DE19612329A1 - Metal master production for CD manufacture - Google Patents

Metal master production for CD manufacture

Info

Publication number
DE19612329A1
DE19612329A1 DE1996112329 DE19612329A DE19612329A1 DE 19612329 A1 DE19612329 A1 DE 19612329A1 DE 1996112329 DE1996112329 DE 1996112329 DE 19612329 A DE19612329 A DE 19612329A DE 19612329 A1 DE19612329 A1 DE 19612329A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
metal
metallization
master
layer
producing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE1996112329
Other languages
German (de)
Inventor
Wolf-Eckart Dipl Ing Fritsche
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oerlikon Deutschland Holding GmbH
Original Assignee
Leybold AG
Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leybold AG, Balzers und Leybold Deutschland Holding AG filed Critical Leybold AG
Priority to DE1996112329 priority Critical patent/DE19612329A1/en
Publication of DE19612329A1 publication Critical patent/DE19612329A1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
    • B29C33/38—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the material or the manufacturing process
    • B29C33/3842—Manufacturing moulds, e.g. shaping the mould surface by machining

Abstract

Producing a metal master, used as a stamper for insertion in an injection moulding mould or as a negative copy (male) for producing further positive copies (female) for stamper production in optically readable information carrier manufacture, involves producing the master impression on a photoresist-coated, exposed and thinly metallised master disk, applying a thicker metal layer on the metallisation and then separating the master disk from the master formed of the metallisation and the thick coating. The novelty is that metallisation is carried out at least initially by reactive sputtering, preferably by producing a thin boundary layer of sputter reacted metal and then an optionally sputtered thickening layer of non-reacted metal. The metallisation metal is nickel or a nickel-vanadium alloy and the reactant comprises oxygen or OH groups.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung ei­ ner Masterabformung aus Metall als Stamper zum Einsetzen in eine Spritzgießform oder als Negativabformung (Vater) zur Erzeugung weiterer Positivabformungen (Mutter) zur Stampererzeugung für die Herstellung eines optisch lesba­ ren Informationsträgers, bei dem auf einer mit einem Pho­ toresist überzogenen, belichteten und mit einer dünnen Metallschicht auf dem Photoresist versehenen Master­ scheibe die Masterabformung erzeugt wird, indem auf die Metallisierung eine dickere Metallschicht aufgebracht und anschließend die Masterscheibe von der durch die Metalli­ sierung und Beschichtung erzeugten Masterabformung getrennt wird.The invention relates to a method for producing egg ner master impression made of metal as a stamper for insertion in an injection mold or as a negative impression (father) to generate further positive impressions (mother) for Stamper production for the production of an optically lesba ren information carrier, in which on a with a Pho toresist coated, exposed and with a thin Metal layer on the master provided with photoresist the master impression is produced by clicking on the Metallization applied a thicker layer of metal and then the master disc from the through the metalli mastering is separated.

Ein solches Verfahren wird derzeit insbesondere für die Herstellung von Compaktdisks angewandt und ist deshalb allgemein bekannt. Üblicherweise wurde die Metallisierung des Photoresist durch Aufdampfen einer dünnen Silber­ schicht erzeugt. Diese Silberschicht entfernte man von der anschließend galvanisch aufgebrachten Metallschicht zusammen mit an der Silberschicht anhaftendem Photoresist vor der Verwendung als Masterabformung zur Erzeugung von Positivabformungen oder als Stamper in der Spritzgießform durch Ätzen. Dieser Arbeitsgang des Reinigens ist aufwen­ dig und erfordert die Verwendung umweltschädlicher Stoffe.Such a procedure is currently used in particular for Manufacture of compact discs is applied and is therefore well known. Usually, the metallization of the photoresist by evaporating a thin silver layer created. This silver layer was removed from the subsequently electroplated metal layer together with photoresist adhering to the silver layer before use as a master impression for the production of Positive impressions or as a stamper in the injection mold by etching. This cleaning process is expensive dig and requires the use of environmentally harmful Fabrics.

