise vergrößernd.
Ein REMA-Objektiv gelangt in Mikrolithographie-Projektions
belichtungsanlagen (Stepper oder Scanner) zum Einsatz.
Aus DE-U 94 09 744 ist eine Beleuchtungseinrichtung für eine
mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage bekannt, bei
der in angegebener Reihenfolge vorgesehen sind: Lichtquelle,
Verschluß, Einkoppelobjektiv (Zoom-Axicon), Glasstab als
Integrator, Retikel-Masking-System, REMA-Objektiv zur Abbildung
der im Retikel-Masking-System liegenden Zwischenfeldebene auf
das Retikel, enthaltend eine erste Linsengruppe, eine Pupillen-Zwi
schenebene, eine zweite Linsengruppe, einen Umlenkspiegel,
eine dritte Linsengruppe und die Retikel-Ebene mit dem Retikel.
Danach folgt ein Projektionsobjektiv, das normalerweise
verkleinert und - zum Beispiel bei nicht telezentrischem
Eingang - eine innenliegende Pupillenebene enthält, dann der
Wafer in der Bildebene.
In dem System nach EP 0 526 242 A1 ist nach dem Integrator,
hier ein Wabenkondensor, zunächst ein Projektionsobjektiv
vorgesehen, bevor das Retikel-Masking-System folgt. Über zwei
Linsengruppen und Spiegel ist das Retikel-Masking-System zur
Retikel-Ebene optisch konjugiert, wird also abgebildet.
Zugleich wird die Blende am Austritt des Integrators - die
sekundäre Lichtquelle - durch die zwei Linsengruppen und Teile
des Projektionsobjektivs auf die Pupille des Projektions
objektivs abgebildet. Zu Bildfehlern wird dabei nichts
ausgesagt.
In der WO 95/32446 der Anmelderin ist ein höchstaperturiges
katadioptrisches Reduktionsobjektiv für die Mikrolithographie
beschrieben, zu dessen Ausführungsbeispiel nach Fig. 3 und
Tabelle 2 das hier gezeigte Ausführungsbeispiel eines REMA-Ob
jektivs genau passend ist.
Die nicht vorveröffentlichte Patentanmeldung DE 195 48 805.9
vom 27. 12. 1995 beschreibt REMA-Objektive mit ausschließlich
sphärischen Linsenflächen. Das dortige Ausführungsbeispiel hat
13 Linsen und ist in seinen optischen Eigenschaften dem hier
gezeigten Ausführungsbeispiel (Fig. 1) sehr ähnlich. Beide REMA-Ob
jektive passen hinsichtlich ihrer Pupillenfunktion
hervorragend zu dem Projektionsobjektiv der WO 95/32446.
Die genannte WO-Schrift wie die DE 195 48 805.9 und die DE-U
sind daher ausdrücklich Teil der Offenbarung dieser
Patentanmeldung.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein REMA-Objektiv anzugeben, das
erheblich weniger Grenzflächen - an denen Reflexionsverluste
auftreten - und erheblich weniger Glasweg - in dem Absorption
erfolgt - aufweist und somit einen wesentlich verbesserten
Transmissionswirkungsgrad hat. Bei den optischen Eigenschaften
können dabei keine Abstriche gemacht werden.
Gelöst wird diese Aufgabe durch ein REMA-Objektiv mit wenigen,
höchstens vier bis fünf, Asphären nach einem der unabhängigen
Ansprüche 1 oder 2 und durch eine komplette Projektions
belichtungsanlage nach Anspruch 16.
An sich ist bekannt, daß Asphären neue Korrekturmöglichkeiten
eröffnen und dadurch Linsen eingespart werden können. Es ist
aber auch klar, daß Asphären den Herstell- und Qualitäts
prüfungsaufwand drastisch erhöhen, so daß sie hinsichtlich
ihrer Zahl und ihrer Abweichung von der Sphärenform sparsam
eingesetzt werden müssen.
