DE19614595A1

DE19614595A1 - Apparatus for cathode sputtering in substrate coating

Info

Publication number: DE19614595A1
Application number: DE1996114595
Authority: DE
Inventors: Eggo Dipl Ing Sichmann
Original assignee: Singulus Technologies AG
Current assignee: Singulus Technologies AG
Priority date: 1996-04-13
Filing date: 1996-04-13
Publication date: 1997-10-16

Abstract

The apparatus is intended for producing layers on a substrate (27) in a vacuum chamber by a sputtering cathode (2) which is provided with concentrically arranged magnets (9, 13), pole pieces (14) and a target (8). The apparatus is characterised by the fact that a ring magnet (47) is foreseen for the region of the outer circumference (55) below the rear side (40) of the target.

Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Ka thodenzerstäubung für die Herstellung von Schichten auf einem Substrat mittels einer in einer Vakuumkammer ein bringbaren Zerstäubungskathode, die mit Bezug auf die Mittelachse der Zerstäubungskathode konzentrisch ange ordnete Magneten bzw. Ringmagneten, Polschuhe und ein Target aufweist.The invention relates to a device for Ka sputtering for the production of layers a substrate by means of a in a vacuum chamber bringable sputtering cathode, which with respect to the Central axis of the sputtering cathode is concentric arranged magnets or ring magnets, pole shoes and one Target has.

Es ist bereits eine Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung für die statische Beschichtung scheibenförmiger Sub strate mittels eines Plasmas in einer Vakuumkammer mit mindestens einer Öffnung bekannt (DE 43 15 023 A1), welche durch Auflegen einer Zerstäubungskathode von au ßen verschließbar ist. Zwischen der Kathode und der Kammerwand sind ein elastischer Vakuumdichtring sowie eine ringförmige Anode vorgesehen, die die Öffnungen radial von außen umgeben, wobei die Anode auf ihrer zur Kathode hin zeigenden Seite eine ebene Kontaktfläche aufweist. Die bekannte Zerstäubungskathode besteht aus einem scheibenförmigen, ferromagnetischen Joch und ei ner Kühlplatte. Zwischen beiden ist ein scheibenförmi ger Isolator eingelegt. Vor der Kühlplatte befindet sich das zu zerstäubende Target, während auf der Rück seite der Kühlplatte in einer Nut ein Ringmagnet einge legt ist. Durch den Ringmagneten wird ein Gegenmagnet feld erzeugt, welches den Verlauf der Magnetfeldlinien beeinflußt. Hierdurch erhält der Verlauf der Magnet feldlinien einen annähernd parallelen bzw. linsenförmi gen oder konvexen Verlauf.It is already a cathode sputtering device for the static coating of disc-shaped sub strate using a plasma in a vacuum chamber at least one opening is known (DE 43 15 023 A1), which by placing a sputtering cathode from outside is closable. Between the cathode and the Chamber wall are an elastic vacuum sealing ring as well an annular anode is provided covering the openings surrounded radially from the outside, with the anode on its to Side facing cathode a flat contact surface having. The known sputtering cathode consists of a disc-shaped, ferromagnetic yoke and egg ner cooling plate. There is a disc-shaped between the two insulator inserted. Located in front of the cooling plate the target to be atomized while on the back a ring magnet is inserted into the groove of the cooling plate sets is. The ring magnet becomes a counter magnet field that generates the course of the magnetic field lines influenced. This maintains the course of the magnet field lines an approximately parallel or lenticular or convex course.

Demgegenüber liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, die Magneten derart anzuordnen oder das Magnetfeld der art zu gestalten, daß die Targetausbeute verbessert wird.In contrast, the invention is based on the object to arrange the magnets or the magnetic field art to design that improves the target yield becomes.

Gelöst wird die Aufgabe erfindungsgemäß dadurch, daß im Bereich des Außenumfangs des Targets mindestens ein Ringmagnet unterhalb der an der Targetrückseite bzw. in deren Bereich vorgesehenen Ringmagneten vorgesehen ist. Durch die vorteilhafte Anordnung des Ringmagneten im Außenbereich und im Bereich der Stirnfläche des Targets wird eine Verstärkung des Magnetfeldes insbesondere im Bereich der Targetoberfläche erreicht, so daß auch bei unterschiedlichen Sputtereigenschaften, z. B. bei Edel metallen, die zu einem höherohmigen Plasma führen, das Hauptmagnetfeld in Richtung des Magnetflusses verstärkt wird. Wird beispielsweise Gold gesputtert, welches eine geringere Elektronenemission hat, so kann der zusätz lich angebrachte Ringmagnet, der konzentrisch zur Mit telachse angeordnet ist, zu einer Verringerung der Im pedanz und zu einer Verstärkung des Magnetfeldes füh ren. Würde beispielsweise auf den Ringmagneten verzich tet werden, so wäre eine Spannung von mindestens 2000 V erforderlich, um die gleiche Sputterrate zu erreichen. Mit der erfindungsgemäßen Anordnung können also auch die Energiekosten reduziert werden.The object is achieved in that in Area of the outer circumference of the target at least one Ring magnet below that on the back of the target or in whose area provided ring magnets is provided. Due to the advantageous arrangement of the ring magnet in Outside and in the area of the end face of the target is an amplification of the magnetic field especially in Area of the target surface reached, so that at different sputtering properties, e.g. B. at Edel metals that lead to a higher-resistance plasma, the Main magnetic field strengthened in the direction of the magnetic flux becomes. For example, if gold is sputtered, which is a has lower electron emission, the additional Lich attached ring magnet, concentric to the Mit Telachse is arranged to reduce the Im pedance and lead to an increase in the magnetic field ren. Would, for example, waive the ring magnet a voltage of at least 2000 V would be required to achieve the same sputter rate. With the arrangement according to the invention can also energy costs are reduced.

Hierzu ist es ferner vorteilhaft, daß der im Bereich des Außenumfangs des Targets vorgesehene Ringmagnet et was oberhalb der unteren Begrenzung der Targetoberflä che vorgesehen ist und daß der im Bereich des Außenum fangs des Targets vorgesehene Ringmagnet etwas unter halb oder außerhalb der unteren Begrenzung der Target oberfläche vorgesehen ist, die parallel zur Target rückseite des Targets verläuft.For this purpose, it is also advantageous that the in the area the outer circumference of the target provided ring magnet et what is above the lower limit of the target surface che is provided and that in the area of the outside Ring magnet provided slightly below the target half or outside the lower limit of the target Surface is provided that is parallel to the target back of the target runs.

