DE19507189A1 - Verfahren zur Mediumaufbereitung mit einem Excimer-Strahler und Excimer-Strahler zur Durchführung eines solchen Verfahrens - Google Patents
Verfahren zur Mediumaufbereitung mit einem Excimer-Strahler und Excimer-Strahler zur Durchführung eines solchen VerfahrensInfo
- Publication number
- DE19507189A1 DE19507189A1 DE1995107189 DE19507189A DE19507189A1 DE 19507189 A1 DE19507189 A1 DE 19507189A1 DE 1995107189 DE1995107189 DE 1995107189 DE 19507189 A DE19507189 A DE 19507189A DE 19507189 A1 DE19507189 A1 DE 19507189A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- excimer
- medium
- reactor
- electrode
- radiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 title claims description 67
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 66
- 238000012545 processing Methods 0.000 title abstract description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 57
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 53
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 35
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 22
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 16
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 11
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 6
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 claims description 6
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- CRCGQDIFUPCYPU-UHFFFAOYSA-N [Cl].[Kr] Chemical compound [Cl].[Kr] CRCGQDIFUPCYPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 3
- 238000011177 media preparation Methods 0.000 claims description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 11
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 6
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 3
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 3
- 239000002028 Biomass Substances 0.000 description 2
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000000149 chemical water pollutant Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 2
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 2
- 239000003673 groundwater Substances 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 2
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 2
- HGUFODBRKLSHSI-UHFFFAOYSA-N 2,3,7,8-tetrachloro-dibenzo-p-dioxin Chemical compound O1C2=CC(Cl)=C(Cl)C=C2OC2=C1C=C(Cl)C(Cl)=C2 HGUFODBRKLSHSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000195493 Cryptophyta Species 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003044 adaptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000033558 biomineral tissue development Effects 0.000 description 1
- 150000001722 carbon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 1
- 230000029087 digestion Effects 0.000 description 1
- 230000035622 drinking Effects 0.000 description 1
- 239000003651 drinking water Substances 0.000 description 1
- 235000020188 drinking water Nutrition 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000003546 flue gas Substances 0.000 description 1
- 238000009415 formwork Methods 0.000 description 1
- 231100001261 hazardous Toxicity 0.000 description 1
- TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N hydroxyl Chemical compound [OH] TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010842 industrial wastewater Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 239000010841 municipal wastewater Substances 0.000 description 1
- 210000001331 nose Anatomy 0.000 description 1
- 150000002926 oxygen Chemical class 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 238000005067 remediation Methods 0.000 description 1
- 238000012958 reprocessing Methods 0.000 description 1
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 239000010918 textile wastewater Substances 0.000 description 1
- 238000012549 training Methods 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
- B01J19/122—Incoherent waves
- B01J19/123—Ultraviolet light
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/007—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by irradiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
- B01J19/121—Coherent waves, e.g. laser beams
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
- C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Mediumaufbereitung,
insbesondere zur Aufbereitung von Wasser oder Abluft, mit
mindestens einem UV-Licht emittierenden Excimer-Strahler
gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 sowie einen Excimer-
Strahler zur Durchführung eines solchen Verfahrens.
Bei der Aufbereitung von Wasser, insbesondere Trinkwasser
oder Abluft, wurden bisher zum Abbau oder zur Entfernung der
im Wasser oder in der Abluft enthaltenden verunreinigenden
Stoffe unterschiedlichste Verfahren angewendet. In den
hierfür vorgesehenen Anlagen werden biologische, mecha
nische, physikalische und/oder chemische Reinigungsstufen
zur Wasseraufbereitung eingesetzt.
Darüber hinaus ist beispielsweise aus DE 42 10 509 A1 und G
93 13991.8 bekannt, Flüssigkeiten, vorzugsweise Trink- oder
Produktwasser, mittels UV-Licht in einer Bestrahlungskammer
zu desinfizieren und zu entkeimen.
Aus DE 42 43 208 A1 ist darüber hinaus bekannt, dem zu
reinigenden Abwasser zusätzlich zur UV-Bestrahlung eine die
Oxidation unterstützende chemische Verbindung, z. B. Wasser
stoffperoxid, zuzusetzen, um die Oxidation der im Abwasser
enthaltenen Metallkomplexe zu beschleunigen. Die Oxidation
von umweltgefährdenden Wasserinhaltsstoffen durch eine
solche UV-Bestrahlung der zu reinigenden Abwässer mit Queck
silberstrahlern in Gegenwart von die Oxidation unterstützen
den chemischen Verbindungen, wie Wasserstoffperoxid, Ozon
oder deren Kombination, ist jedoch nicht unbedenklich auf
grund der Quecksilber enthaltenden Strahlertypen. Solche
Quecksilberlampen müssen nach Verbrauch auf Deponien ent
sorgt werden.
Es sind jedoch bereits auch UV-Hochleistungsstrahler ent
wickelt worden, die auf den Einsatz von Quecksilber verzich
ten. Solche Strahler sind Excimer-Strahler, die zur Wasser
aufbereitung geeignet und beispielsweise in den Dokumenten
DE 42 42 171 A1, US-PS 4,945,290 und US-PS 5,173,638 be
schrieben sind. Die Excimer-Strahlertechnologie nutzt die
von der Lasertechnik her bekannte Bildung von Excimeren in
Gasen oder Gasgemischen zur Erzeugung von inkohärenter, fast
monochromatischer Strahlung im UV-Bereich des elektromagne
tischen Spektrums. Excimere sind kurzlebige elektronisch
angeregte Molekülkomplexe, die z. B. durch stille elektri
sche Entladungen erzeugt werden können. Das Entladungsplasma
befindet sich in einem hermetisch abgeschlossenen Bestrah
lungszylinder und emittiert, je nach Gasfüllung, mit hohem
Wirkungsgrad und mit einer Halbwertsbreite von etwa 5 nm bis
15 nm.
Wenngleich mit dieser Excimer-Strahlertechnologie die Aufbe
reitung unterschiedlichster industrieller Abwässer, kommuna
ler Abwässer, Deponie-Sickerwasser, Grundwasser usw., mög
lich ist, hat sich gezeigt, daß der Einsatz von Excimer-
Strahlern auch mit Nachteilen behaftet ist. Es hat sich
nämlich herausgestellt, daß bei einer Wasseraufbereitung
unter Einsatz der Excimer-Strahlertechnologie allein wegen
des verhältnismäßig hohen Energieverbrauchs häufig eine
Restverschmutzung des aufzubereitenden Wassers erhalten
bleibt.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, ein Ver
fahren zur Mediumaufbereitung, insbesondere zur Aufbereitung
von Wasser oder Abluft, anzugeben, das die Vorteile der
bisherigen Excimer-Strahlertechnologie nutzt und zugleich zu
einer vollständigen oder zumindest nahezu vollständigen
Reinigung des aufzubereitenden Mediums führt. Darüber hinaus
soll zur Durchführung dieses Verfahrens ein Excimer-Strahler
angegeben werden, der im Vergleich zu den bisher bekannten
Excimer-Strahlern verbessert ist.
Diese Aufgabe wird für das Verfahren durch die Merkmale des
Anspruchs 1 und für die Vorrichtung durch die Merkmale des
Anspruchs 14 gelöst.
Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteran
sprüche.
Das erfindungsgemäße Verfahren beruht darauf, das aufzube
reitende Medium in einem Reaktor mindestens einmal durch
einen innerhalb des Reaktors angeordneten Excimer-Strahler
mit vor- oder nachgeschalteter, biologischer, mechanischer,
physikalischer oder chemischer Reinigungsstufe, vorzugsweise
jedoch mehrmals, zu führen, wobei die Fließgeschwindigkeit
des aufzubereitenden Mediums durch den Excimer-Strahler
höher als durch die biologische, mechanische, physikalische
oder chemische Reinigungsstufe gewählt ist.