Überraschend ist es gelungen, mit nur drei bis vier, höchstens
fünf, Asphären, deren Abweichungen von der Sphärizität mäßig
sind, die Linsenzahl und den Glasweg jeweils unter 60% zu
reduzieren. Die hohen Anforderungen an ein REMA-Objektiv werden
dabei weiterhin erfüllt, der Wirkungsgrad (die Transmission)
ist jedoch deutlich erhöht.
Anspruch 1 macht diese Beziehung deutlich. Anspruch 2 ist am
Aufbau orientiert, mit Kondensor-, Zwischen- und Feldlinsen
teil.
Die Unteransprüche 3 bis 15 betreffen vorteilhafte Ausführungs
formen.
Anspruch 3 quantifiziert den reduzierten Glasweg auf unter
30%, vorzugsweise unter 25%, des Objekt-Retikel-Abstands.
Die Ansprüche 7 und 8 betreffen dabei die Anpassung an die
spezielle bevorzugte Umgebung mit REMA am Ausgang eines
Glasstabs bzw. mit einem verkleinernden katadioptrischen
Projektionsobjektiv.
Anspruch 15 beschreibt die Anpassung an die Pupillenfunktion
eines Projektionsobjektivs mit sehr guter Telezentrie mit sehr
geringen Abweichungen. Die geringen Abweichungen der Haupt
strahlen des Projektionsobjektivs von der Parallelität werden
also vom REMA-Objektiv sehr gut getroffen.
Der unabhängige Anspruch 16 nimmt für eine gesamte Mikro
lithographie-Projektionsbelichtungsanlage diese gute Anpassung
des REMA-Objektivs mit den beschriebenen wenigen Elementen an
das zugehörige Projektionsobjektiv auf.
Näher erläutert wird die Erfindung anhand der Zeichnungen.
Fig. 1 zeigt den Linsenschnitt eines REMA-Objektivs mit drei
Asphären;
Fig. 2 zeigt ein Mikrolithographie-Projektionsbelichtungs
system schematisch;
Fig. 3 zeigt eine vorgegebene Pupillenfunktion;
Fig. 4 zeigt im Beispiel realisierte Abweichungen der
Pupillenfunktion zu Fig. 3; und
Fig. 5 zeigt den Linsenschnitt eines anderen Ausführungs
beispiels mit vier Asphären.
Das Ausführungsbeispiel eines REMA-Objektivs mit dem Linsen
schnitt der Fig. 1 hat die Daten der Tabelle 1. Es besteht aus
einem Kondensorteil 100, ausgebildet als Teilobjektiv, vor der
Aperturblende 8, einem Zwischenteil 200 und einem Feldlinsen
teil 300. In jedem dieser Teile ist eine Asphäre 7, 11, 17
vorgesehen. Das REMA-Objektiv hat also nur sieben Linsen. Die
planen Flächen 9 und 14 haben nur Platzhalterfunktion. Im
Bereich von 14 kann ein Umlenkspiegel (240 in Fig. 2)
angeordnet werden.
Die Beschreibung der asphärischen Flächen erfolgt nach der
Formel: p(h) = (h2/R + √R²-(1+k) h²) + c1 h4 + . . . + cn h2n+2.
Dabei ist p die Pfeilhöhe, h der Abstand zur optischen Achse,
R der Scheitelradius, k die konische Konstante und c1 bis cn
sind die Asphärenkonstanten. Als asphärische Flächen werden
dabei alle optischen Flächen mit einer rotationssymmetrischen
Abweichung von der bestangepaßten Sphäre oberhalb von ca.
5 Mikrometer gesehen. Die nützlichen Asphärizitäten liegen
vorwiegend in der Größenordnung 0,1 bis 1 mm.