In weiterer Ausgestaltung der Erfindung ist es vorteil haft, daß der im Bereich des Außenumfangs des Targets vorgesehene Ringmagnet etwas unterhalb oder außerhalb der unteren Begrenzung der Polschuhe endet und daß der Ringmagnet konzentrisch zur Mittelachse des Targets an geordnet ist.In a further embodiment of the invention, it is advantageous adheres to that in the area of the outer circumference of the target provided ring magnet slightly below or outside the lower limit of the pole pieces ends and that the Ring magnet concentric to the central axis of the target is ordered.

Eine zusätzliche Möglichkeit ist gemäß einer Weiterbil dung der erfindungsgemäßen Vorrichtung, daß das untere Ende des Polschuhs einen größeren Abstand zur Targe trückseite aufweist als das untere Ende des Targets bzw. die Targetoberfläche und daß im unteren Bereich des Polschuhs ein Ringraum bzw. eine Kammer zur Auf nahme des äußeren Ringmagneten vorgesehen ist. Durch die vorteilhafte Ausbildung des Polschuhs, der auch zweigeteilt ausgebildet sein kann, wobei die Teilung in horizontaler Richtung möglich wäre, läßt sich der Ring magnet in die im Polschuh vorgesehene Kammer wesentlich einfacher einsetzen.An additional option is according to a continuation extension of the device according to the invention that the lower End of the pole piece a greater distance from the target rear side has as the lower end of the target or the target surface and that in the lower area an annular space or a chamber for opening the pole piece Taking the outer ring magnet is provided. By the advantageous design of the pole piece, which too can be formed in two parts, the division into horizontal direction would be possible, the ring magnet into the chamber provided in the pole piece easier to use.

In weiterer Ausgestaltung der Erfindung ist es vorteil haft, daß der untere Teil des Polschuhs zum Außenumfang der Polschuhe aus sich pyramidenstumpfförmig verjüngen den Polschuhteilen besteht und daß der sich pyramiden stumpfförmig verjüngende Polschuhteil in einen Flansch teil übergeht, der breiter ist als das freistehende Ende des Polschuhs.In a further embodiment of the invention, it is advantageous adheres to the lower part of the pole piece to the outer circumference the pole shoes taper off like a truncated pyramid the pole piece consists and that the pyramid itself frustoconically tapered pole piece into a flange part that is wider than the free-standing part End of the pole piece.

Vorteilhaft ist es ferner, daß der Flanschteil des Pol schuhs die eine Kammerwand des Ringmagneten bildet und daß zwischen der Stirnfläche des Endes des Polschuhs und der geneigt verlaufenden Seitenwand des sich pyra midenstumpfförmig verjüngenden Polschuhteils ein Win kel (α) eingeschlossen ist, der zwischen 10° und 50° bzw. zwischen 25° und 45° groß ist.It is also advantageous that the flange part of the pole shoe which forms a chamber wall of the ring magnet and that between the end face of the end of the pole piece and the inclined side wall of the pyra tapered pole shoe part a win kel (α) is included, which is between 10 ° and 50 ° or between 25 ° and 45 °.

Eine zusätzliche Möglichkeit ist gemäß einer Weiterbil dung der erfindungsgemäßen Vorrichtung, daß der Abstand zwischen dem äußeren Ringmagneten und dem unteren Ende bzw. der Stirnfläche des Targets in etwa 20% bis 40% der Dicke D₁ des Targets beträgt.An additional option is according to a continuation extension of the device according to the invention that the distance between the outer ring magnet and the lower end or the face of the target in about 20% to 40% the thickness D₁ of the target is.

Auf diese Weise wird erreicht, daß im Bereich der Tar getrückseite neben dem ersten inneren Ringmagneten ein zweiter äußerer, im Durchmesser größerer Ringmagnet vorgesehen ist und daß die beiden im Bereich der Targe trückseite vorgesehenen Ringmagneten auf der gleichen Querebene angeordnet sind.In this way it is achieved that in the area of the tar back next to the first inner ring magnet second outer ring magnet with a larger diameter is provided and that the two in the area of the batch ring magnets provided on the back on the same Transverse plane are arranged.

Ebenfalls ist es vorteilhaft, daß der innere Ringmagnet im Bereich des Außenumfangs der Mittelmaske bzw. Mitte lanode bzw. eines Kühlfingers und der äußere Ringmagnet im Randbereich bzw. im Bereich des Außenumfangs des Targets vorgesehen ist.It is also advantageous that the inner ring magnet in the area of the outer circumference of the middle mask or middle lanode or a cooling finger and the outer ring magnet in the edge area or in the area of the outer circumference of the Targets is provided.

In weiterer Ausgestaltung der Erfindung ist es vorteil haft, daß neben den beiden inneren Ringmagneten ein dritter, die beiden Ringmagneten umgebender Ringmagnet vorgesehen ist und daß der dritte Ringmagnet an eine Seite bzw. an die untere Seite des Joches angrenzt.In a further embodiment of the invention, it is advantageous adheres to that next to the two inner ring magnets third ring magnet surrounding the two ring magnets is provided and that the third ring magnet to a Side or on the lower side of the yoke.

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungs gemäßen Lösung ist schließlich vorgesehen, daß alle Ringmagneten rotationssymmetrisch mit Bezug auf die Mittelachse des Targets angeordnet sind und daß die beiden inneren Ringmagneten in sich in der Kühlplatte befindenden Ringnuten vorgesehen sind. Der seitlich an gebrachte Ringmagnet, der in der Hauptmagnetfeldrich tung liegt, steht als ferromagnetischer Magnet in Kon takt mit dem anderen Hauptmagnetfeld und dient in er ster Linie zur Erhöhung der Magnetfelddichte.According to a preferred embodiment of the Invention appropriate solution is finally provided that all Ring magnets rotationally symmetrical with respect to the Center axis of the target are arranged and that the two inner ring magnets in themselves in the cooling plate located ring grooves are provided. The sideways brought ring magnet, which in the main magnetic field rich device is in contact as a ferromagnetic magnet clocks with the other main magnetic field and serves in it line to increase the magnetic field density.

Eine zusätzliche Möglichkeit ist gemäß einer Weiterbil dung der erfindungsgemäßen Vorrichtung, daß der äußere Ringmagnet im Bereich des Polschuh-Durchmes sers zwischen dem Joch und dem oberen Teil des Pol schuhs vorgesehen ist und daß die beiden inneren Ring magneten innerhalb des Außendurchmessers bzw. des Außen umfangs des Targets liegen.An additional option is according to a continuation extension of the device according to the invention that the outer Ring magnet in the area of the pole shoe diameter between the yoke and the upper part of the pole shoe is provided and that the two inner ring magnets inside the outside diameter or outside range of the target.