Das erfindungsgemäße Verfahren sieht im wesentlichen vor,
innerhalb eines Reaktors, der vorzugsweise ein Schlaufenre
aktor oder Batch-Reaktor ist, neben dem Einsatz von Exci
mer-Strahlern zum Abbau von organischen Kohlenstoffverbin
dungen eine weitere, vorzugsweise biologische Reinigungsstu
fe vorzusehen, um einen vollständigen, bzw. nahezu vollstän
digen Abbau der im aufzubereitenden Medium enthaltenen
Schmutzstoffe sicherzustellen. Dabei spielt es keine Rolle,
ob die zusätzliche Reinigungsstufe vor oder nach dem oder
den Excimer-Strahlern geschaltet ist. Der Vorteil eines
Einsatzes von Ecximer-Strahlern in Verbindung mit einer
vorzugsweise biologischen Reinigungsstufe liegt in deren
optimalem Zusammenwirken. Wird die zusätzliche Reinigungs
stufe dem Excimer-Strahler innerhalb des Reaktors nachge
schaltet, so kann die zusätzliche Reinigungsstufe für einen
vollständigen Abbau der nach den Excimer-Strahlern noch
vorhandenen Restverschmutzung vorgesehen werden. Wird die
zusätzliche Reinigungsstufe dagegen vor die Excimer-Strahler
geschaltet, wird das aufzubereitende Medium optimal für die
nachfolgende UV-Bestrahlung mit Excimer-Strahlern vorberei
tet. Die biologische Behandlung kann z. B. Schwebstoffe im
Medium zurückhalten. Dadurch wird das Medium transparenter
und hierdurch die Wirkung der Excimer-Strahleremission
gesteigert. Wird beispielsweise eine biologische Reinigungs
stufe vor die Excimer-Strahler geschaltet, sorgt diese
biologische Reinigungsstufe für ein Aufspalten der Schmutz
stoffe, die hierdurch nachfolgend durch die Excimer-Strahler
dank der vorherigen biologischen Behandlung abgebaut bzw.
gelöst werden können.
Die Aufbereitung von Wasser allein mit einer einzigen Reini
gungsstufe, beispielsweise mit einer biologischen Reini
gungsstufe, würde eine vollständige Reinigung des aufzube
reitenden Mediums nicht ermöglichen. Die biologische Reini
gungsstufe allein würde bei der Reinigung von Abwasser
nämlich eine verhältnismäßig hohe Überschuß-Schlammproduk
tion bewirken. Darüber hinaus ist bei der biologischen
Reinigung allein häufig nur ein Teilabbau, insbesondere bei
hohen CSB-Belastungen, der Schmutzstoffe zu beobachten.
Schließlich können komplexe Verschmutzungen, wie z. B.
organische Kohlenwasserstoffverbindungen, häufig biologisch
nicht angegriffen werden. Hier setzt das Verfahren nach der
Erfindung an, wenn die Excimer-Strahlertechnologie zur
Mediumauf- und -vorbereitung mit einer vorzugsweise biologi
schen Reinigungsstufe kombiniert wird.
Um innerhalb des Reaktors die Excimer-Strahlertechnologie
mit einer weiteren Reinigungsstufe kombinieren zu können,
ist es jedoch für ein zufriedenstellendes Aufbereitungser
gebnis unerläßlich, die Fließgeschwindigkeit des aufzuberei
tenden Mediums gezielt einzustellen. Die Fließgeschwindig
keit des aufzubereitenden Mediums wird erfindungsgemäß durch
den als Durchflußstrahler ausgebildeten Excimer-Strahler
wesentlich höher als durch die biologische, mechanische,
physikalische oder chemische Reinigungsstufe gewählt. Die
hohe Fließgeschwindigkeit durch die Excimer-Strahler bietet
den Vorteil, daß sich in der Durchflußröhre des Bestrah
lungszylinders ausbildende Ablagerungen (z. B. Veralgung)
selbsttätig weggespült werden. Ein hoher Wirkungsgrad der
UV-Bestrahlung des aufzubereitenden Mediums mit Exci
mer-Strahlern ist die Folge. Da erfindungsgemäß die Fließge
schwindigkeit des aufzubereitenden Mediums durch die weite
re, z. B. biologische, Reinigungsstufe wesentlich geringer
als durch die Excimer-Strahler ist und damit das aufzuberei
tende Medium wesentlich länger in der zusätzlichen Reini
gungsstufe verbleiben kann, ist die für eine biologische,
mechanische, physikalische oder chemische Reinigung länger
notwendige Aufenthaltszeit gewährleistet.
Die unterschiedlichen Verweilzeiten des aufzubereitenden
Mediums können beispielsweise durch geeignete Wahl der
Durchflußquerschnitte innerhalb des Reaktors bzw. innerhalb
des Schlaufenreaktors sichergestellt werden.
In einer Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, daß das
aufzubereitende Medium durch den gesamten Reaktor als ein
gemeinsamer Treibstrahl geführt wird. Dies hat den Vorteil,
daß lediglich ein einzelnes Antriebsaggregat, z. B. eine
einzelne Kreiselpumpe innerhalb des Reaktors zur Fortbewe
gung des aufzubereitenden Mediums ausreicht.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann, wie erwähnt, auch
innerhalb eines sogenannten Batch-Reaktors durchgeführt
werden. Ein solcher an sich bekannter Batch-Reaktor weist
verschiedene Reinigungskammern mit frei wählbaren Aufent
haltszeiten auf.
Die Fließgeschwindigkeit des aufzubereitenden Mediums durch
die biologische, mechanische, physikalische oder chemische
Reinigungsstufe liegt in der Größenordnung von etwa 0,3
m/sec., um eine optimale Reinigung zu erreichen. Darüber
hinaus können die für die biologische Reinigung verantwort
lichen Mikroorganismen auf geeigneten Träger- bzw. Auf
wuchsmaterial immobilisiert werden, wodurch adaptive Biozö
nosen entstehen und eine Abtötung der immobilisierten Biolo
gie im UV-Reaktorteil vermieden wird. Anzumerken ist hier
bei, daß die immobilisierte biologische Masse fixiert sein
muß, also nicht frei schwimmen darf. Darüber hinaus kann dem
aufzubereitenden Medium innerhalb des Reaktors ein gasförmi
ger Stoff, beispielsweise Sauerstoff, Luft oder Methan
zugeführt werden, um den Reinigungsprozeß noch wirksamer zu
gestalten.
Zur Beschleunigung des Reinigungsprozesses bzw. um bei
gleicher Prozeßzeit eine größere Menge an aufzubereitendem
Medium zu reinigen, ist es ohne weiteres möglich, mehrere
Excimer-Strahler einzusetzen. Diese Excimer-Strahler können
grundsätzlich parallel und/oder in Reihe zueinander geschal
tet sein. Darüber hinaus hat es sich beim Einsatz mehrerer
Excimer-Strahler innerhalb des Reaktors als vorteilhaft
erwiesen, mindestens einen Excimer-Strahler einzusetzen, der
UV-Licht im Bereich von etwa 172 nm und einen Excimer-Strah
ler, der UV-Licht im Bereich von etwa 222 nm ausstrahlt.
Excimer-Strahler mit einer UV-Strahlung von etwa 172 nm sind
mit Xenon als Entladungsgas gefüllt, während solche mit
einer UV-Strahlung von 222 nm mit Krypton-Chlor als Entla
dungsgas gefüllt sind.
In einer Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dem
aufzubereitenden Medium Ozon zuzuführen. Dem aufzubereiten
den Medium zugeführtes Ozon nämlich beschleunigt den Abbau
von organischen Kohlenwasserstoff-Verbindungen durch die
Excimer-Bestrahlung. Allerdings muß dafür gesorgt werden,
daß insbesondere vor dem Einleiten des aufzubereitenden
Mediums in die biologische Reinigungsstufe dieses Ozon
wieder vollständig abgebaut ist, da das Ozon in der biologi
schen Reinigungsstufe die dort vorhandene Biomasse bzw.
immobilisierte Biologie zerstören würde.