Das Objektiv bildet die Objektebene 1, in der das Reticle-Mas
king-System angeordnet wird, mit dem Objekt-Bild-Abstand von
1200 mm auf die Retikelebene 19 ab. Die Lufträume an der
Objektebene 1, an der Blendenebene 8, zwischen dem Zwischenteil
200 und dem Feldlinsenteil 300, sowie an der Retikelebene 19
sind großzügig bemessen, so daß die dort anzuordnenden Teile -
das REMA-System 90, Korrekturelemente in der Blendenebene, ein
Umlenkspiegel 240 und das Handling-System 330 (vgl. Fig. 2) für
das Retikel - problemlos untergebracht werden können.
Die Hauptfunktion eines REMA-Objektivs, die Abbildung einer
Hell-Dunkel-Kante (Schneide der REMA-Blende) von der
Objektebene 1 auf die Retikelebene 19 mit einem Kantenverlauf,
dessen Helligkeitswerte 5% und 95% um weniger als 5%,
vorzugsweise weniger als 0,5% des Bildfelddurchmessers
auseinanderliegen, wird mit Abstand erfüllt:
Der Abstand ist 0,4% des Bildfelddurchmessers von 42,1 mm. Mit
dieser Angabe ist ein integrales Maß für alle Bildfehler im
gesamten Bildfeld gegeben, welches unmittelbar an der Funktion
des REMA-Objektivs orientiert ist.
Diese gute Korrektur ist schwierig, da das REMA-Objektiv den
beträchtlichen Lichtleitwert von 11,4 mm (Produkt aus dem
Objektfelddurchmesser 19 mm und der objektseitigen numerischen
Apertur NAO = 0,6) aufweist. Generell sind für derartige
Objektive Lichtleitwerte größer als 10 mm erforderlich.
Die Vergrößerung des REMA-Objektivs ist 4,444 : 1.
Eine weitere Kernfunktion des REMA-Objektivs ist es, daß in
jedem Punkt der Bildebene 19 der ankommende Hauptstrahl, d. h.
der Schwerstrahl des auftreffenden Lichtkegels, sich nur wenig
vom vorgegebenen Hauptstrahl eines nachfolgenden Projektions
objektivs unterscheidet, und zwar um weniger als 3 mrad.
Das ist gleichbedeutend mit der Forderung, daß in der
Retikelebene 19 eine vorgegebene Pupillenfunktion - siehe Fig.
3, - mit geringsten Abweichungen reproduziert werden muß. Wie
Fig. 4 zeigt, wird dies einwandfrei erreicht.
In Fig. 3 ist der Sinus des Hauptstrahlwinkels sin(i) als
Funktion der Bildhöhe YB in der Retikelebene 19 dargestellt, in
der Fig. 4 entsprechend die Abweichung sin(i), welche in
einem Band von ± 0,11 mrad um Null liegt.
Es wird von der Anpassung an doppeltelezentrische Projektions
objektive ausgegangen, so daß das REMA-Objektiv bildseitig
ebenfalls mit hoher Güte telezentrisch ist. Auch objektseitig
ist es absolut telezentrisch.
Für die Anpassung maßgeblich ist die Ausführung der Feldlinsen
gruppe 300. Sie ist im Beispiel reduziert auf das Minimum von
zwei Linsen, der Sammellinse 15, 16 und der zerstreuenden Linse
17, 18. Die dabei notwendige Asphäre - sonst wären viele
sphärische Elemente erforderlich - ist die Fläche 17. In diesem
Bereich sind die Hauptstrahlhöhen größer als die Randstrahl
höhen.
Eine der Flächen, vorzugsweise die letzte Fläche 18, kann auch
plan gemacht werden, so daß sie geeignet ist, einen Graufilter
zur Steuerung der Intensitätsverteilung auf dem Retikel als
dünne Schicht zu tragen.