Vorteilhaft ist es ferner, daß der äußere Ringmagnet einen größeren Abstand zur Targetrückseite aufweist als die beiden inneren Ringmagneten und daß ein vierter Ringmagnet vorgesehen ist, der den Außenumfang des Tar gets umgibt. Durch den Einbau der zusätzlichen Doppel ringmagneten, die auch sehr dicht an die Targetoberflä che herangebracht werden können, wird durch die hori zontal verlaufenden Magnetfeldlinien eine positive Ein wirkung auf den Elektroneneinschluß bewirkt, d. h. die Elektronen werden gegen das Target beschleunigt. Des halb ist es vorteilhaft, daß man eine große horizontale Komponente des Magnetfeldes erreicht, und durch den Einbau der Doppelringmagneten in die Rückwand der Kühl platte erhält man einen sehr geringen Abstand zur Tar getrückseite. Von besonderer Bedeutung ist auch die Targetkonfiguration und die Polschuhausbildung.It is also advantageous that the outer ring magnet has a greater distance to the back of the target than the two inner ring magnets and that a fourth Ring magnet is provided, the outer circumference of the tar gets surrounds. By installing the additional double ring magnets that are also very close to the target surface che can be brought up by the hori zontal magnetic field lines a positive on effect on electron confinement, d. H. the Electrons are accelerated against the target. Des it is half advantageous to have a large horizontal Component of the magnetic field reached, and by the Installation of the double ring magnets in the rear wall of the cooling plate you get a very short distance to the tar backside. The is also of particular importance Target configuration and pole shoe training.

Hierzu ist es vorteilhaft, daß die Dicke D₁ des Targets an seinem äußeren Randbereich größer ist als die Dicke D₂ im inneren Randbereich des Targets und daß zwischen dem inneren und dem äußeren Randbereich des Targets eine geneigt verlaufende Targetoberfläche und eine par allel zur Targetrückseite verlaufende Targetoberfläche vorgesehen ist.For this purpose, it is advantageous that the thickness D 1 of the target is larger than the thickness at its outer edge region D₂ in the inner edge region of the target and that between the inner and the outer edge area of the target an inclined target surface and a par allel to the target back surface is provided.

Von Vorteil ist es ferner, daß die geneigt verlaufende Targetoberfläche im inneren Randbereich des Targets und die parallel verlaufende Targetoberfläche im äußeren Randbereich des Targets vorgesehen ist und daß die ge neigt verlaufende Targetoberfläche und die parallel verlaufende Targetoberfläche zwischen einem inneren und einem äußeren, spitzförmig hervorstehenden Targetteil vorgesehen ist.It is also advantageous that the inclined Target surface in the inner edge area of the target and the parallel target surface in the outer Edge area of the target is provided and that the ge tends to run target surface and the parallel running target surface between an inner and an outer, pointed protruding target part is provided.

Eine zusätzliche Möglichkeit gemäß einer Weiterbildung der erfindungsgemäßen Vorrichtung besteht darin, daß am inneren Randbereich des Targets ein ringförmiges, kon zentrisch zur Mittelachse verlaufendes Flanschteil vor gesehen ist, das zwischen der Oberfläche der Kühlplatte und dem Flanschteil eines Kühlfingers eingeklemmt ist, der mit dem Target fest bzw. lösbar verbunden ist.An additional option according to further training the device according to the invention is that on inner edge region of the target an annular, con flange part running centrally to the central axis is seen that between the surface of the cooling plate and the flange part of a cooling finger is clamped, which is firmly or releasably connected to the target.

Weitere Vorteile und Einzelheiten der Erfindung sind in den Patentansprüchen und in der Beschreibung erläutert und in den Figuren dargestellt, wobei bemerkt wird, daß alle Einzelmerkmale und alle Kombinationen von Einzel merkmalen erfindungswesentlich sind. Es zeigt:Further advantages and details of the invention are in the claims and explained in the description and shown in the figures, it being noted that all individual features and all combinations of individual features are essential to the invention. It shows:

Fig. 1 eine Schnittdarstellung eines Targets mit mehreren konzentrisch angeordneten Ringmagneten, Fig. 1 is a sectional view of a target with a plurality of concentrically arranged ring magnets,

Fig. 2 eine Teilansicht des Polschuhs gemäß Fig. 1. FIG. 2 shows a partial view of the pole piece according to FIG. 1.

In Fig. 1 ist eine Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung für die Herstellung von Schichten auf einem Substrat, beispielsweise einer Compact Disk 27, dargestellt. Für den Prozeßablauf kann die mit 2 bezeichnete Zerstäu bungskathode in eine Kammerwand 1 der Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung eingesetzt werden. Die Kathode be steht aus einem scheibenförmigen, ferromagnetischen Joch 5 und einer Kühlplatte 7. Zwischen dem Joch 5 und der Kühlplatte 7 ist ein Isolator 6 eingeklemmt und mittels Schraubenbolzen gesichert.In Fig. 1 is a device for cathode sputtering for producing coatings on a substrate, such as a compact disk 27 is shown. For the process flow, the atomization cathode designated 2 can be used in a chamber wall 1 of the device for cathode sputtering. The cathode consists of a disk-shaped, ferromagnetic yoke 5 and a cooling plate 7 . An insulator 6 is clamped between the yoke 5 and the cooling plate 7 and secured by means of screw bolts.

Vor der Kühlplatte 7 ist ein zu zerstäubendes Target 8 angeordnet. Auf der Rückseite der Kühlplatte 7 befindet sich ebenfalls eine ringförmige Nut 66 und eine Ring nut 65 zur Aufnahme eines inneren Ringmagneten 9 und eines äußeren Ringmagneten 42, die konzentrisch zur Mittelachse 44 des Targets 8 angeordnet sind. Das Joch 5, der Isolator 6 und die Kühlplatte 7 werden durch eine in der Zeichnung nicht dargestellte Schraube gesichert. Die Schraube ist in vorteilhafter Weise durch einen Isolator gegen das Joch isoliert. An die Schraube kann ein mit einer Sputterstrom-Versorgungs einrichtung verbundenes Kabel angeschlossen sein.A target 8 to be atomized is arranged in front of the cooling plate 7 . On the back of the cooling plate 7 there is also an annular groove 66 and an annular groove 65 for receiving an inner ring magnet 9 and an outer ring magnet 42 , which are arranged concentrically to the central axis 44 of the target 8 . The yoke 5 , the insulator 6 and the cooling plate 7 are secured by a screw, not shown in the drawing. The screw is advantageously insulated from the yoke by an insulator. A cable connected to a sputter power supply device can be connected to the screw.