Man hat auch schon daran gedacht, die Metallisierung durch eine dünne Nickelschicht auf dem Photoresist zu er­ zeugen. Das führt jedoch ebenfalls zu Problemen, weil Nickel in der Lage ist, durch eine Lewis-Säure/Base-Reak­ tion mit dem Photoresist chemische Komplexverbindungen einzugehen. Dadurch ist der anhaftende Photoresist wie­ derum nur schwierig zu entfernen. Weiterhin entstehen Un­ ebenheiten in der Oberfläche.Metallization has also been considered through a thin layer of nickel on the photoresist testify. However, this also leads to problems because  Nickel is able to react through a Lewis acid / base tion with the photoresist chemical complex compounds enter into. As a result, the adhering photoresist is like therefore difficult to remove. Un continue to arise Flatness in the surface.

Der Erfindung liegt das Problem zugrunde, ein Verfahren der eingangs genannten Art zu entwickeln, welches mög­ lichst wenige Reinigungsvorgänge erfordert.The problem underlying the invention is a method of the type mentioned at the outset, which is possible requires as few cleaning processes.

Dieses Problem wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Metallisierung zumindest zu anfangs durch reaktives Sputtern eines Metalls erfolgt.This problem is solved according to the invention in that the metallization at least initially through reactive A metal is sputtered.

Durch dieses reaktive Sputtern gelangt auf den Photore­ sist eine dünne Metallschicht, welche schon vor dem Kon­ takt mit dem Photoresist mit dem Reaktionsmittel eine Bindung eingegangen ist. Dadurch kann es nicht mehr zu Reaktionen zwischen dem Photoresist und der Metallschicht kommen, wodurch der Photoresist leicht von der Metall­ schicht zu entfernen ist. Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht es, auf einer metallisierten Masterscheibe un­ mittelbar galvanisch einen Stamper oder eine Masterabfor­ mung (Vater) zu erzeugen, mit der anschließend weitere Positivabformungen (Mutter) hergestellt werden können, die dann jeweils wieder zur Erzeugung von Stampern die­ nen.This reactive sputtering gets onto the photore is a thin metal layer, which is already in front of the con clocks with the photoresist with the reactant Bond is received. This means it can no longer Reactions between the photoresist and the metal layer come, which makes the photoresist easily from the metal layer to be removed. The method according to the invention enables un on a metallized master disc indirectly galvanically a stamper or a master mung (father) to generate, with which then further Positive impressions (mother) can be made, which then again each time to produce stampers nen.

Die Metallisierung muß elektrisch leitfähig sein, damit nach der Metallisierung zur Bildung der Masterabformung galvanisch Material aufgetragen werden kann. Eine beson­ ders gute elektrische Leitfähigkeit bei gleichzeitiger Verhinderung einer Verbindung mit dem Photoresist er­ reicht man, wenn gemäß einer Weiterbildung der Erfindung die Metallisierung durch Erzeugen einer dünnen Grenz­ schicht aus beim Sputtern reagiertem Metall und einer ebenfalls durch Sputtern erzeugten Verstärkungsschicht aus nicht reagiertem Metall erfolgt.The metallization must be electrically conductive, so after metallization to form the master impression electroplated material can be applied. A special ders good electrical conductivity with simultaneous Preventing connection with the photoresist is sufficient if according to a further development of the invention the metallization by creating a thin border layer of metal reacted during sputtering and one  reinforcement layer also produced by sputtering made of unreacted metal.

Besonders rationell ist das erfindungsgemäße Verfahren durchzuführen, wenn für die Grenzschicht und die Verstär­ kungsschicht dasselbe Target benutzt wird.The method according to the invention is particularly efficient to be carried out if for the boundary layer and the reinforcement the same target is used.