Der Kondensorteil 100 ist als Teil-Objektiv ausgebildet, dessen
Objektebene im Unendlichen liegt. Die Blende liegt in der
Objektebene 1 des Gesamtobjektivs und die Bildebene in der
Blende 8 des Gesamtobjektivs. Die Randstrahlen des
Teilobjektivs entsprechen damit telezentrischen Hauptstrahlen
des Gesamtobjektivs, die Hauptstrahlen des Teilobjektivs
entsprechen den Randstrahlen des Gesamtobjektivs.
Das Bild dieses Teilobjektivs (Kondensorteil 100) in der Ebene
der Blende 8 soll möglichst gut korrigiert sein, da damit in
dieser Ebene 8 Korrekturelemente untergebracht werden können
und eine saubere Blendenfunktion erreicht wird. Demgemäß wird
die Koma, ausgedrückt als Querabweichung, in ihrem Maximalwert
kleiner als 1%, vorzugsweise kleiner als 0,2%, des
Bildfelddurchmessers dieser Teilabbildung gemacht. Im Beispiel
erreicht werden 0,08%. Dazu enthält das Kondensorteil
mindestens eine zum Objekt 1 hin krumme Hohlfläche, für die das
Öffnungsverhältnis von Krümmungsradius zu Linsendurchmesser
nahe beim Minimum von 0,5 für die Halbkugel liegt. Im Beispiel
ist der Wert an der Fläche 2 gleich 0,554. Generell ist er
kleiner als 0,65 zu wählen.
Bei Verwendung von einer (wie in Fig. 1) Asphäre 7 bis zweier
Asphären reichen nun drei (2/3, 4/5, 6/7) bis vier Linsen zur
Realisierung dieser Funktionen des Kondensorteils 100.
Der Zwischenteil 200 weist ebenfalls eine Asphäre 11 auf. Er
kommt jetzt mit einem Linsenpaar 10/11, 12/13 aus, wobei die
Fläche 13 folgende Bedingung erfüllt:
Sie ist eine krumme Hohlfläche mit |sin(iRand)| ≧ 0,8 NAO. Diese Fläche 13 bewirkt also eine starke Brechung im Randbereich.
Sie ist eine krumme Hohlfläche mit |sin(iRand)| ≧ 0,8 NAO. Diese Fläche 13 bewirkt also eine starke Brechung im Randbereich.
Das erfindungsgemäße REMA-Objektiv weist also alle Funktionen
des REMA-Objektivs nach der DE 195 48 805.9 auf, die Ausführung
des Beispiels nach Fig. 1 kann das dortige Ausführungsbeispiel
der Fig. 1 unmittelbar substituieren. Drastisch ist aber die
Wirkung der wenigen Asphären 7, 11, 17:
Der Kondensorteil 100 schrumpft von 5 auf 3 Linsen, der Zwischenteil 200 kommt mit nur noch 2 nach 4 Linsen aus, und im Feldlinsenteil 300 halbiert sich die Linsenzahl ebenso auf 2. Insgesamt sind bei diesem Beispiel nur noch 7 Linsen vorhanden (maximal 10 bei anderen Ausführungen).
Der Kondensorteil 100 schrumpft von 5 auf 3 Linsen, der Zwischenteil 200 kommt mit nur noch 2 nach 4 Linsen aus, und im Feldlinsenteil 300 halbiert sich die Linsenzahl ebenso auf 2. Insgesamt sind bei diesem Beispiel nur noch 7 Linsen vorhanden (maximal 10 bei anderen Ausführungen).
Der Glasweg, also die Summe aller Glasdicken der Linsen auf der
optischen Achse, beläuft sich hier nur noch auf 235 mm
gegenüber 396 mm bei der älteren Anmeldung, bei einem Objektiv-
Bild-Abstand 1-19 von 1200 mm in beiden Fällen. Der Glasweg
wird also um über 40% reduziert, der Anteil an der Schnitt
weite beträgt nur noch 20%, auch bei anderen Ausführungen
stets nur bis zu 25-30% der Schnittweite.
Die Transmission von hochwertigem Quarzglas bei 248 nm ist ca.