Ein weiterer konzentrisch zur Mittelachse 44 angeordne ter Ringmagnet 13 befindet sich im Bereich des Außenum fangs der Kühlplatte 7 bzw. des Isolators 6. Der Ma gnet 13 ist ferromagnetisch ausgebildet und bildet so mit den kompletten Magnetfeldeinschluß. Another concentric to the central axis 44 arranged ter ring magnet 13 is located in the area of the outer circumference of the cooling plate 7 and the insulator 6 . The Ma gnet 13 is ferromagnetic and thus forms with the complete magnetic field inclusion.

An den Ringmagneten 13 schließt sich ein Polschuh 14 an, der den Isolator 6, die Kühlplatte 7 sowie das Tar get 8 konzentrisch umgibt.The ring magnet 13 is followed by a pole piece 14 , which concentrically surrounds the insulator 6 , the cooling plate 7 and the target 8 .

Der untere Teil des Polschuhs bildet einen pyramiden stumpfförmigen, sich nach unten bzw. in Richtung des Vakuumraums verjüngenden Polschuhteil 60. Der pyrami denstumpfförmige Polschuhteil 60 geht mit seinem Fußende in einen ringförmigen Flanschteil 61 über, der breiter ist als das freistehende Ende 62 des Polschuhs. Der Flanschteil 61 des Polschuhs 14 weist die eine Sei tenwand 63 bzw. Stirnfläche auf, die Teil des sich py ramidenstumpfförmig verjüngenden Polschuhteils 60 ist. Am unteren Ende des Polschuhs können zwei mit Abstand zueinander angeordnete Ringflansche 61 angebracht sein, die eine Ringkammer 59 bilden.The lower part of the pole piece forms a pyramid-conical shaped, tapering downwardly or in the direction of the vacuum space pole shoe 60th The pyramid-shaped pole piece 60 merges with its foot end into an annular flange part 61 which is wider than the free-standing end 62 of the pole piece. The flange portion 61 of the pole piece 14 has a side wall 63 or end face, which is part of the truncated pyramid-shaped pole piece part 60 . At the lower end of the pole piece, two annular flanges 61 can be arranged at a distance from one another, which form an annular chamber 59 .

Ist ein vierter Ringmagnet 47 konzentrisch zur Mittel achse 44 aufgenommen, dann entfallen die Ringflan sche 61.If a fourth ring magnet 47 is concentric with the central axis 44 , then the ring flanges 61 are omitted.

Zwischen der Stirnseite des Endes 62 des Polschuhs 14 und der geneigt verlaufenden Seitenwand 63 des sich py ramidenstumpfförmig verjüngenden Polschuhteils 60 be findet sich ein Winkel α, der zwischen 10° und 60° bzw. 20° und 50° bzw. 25° und 45° groß sein kann und der auf vorteilhafte Weise den Verlauf der Magnetfeldlinien be einflußt.Between the end face of the end 62 of the pole piece 14 and the inclined side wall 63 of the pyramid frustum tapered pole piece 60 be there is an angle α which is between 10 ° and 60 ° or 20 ° and 50 ° or 25 ° and 45 ° can be large and which advantageously influences the course of the magnetic field lines.

Im Bereich der Mittelachse 44 der Zerstäubungskathode 2 befindet sich eine Bohrung 67, die sich durch die ge samte Vorrichtung erstreckt und die zur Aufnahme einer Hohlschraube 20 dient, die mit ihrem unteren Flansch teil 54 gegen einen am Target 8 vorgesehenen Flansch teil 53 gedrückt oder geschraubt wird.In the area of the central axis 44 of the sputtering cathode 2 there is a bore 67 which extends through the entire device and which serves to receive a hollow screw 20 which is pressed or screwed with its lower flange part 54 against a flange 8 provided on the target 8 part 53 becomes.

An die Hohlschraube 20 schließt sich in axialer Rich tung berührungsfrei das Joch 5 mit einer Jochplatte 21 an.At the banjo bolt 20 joins the yoke 5 with a yoke plate 21 in a non-contact axial direction.

Auf der Rückseite des Jochs 5 ist ein Kühlkopf mit ei nem Flansch 22 befestigt, der in axialer Richtung durch die Jochplatte 21 sowie durch die Hohlschraube 20 bis zur Targetvorderseite reicht und die Hohlschraube 20 nicht berührt. Der Flansch 22 des Kühlfingers 69 mit einem sich daran anschließenden, zylinderförmigen Teil bildet eine zylinderförmige Bohrung 70 zur Aufnahme des in der Zeichnung nicht dargestellten Leitungsrohrs, das an eine Kühlwasserleitung angeschlossen ist.On the back of the yoke 5 , a cooling head with egg nem flange 22 is attached, which extends in the axial direction through the yoke plate 21 and through the banjo bolt 20 to the front of the target and does not touch the banjo bolt 20 . The flange 22 of the cooling finger 69 with an adjoining cylindrical part forms a cylindrical bore 70 for receiving the conduit, not shown in the drawing, which is connected to a cooling water line.

An die Stirnseite bzw. an das untere Ende des Flanschs 22 des Kühlfingers 69 ist mittels einer Schraube 25 eine Mittelmaske bzw. eine Mittelanode 26 lösbar angeschlossen. Die Mittelanode reicht bis in die zentrische Vertiefung des Targets 8, welches an der Vorderseite des Targets vorgesehen ist, und bildet mit ihrem unteren Ende mit einer Außenanode 4 bzw. Außen maske eine ringförmige Fläche für die Maskierung des Substrats 27.A center mask or a center anode 26 is detachably connected to the end face or to the lower end of the flange 22 of the cooling finger 69 by means of a screw 25 . The center anode extends into the central recess of the target 8 , which is provided on the front of the target, and forms with its lower end with an outer anode 4 or outer mask an annular surface for masking the substrate 27th

Wie aus Fig. 1 hervorgeht, weist die Schraube 20 das Flanschelement 54 auf, das den am Target 8 vorgesehenen Flanschteil 53 gegen die Vorderseite der Kühlplatte 7 drückt. Auf diese Weise entfällt die sonst übliche Auf bondung des Targets, welches jederzeit leicht ausge wechselt werden kann. Ferner ist es möglich, das Target über Schrauben mit dem Kühlflansch zu verbinden. As is apparent from Fig. 1, the screw 20, the flange member 54 which presses the flange portion provided on the target 8 53 against the front side of the cooling plate 7. In this way, the usual bonding of the target, which can be easily replaced at any time, is eliminated. It is also possible to connect the target to the cooling flange using screws.