Eine andere, vorteilhafte Weiterbildung des Verfahrens besteht darin, daß vor der Metallisierung in einer Vaku­ umkammer, in welcher das Sputtern des Targets stattfin­ det, eine für die Reaktion des zur Bildung der Grenz­ schicht der Metallisierung nötigen Metalls ausreichende Menge Reaktionsmittel eingegeben wird. Bei dieser Vorge­ hensweise nimmt die Konzentration des Reaktionsmittels mit zunehmender Schichtstärke der Metallisierung ab. Da­ durch besteht die später galvanisch zu beschichtende Oberfläche aus reinem Metall, so daß sich eine gute elek­ trische Leitfähigkeit ergibt. Da der Anteil reagierten Metalls in der Metallisierung zum Photoresist hin gleich­ mäßig zunimmt, kann es nicht zu Ablösungserscheinungen innerhalb der Metallisierung kommen.Another advantageous development of the method is that before metallization in a vacuum chamber in which the sputtering of the target takes place det, one for the reaction of the to form the border layer of metallization necessary metal sufficient Amount of reactant is entered. With this example Significantly, the concentration of the reactant decreases with increasing layer thickness of the metallization. There through is the one that will later be electroplated Surface made of pure metal, so that a good elec trical conductivity results. Because the share responded Metal in the metallization to the photoresist the same increases moderately, there may be no signs of detachment come within the metallization.

Da das in der Galvanik aufgebrachte Material bei der heu­ tigen Herstellung von Stampern meist Nickel oder eine Nickel-Vanadium-Legierung ist, verwendet man vorteilhaf­ terweise als Metall für die Metallisierung Nickel oder eine Nickel-Vanadium-Legierung.Since the material applied in the electroplating at the hay manufacturing of stampers mostly nickel or a Nickel-vanadium alloy is used advantageously as a metal for nickel or metallization a nickel-vanadium alloy.

Besonders einfach und wirkungsvoll ist das erfindungsge­ mäße Verfahren durchzuführen, wenn als Reaktionsmittel Sauerstoff verwendet wird. Nickel und Nickellegierungen reagieren bei den beim Sputtern vorliegenden Bedingungen intensiv mit Sauerstoff, so daß zu Beginn der Metalli­ sierung ausschließlich vollständig oxidiertes Metall nie­ dergeschlagen wird und damit das Entstehen von Komplex­ verbindungen mit dem Photoresist ausgeschlossen ist. This is particularly simple and effective to carry out moderate procedures when as a reactant Oxygen is used. Nickel and nickel alloys react under the conditions present during sputtering intensive with oxygen, so that at the beginning of the Metalli only fully oxidized metal is struck and thus the emergence of complex connections with the photoresist is excluded.  

Vergleichbar gute Ergebnisse lassen sich erzielen, wenn gemäß einer anderen Weiterbildung der Erfindung als Reak­ tionsmittel OH-Gruppen verwendet werden.Comparably good results can be achieved if according to another development of the invention as a reak agent OH groups are used.

Claims (7)