99,9%/cm. Durch Alterungsprozesse (Strahlungsschäden, Farb
zentrenbildung) reduziert sich der Wert im Lauf des Betriebs.
An den Glas-Luft-Grenzschichten können mit hochwertigen
Antireflexschichten bei 248 nm Transmissionsgrade von ca.
99,5% erreicht werden.
Während das REMA-Objektiv nach DE 195 48 805.9 damit maximal
84,4% Transmissionswirkungsgrad erreicht, liegt der Wert beim
Beispiel Fig. 1 immerhin bei 91,1%.
Noch wichtiger wird diese Verbesserung des Transmissions
wirkungsgrades bei Systemen für niedrigere Wellenlängen,
beispielsweise 193 nm, da dort die Transmission von Quarz (und
auch von möglichen Alternativen) deutlich abfällt und die
Ausführung von Antireflexschichten schwieriger ist. Gleich
zeitig fallen die. Materialkosten noch mehr ins Gewicht und wird
die Laserleistung teurer und damit werden auch die Licht
verluste teurer.
Da die vorliegende Konstruktion unter Berücksichtigung des
geänderten Brechungsindex an die Verhältnisse bei anderen,
speziell niedrigeren, Wellenlängen angepaßt werden kann, ist
die Erfindung für diese Entwicklung zu niedrigeren Wellenlängen
besonders wertvoll.
Fig. 2 zeigt einen schematischen Überblick über den optischen
Teil einer gesamten Projektionsbelichtungsanlage (Wafer-Step
per), in die das erfindungsgemäße REMA-Objektiv 123
integriert ist.
Ein KrF-Excimer-Laser 50 mit 248 nm Wellenlänge dient als
Lichtquelle. Eine Einrichtung 60 dient zur Strahlformung und
Kohärenzreduktion. Ein Zoom-Axicon-Objektiv 70 ermöglicht die
bedarfsgerechte Einstellung verschiedener Beleuchtungsarten. Es
ist, wie die gesamte Anordnung (außer den erfindungsgemäßen
Merkmalen des REMA-Objektivs 123) beispielsweise aus der
EP-A 0 687 956 oder aus DE-U 94 09 744 (beide von der
Anmelderin) bekannt. Das Licht wird in den Glasstab 80
eingekoppelt, der zur Mischung und Homogenisierung dient.
Unmittelbar daran schließt das Retikel-Maskierungssystem 90 an,
das in der Objektebene 1 des REMA-Objektivs 123 liegt. Dieses
besteht aus der ersten Linsengruppe 100, der Pupillenebene
(Blendenebene) 14, der zweiten Linsengruppe 200, dem Umlenk
spiegel 240, der dritten Linsengruppe 300 und der Bildebene 33.
Hier ist das Retikel 330 angeordnet, das von der Wechsel- und
Justiereinheit 331 präzise positioniert wird. Es folgt das
katadioptrische Projektionsobjektiv 400 nach WO 95/32446 mit
der Pupillenebene 410. Die Eintrittspupille liegt im
Ausführungsbeispiel der Tabellen 1 und 2 allerdings nahezu im
Unendlichen vor dem Projektionsobjektiv. In der Bildebene ist
der Wafer 500 angeordnet.
Fig. 5 zeigt den Linsenschnitt eines anderen Ausführungs
beispiels mit 4 Asphären 505, 509, 514, 520 und insgesamt 18
Grenzflächen von 8 Linsen und einer Planplatte 521, 522.
Tabelle 2 gibt dazu die Abmessungen an. Die Flächen 511 und 516
haben nur Statthalterfunktion. Abbildungsmaßstab (4,730 : 1)
und Bildfeld (Durchmesser 127 mm) unterscheiden sich hier nicht
wesentlich vom Beispiel Fig. 1. Größer ist allerdings der
Lichtleitwert mit 16,2 mm.