Wie aus Fig. 1 hervorgeht, sind die beiden auf der Tar getrückseite vorgesehenen Ringmagneten 9 und 42 vor zugsweise auf der gleichen Querebene angeordnet. Der innere Ringmagnet 9 ist im Bereich des Außenumfangs 56 der Mittelmaske bzw. Mittelanode 26 bzw. des Kühlfin gers 69 oder näher zur Mittelachse 44 oder im Bereich des Außenumfangs der hohlförmigen Schraube 20 zur Auf nahme des Kühlfingers 69 angeordnet. Der äußere Ringma gnet 42 befindet sich im Randbereich bzw. im Bereich des Außenumfangs 55 des Targets 8.As can be seen from FIG. 1, the two ring magnets 9 and 42 provided on the rear side of the tar are preferably arranged on the same transverse plane. The inner ring magnet 9 is arranged in the area of the outer circumference 56 of the central mask or central anode 26 or the Kühlfin gers 69 or closer to the central axis 44 or in the area of the outer circumference of the hollow screw 20 for receiving the cooling finger 69 . The outer ring magnet 42 is located in the edge area or in the area of the outer circumference 55 of the target 8 .

Etwas oberhalb der beiden Ringmagneten 9 und 42 befin det sich der Ringmagnet 13, der auf dem Joch 5 angeord net sein kann. Der Ringmagnet 13 kann aus zahlreichen einzelnen, ringförmig angeordneten Magneten gebildet sein.Slightly above the two ring magnets 9 and 42 is the ring magnet 13 , which may be arranged on the yoke 5 . The ring magnet 13 can be formed from numerous individual, ring-shaped magnets.

Je nach Ausführung des Targets, das beispielsweise als Aluminium-Target oder als Gold-Target ausgebildet sein kann, kann ein vierter Ringmagnet 47 im Bereich des un teren Endes des Außenumfangs des Targets 8 vorgesehen sein.Depending on the design of the target, which can be designed, for example, as an aluminum target or as a gold target, a fourth ring magnet 47 can be provided in the region of the lower end of the outer circumference of the target 8 .

Alle Ringmagneten 9, 13, 42 und 47 sind rotationssymme trisch mit Bezug auf die Mittelachse 43 des Targets 8 angeordnet. In vorteilhafter Weise liegen auch die bei den inneren Ringmagneten 9 und 42 innerhalb des Außen durchmessers bzw. des Außenumfangs 55 des Targets 8.All ring magnets 9 , 13 , 42 and 47 are rotationally symmetrical with respect to the central axis 43 of the target 8 . Advantageously, the inner ring magnets 9 and 42 also lie within the outer diameter or the outer circumference 55 of the target 8 .

Wie aus Fig. 1 hervorgeht, weist der äußere Ringma gnet 13 einen größeren Abstand zur Targetrückseite auf als die beiden inneren Ringmagneten 9 und 42. As can be seen from FIG. 1, the outer ring magnet 13 has a greater distance from the rear of the target than the two inner ring magnets 9 and 42 .

Wird beispielsweise das Target als Aluminium-Target ausgebildet, so ist es vorteilhaft, wenn die Dicke D₁ des Targets 8 an seinem äußeren Randbereich größer ist als die Dicke D₂. Hierdurch erhält das Target 8 eine gemäß Fig. 1 geneigt verlaufende Targetoberfläche 49 und eine sich daran anschließende, parallel zur Targe trückseite verlaufende Targetoberfläche 50.For example, if the target is formed as an aluminum target, it is advantageous if the thickness D 1 of the target 8 is greater at its outer edge area than the thickness D 2. In this way, the target 8 receives a target surface 49 which runs inclined according to FIG. 1 and an adjoining target surface 50 which runs parallel to the rear of the target.

Setzt man ein Aluminium-Target ein, so wird bei Verwen dung zweier Doppelringmagneten an der Rückseite des Targets auch bei sehr kompakter Bauweise das Magnetfeld abgeflacht (vgl. hierzu die Magnetfeldlinien 71 auf der rechten Seite des Targets 8). Würde man beispielsweise die beiden Doppelmagneten weglassen, so hätten die Ma gnetfeldlinien 71′ einen sehr ungünstigen Verlauf, d. h. sie würden fast senkrecht in das Joch 5 eintre ten. Auf der rechten Seite gemäß Fig. 1 haben die Feld linien 71 einen konvexen bzw. abgeflachten oder in etwa parallelen Verlauf zur Targetrückseite. Dies wird in vorteilhafter Weise durch die beiden an der Targetrück seite vorgesehenen Doppelringmagneten 9 und 42 bewirkt, die zur Feldlinienverstärkung beitragen. Eine derartige Anordnung der Ringmagneten 9 und 42 eignet sich insbe sondere bei einem nichtferromagnetischen Metalltarget, z. B. einem Aluminium-Target. Durch die doppelte Aus führung der beiden Ringmagneten wird eine sehr kompakte Bauweise der gesamten Vorrichtung erreicht und eine Kurzschlußgefahr weitgehend ausgeschlossen. Die beiden Ring- bzw. Gegenmagneten 9 und 42 verstärken also die Magnetfeldlinien, damit sie den in Fig. 1 auf der rech ten Seite dargestellten Verlauf einnehmen können.If an aluminum target is used, the magnetic field is flattened when using two double ring magnets on the back of the target, even with a very compact design (cf. the magnetic field lines 71 on the right side of the target 8 ). If one were to omit the two double magnets, for example, the magnetic field lines 71 'would have a very unfavorable course, ie they would enter the yoke 5 almost vertically. On the right-hand side according to FIG. 1, the field lines 71 have a convex or flattened shape or roughly parallel to the back of the target. This is advantageously effected by the two double ring magnets 9 and 42 provided on the rear side of the target, which contribute to the field line strengthening. Such an arrangement of the ring magnets 9 and 42 is particularly suitable for a non-ferromagnetic metal target, for. B. an aluminum target. Due to the double execution of the two ring magnets, a very compact design of the entire device is achieved and a risk of short-circuit is largely excluded. The two ring or counter magnets 9 and 42 thus reinforce the magnetic field lines so that they can take the course shown in Fig. 1 on the right side.