Die Ozonerzeugung kann innerhalb des Reaktors gemäß einer
Weiterbildung der Erfindung ebenfalls durch einen rohrförmi
gen Excimer-Strahler erfolgen. Die äußere Elektrode dieses
Excimer-Strahlers muß jedoch, im Gegensatz zu den bisher
bekannten Excimer-Strahlern, UV-lichtdurchlässig sein. Das
durch die äußere Elektrode, die z. B. als Wendelelektrode
oder Gitterelektrode ausgebildet sein kann, hindurchtretende
UV-Licht dient zur Bestrahlung von gezielt vorbeiströmender
Luft oder vorbeiströmendem Sauerstoff. Die UV-Bestrahlung des
an diesem Excimer-Strahler vorbeiströmenden Sauerstoffs oder
Sauerstoffgemischs führt zur Bildung von Ozon, das dem durch
einen nachgeschalteten Excimer-Strahler zugeführten aufzube
reitenden Medium beigemengt werden kann. Bevor das aufzube
reitende Medium die weiteren Reinigungsstufen, insbesondere
die biologische Reinigungsstufe, erreicht, muß dafür gesorgt
werden, daß möglicherweise noch vorhandenes Restozon ver
nichtet wird. Dies kann einfacherweise dadurch geschehen,
daß vor dem Zuführen des aufzubereitenden Mediums zur biolo
gischen Reinigungsstufe ein Excimer-Strahler vorgesehen
wird, der 222-nm-Strahlung emittiert. In einer Weiterbildung
der Erfindung können über eine Bypass-Leitung z. B. Kohlen
stofffrachtstoffe eingeleitet werden, die von dem Ozon in
einer Dunkelreaktion oxidiert wird.
Das erfindungsgemäße Verfahren wird vorteilhafterweise so
gestaltet, daß das aufzubereitende Medium, also das aufzube
reitende Wasser oder die Abluft, mehrfach durch die Exci
mer-Strahler und die nachfolgenden Reinigungsstufen geführt
wird.
Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens eignet
sich insbesondere ein Excimer-Strahler, der folgende Merkma
le aufweist:
- - einen einen Zulauf und Ablauf aufweisenden, rohrförmigen und UV-lichttransparenten Bestrahlungszylinder, durch welchen das aufzubereitende Medium geführt wird;
- - eine an der Innenseite des Bestrahlungszylinders angeord nete und für UV-Licht transparente innere Elektrode, die beispielsweise als Gitter- oder Wendelelektrode ausgebil det sein kann;
- - eine um die äußere Wandung des Bestrahlungszylinders angeordnete äußere Elektrode, die beabstandet zur inneren Elektrode angeordnet ist;
- - einen zwischen der inneren Elektrode und der äußeren Elektrode angeordneten hohlzylinderförmigen Entladungs spalt, in den ein bei Entladung eine Excimer-Strahlung emittierendes Gas oder Gasgemisch gefüllt ist;
- - einen an die innere und äußere Elektrode geschalteten und ein hochfrequentes Signal erzeugenden Spannungsgenerator;
- - eine den Bestrahlungszylinder und die innere Elektrode und äußere Elektrode umgebende metallische Abschirmung;
- - die metallische Abschirmung ist elektrisch mit Bezugspo tential verbunden;
- - die innere Elektrode ist elektrisch mit Bezugspotential verbunden und
- - die äußere Elektrode ist an das heiße Ende des Hochspan nungsgenerators angeschlossen.
Ein solcher Excimer-Strahler zeichnet sich durch wesentlich
verbesserte Betriebseigenschaften im Vergleich zu den her
kömmlichen Excimer-Strahlern aus. Zum einen sorgt die vorge
sehene Abschirmung dafür, daß keine elektromagnetischen
Unverträglichkeiten aufgrund der Hochfrequenzabstrahlung in
der Umgebung des Excimer-Strahlers auftreten. Der Hochspan
nungsgenerator, der im allgemeinen ein Plasma-Generator ist,
legt nämlich an die innere und äußere Elektrode eine Hoch
spannung von etwa 2 bis 20 kV bei einem Wechselsignal von
etwa 50 bis 500 kHz an. Da darüber hinaus die im Durchfluß
raum des Excimer-Strahlers befindliche Elektrode mit dem
Bezugspotential des Hochspannungsgenerators verbunden ist
und lediglich das heiße Ende des Hochspannungsgenerators
ausschließlich mit der äußeren Elektrode des Excimer-Strah
lers in Verbindung steht, gelangt das aufzubereitende Medium
und insbesondere das durch den Bestrahlungszylinder geführte
Abwasser nicht mit der Hochspannung des Hochspannungsgenera
tors in Berührung.
Die um den Excimer-Strahler angebrachte metallische Abschir
mung ist vorzugsweise ein aus Edelstahl bestehendes Rohr.
Darüber hinaus kann innerhalb der metallischen Abschirmung
auch eine dem Bestrahlungszylinder und die innere Elektrode
und äußere Elektrode umgebende Hülle, die aus Keramik,
Kunststoff oder einem ähnlichen Isolationsmaterial besteht,
angeordnet sein. In den Hohlraum zwischen dieser Hülle und
dem Bestrahlungszylinder ist vorzugsweise ein Hochspannungs
isolationsmaterial oder ein Hochtemperaturöl gefüllt, das
sowohl der Kühlung als auch der Isolierung der äußeren
Elektrode des Excimer-Strahlers dient. Hierbei ist darauf zu
achten, daß das Hochtemperaturöl bzw. das Hochspannungsiso
lationsmaterial, z. B. SF₆, nicht von der UV-Strahlung
des Excimer-Strahlers erfaßt wird, da dies sonst zu Beschä
digungen des Hochspannungsisolationsmaterials bzw. des
Hochtemperaturöls infolge der sich einstellenden Zersetzung
ergeben würde. Zweckmäßigerweise wird dies dadurch erreicht,
daß die äußere Elektrode als ausreichend große Folie, insbe
sondere als Aluminiumfolie, auf die äußere Rohrwandung des
Bestrahlungszylinders aufgebracht ist, so daß eine UV-Be
strahlung des Hochspannungsisolationsmaterials oder Hoch
temperaturöls vermieden wird.
Der Bestrahlungszylinder des Excimer-Strahlers ist vorzugs
weise als doppelwandiges Hohlzylinderrohr gestaltet, wobei
die innere Elektrode innerhalb der inneren Rohrwandung des
doppelwandigen Hohlzylinderrohres befestigt ist und die
äußere Elektrode auf der äußeren Elektrode des doppelwandi
gen Hohlzylinderrohres ohne Bildung eines Zwischenraumes
aufsitzt. Das Gas oder das Gasgemisch zur Erzeugung der
Entladung ist bei einem solchen doppelwandigen Hohlzylinder
rohr zwischen die äußere und innere Rohrwandung dieses
Hohlzylinderrohres gefüllt.
Soll, wie eingangs erwähnt, der Excimer-Strahler sowohl zur
Reinigung des durch ihn durchgeführten Mediums als auch zur
Ozon-Generierung dienen, so muß die äußere Elektrode des
eben beschriebenen Excimer-Strahlers UV-lichtdurchlässig
gestaltet werden. Dies kann beispielsweise dadurch erfolgen,
daß die äußere Elektrode nicht als geschlossene Folie bzw.
geschlossene Schicht realisiert ist, sondern als Wendel-
oder Gitterelektrode. Die im Entladungsspalt des Exci
mer-Strahlers entstehende UV-Strahlung kann somit aus dem
Bestrahlungszylinder nach außen gelangen. Wird der Bestrah
lungszylinder außerhalb von Luft oder Sauerstoff umströmt,
so wird aufgrund der Bestrahlung dieser Luft oder dieses
Sauerstoffs mit UV-Licht Ozon erzeugt. Dieses erzeugte Ozon
kann dem aus diesem Excimer-Strahler heraustretenden aufzu
bereitenden Medium zugeführt und anschließend als Gemisch
weiteren Excimer-Strahlern zugeleitet werden. Das zugemisch
te Ozon führt in den nachfolgenden Excimer-Strahlern zu
einem beschleunigten Abbau der organischen Kohlenstoff-Ver
bindungen. Bevor das aufzubereitende Wasser jedoch aus der
Bestrahlungsstufe mit Excimer-Strahlern heraustritt und den
weiteren Reinigungsstufen zugeführt wird, insbesondere der
biologischen Reinigungsstufe mit der dort regelmäßig vorhan
denen immobilisierten biologischen Masse, muß etwaig noch
vorhandenes Restozon sicher beseitigt werden. Dies erfolgt der
Einfachheit halber durch einen Excimer-Strahler, der eine
UV-Strahlung von 222 nm emittiert. Ein solcher Strahler ist,
wie bereits erwähnt, ein mit Krypton-Chlor gefüllter Exci
mer-Strahler.