Auch hier ist schon die Linsenzahl und der Glasweg mit 22% des
Objekt-Bild-Abstands gegenüber einem rein sphärischen Design
drastisch reduziert. Wie der Vergleich mit Fig. 1 zeigt, birgt
aber gerade der Kondensorteil 550 mit hier 4 Linsen, davon 2
Asphären 505, 509, noch Verbesserungsmöglichkeiten. Trotzdem
ist die Verbesserung im Vergleich zum rein sphärischen REMA-Ob
jektiv schon beträchtlich, bei mäßigem Einsatz von Asphären.
Tabelle 1
7 K = -,00640071 C1 = ,347156E-07 C2 = ,802432E-13
C3 = -,769512E-17 C4 = ,157667E-21
11 K = +,00104108 C1 = ,431697E-07 C2 = -,564977E-13 C3 = -,125201E-16 C4 = ,486357E-21
17 K = +,00121471 C1 = -,991033E-07 C2 = -,130790E-11 C3 = -,414621E-14 C4 = ,200482E-17 C5 = -,392671E-21
11 K = +,00104108 C1 = ,431697E-07 C2 = -,564977E-13 C3 = -,125201E-16 C4 = ,486357E-21
17 K = +,00121471 C1 = -,991033E-07 C2 = -,130790E-11 C3 = -,414621E-14 C4 = ,200482E-17 C5 = -,392671E-21
Tabelle 2
505 K = -,11512040 C1 = ,36489383E-07 C2 = ,16169445E-11
C3 = -,70228033E-16 C4 = ,36695356E-20
509 K = -,01464591 C1 = ,37060030E-07 C2 = ,92577260E-12 C3 = -,10037407E-16 C4 = ,29843433E-20
514 K = +,00003903 C1 = -,13705523E-08 C2 = -,90824867E-12 C3 = ,81297785E-16 C4 = -,56418498E-20
520 K = -,000150010 C1 = ,17085177E-07 C2 = ,18373060E-10 C3 = -,49871601E-14 C4 = ,61193181E-18 C5 = -,23186913E-22
509 K = -,01464591 C1 = ,37060030E-07 C2 = ,92577260E-12 C3 = -,10037407E-16 C4 = ,29843433E-20
514 K = +,00003903 C1 = -,13705523E-08 C2 = -,90824867E-12 C3 = ,81297785E-16 C4 = -,56418498E-20
520 K = -,000150010 C1 = ,17085177E-07 C2 = ,18373060E-10 C3 = -,49871601E-14 C4 = ,61193181E-18 C5 = -,23186913E-22
Claims (16)
1. REMA-Objektiv mit drei- bis achtfacher Vergrößerung, einem
Lichtleitwert größer als 10 mm, bei dem die Abbildung
einer Hell-Dunkel-Kante von der Objektebene (1) auf die
Retikelebene (19) einen Kantenverlauf ergibt, dessen
Helligkeitswerte 5% und 95% um weniger als 2%,
vorzugsweise weniger als 0,5%, des Bildfelddurchmessers
auseinanderliegen,
dadurch gekennzeichnet, daß nicht mehr als 10 Linsen,
dabei 1 bis 5, vorzugsweise 3 bis 4, asphärische Flächen
(7, 11, 17), vorgesehen sind.
2. REMA-Objektiv, das eine in endlichem Abstand liegende
Objektebene (1) auf eine Retikelebene (19) abbildet,
- - mit einem Kondensorteil (100), ausgebildet als vorderes Teilobjektiv, dessen Bildebene im Unendlichen liegt, dessen Blende in der Objektebene (1) des gesamten REMA-Objektivs liegt,
- - mit einem Zwischenteil (200) und
- - mit einem Feldlinsenteil (300),
3. REMA-Objektiv nach mindestens einem der Ansprüche 1 oder
2, dadurch gekennzeichnet, daß der Glasweg in den Linsen
maximal 30%, vorzugsweise maximal 25%, des Abstandes von
Objektebene (1) und Retikelebene (19) beträgt.