Wie aus Fig. 1 hervorgeht, ist der Abstand A zwischen der Stirnfläche der Kühlplatte 7 und der Unterkante der Mittelmaske und/oder Anode 26 großer als die Dicke D₁ des Targets 8 bzw. der Abstand P zwischen Targetrück seite 40 und dem spitzförmig hervorstehenden Polschuh teil 62.As can be seen from Fig. 1, the distance A between the end face of the cooling plate 7 and the lower edge of the central mask and / or anode 26 is greater than the thickness D 1 of the target 8 or the distance P between the target back side 40 and the point-like protruding pole piece 62 .

Ein mittleres bzw. im Bereich der Mittelachse 44 lie gendes, spitzförmiges Targetteil 51 ist mit Bezug auf das äußere Targetteil 52 zurückgesetzt.A central or in the region of the central axis 44 lying, pointed target part 51 is reset with respect to the outer target part 52 .

Setzt man beispielsweise ein Target mit geringer Elek tronenemissionsrate bzw. ein Gold-Target ein, so ist es vorteilhaft, wenn das Magnetfeld im Bereich der Targe toberfläche verstärkt wird, weil ein Gold-Target eine wesentlich andere Sputtereigenschaft hat als ein Alumi nium-Target. Der im Bereich des Außenumfangs des Tar gets 8 und in den Polschuhen 14 vorgesehene Ringma gnet 47 liegt im Bereich oder auch etwas unterhalb der Targetoberfläche 41 und dient zur Verstärkung des Ma gnetfeldes im Bereich der Targetoberfläche 41, so daß auch bei dieser Anordnung die Magnetfeldlinien nicht senkrecht oder annähernd senkrecht in das Joch 5 ein treten. Dieser relativ große Magnet 47 liegt in Rich tung des Hauptmagnetfeldes und trägt zur Verstärkung des Magnetflusses bei. In diesem Fall können die Flan sche bzw. Stege 61 des Polschuhteils 62 entfallen.If, for example, a target with a low electron emission rate or a gold target is used, it is advantageous if the magnetic field is strengthened in the area of the target surface because a gold target has a significantly different sputtering property than an aluminum target. The provided in the area of the outer circumference of the target 8 and in the pole pieces 14 ring magnet 47 lies in the area or somewhat below the target surface 41 and serves to reinforce the magnetic field in the area of the target surface 41 , so that the magnetic field lines are not in this arrangement enter vertically or approximately vertically into the yoke 5 . This relatively large magnet 47 lies in the direction of the main magnetic field and contributes to the amplification of the magnetic flux. In this case, the flanges or webs 61 of the pole piece 62 can be omitted.

Da bei Gold-Sputtering eine geringere Elektronen-Emis sion auftritt, wäre ohne den relativ großen Ringmagne ten in der Nähe der Targetoberfläche 41 eine deutlich höhere Spannung von z. B. 2.000 V erforderlich, um eine nennenswerte Leistung zu erzielen. Durch die vorteil hafte Anbringung des Ringmagneten 47 kann das Magnet feld verstärkt und die Plasma-Impedanz reduziert wer den. Since with gold sputtering a lower electron emission occurs, without the relatively large ring magnet near the target surface 41 a significantly higher voltage of z. B. 2,000 V required to achieve a significant performance. Due to the advantageous attachment of the ring magnet 47 , the magnetic field can be strengthened and the plasma impedance reduced.

Die in Fig. 1 dargestellten Ringmagneten 9, 13, 42 sind alle gleich gepolt, wobei Norden jeweils mit Bezug auf Fig. 1 nach unten gerichtet ist.The ring magnets 9 , 13 , 42 shown in FIG. 1 are all of the same polarity, the north being directed downward with reference to FIG. 1.

BezugszeichenlisteReference list

1 Kammerwand
2 Zerstäubungskathode
4 Anode
5 Joch
6 Isolator
7 Kühlplatte
8 Target
9 Ringmagnet
9′ Ringmagnet
9′′ Ringmagnet
9′′′ Ringmagnet
10 Schraube
11 Kabel
12 Isolator
13 Ringmagnet
14 Polschuh
15 Kühlring, -körper
16 Kühlkanal
17 Schraube
18 Kühlwasseranschluß
19 Kühlwasseranschluß
20 Hohlschraube, Polschuh (Befestigungsvorrichtung)
21 Jochplatte
22 Flansch des Kühlfingers
23 Kühlwasserleitung
24 Kühlwasserleitung
25 Schraube
26 Mittelmaske bzw. Mittelanode
27 Substrat
28 Nut
29 Ausnehmung
30 Kammeroberfläche
31 Unterseite
32 Klemmring
33 Anodenring
40 Targetrückseite
41 Oberfläche des Targets
42 Ringmagnet
43 Randbereich bzw. Außenumfang
44 Mittelachse
47 vierter Ringmagnet
48 Außenumfang
49 geneigt verlaufende Targetoberfläche
50 parallel verlaufende Targetoberfläche
51 spitzförmig hervorstehendes Targetteil
52 spitzförmig hervorstehendes Targetteil
53 Flanschteil
54 Flanschteil der Schraube
55 Außenumfang des Targets (8)
56 Außenumfang der Mittelmaske (26)
57 untere Begrenzung der Targetoberfläche
58 unterhalb der unteren Begrenzung des Polschuhs 14
59 im unteren Bereich des Polschuhs (14), Ringraum bzw. Kammer
60 pyramidenstumpfförmig sich verjüngender Polschuhteil
61 Flanschteil des Polschuhteils bzw. Stege
62 freistehendes Ende des Polschuhs
63 Seitenwand des pyramidenstumpfförmig sich verjüngenden Polschuhteils (60)
64 Schraubenbolzen
65 Ringnut
66 Ringnut
67 Bohrung
68 Axialbohrung
69 Kühlfinger
70 Bohrung
71 Magnetfeldlinien
71′ Magnetfeldlinien
D₁ Dicke des Targets (8), außen
D₂ Dicke des Targets (8), innen
A Abstand 7-26
P Abstand 40-62 1 chamber wall
2 sputtering cathode
4 anode
5 yokes
6 isolator
7 cooling plate
8 target
9 ring magnet
9 ′ ring magnet
9 ′ ′ ring magnet
9 ′ ′ ′ ring magnet
10 screw
11 cables
12 isolator
13 ring magnet
14 pole piece
15 cooling ring, body
16 cooling channel
17 screw
18 Cooling water connection
19 Cooling water connection
20 banjo bolt, pole piece (fastening device)
21 yoke plate
22 Flange of the cooling finger
23 cooling water pipe
24 cooling water pipe
25 screw
26 center mask or center anode
27 substrate
28 groove
29 recess
30 chamber surface
31 underside
32 clamping ring
33 anode ring
40 rear of target
41 Surface of the target
42 ring magnet
43 edge area or outer circumference
44 central axis
47 fourth ring magnet
48 outer circumference
49 inclined target surface
50 parallel target surface
51 pointed protruding target part
52 pointed protruding target part
53 flange part
54 Flange part of the screw
55 outer circumference of the target ( 8 )
56 outer circumference of the central mask ( 26 )
57 lower limit of the target surface
58 below the lower limit of the pole piece 14
59 in the lower area of the pole piece ( 14 ), annulus or chamber
60 truncated pyramid-shaped pole piece
61 Flange part of the pole piece or webs
62 free-standing end of the pole piece
63 sidewall of the truncated pyramid-shaped pole piece ( 60 )
64 bolts
65 ring groove
66 ring groove
67 hole
68 axial bore
69 cooling fingers
70 hole
71 magnetic field lines
71 ′ magnetic field lines
D₁ thickness of the target ( 8 ), outside
D₂ thickness of the target ( 8 ), inside
A distance 7-26
P distance 40-62