Das erfindungsgemäße Verfahren wird nachfolgend anhand von
Ausführungsbeispielen im Zusammenhang mit Figuren näher
erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 ein Ausführungsbeispiel eines Excimer-Strahlers
nach der Erfindung mit an seinen Elektroden
angeschlossenem Hochspannungsgenerator,
Fig. 2 eine Schemazeichnung eines Reaktors nach der
Erfindung zur Wasseraufbereitung mit mehreren
Excimer-Strahlern und weiteren Reinigungsstu
fen,
Fig. 3 ein weiteres Ausführungsbeispiel eines Exci
mer-Strahlers, ähnlich zu Fig. 1, wobei dieser
Excimer-Strahler jedoch zur Ozon-Generierung
geeignet ist und
Fig. 4 die schematische Darstellung von vier hinter
einander geschalteten Excimer-Strahlern, von
denen der erste Excimer-Strahler gemäß Fig. 3
aufgebaut ist.
In den nachfolgenden Figuren bezeichnen, sofern nicht anders
angegeben, gleiche Bezugszeichen gleiche Teile mit gleicher
Bedeutung. Darüber hinaus wird nachfolgend die Erfindung
anhand der Aufbereitung von Wasser erläutert. Grundsätzlich
ist die vorliegende Erfindung jedoch auch zur Aufbereitung
von gasförmigen Stoffen, insbesondere von Abluft, geeignet.
In Fig. 1 ist der prinzipielle Aufbau eines Excimer-Strah
lers nach der Erfindung dargestellt. Der Excimer-Strahler
weist einen einen Zulauf 1 und einen Ablauf 2 aufweisenden
rohrförmigen und UV-lichttransparenten Bestrahlungszylinder
3 auf, durch welchen das aufzubereitende Wasser geführt
wird. Der Bestrahlungszylinder 3 ist beispielsweise ein
doppelwandiges Hohlzylinderrohr, das an seinen stirnseitigen
Enden mit jeweils einem Flansch 4, 5 abschließt. Zwischen
der äußeren Rohrwandung 8 und der inneren Rohrwandung 15 des
doppelwandigen Hohlzylinderrohres ist ein eine Exci
mer-Strahlung emittierendes Gas oder Gasgemisch gefüllt. Der
Zwischenraum zwischen der äußeren Rohrwandung 8 und der
inneren Rohrwandung 15 des Bestrahlungszylinders 3 bildet
den Entladungsspalt 9 des Excimer-Strahlers. Als Gas oder
Gasgemisch ist in diesen Entladungsspalt 9 entweder Xenon
bei einer gewollten UV-Strahlung von 172 nm oder Kryp
ton-Chlor bei einer gewollten UV-Strahlung von 222 nm ge
füllt.
Das im Entladungsspalt 9 befindliche Gas oder Gasgemisch ist
in axialer Richtung des Bestrahlungszylinders 3 im Bereich
der Flansche 4, 5 durch kreisringförmige Trennwände 17
abgeschlossen. In die rohrförmige Öffnung zwischen Zulauf 1
und Ablauf 2 ist eine für UV-Licht transparente innere
Elektrode 6 an der Innenseite des Bestrahlungszylinders 3
angeordnet. Im Ausführungsbeispiel von Fig. 1 ist diese
innere Elektrode 6 als Wendelleitung ausgebildet. Es wäre
auch möglich, hier eine Gitterelektrode vorzusehen. Wesent
lich ist lediglich, daß eine im Entladungsspalt 9 erzeugte
UV-Strahlung in die rohrförmige Durchgangsöffnung des Be
strahlungszylinders 3 gelangen kann, um dort das durchge
führte, aufzubereitende Wasser mit ultraviolettem Licht zu
bestrahlen und zum Abbau von organischen Kohlenwasserstoff-
Verbindungen zu führen. Der Wasserzulauf ist in Fig. 1 mit
dem mit dem Bezugszeichen 35 gekennzeichneten Pfeil und der
Wasserablauf mit dem mit dem Bezugszeichen 36 gekennzeichne
ten Pfeil angedeutet. Das aufzubereitende Wasser kommt
folglich mit der inneren Elektrode 6 in Berührung. Darüber
hinaus ist um die äußere Rohrwandung 8 des Bestrahlungszy
linders 3 eine äußere Elektrode 7 angebracht. Diese äußere
Elektrode 7 kann beispielsweise als metallische Folie, z. B.
Aluminiumfolie, auf die äußere Rohrwandung 8 des Bestrah
lungszylinders 3 aufgebracht sein. Wesentlich ist lediglich,
daß zwischen dieser metallischen Folie und der äußeren
Rohrwandung 8 des Bestrahlungszylinders 3 kein Zwischenraum
verbleibt, da sonst die aus dem Entladungsspalt 9 in Rich
tung äußere Elektrode 7 gelangende UV-Strahlung mit dem
Umgebungsmedium in Berührung kommt und sich dann ungewollt
Ozon bildet. Die äußere Elektrode 7 kann auch als UV-Licht
reflektierende metallische Schicht auf die äußere Rohrwan
dung des Bestrahlungszylinders 3 aufgedampft sein.
Die innere Elektrode 6 und die äußere Elektrode 7 sind mit
einem eine hochfrequente Spannung erzeugenden Hochspannungs
generator 10, z. B. einem sogenannten Plasma-Generator, in
Verbindung. Erfindungsgemäß ist die innere Elektrode 6 an
Bezugspotential 12 geschaltet. Das heiße Ende 13 des Hoch
spannungsgenerators 10 ist dagegen mit der äußeren Elektrode
7 in Verbindung. Hierdurch wird sichergestellt, daß das
durch die Durchgangsöffnung des Excimer-Strahlers geführte
Wasser lediglich mit der Elektrode 6 in Berührung kommt, die
auf Bezugspotential 12 liegt und damit keine Hochspannung
führt. Damit genügt ein solcher Excimer-Strahler den Sicher
heitsanforderungen. Der Hochspannungsgenerator 10 erzeugt
beispielsweise eine Hochspannung von 10 bis 20 kV mit etwa
100 bis 200 kHz Wechselfrequenz. Der Hochspannungsgenerator
10 stellt somit mit den angeschlossenen inneren und äußeren
Elektroden 6 und 7 des Excimer-Strahlers eine HF-Sendeanlage
dar. Um elektromagnetische Störungen im Umfeld dieses Exci
mer-Strahlers auszuschließen, ist deshalb erfindungsgemäß
eine metallische Abschirmung 11 um den Excimer-Strahler
angeordnet. Diese metallische Abschirmung 11 kann beispiels
weise als Rohr ausgebildet sein. Die metallische Abschirmung
11, die auch ein Faraday′scher Käfig sein kann, besteht
vorzugsweise aus Edelstahl.
Wie in Fig. 1 gezeigt, kann innerhalb der metallischen
Abschirmung 11 eine den Bestrahlungszylinder 3 und die
innere Elektrode 6 und äußere Elektrode 7 umgebende Hülle 14
vorgesehen werden. Diese Hülle 14 besteht beispielsweise aus
Keramik oder Kunststoff. Der Hohlraum 16 zwischen Hülle 14
und Bestrahlungszylinder bzw. äußerer Elektrode 7 ist vor
zugsweise mit einem Hochspannungsisolationsmaterial, z. B.