4. REMA-Objektiv nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekenn
zeichnet, daß mindestens eine optische Fläche mit einem
größten Betrag des Sinus des Auftreffwinkels gegen die
Flächennormale eines Randstrahls in Luft
(|sin (iRand)|) größer als das 0,8-fache der objekt
seitigen numerischen Apertur (NAO) vorhanden ist.
5. REMA-Objektiv nach mindestens einem der Ansprüche 1-4,
dadurch gekennzeichnet, daß es ein Teilobjektiv (100)
enthält, welches eine hinsichtlich der Koma korrigierte
Pupillenebene (14) erzeugt.
6. REMA-Objektiv nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
das Teilobjektiv (100) mindestens eine zur Objektebene (1)
hin gekrümmte Hohlfläche (4) aufweist, an der das
Öffnungsverhältnis von Krümmungsradius zu Linsendurch
messer kleiner als 0,65 ist.
7. REMA-Objektiv nach mindestens einem der Ansprüche 1-6,
gekennzeichnet durch die Verwendung in einer Mikrolitho
graphie-Projektionsbelichtungsanlage, in der die Retikel-Mas
kierung (90) am Ausgang eines Glasstabs (80) angeordnet
ist.
8. REMA-Objektiv nach mindestens einem der Ansprüche 1-7,
gekennzeichnet durch die Verwendung in einer Mikrolitho
graphie-Projektionsbelichtungsanlage, in der das Projek
tionsobjektiv (400) ein verkleinerndes katadioptrisches
Objektiv ist.
9. REMA-Objektiv nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
es aus einem Kondensorteil (100), ausgebildet als vorderes
Teilobjektiv, dessen Bildebene im Unendlichen liegt,
dessen Blende in der Objektebene (1) des gesamten REMA-Ob
jektivs liegt, einem Zwischenteil (200) und einem Feld
linsenteil (300) aufgebaut ist.
10. REMA-Objektiv nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
es drei- bis achtfache Vergrößerung aufweist.
11. REMA-Objektiv nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
es einen Bildfelddurchmesser größer als 80 mm aufweist.
12. REMA-Objektiv nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
es eine bildseitige numerische Apertur von über 0,10
aufweist.
13. REMA-Objektiv nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
es einen Lichtleitwert größer als 10 mm hat.
14. REMA-Objektiv nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die Abbildung einer Hell-Dunkel-Kante von der Objektebene
(1) auf die Retikelebene (19) einen Kantenverlauf ergibt,
dessen Helligkeitswerte 5% und 95% um weniger als 2%,
vorzugsweise weniger als 0,5%, des Bildfelddurchmessers
auseinanderliegen.
15. REMA-Objektiv nach mindestens einem der Ansprüche 1-14,
dadurch gekennzeichnet, daß es eine vorgegebene Pupillen
funktion mit Werten des sin(i) im Bereich ±10 mrad mit
Abweichungen unter ±1 mrad, insbesondere unter ±0,3 mrad
reproduziert.
16. Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einer
Beleuchtungseinrichtung enthaltend ein vergrößerndes REMA-Ob
jektiv (123) und mit einem verkleinerndem Projektions
objektiv (400), wobei die Pupillenebene (12) des REMA-Ob
jektivs (123) in die Pupillenebene (410) des
Projektionsobjektivs (400) abgebildet wird und in jedem
Punkt der Retikelebene (330) der ankommende Hauptstrahl
des REMA-Objektivs (123) nur weniger als 3 mrad, vorzugs
weise weniger als 0,3 mrad, vom Hauptstrahl des
Projektionsobjektivs (400) abweicht, dadurch gekenn
zeichnet, daß das REMA-Objektiv (123) maximal 10 Linsen
mit maximal 5, vorzugsweise maximal 4, asphärischen
Flächen aufweist.
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