Claims

1. Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung für die Her stellung von Schichten auf einem Substrat (27) mittels einer in einer Vakuumkammer einbringbaren Zerstäubungskathode (2), die mit Bezug auf die Mittelachse (44) der Zerstäubungskathode (2) kon zentrisch angeordnete Magneten bzw. Ringmagne ten (9, 13), Polschuhe (14) und ein Target (8) aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß im Bereich des Außenumfangs (55) des Targets (8) mindestens ein Ringmagnet (47) unterhalb der an der Targe trückseite (40) bzw. in deren Bereich vorgese henen Ringmagneten (9 bzw. 13) vorgesehen ist.1. A device for cathode sputtering for Her position of layers on a substrate (27) by means of an insertable in a vacuum chamber sputtering cathode (2), th with respect to the central axis (44) of the sputtering cathode (2) kon centrally arranged magnet or ring Magne ( 9 , 13 ), pole pieces ( 14 ) and a target ( 8 ), characterized in that in the area of the outer circumference ( 55 ) of the target ( 8 ) at least one ring magnet ( 47 ) below the rear side on the target ( 40 ) or in the area of which there are provided ring magnets ( 9 or 13 ).

2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich net, daß der im Bereich des Außenumfangs (55) des Targets (8) vorgesehene Ringmagnet (47) etwas oberhalb oder unterhalb der unteren Begren zung (57) der Targetoberfläche (50) vorgesehen ist.2. Device according to claim 1, characterized in that the ring magnet ( 47 ) provided in the region of the outer circumference ( 55 ) of the target ( 8 ) is provided somewhat above or below the lower limit ( 57 ) of the target surface ( 50 ).

3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge kennzeichnet, daß der im Bereich des Außenum fangs (55) des Targets (8) vorgesehene Ringma gnet (47) etwas unterhalb oder außerhalb der un teren Begrenzung (57) der Targetoberfläche (50) vorgesehen ist, die parallel zur Targetrück seite (40) des Targets verläuft. 3. Apparatus according to claim 1 or 2, characterized in that in the area of the outer circumference ( 55 ) of the target ( 8 ) provided Ringma gnet ( 47 ) slightly below or outside the lower limit ( 57 ) of the target surface ( 50 ) is provided, which runs parallel to the target back side ( 40 ) of the target.

4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich net, daß der im Bereich des Außenumfangs (55) des Targets (8) vorgesehene Ringmagnet (47) etwas un terhalb oder außerhalb der unteren Begren zung (58) der Polschuhe (14) endet.4. The device according to claim 1, characterized in that the ring magnet ( 47 ) provided in the region of the outer circumference ( 55 ) of the target ( 8 ) ends somewhat below or outside the lower limit ( 58 ) of the pole shoes ( 14 ).

5. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Ringmagnet (47) konzentrisch zur Mittel achse (44) des Targets (8) angeordnet ist.5. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that the ring magnet ( 47 ) is arranged concentrically with the central axis ( 44 ) of the target ( 8 ).

6. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich net, daß das untere Ende (58) des Polschuhs (14) einen größeren Abstand (P) zur Targetrück seite (40) aufweist als das untere Ende (62) des Targets bzw. die Targetoberfläche (50).6. The device according to claim 1, characterized in that the lower end ( 58 ) of the pole piece ( 14 ) has a greater distance (P) to the target back side ( 40 ) than the lower end ( 62 ) of the target or the target surface ( 50 ).

7. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß im unteren Bereich des Polschuhs (14) ein Ring raum bzw. eine Kammer (59) bzw. zwei mit Abstand angeordnete Flansche oder Stege (61) vorgesehen sind.7. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that an annular space or a chamber ( 59 ) or two spaced flanges or webs ( 61 ) are provided in the lower region of the pole piece ( 14 ).

8. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der untere Teil des Polschuhs (14) zum Außenum fang der Polschuhe (14) aus einem sich pyramiden stumpfförmig verjüngenden Polschuhteil (60) be steht. 8. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that the lower part of the pole piece ( 14 ) to the outside circumference of the pole pieces ( 14 ) from a pyramid frustoconically tapered pole piece part ( 60 ) be.

9. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der sich pyramidenstumpfförmig verjüngende Pol schuhteil (60) in den Flanschteil (61) übergeht, der breiter ist als das freistehende Ende (62) des Polschuhs (14).9. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that the truncated pyramid-tapered pole shoe part ( 60 ) merges into the flange part ( 61 ) which is wider than the free-standing end ( 62 ) of the pole shoe ( 14 ).

10. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Flanschteile (61) des Polschuhs (14) parallel zur Targetrückseite (40) verlaufen.10. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that the flange parts ( 61 ) of the pole piece ( 14 ) run parallel to the back of the target ( 40 ).

11. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der Stirnfläche des Endes (62) des Pol schuhs (14) und der geneigt verlaufenden Seiten wand bzw. Stirnfläche (63) des sich pyramiden stumpfförmig verjüngenden Polschuhteils (60) ein Winkel (α) eingeschlossen ist, der zwischen 10° und 50° bzw. zwischen 25° und 45° groß ist.11. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that between the end face of the end ( 62 ) of the pole shoe ( 14 ) and the inclined sides wall or end face ( 63 ) of the truncated pyramid tapered pole piece ( 60 ) an angle (α) is included, which is between 10 ° and 50 ° or between 25 ° and 45 °.

12. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche bzw. Ringfläche (63) des Polschuh teils (60) auf der gleichen geneigt verlaufenden Ebene liegt wie die geneigt verlaufende Oberflä che bzw. Ringfläche des spitzförmigen Tar getteils (52). 12. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that the surface or annular surface ( 63 ) of the pole piece ( 60 ) lies on the same inclined plane as the inclined surface or surface surface of the pointed target part ( 52 ).

13. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß im Bereich der Targetrückseite (40) neben dem er sten inneren Ringmagneten (9) ein zweiter äuße rer, im Durchmesser größerer Ringmagnet (42) vor gesehen ist.13. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that in the region of the target rear side ( 40 ) next to the most internal ring magnet ( 9 ), a second outer ring diameter larger ring magnet ( 42 ) is seen before.

14. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich net, daß die beiden im Bereich der Targetrück seite vorgesehenen Ringmagneten (9, 42) auf der gleichen Querebene angeordnet sind.14. The apparatus according to claim 1, characterized in that the two ring magnets ( 9 , 42 ) provided in the region of the target back side are arranged on the same transverse plane.

15. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge kennzeichnet, daß der innere Ringmagnet (9) im Bereich des Außenumfangs (56) der Mittelmaske bzw. Mittelanode (26) bzw. eines Kühlfingers und der äußere Ringmagnet (42) im Randbereich bzw. im Bereich des Außenumfangs (55) des Targets (8) vorgesehen ist.15. The apparatus according to claim 1 or 2, characterized in that the inner ring magnet ( 9 ) in the region of the outer circumference ( 56 ) of the center mask or center anode ( 26 ) or a cooling finger and the outer ring magnet ( 42 ) in the edge region or is provided in the area of the outer circumference ( 55 ) of the target ( 8 ).

16. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich net, daß neben den beiden inneren Ringmagne ten (9, 42) ein dritter, die beiden Ringmagne ten (9, 42) umgebender Ringmagnet (13) vorgesehen ist.16. The apparatus according to claim 1, characterized in that in addition to the two inner ring magnets ten ( 9 , 42 ) a third, the two ring magnets ten ( 9 , 42 ) surrounding ring magnet ( 13 ) is provided.

17. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der dritte Ringmagnet (13) an eine Seite bzw. an die untere Seite des Joches (5) angrenzt. 17. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that the third ring magnet ( 13 ) on one side or on the lower side of the yoke ( 5 ) is adjacent.

18. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich net, daß alle Ringmagneten (9, 13, 42) rotations symmetrisch mit Bezug auf die Mittelachse (43) des Targets angeordnet sind.18. The apparatus according to claim 1, characterized in that all ring magnets ( 9 , 13 , 42 ) are arranged rotationally symmetrical with respect to the central axis ( 43 ) of the target.

19. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden inneren Ringmagneten (9, 42) in sich in der Kühlplatte (7) befindenden Ringnuten (65, 66) vorgesehen sind.19. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that the two inner ring magnets ( 9 , 42 ) in the cooling plate ( 7 ) located ring grooves ( 65 , 66 ) are provided.

20. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der äußere Ringmagnet (13) im Bereich des Pol schuh-Durchmessers zwischen dem Joch (5) und dem oberen Teil des Polschuhs (14) vorgesehen ist.20. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that the outer ring magnet ( 13 ) is provided in the region of the pole shoe diameter between the yoke ( 5 ) and the upper part of the pole shoe ( 14 ).

21. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden inneren Ringmagneten (9, 42) innerhalb des Außendurchmessers bzw. des Außenumfangs (55) des Targets (8) liegen.21. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that the two inner ring magnets ( 9 , 42 ) lie within the outer diameter or the outer circumference ( 55 ) of the target ( 8 ).

22. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der äußere Ringmagnet (13) einen größeren Abstand zur Targetrückseite (40) aufweist als die beiden inneren Ringmagneten.22. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that the outer ring magnet ( 13 ) is at a greater distance from the target rear side ( 40 ) than the two inner ring magnets.

23. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein vierter Ringmagnet (47) vorgesehen ist, der den Außenumfang (55) des Targets (8) umgibt. 23. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that a fourth ring magnet ( 47 ) is provided which surrounds the outer circumference ( 55 ) of the target ( 8 ).

24. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke D₁ des Targets (8) an seinem äußeren Randbereich größer ist als die Dicke D₂ im inne ren Randbereich des Targets (8).24. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that the thickness D₁ of the target ( 8 ) is greater at its outer edge region than the thickness D₂ in the inner edge region of the target ( 8 ).

25. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem inneren und dem äußeren Randbereich des Targets (8) eine geneigt verlaufende Targe toberfläche (49) und eine parallel zur Targe trückseite (40) verlaufende Targetoberfläche (50) vorgesehen ist.25. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that between the inner and the outer edge region of the target ( 8 ) an inclined target surface ( 49 ) and a parallel to the target rear side ( 40 ) extending target surface ( 50 ) is provided.

26. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die geneigt verlaufende Targetoberfläche im inne ren Randbereich des Targets (8) und die parallel verlaufende Targetoberfläche (50) im äußeren Randbereich des Targets (8) vorgesehen ist.26. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that the inclined target surface in the inner edge region of the target ( 8 ) and the parallel target surface ( 50 ) is provided in the outer edge region of the target ( 8 ).

27. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die geneigt verlaufende Targetoberfläche (49) und die parallel verlaufende Targetoberfläche (50) zwischen einem inneren und einem äußeren, spitz förmig hervorstehenden Targetteil (51, 52) vorge sehen sind. 27. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that the inclined target surface ( 49 ) and the parallel target surface ( 50 ) between an inner and an outer, pointed projecting target part ( 51 , 52 ) are easily seen .

28. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorher gehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß am inneren Randbereich des Targets (8) ein ring förmiges, konzentrisch zur Mittelachse (43) ver laufendes Flanschteil (53) vorgesehen ist, das zwischen der Oberfläche der Kühlplatte (7) und dem Flanschteil (54) einer Befestigungsvorrich tung (20) eingeklemmt ist, die mit dem Tar get (8) fest bzw. lösbar verbunden ist.28. The device according to one or more of the preceding claims, characterized in that at the inner edge region of the target ( 8 ) a ring-shaped, concentric to the central axis ( 43 ) ver running flange part ( 53 ) is provided, which between the surface of the cooling plate ( 7 ) and the flange part ( 54 ) of a fastening device ( 20 ) is clamped, which is firmly or releasably connected to the target ( 8 ).