SF₆, oder einem Hochtemperaturöl gefüllt. Zur Steuerung
der sich im Entladungsspalt 9 ausbildenden Strahlung kann
der Hochspannungsgenerator 10 in seiner Leistung regelbar
ausgestaltet sein. Es hat sich darüber hinaus als zweckmäßig
erwiesen, daß der Hochspannungsgenerator 10 im Impulsbetrieb
betreibbar ist.
Der in Fig. 1 dargestellte Excimer-Strahler eignet sich
bestens zur Wasseraufbereitung in einem Reaktor, der zusätz
lich weitere biologische, mechanische, physikalische oder
chemische Reinigungsstufen aufweist. Dank der flanschartigen
Ausbildung der stirnseitigen Enden des Bestrahlungszylinders
ist es ohne weiteres möglich, mehrere solcher Excimer-Strah
ler in Reihe zu schalten. Darüber hinaus können diese Exci
mer-Strahler ohne weiteres auch parallel geschaltet werden.
In Fig. 2 ist schematisch ein Reaktor zur Wasseraufberei
tung dargestellt, der im wesentlichen aus zwei ineinander
angeordneten Behältern 30, 31 besteht. Der äußere größere
Behälter 30 ist bis nahe an seine Oberkante mit dem aufzube
reitenden Wasser 28 gefüllt. An seinem unteren Rand verfügt
dieser Behälter 30 über einen Zulauf 26 für das aufzuberei
tende Wasser 28 und an seinem oberen Ende über einen Ablauf
27. In der Mitte des Behälters 30 ist ein weiterer Behälter
31 mittels nicht näher dargestellten Befestigungseinrichtun
gen angeordnet. Innerhalb dieses inneren Behälters 30 sind
eine Vielzahl von parallel und in Reihe geschalteten Exci
mer-Strahlern, vorzugsweise gemäß Fig. 1, angeordnet. Der
innere Behälter 31 verfügt über einen Zulauf 40 an seinem
unteren Boden und einen im oberen Deckelteil beispielsweise
mittig angeordneten Ablauf 41. Innerhalb des Behälters 31
wird das aufzubereitende Wasser in geeigneter Weise durch
die im Zusammenhang mit Fig. 1 vorgestellten Durchgangsöff
nungen der jeweiligen Excimer-Strahler 20 geleitet und einer
UV-Bestrahlung ausgesetzt. Am Ablauf 41 des Behälters 31
tritt das teilweise aufbereitete Wasser am Ablauf 41 heraus,
um mindestens einer weiteren Reinigungsstufe zugeführt zu
werden.
Im Ausführungsbeispiel von Fig. 2 sind mehrere solcher
weiterer Reinigungsstufen ringförmig zwischen dem äußeren
Behälter 30 und dem inneren Behälter 31 angeordnet. Das aus
dem Ablauf 41 des inneren Behälters 31 heraustretende Wasser
gelangt über eine biologische Reinigungsstufe 22 mit nachge
schalteter physikalischer und mechanischer Reinigungsstufe
23, 24 sowie nachfolgender chemischer Reinigungsstufe 25
wieder zu dem Zulauf 40 des inneren Behälters 31. Obwohl
hier außerhalb des Behälters 31 mehrere Reinigungsstufen 22,
23, 24 und 25 vorgesehen sind, ist es ausreichend, lediglich
eine biologische Reinigungsstufe 22 vorzusehen, in der eine
immobilisierte biologische Masse angeordnet ist.
Vorteilhafterweise läuft das aufzubereitende Wasser 28
entsprechend der in Fig. 2 dargestellten und anhand der
Pfeile 21 symbolisierten Fließrichtung mehrmals durch die
Excimer-Strahler 20 und die außerhalb des Behälters 30
angeordneten Reinigungsstufen 22, 23, 24 und 25.
Wesentlich ist bei dem erfindungsgemäßen Verfahren, daß das
aufzubereitende Wasser 28 durch die Excimer-Strahler 20 mit
einer wesentlich höheren Fließgeschwindigkeit fließt als
durch die biologische, mechanische, physikalische oder
chemische Reinigungsstufe 22, 23, 24 und 25. Dies wird z. B.
durch entsprechende Wahl der Durchflußquerschnitte erreicht.
Das aufzubereitende Wasser 28 wird vorteilhafterweise durch
den gesamten Reaktor als ein gemeinsamer Treibstrahl ge
führt. Angetrieben wird dieser Treibstrahl beispielsweise
durch eine der Übersichtlichkeit wegen nicht dargestellte
Kreiselpumpe. Die Fließgeschwindigkeit des aufzubereitenden
Wassers durch die biologische, mechanische, physikalische
oder chemische Reinigungsstufe liegt in der Größenordnung
von etwa 0,3 m/sec, um die immobilisierte Biomasse nicht
vom Bewuchsträger bzw. Aufwuchssubstrat abzuspülen.
Der Reaktor ist, wie in Fig. 2 dargestellt, vorzugsweise
als Schlaufenreaktor ausgebildet. Es ist jedoch ebenfalls
möglich, den Reaktor als Batch-Reaktor zu realisieren. Bei
einem solchen Batch-Reaktor wird das aufzubereitende Wasser
28 diskontinuierlich mit frei wählbaren Aufenthaltszeiten
durch die einzelnen Reinigungsstufen 22, 23, 24 und 25
geführt.
Dem aufzubereitenden Medium kann innerhalb des Reaktors ein
gasförmiger Stoff, insbesondere Sauerstoff, Luft oder Methan
zugeführt werden. Dieser Zusatz sorgt insbesondere in der
biologischen Reinigungsstufe 22 für einen verbesserten Wir
kungsgrad des Abbauprozesses.
Untersuchungen haben gezeigt, daß der Abbau organischer
Kohlenwasserstoff-Verbindungen in dem aufzubereitenden
Wasser 28 durch Einsatz der Excimer-Strahlertechnologie dann
verbessert werden kann, wenn dem aufzubereitenden Wasser 28
zusätzlich Ozon zugemischt wird.
In Fig. 3 ist der Aufbau eines Excimer-Strahlers darge
stellt, der einerseits zur UV-Bestrahlung des aufzubereiten
den Wassers 28, das durch seine Durchgangsöffnung geführt
wird, dient, als auch zur Ozon-Erzeugung geeignet ist, wenn
der Bestrahlungszylinder 3 des Excimer-Strahlers von Luft
oder Sauerstoff umströmt wird. Ein solcher Excimer-Strahler
entspricht mit einer wesentlichen Ausnahme weitgehend dem in
Fig. 1 dargestellten Excimer-Strahler. Gleiche Bezugszei
chen bezeichnen deshalb in Fig. 3 die bereits aus Fig. 1
bekannten Teile des Excimer-Strahlers.
Der wesentliche Unterschied des in Fig. 3 dargestellten
Excimer-Strahlers besteht in der Ausbildung der äußeren
Elektrode 7. Diese äußere Elektrode 7, die auf der äußeren
Rohrwandung 8 des Bestrahlungszylinders 3 aufsitzt, ist
jetzt UV-lichtdurchlässig gestaltet. Im Ausführungsbeispiel
von Fig. 3 ist diese äußere Elektrode 7 als Gitterelektrode
gestaltet gezeigt. Ebenso kann diese äußere Elektrode 7 auch
als Wendelelektrode ausgebildet sein. Wesentlich ist ledig
lich, daß die bei Anlegung der Hochspannung an die äußere
Elektrode 7 und die innere Elektrode 6 erzeugte UV-Strahlung
innerhalb des Entladungsspaltes 9 des Bestrahlungszylinders
3 nicht nur in die Durchgangsöffnung des Bestrahlungszylin
ders 3, sondern auch außerhalb des Bestrahlungszylinders 3
gelangen kann. Wird dieser Bestrahlungszylinder 3 außen von
Luft oder Sauerstoff umströmt, so sorgt die Bestrahlung
dieser Luft oder des Sauerstoffes mit UV-Licht zur Ozon-Er
zeugung, vorausgesetzt, daß die UV-Strahlung eine Längenwel
le von etwa 172 nm aufweist. Der Entladungsspalt 9 ist
deshalb mit Xenon gefüllt. Das Umströmen des Bestrahlungszy
linders 3 mit Luft oder Sauerstoff ist in Fig. 3 anhand des
mit dem Bezugszeichen 42 gekennzeichneten Pfeiles angedeu
tet.