1. Verfahren zur Herstellung einer Masterabformung aus Metall als Stamper zum Einsetzen in eine Spritzgießform oder als Negativabformung (Vater) zur Erzeugung weiterer Positivabformungen (Mutter) zur Stampererzeugung für die Herstellung eines optisch lesbaren Informationsträgers, bei dem auf einer mit einem Photoresist überzogenen, be­ lichteten und mit einer dünnen Metallschicht auf dem Pho­ toresist versehenen Masterscheibe die Masterabformung erzeugt wird, indem auf die Metallisierung eine dickere Metallschicht aufgebracht und anschließend die Master­ scheibe von der durch die Metallisierung und Beschichtung erzeugten Masterabformung getrennt wird, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Metallisierung zumindest zu anfangs durch reaktives Sputtern eines Metalls erfolgt.1.Method for producing a master impression made of metal as a stamper for insertion into an injection mold or as a negative impression (father) for producing further positive impressions (mother) for stamper production for the production of an optically readable information carrier, in which exposed on a coated with a photoresist and with a thin metal layer on the photoresist-provided master disc, the master impression is produced by applying a thicker metal layer to the metallization and then separating the master disc from the master impression produced by the metallization and coating, characterized in that the metallization at least initially by reactive sputtering of a metal. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallisierung durch Erzeugen einer dünnen Grenz­ schicht aus beim Sputtern reagiertem Metall und einer ebenfalls durch Sputtern erzeugten Verstärkungsschicht aus nicht reagiertem Metall erfolgt.2. The method according to claim 1, characterized in that the metallization by creating a thin border layer of metal reacted during sputtering and one reinforcement layer also produced by sputtering made of unreacted metal. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß für die Grenzschicht und die Verstärkungsschicht dasselbe Target benutzt wird.3. The method according to claim 1, characterized in that the same for the boundary layer and the reinforcement layer Target is used. 4. Verfahren nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß vor der Metallisierung in einer Vakuumkammer, in welcher das Sputtern des Targets stattfindet, eine für die Reaktion des zur Bildung der Grenzschicht der Metallisierung nötigen Metalls ausrei­ chende Menge Reaktionsmittel eingegeben wird.4. The method according to claim 1 or one of the following, characterized in that before the metallization in a vacuum chamber in which the sputtering of the target takes place, one for the reaction of the to form the Boundary layer of the metallization necessary metal appropriate amount of reactant is entered. 5. Verfahren nach zumindest einem der vorangehenden An­ sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als Metall für die Metallisierung Nickel oder eine Nickel-Vanadium-Legierung verwendet wird.5. The method according to at least one of the preceding An sayings, characterized in that as metal for the  Metallization nickel or a nickel-vanadium alloy is used. 6. Verfahren nach zumindest einem der vorangehenden An­ sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als Reaktionsmittel Sauerstoff verwendet wird.6. The method according to at least one of the preceding An sayings, characterized in that as a reactant Oxygen is used. 7. Verfahren nach zumindest einem der vorangehenden An­ sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als Reaktionsmittel OH-Gruppen verwendet werden.7. The method according to at least one of the preceding An sayings, characterized in that as a reactant OH groups are used.
DE1996112329 1996-03-28 1996-03-28 Metal master production for CD manufacture Withdrawn DE19612329A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1996112329 DE19612329A1 (en) 1996-03-28 1996-03-28 Metal master production for CD manufacture

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1996112329 DE19612329A1 (en) 1996-03-28 1996-03-28 Metal master production for CD manufacture

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE19612329A1 true DE19612329A1 (en) 1997-10-02

Family

ID=7789720

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1996112329 Withdrawn DE19612329A1 (en) 1996-03-28 1996-03-28 Metal master production for CD manufacture

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE19612329A1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999004393A2 (en) * 1997-07-16 1999-01-28 Toolex Alpha Ab Semi-manufactured stamper and method of manufacturing the same
EP1154421A2 (en) * 2000-05-12 2001-11-14 Pioneer Corporation Production method for optical disc

Citations (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3017713A1 (en) * 1980-05-08 1981-11-12 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Metallising polymer films - by sputtering adhesion promoting layer onto film and then vacuum depositing metal, used for resistance layers
DE3337244A1 (en) * 1982-10-14 1984-04-19 N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken, 5621 Eindhoven METHOD FOR PRODUCING A NUT MASS
US4482511A (en) * 1981-08-21 1984-11-13 Victor Company Of Japan, Ltd. Method of manufacturing a stamper for information storage discs
US4655876A (en) * 1984-07-14 1987-04-07 Victor Company Of Japan, Ltd. Method for fabricating a master recording disc
US4729940A (en) * 1986-05-16 1988-03-08 Cbs Inc. Method of manufacturing master for optical information carrier
JPS6365096A (en) * 1986-09-04 1988-03-23 Ricoh Co Ltd Treatment of releasing film
JPS6370941A (en) * 1986-09-12 1988-03-31 Toshiba Corp Production of glass master disk for optical disk
US4845000A (en) * 1982-09-29 1989-07-04 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Radiation sensitive carrier body utilized as stamper structure
US4861699A (en) * 1983-03-16 1989-08-29 U.S. Philips Corporation Method of making a master disk used in making optical readable information disks
US4980262A (en) * 1976-08-16 1990-12-25 Eastman Kodak Company Producing a replicate video disc by a method of photographic contact printing
US5051340A (en) * 1989-06-23 1991-09-24 Eastman Kodak Company Master for optical element replication
US5147763A (en) * 1988-10-19 1992-09-15 Canon Kabushiki Kaisha Process for producing molding stamper for data recording medium substrate
DE4140712A1 (en) * 1991-03-28 1992-10-01 Pioneer Electronic Corp Optical disc and prodn. esp. small scale prodn. of audio-visual disc - by laser exposure of photoresist contg. resin, light-sensitive cpd. and ballast cpd.
EP0561079A1 (en) * 1992-03-16 1993-09-22 Pioneer Electronic Corporation Photoresist for optical disc and method of preparing optical disc utilizing photoresist
EP0561080A1 (en) * 1992-03-16 1993-09-22 Pioneer Electronic Corporation Photoresist for optical disc and method of preparing optical disc utilizing photoresist
DE3842227C2 (en) * 1988-12-15 1993-10-14 Westdeutscher Rundfunk Process for the production of duplicate pieces of a master disc recorded with digital audio signals
DE4310296A1 (en) * 1993-03-30 1994-10-06 Microparts Gmbh Process for producing stepped mold inserts, stepped mold inserts and molded stepped microstructure bodies with high precision
DE19516883A1 (en) * 1994-05-13 1995-11-16 Merck Patent Gmbh Low pressure mould used to print printing inks
US5480763A (en) * 1991-01-11 1996-01-02 Victor Company Of Japan, Ltd. Method for manufacturing a stamper for high-density recording discs

Patent Citations (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4980262A (en) * 1976-08-16 1990-12-25 Eastman Kodak Company Producing a replicate video disc by a method of photographic contact printing
DE3017713A1 (en) * 1980-05-08 1981-11-12 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Metallising polymer films - by sputtering adhesion promoting layer onto film and then vacuum depositing metal, used for resistance layers
US4482511A (en) * 1981-08-21 1984-11-13 Victor Company Of Japan, Ltd. Method of manufacturing a stamper for information storage discs
US4845000A (en) * 1982-09-29 1989-07-04 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Radiation sensitive carrier body utilized as stamper structure
DE3337244A1 (en) * 1982-10-14 1984-04-19 N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken, 5621 Eindhoven METHOD FOR PRODUCING A NUT MASS
US4861699A (en) * 1983-03-16 1989-08-29 U.S. Philips Corporation Method of making a master disk used in making optical readable information disks
US4655876A (en) * 1984-07-14 1987-04-07 Victor Company Of Japan, Ltd. Method for fabricating a master recording disc
US4729940A (en) * 1986-05-16 1988-03-08 Cbs Inc. Method of manufacturing master for optical information carrier
JPS6365096A (en) * 1986-09-04 1988-03-23 Ricoh Co Ltd Treatment of releasing film
JPS6370941A (en) * 1986-09-12 1988-03-31 Toshiba Corp Production of glass master disk for optical disk
US5147763A (en) * 1988-10-19 1992-09-15 Canon Kabushiki Kaisha Process for producing molding stamper for data recording medium substrate
DE3842227C2 (en) * 1988-12-15 1993-10-14 Westdeutscher Rundfunk Process for the production of duplicate pieces of a master disc recorded with digital audio signals
US5051340A (en) * 1989-06-23 1991-09-24 Eastman Kodak Company Master for optical element replication
US5480763A (en) * 1991-01-11 1996-01-02 Victor Company Of Japan, Ltd. Method for manufacturing a stamper for high-density recording discs
DE4140712A1 (en) * 1991-03-28 1992-10-01 Pioneer Electronic Corp Optical disc and prodn. esp. small scale prodn. of audio-visual disc - by laser exposure of photoresist contg. resin, light-sensitive cpd. and ballast cpd.
EP0561079A1 (en) * 1992-03-16 1993-09-22 Pioneer Electronic Corporation Photoresist for optical disc and method of preparing optical disc utilizing photoresist
EP0561080A1 (en) * 1992-03-16 1993-09-22 Pioneer Electronic Corporation Photoresist for optical disc and method of preparing optical disc utilizing photoresist
DE4310296A1 (en) * 1993-03-30 1994-10-06 Microparts Gmbh Process for producing stepped mold inserts, stepped mold inserts and molded stepped microstructure bodies with high precision
DE19516883A1 (en) * 1994-05-13 1995-11-16 Merck Patent Gmbh Low pressure mould used to print printing inks

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
NÖKER,F., KEYDEL,L.: Herstellen von Mikrostrukturkörpern aus Kunststoffen. In: Kunststoffe 82, 1992, 9, S.798-801 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999004393A2 (en) * 1997-07-16 1999-01-28 Toolex Alpha Ab Semi-manufactured stamper and method of manufacturing the same
WO1999004393A3 (en) * 1997-07-16 1999-04-22 Toolex Alpha Ab Semi-manufactured stamper and method of manufacturing the same
EP1154421A2 (en) * 2000-05-12 2001-11-14 Pioneer Corporation Production method for optical disc
EP1154421A3 (en) * 2000-05-12 2006-06-07 Pioneer Corporation Production method for optical disc

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0361192B1 (en) Method of making circuit boards
EP0500620B1 (en) Process for the production of metal microstructure bodies
EP0488239A1 (en) Method for manufacturing a stamper
EP0652819B1 (en) Process for manufacturing micro-structured bodies made of plastics
DE2453035A1 (en) METHOD OF APPLICATION OF A METALLIC LAYER ON A CONDUCTIVE SURFACE
EP0641152B1 (en) Process for forming a circuit with a laser and component formed thereby
DE19612329A1 (en) Metal master production for CD manufacture
EP0308816A1 (en) Process for the production of connection contacts for thin film magnetic heads
DE2603888C3 (en)
DE2261337A1 (en) METHOD FOR MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR COMPONENT
EP0592972A2 (en) Resist coated metal- or semiconductor-substrate having a stable resist-substrate adhesion
DE3337244C2 (en)
EP0683902B1 (en) Process for producing micro-structure components on a substrate
JPH02149691A (en) Making of metallic matrix
DE3035901A1 (en) METHOD FOR PRODUCING A FLYING CONNECTOR
DE2319088A1 (en) PRODUCTION OF ACCURATE IMPRESSIONS OF SOFT ORIGINALS
DE2611425A1 (en) METHOD OF MANUFACTURING A MOLDING MASK FOR AN ELECTRIC EDMING TOOL
DE2234408A1 (en) METHOD OF MANUFACTURING AN ELECTRICAL CONDUCTOR ARRANGEMENT
DE2145905A1 (en) Electroless metallisation of insulators and poor conductors - by mixing with fine quartz sand and roughening before metallisation
CN85100323A (en) The mould manufacturing process of production electroforming part
AT151417B (en) Method for duplicating record matrices.
DE1790025C (en) Process for the production of galvanically reinforced metallic microstructures
DE19926775C2 (en) Process for microstructuring a plastic
AT201679B (en) Process for the photomechanical production of grids for electron tubes
EP0857797B1 (en) Process for coating of a substrate at least partially with gold

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: UNAXIS DEUTSCHLAND HOLDING GMBH, 63450 HANAU, DE

8139 Disposal/non-payment of the annual fee