Das so erzeugte Ozon kann dem am Ablauf 2 des Excimer-Strah
lers heraustretenden Wasser zugeleitet werden.
In einem nachfolgenden Excimer-Strahler kann somit dem
aufzubereitenden Wasser Ozon zugesetzt werden, was den Abbau
organischer Kohlenwasserstoff-Verbindungen in den ozonbe
gasten Excimer-Strahlern beschleunigt. Bei Verwendung nur
eines einzigen Excimer-Strahlers muß das am Ausgang anfal
lende Ozon dem Eingang dieses Excimers-Strahlers zugeführt
werden. Bevor das aufzubereitende Wasser die Anordnung aus
Excimer-Strahlern verläßt, um in nachfolgenden Reinigungs
stufen, insbesondere biologischen Reinigungsstufen, weiter
aufbereitet zu werden (vgl. Fig. 2), muß sichergestellt
werden, daß im aufzubereitenden Wasser keinerlei Ozon mehr
vorhanden ist. Wäre nämlich Ozon vorhanden, würde dies die
immobilisierte biologische Masse in der nachfolgenden biolo
gischen Reinigungsstufe beeinträchtigen oder zerstören.
In Fig. 4 ist eine geeignete Anordnung von Excimer-Strah
lern schematisch dargestellt, welche einerseits zur Ozon-Er
zeugung dient und andererseits sicherstellt, daß am Ausgang
der Excimer-Strahleranordnung kein Restozon im aufzuberei
tenden Wasser mehr vorhanden ist.
In Fig. 4 ist schematisch wieder der bereits aus Fig. 2
bekannte innere Behälter 31 dargestellt. Auf die Darstellung
der übrigen aus Fig. 2 bekannten Komponenten wurde der
besseren Übersichtlichkeit verzichtet. Innerhalb des Behäl
ters 31 sind jetzt vier hintereinander geschaltete Exci
mer-Strahler 20 angeordnet. Der unmittelbar am Zulauf 40
angeordnete erste Excimer-Strahler 20 ist ein Excimer-Strah
ler, wie er im Zusammenhang mit Fig. 3 vorgestellt wurde
und zur Ozon-Erzeugung geeignet ist. Durch die Durchgangs
öffnung dieses ersten Excimer-Strahlers 20 wird das aufzube
reitende Wasser geführt. Darüber hinaus wird der Bestrah
lungszylinder dieses ersten Excimer-Strahlers 20 außen von
Luft oder Sauerstoff umströmt. Der Einlaß für die Luft oder
den Sauerstoff ist mit dem Bezugszeichen 42 und der Wasser
zulauf mit dem Bezugszeichen 35 gekennzeichnet. Das durch
die UV-Bestrahlung der Luft oder des Sauerstoffes erzeugte
Ozon O₃ wird gesammelt und dem aufzubereitenden Wasser
am Ablauf des ersten Excimer-Strahlers zugeführt. Dieses mit
Ozon vermengte aufzubereitende Wasser wird nacheinander
durch die Durchgangsöffnungen von drei hintereinander ge
schalteten Excimer-Strahlern 20 geführt. Die beiden mittig
angeordneten Excimer-Strahler 20 erzeugen eine UV-Strahlung
von 172 nm, ebenso wie der erste Excimer-Strahler 20, der
zur Ozon-Erzeugung ebenfalls UV-Strahlen mit 172 nm emittie
ren muß. Um einen etwaig im aufzubereitenden Wasser enthal
tenen Restozonanteil sicher zu vernichten, ist der am Ablauf
41 angeordnete vierte und damit letzte Excimer-Strahler in
seinem Entladungsspalt mit Krypton-Chlor gefüllt, um eine
UV-Strahlung von 222 nm zu emittieren. Eine solche UV-Strah
lung sorgt sicher zum Abbau noch vorhandenen Restozons im
aufzubereitenden Wasser. Damit ist sichergestellt, daß das
am Ablauf 41 heraustretende und teilweise bereits aufberei
tete Wasser keinerlei Restozon mehr enthält und ohne weite
res einer biologischen Reinigungsstufe, wie diese in Fig. 2
schematisch anhand des Bezugszeichens 22 dargestellt ist,
zugeführt werden kann.
Das vorgestellte Verfahren zur Wasseraufbereitung ist für
unterschiedlichste Anwendungsgebiete geeignet, z. B. zur
Grundwassersanierung, zur Deponie-Sickerwasseraufbereitung,
zur Galvanika-Wasseraufbereitung, zur Wasserdesinfektion zur
Aufbereitung von Textilabwasser, Rauchgaswaschwasser, Kom
postierwerks-Abwässer und sogar dioxinhaltigen Abwässern.
Neben der Eliminierung von Chlorkohlenwasserstoffen und dem
gesamten organischen Kohlenstoffgehalt ist nämlich mit dem
erfindungsgemäßen Verfahren auch eine Entgiftung, Entfär
bung, eine Fotomineralisierung und eine Zerstörung stabiler
organischer Metallkomplexe erreichbar. Darüber hinaus läßt
sich auch eine Geruchselimination und eine Cyanid-Oxidation
erreichen. Ferner läßt sich mit dem erfindungsgemäßen Ver
fahren auch Reinstwasser herstellen, wie es für den Einsatz
in der Mikroelektronik und in der Medizin notwendig ist.
Dabei wird die 222-nm-Strahlung, also die Strahlung von
Krypton-Chlor- Excimer-Strahlern, zur direkten Photolyse von
Wasserinhaltsstoffen im aufzubereitenden Wasser eingesetzt,
während die 172-nm-Strahlung, also solche von Xenon-Exci
mer-Strahlern, zur Wasserphotolyse unter Bildung reaktiver
Hydroxylradikale dient. Dabei werden die organischen Wasser
inhaltsstoffe, wie z. B. Cyanid, vollständig zu Kohlendioxid
(CO₂) bzw. Wasser (H₂O) bzw. Cyanat oxidiert.
Durch die Kombination der Excimer-Strahlertechnologie mit
anderen Reinigungsstufen innerhalb eines Reaktors werden in
vorteilhafter Weise die im aufzubereitenden Wasser befindli
chen Schadstoffe für die jeweils andere Reinigungstechnolo
gie aufbereitet und damit dem jeweils anderen Reinigungspro
zeß optimal zugänglich. Der synergetische Effekt der inner
halb eines gemeinsamen Reaktors eingesetzten Aufbereitungs
technologien führt zu einer optimalen Wasseraufbereitung.
Bezugszeichenliste
1 Zulauf
2 Ablauf
3 Bestrahlungskolben
4 Flansch
5 Flansch
6 innere Elektrode
7 äußere Elektrode
8 äußere Wandung
9 Entladungsspalt
10 Hochspannungsgenerator
11 metallisches Rohr
12 Bezugspotential
13 heißes Ende
14 Hülle
15 äußere Rohrwandung
16 Hohlraum
17 Trennwand
18 Excimer-Strahlung
19 Ozon-Strahlung
20 Excimer-Strahler
21 Fließrichtung
22 biologische Reinigungsstufe
23 mechanische Reinigungsstufe
24 physikalische Reinigungsstufe
25 chemische Reinigungsstufe
26 Reaktorzulauf
27 Reaktorzulauf
28 aufzubereitendes Wasser
29 Reaktor
30 Behälter
31 Behälter
35 Wasserzulauf
36 Wasserablauf
40 Zulauf
41 Ablauf
42 Luftzuführung
2 Ablauf
3 Bestrahlungskolben
4 Flansch
5 Flansch
6 innere Elektrode
7 äußere Elektrode
8 äußere Wandung
9 Entladungsspalt
10 Hochspannungsgenerator
11 metallisches Rohr
12 Bezugspotential
13 heißes Ende
14 Hülle
15 äußere Rohrwandung
16 Hohlraum
17 Trennwand
18 Excimer-Strahlung
19 Ozon-Strahlung
20 Excimer-Strahler
21 Fließrichtung
22 biologische Reinigungsstufe
23 mechanische Reinigungsstufe
24 physikalische Reinigungsstufe
25 chemische Reinigungsstufe
26 Reaktorzulauf
27 Reaktorzulauf
28 aufzubereitendes Wasser
29 Reaktor
30 Behälter
31 Behälter
35 Wasserzulauf
36 Wasserablauf
40 Zulauf
41 Ablauf
42 Luftzuführung
Claims (30)
1. Verfahren zur Mediumaufbereitung mit mindestens einem
UV-Licht emittierenden Excimer-Strahler, durch den das
aufzubereitende Medium geführt wird, dadurch gekenn
zeichnet, daß das aufzubereitende Medium in einem Reak
tor mindestens einmal durch den Excimer-Strahler geführt
wird, daß innerhalb des Reaktors mindestens eine biolo
gische, mechanische, physikalische oder chemische Reini
gungsstufe, durch welche das aufzubereitende Medium
ebenfalls mindestens einmal geführt wird, dem Excimer-
Strahler vor- oder nachgeschaltet ist, und daß die
Fließgeschwindigkeit des aufzubereitenden Mediums durch
den Excimer-Strahler höher als durch die biologische,
mechanische, physikalische oder chemische Reinigungsstu
fe ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
das aufzubereitende Medium durch den gesamten Reaktor
als ein gemeinsamer Treibstrahl geführt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeich
net, daß der Reaktor als Batch-Reaktor betrieben wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Fließgeschwindigkeit des aufzu
bereitenden Mediums durch die biologische, mechanische,
physikalische oder chemische Reinigungsstufe in der
Größenordnung von etwa 0,3 m/sec liegt.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß dem aufzubereitenden Medium inner
halb des Reaktors ein gasförmiger Stoff zugeführt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
als gasförmiger Stoff Sauerstoff, Luft oder Methan
zugeführt wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch
gekennzeichnet, daß das aufzubereitende Wasser durch
mehrere parallel oder in Reihe geschaltete Excimer-
Strahler geführt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
mindestens ein Excimer-Strahler UV-Licht im Bereich von
etwa 172 nm und ein Excimer-Strahler UV-Licht im Bereich
von etwa 222 nm ausstrahlt.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch
gekennzeichnet, daß das aufzubereitende Medium Wasser,
ein Gasgemisch oder Abluft ist.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß als Reaktor ein Schlaufenreaktor
verwendet wird.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch
gekennzeichnet, daß dem aufzubereitenden Medium Ozon
zugeführt wird.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß
die Ozonerzeugung durch einen rohrförmigen Excimer-
Strahler erfolgt, dessen äußere Elektrode UV-Licht
durchlässig ist und an welcher Luft oder Sauerstoff
außen vorbeigeführt wird und anschließend dem aufzube
reitenden Medium zugeführt wird.
13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeich
net, daß im aufzubereitenden Medium enthaltendes Ozon
vor dem Zuführen zur biologischen Reinigungsstufe in
einem 222nm-Excimer-Strahler vernichtet wird.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch
gekennzeichnet, daß dem aufzubereitenden Medium in
einer Bypass-Leitung eine Kohlenstofffracht zugeführt
wird.
15. Vorrichtung eines Excimer-Strahlers zur Durchführung des
Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 14 mit folgen
den Merkmalen:
- - einen einen Zulauf (1) und Ablauf (2) aufweisenden, rohrförmigen und UV-Licht-transparenten Bestrahlungs zylinder (3), durch welchen das aufzubereitende Medium führbar ist;
- - eine an der Innenseite des Bestrahlungszylinders (3) angeordnete und für UV-Licht transparente innere Elektrode (6);
- - eine um die äußere Wandung (8) des Bestrahlungszylin ders (3) angeordnete äußere Elektrode (7), die beab standet zur inneren Elektrode (6) angeordnet ist;
- - einen zwischen der inneren Elektrode (6) und der äußeren Elektrode (7) angeordneten hohlzylinderförmi gen Entladungsspalt (9), in den ein bei Entladung eine Excimer-Strahlung emittierendes Gas oder Gasgemisch gefüllt ist;
- - einen an die innere und äußere Elektrode (6, 7) ge schalteten und ein hochfrequentes Signal erzeugenden Hochspannungsgenerator (10);
gekennzeichnet durch die weiteren Merkmale:
- - eine den Bestrahlungszylinder (3) und die innere Elek trode (6) und äußere Elektrode (7) umgebende metal lisches Abschirmung (11);
- - die metallische Abschirmung (11) ist elektrisch mit Bezugspotential (12) verbunden;
- - die innere Elektrode (6) ist elektrisch mit Bezugspo tential (12) verbunden; und
- - die äußere Elektrode (7) ist an das heiße Ende (13) des Hochspannungsgenerators (10) angeschlossen.
16. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet,
daß die metallische Abschirmung (11) ein Rohr ist.
17. Vorrichtung nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekenn
zeichnet, daß die metallische Abschirmung (11) aus
Edelstahl besteht.
18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15 bis 17, dadurch
gekennzeichnet, daß innerhalb der metallischen Abschir
mung (11) eine den Bestrahlungszylinder (3) und die
innere Elektrode (6) und äußere Elektrode (7) umgebende
Hülle (14) angeordnet ist.
19. Vorrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet,
daß diese Hülle (14) aus Keramik besteht.
20. Vorrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet,
daß die Hülle (14) aus Kunststoff besteht.
21. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 18 bis 20, dadurch
gekennzeichnet, daß der Hohlraum (16) zwischen Hülle
(14) und Bestrahlungszylinder (3) mit einem Hochspan
nungsisolationsmaterial gefüllt ist.
22. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 18 bis 20, dadurch
gekennzeichnet, daß der Hohlraum (16) zwischen Hülle
(14) und Bestrahlungszylinder (3) mit einem Hochtempera
turöl gefüllt ist.
23. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15 bis 22, dadurch
gekennzeichnet, daß der Bestrahlungszylinder (3) ein
doppelwandiges Hohlzylinderrohr ist, daß die innere
Elektrode (6) innerhalb der inneren Rohrwandung (15) des
doppelwandigen Hohlzylinderrohres angeordnet ist, daß
die äußere Elektrode (7) auf der äußeren Rohrwandung (8)
des doppelwandigen Hohlzylinderrohres sitzt, und sich
das Gas oder Gasgemisch zwischen der äußeren und inneren
Rohrwandung (8, 15) des doppelwandigen Hohlzylinder
rohres befindet.
24. Vorrichtung nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet,
daß die äußere Elektrode (7) als Folie, insbesondere als
Aluminiumfolie, auf die äußere Rohrwandung (8) des
doppelwandigen Hohlzylinderrohres aufgebracht ist.
25. Vorrichtung nach Anspruch 23 oder 24, dadurch gekenn
zeichnet, daß die äußere Elektrode (7) als UV-Licht-re
flektierende Schicht auf die äußere Rohrwandung (8) des
doppelwandigen Hohlzylinderrohres aufgebracht ist.
26. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15 bis 25, dadurch
gekennzeichnet, daß das Gas Xenon oder Krypton-Chlor
ist.
27. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15 bis 26, dadurch
gekennzeichnet, daß die innere Elektrode (6) als Wendel
leitung oder Gitterelektrode ausgebildet ist.
28. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15 bis 27, dadurch
gekennzeichnet, daß der Hochspannungsgenerator (10) in
seiner Leistung regelbar ist.
29. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15 bis 28, dadurch
gekennzeichnet, daß der Hochspannungsgenerator (10)
im Impulsbetrieb betreibbar ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1995107189 DE19507189C2 (de) | 1995-03-02 | 1995-03-02 | Verfahren zur Mediumaufbereitung mit einem Excimer-Strahler und Excimer-Strahler zur Durchführung eines solchen Verfahrens |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1995107189 DE19507189C2 (de) | 1995-03-02 | 1995-03-02 | Verfahren zur Mediumaufbereitung mit einem Excimer-Strahler und Excimer-Strahler zur Durchführung eines solchen Verfahrens |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19507189A1 true DE19507189A1 (de) | 1996-09-12 |
DE19507189C2 DE19507189C2 (de) | 1997-09-11 |
Family
ID=7755385
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1995107189 Expired - Fee Related DE19507189C2 (de) | 1995-03-02 | 1995-03-02 | Verfahren zur Mediumaufbereitung mit einem Excimer-Strahler und Excimer-Strahler zur Durchführung eines solchen Verfahrens |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19507189C2 (de) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19708149A1 (de) * | 1997-02-28 | 1998-09-03 | Umex Ges Fuer Umweltberatung U | Vorrichtung zur UV-Bestrahlung von Flüssigkeiten und Gasen |
DE19744940A1 (de) * | 1997-02-28 | 1998-09-03 | Umex Ges Fuer Umweltberatung U | Vorrichtung zur Durchführung fotochemischer Reaktionen, vorzugsweise von Aufschlüssen im Labor |
DE19708148A1 (de) * | 1997-02-28 | 1998-09-03 | Umex Ges Fuer Umweltberatung U | Vorrichtung zur UV-Bestrahlung strömender Flüssigkeiten und Gase mit elektrodenloser Entladungslampe |
WO2005011843A1 (en) * | 2003-08-01 | 2005-02-10 | Philips Intellectual Property & Standards Gmbh | Apparatus for reducing contaminants in a fluid stream comprising a dielectric barrier excimer discharge lamp |
DE102014207690A1 (de) * | 2014-04-24 | 2015-10-29 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zur photochemischen Behandlung oder Reinigung eines flüssigen Mediums |
CN110832313A (zh) * | 2017-06-21 | 2020-02-21 | 株式会社岛津制作所 | 水质测定装置和水质测定方法 |
WO2023084278A1 (es) * | 2021-11-11 | 2023-05-19 | Pontificia Universidad Javeriana | Sistema de purificación de agua con luz ultravioleta |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10236717B4 (de) * | 2001-08-07 | 2006-04-20 | Gudernatsch, Willi, Dr.-Ing. | Vorrichtung zur Durchführung von photoreaktiven Prozessen bei einem Fluid |
DE10147703A1 (de) * | 2001-09-27 | 2003-04-10 | Juergen Markert | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Abluft |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4203345A1 (de) * | 1992-02-06 | 1993-08-12 | Asea Brown Boveri | Hochleistungsstrahler |
DE4242171A1 (de) * | 1992-12-15 | 1994-06-16 | Heraeus Noblelight Gmbh | Flüssigkeitsentkeimung |
-
1995
- 1995-03-02 DE DE1995107189 patent/DE19507189C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4203345A1 (de) * | 1992-02-06 | 1993-08-12 | Asea Brown Boveri | Hochleistungsstrahler |
DE4242171A1 (de) * | 1992-12-15 | 1994-06-16 | Heraeus Noblelight Gmbh | Flüssigkeitsentkeimung |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
DE-Z: "umwelt & technik", 9/88, S. 8-12 * |
US-B: KIRK-OTHMAR: Encyclopedia of chemical Technology, Vol. 9, New York, 1952 * |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19708149A1 (de) * | 1997-02-28 | 1998-09-03 | Umex Ges Fuer Umweltberatung U | Vorrichtung zur UV-Bestrahlung von Flüssigkeiten und Gasen |
DE19744940A1 (de) * | 1997-02-28 | 1998-09-03 | Umex Ges Fuer Umweltberatung U | Vorrichtung zur Durchführung fotochemischer Reaktionen, vorzugsweise von Aufschlüssen im Labor |
DE19708148A1 (de) * | 1997-02-28 | 1998-09-03 | Umex Ges Fuer Umweltberatung U | Vorrichtung zur UV-Bestrahlung strömender Flüssigkeiten und Gase mit elektrodenloser Entladungslampe |
WO2005011843A1 (en) * | 2003-08-01 | 2005-02-10 | Philips Intellectual Property & Standards Gmbh | Apparatus for reducing contaminants in a fluid stream comprising a dielectric barrier excimer discharge lamp |
DE102014207690A1 (de) * | 2014-04-24 | 2015-10-29 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zur photochemischen Behandlung oder Reinigung eines flüssigen Mediums |
US10125032B2 (en) | 2014-04-24 | 2018-11-13 | Sico Technology Gmbh | Device for the photochemical treatment or cleaning of a liquid medium |
CN110832313A (zh) * | 2017-06-21 | 2020-02-21 | 株式会社岛津制作所 | 水质测定装置和水质测定方法 |
JPWO2018235865A1 (ja) * | 2017-06-21 | 2020-04-09 | 株式会社島津製作所 | 水質測定装置及び水質測定方法 |
EP3644050A4 (de) * | 2017-06-21 | 2020-07-01 | Shimadzu Corporation | Wasserqualitätmessvorrichtung und wasserqualitätmessverfahren |
CN110832313B (zh) * | 2017-06-21 | 2023-08-15 | 株式会社岛津制作所 | 水质测定装置和水质测定方法 |
US11739006B2 (en) | 2017-06-21 | 2023-08-29 | Shimadzu Corporation | Water quality measurement device and water quality measurement method |
WO2023084278A1 (es) * | 2021-11-11 | 2023-05-19 | Pontificia Universidad Javeriana | Sistema de purificación de agua con luz ultravioleta |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19507189C2 (de) | 1997-09-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0478583B2 (de) | Verfahren und anlage zur behandlung von mit schadstoffen belasteten flüssigkeiten | |
DE69527086T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur behandlung von flüssigkeiten | |
DE4025078C2 (de) | ||
DE4440813C2 (de) | Verfahren zur Behandlung von Flüssigkeiten sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
DE102005003923A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Entkeimen von Raumluft | |
US7842182B2 (en) | Ozone/UV combination for the decomposition of resistant substances | |
DE202008017944U1 (de) | Anlage zur chemischen und physikalischen Aufbereitung von Wasser mittels UV-Strahlung | |
DE19507189C2 (de) | Verfahren zur Mediumaufbereitung mit einem Excimer-Strahler und Excimer-Strahler zur Durchführung eines solchen Verfahrens | |
DE69906792T2 (de) | Durch mikrowellen betätigte ultraviolett-lichtquelle | |
DE4110687A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur behandlung schadstoffbelasteter fluessigkeiten | |
EP1008556A2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Dekontamination schadstoffbelasteter Wässer | |
DE4307204C2 (de) | Anordnung zur Reinigung von Flüssigkeiten und/oder Gasen | |
DE4136949A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur photooxidativen reinigung von organisch belastetem wasser | |
DE4016514C2 (de) | ||
DE4438052C2 (de) | Verfahren, Vorrichtung und Strahlungsquelle zur oxidativen Photopurifikation | |
DE19813451B4 (de) | Verfahren zur mikrobiologischen Reinigung | |
DE10040566A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Aufbereitung eines aquatischen Systems | |
DE19602947A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Wässern mit toxischen und/oder biologisch schwer oder nicht abbaubaren organischen Inhaltstoffen | |
EP1394118B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur UV-Bestrahlung von Flüssigkeiten | |
DE19904493B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Aufbereitung von mit Schadstoffen belasteten pumpfähigen Medien | |
DE202008017943U1 (de) | Ozon-Generator zur chemischen Desinfektion von Wasser | |
DE19740401C1 (de) | Verfahren zum oxidativen Abbau von Schadstoffen durch Elektronenstrahlung und Vorrichtung zu seiner Durchführung | |
DE69224627T2 (de) | Verfahren und vorrichtung für die entgiftung von erdboden | |
DE102018214715B4 (de) | Verfahren zum Abbau von Schadstoffen in Wasser | |
WO2002002466A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur aufbereitung von mit schadstoffen belasteten pumpfähigen medien |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: WAIZENEGGER, KLAUS, DIPL.-ING., 78532 TUTTLINGEN, |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |