DE1945456A1 - Photosensibilisirende Loesung und ihre Verwendung zur Herstellung von Relief-Druckformen - Google Patents
Photosensibilisirende Loesung und ihre Verwendung zur Herstellung von Relief-DruckformenInfo
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Description
DR. ELISABETH JUNG1 DR. VOLKER VOSSIUS, DIPL.-ING. GERHARD GOLDEWEY
8 MDNCHEN 23 ■ SI EGESSTR AS SE 26 · TELEFON 34 50 67 · TELEGRAMM-ADRESSE: INVENT/MDNCHEN
TELEX 5 29 686
E 676
.8. Sep. 1969
ASAHI KASEI KOGIO KABUSHIKI KAISHA Osaka / Japan
Photosensibilisierende Lösung und ihre Verwendung zur
Herstellung von Relief-Druckformen
Prioritäten s 11. September I968 %
5. November 1968 ) Japan
Anmelde-Nr. : 64 952 / I968 und
80 382 / 1968
Die Erfindung betrifft eine pliotosensibilisierende Lösung, welche sich insbesondere zur Herstellung von Relief-Druckformen
eignet«
Bisher waren zwei Arten von Druckformen bekannt. Bei der einen ο Art besteht die Relief-Kopierschicht mit einer Stärke von 5 bis
00 10 /U aus einem Albuminsensibilisator. Die andere Art von
CD· /
.^ Druckformen besteht aus vorsensibilisierten Druckplatten sowie
_* aus lichtempfindlichen Platten und Folien, die ohne Mitverwen-
<" dung von CcäJbiden hergestellt worden sind. Für die Photosensibilisierung
werden dabei Diazoverbindungen oder Azidoverbindun-
gen in Verbindung mit Formaldehyd (sogenanntes Gerbdiazo} verwendet
sowie Sensibilisierungslösungen, welche als Hauptkomponente eine photopolymeriaierbare Verbindung enthalten.
Die Haftfestigkeit und die Abriebbeständigkeit der Kopierschicht solcher Druckformen sind jedoch verhältnismässig gering
und es können von einer einzigen Druckform höchstens 50 000 bis 60 000 Kopien hergestellt werden. Ausserdem ist die Kopierschicht
solcher Druckformen nach dem Ätzen und Entwickeln nur noch etwa 5 bis 10 ax stark, worunter die Schärfe und Klarheit
der damit hergestellten Drucke wesentlich leidet. Demgegenüber weisen tiefgeätzte Flachdruckformen einen wesentlichen Vorteil
auf, weil sie die vorstehend erwähnten Nachteile vermeiden, obwohl die Herstellung solcher tiefgeätzten Flachdruckformen ver hältnismässig
kompliziert ist. Im Handel sind vorsenaibilisierte Druckformen erhältlich, welche unter Verwendung einer photopolymerisierbaren
Komponente hergestellt worden sind. Die Dicke der photopolymerisierbaren Schicht dieser vorsensibilisierten
Druckformen entspricht jedoch derjenigen der üblichen Druckformen, welche unter Verwendung eines Gerbdiazo erzeugt worden
sind.
Mittels der erfindungsgemässen neuen photosensibilisierenden
Lösung ist es nunmehr möglich, die Nachteile der bekannten Druckformen mit Relief-Kopierschicht zu vermeiden.
Die erfindungsgemässe photosensibilisierende Lösung mit einer
η etwa
Viskosität bei 20 G von/5 bis 150 cP ist dadurch gekennzeich
net, dass sie
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II) ein Lösungsmittel mit einer relativen Trocknungsgeschwindigkeit im Bereich von 500 bis 10 000 enthält, wobei
die Komponente I aus
A) einem ungesättigten Polyester mit einem Schmelzpunkt über 100 0C, welcher im Molekül mindestens ein Segment (a)
der nachstehenden Struktur (1)
in welcher R1 eine Alkylengruppe mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen
bedeutet und χ eine ganze Zahl von 2 bis 100 ist, oder der nachstehenden Struktur (2) :
0 0
S
Il . Il
• / pTT \ r\ π ^O P f
t '2y J8 ^y
in welcher R^ eiae der folgenden Gruppen oder die Naphthalingruppe bedeutet, y eine ganze Zahl von 2 bis 4, ζ eine ganze
Zahl von 1 bis 10 und w eine ganze Zahl von 1 bis 4 ist :
w V=
sowie mindestens ein Segment (b) enthält, welches sich von einer
ungesättigten Dicarbonsäure ableitet;
B) etwa 10 bis "50 Gewichtsteilfm;. bezogen auf je 100 Ge-
\;ich"bste:.le das IcJ.yesters A), mitidestens eines von dem ungesättigter.
Polyester A) unterschiedlichen äthylenisch ungesättig-
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BAD ORiGfNAl,
ten Monomeren und
C) etwa 0,01 bis 5 Gewiehtsteilen, bezogen auf je 100 Gewichtsteile
des Polyesters A), eines Photopolymerisationeinitiators besteht, während die Komponente
II) ein chlorierter oder bromierter aliphatischer Kohlenwasserstoff,
ein Keton, cyclischer Äther und/oder Pyridin ist.
Diese erfindungsgemässe photoeensibilisierende Lösung lässt
sich ausgezeichnet zur Herstellung von Relief-Druckformen verwenden, indem man ein Trägermaterial mit der Lösung beschichtet
und daraus eine photopolymerisierbare Schicht mit einer Stärke von 10 bis 200 ,u aufträgt, worauf ausgewählte
Flächen dieser Schicht mit Licht bestrahlt werden, bis sich die belichteten Teile photopolymerisiert haben. Anschliessend
werden die nicht belichteten Bildflächen entfernt und dann behandelt man die Oberfläche der verbleibenden Kopierschicht mit
einem Desensibilisator.
Unter Verwendung der erfindungsgemäs3en photosensibilisierenden
Lösungen, welche unter Verdampfen des Lösungsmittels trocknen und zur Hauptsache aus einem ungesättigten Polyester bestehen,
lassen sich photopolymerisierbare Schichten jeder gewünschten
Dicke im Bereich von 10 bis 20p Ai mit hoher Genauigkeit herstellen.
Bei der Herstellung entsprechender Relief-Druckformen
werden die erfindungsgemässen photosensibilisierenden Lösungen
durch die unterschiedlichen Temperaturen und den Feuchtigkeitsgehalt nicht beeinflusst, und die Belichtungszeit kann in jeder
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BAD
beliebigen Atmosphäre konstant gehalten werden. Es ist nur eise abschliessende übliche Behandlung mit einem Desensibilisator
nach der Entwicklung der belichteten Schicht erforderlich und , dadurch können die Behandlungsstufen des Aufbringens einer Lack-Deckschicht
sowie der Ätzung verkürzt werden. Auf diese Weise lässt sich die Herstellung von Druckformen bezüglich der erforderlichen
Verfahrensschritte wesentlich vereinfachen und die Arbeitsleistung wird wesentlich erhöht.
Die unter Verwendung der erfindungsgemässen photosensibilisierenden
Lösungen herstellbaren Relief-Druckplatten sind an sich neu, und man kann sagen, dass sie bezüglich ihrer charakteristischen
Eigenschaften zwischen den üblichen Flachdruckplatten
und Druckformen für den Offset-Druck liegen. Wenn diese neuen
Druckformen praktisch eingesetzt werden, können dafür übliche Offset-Druckmaschinen verwendet werden. Obwohl die eigentliche
Kopierschicht ein Relief bildet, ist doch ein Hochleistungsdrucken unter Erzeugung von über 10 000 Kopien je Stunde möglich.
Palis die Kopierschicht eine Dicke im Bereich von 150 bis
20OyU aufweist, kann ein trockenes Offset-Druckverfahren durchgeführt
werden.
Der ungesättigte Polyester A) in den erfindungsgemässen photosensibilisiierenden
Lösungen ist eine photopolymerisierbare Komponente, welche sich durch eine übliche Kondensationsreaktion
aus einem Xtherdiol, welches dem vorstehend erwähnten Segment(1) entspricht und die nachstehende Formel aufweist
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BAD ORfGfNAt
HO-(R1-O)x-H
(in welcher R1 eine Alkylengruppe mit 2 bis 4 Kohlenstoffatomen
bedeutet und χ einen Wert von 2 bis 100 hat) oder eines Esterdiols, welches dem vorstehend erwähnten Segment (2) entspricht
und die nachstehende Formel aufweist
(CH9) -O=C-R9-C-O -(CH9) -OH
y Jz y
(in welcher R2 eine Naphthalingruppe oder eine Gruppe der nachstehenden
Struktur bedeutet
y einen Wert von 2 bis 4 hat, ζ einen Wert von 1 bis 10 hat und
w einen Wert von 1 bis 4 hat) oder aus einer Mischung eines solchen Ätherdiols bzw« Esterdiols und einer ungesättigten Dicarbonsäure
oder deren Derivat herstellen lässt.
Pur diesen Zweck geeignete Itherdiole sind Polyäthylenglykole
mit 2 bis 100 -CH2-CH2O- Gruppen in der Hauptkette, Polypropylenglykole
mit 2 bis 100 -CH2CH(CH,)0- Gruppen oder -CHgCHgCHgO- Gruppen in der Hauptkette, Polybutylenglykole mit
2 bis 50 -CH2CH2CH2CH2O- Gruppen in der Hauptkette und Copoly-(oxyäthylen-oxypropylen)-glykole
mit 2 bis 50 -CHgCHgO-Gruppen bzw. -CH2CH(CH5)O- Gruppen in der Hauptkette.
Die Esterdiole lassen sich leicht und einfach durch eine Kondensationsreaktion
aus einem Polymethylenglykol der nachstehen-'
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den Formel
HO-(CHp)-OH
in welcher y einen Wert von 2 bis 4 hat, mit einer aromatischen
Dicarbonsäure oder deren Methyl- oder Äthylester der nachstehenden Formel
O 0
η Ii
in welcher Rp die Naphthalingruppe od«r eine der nachstehenden
Gruppen bedeutet, R, ein Wasserstoffatom, eine Methyl- oder
Äthylgruppe ist und w einen Wert von 1 bis 4 hat, herstellen*
Äthylgruppe ist und w einen Wert von 1 bis 4 hat, herstellen*
[Ct dt ^
Derartige Esterdiole assen sich gemäss einer Arbeitsweise herstellen,
indem man 3 ein vorstehend beschriebenes Polymethylen- ' glykol mit beispielsweise einem vorstehend beschriebenen Dimethylester
einer DicarboTieäure in einer Inertgasatmosphäre bei einer
Temperatur zwischen 150 und 300 0C in solchen Mengenverhältnissen
umsetzt, dass ein Esterdiol mit dem gewünschten Polymerisationsgrad oder dem gewünschten Molekulargewicht entsteht, wobei
das gleichzeitig gebildete Methanol abdestilliert wird.
.Gemäss einer anderen Auaführungsform werden ein oder mehrere
Mole des Polymethylenglykols zu beispielsweise dem Dimethylester einer s.romatischen Dicarbonsäure bei einer Temperatur
zwischen 150 und 200 0C in einer Inertgasatmosphäre hinzugesetzt und das gebildete Methanol abdestilliert, worauf die Temperatur der Reaktionsmischung auf 200 bis 300 0C erhöht wird und, falls erforderlich, das freigesetzte Polymethylenglykol unter vermin-
.Gemäss einer anderen Auaführungsform werden ein oder mehrere
Mole des Polymethylenglykols zu beispielsweise dem Dimethylester einer s.romatischen Dicarbonsäure bei einer Temperatur
zwischen 150 und 200 0C in einer Inertgasatmosphäre hinzugesetzt und das gebildete Methanol abdestilliert, worauf die Temperatur der Reaktionsmischung auf 200 bis 300 0C erhöht wird und, falls erforderlich, das freigesetzte Polymethylenglykol unter vermin-
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derbem Druck abdeetilliert wird, bis ein Esterdiol mit dem ge
wünschten Polymerisationsgrad oder dem gewünschten Molekular gewicht entstanden ist.
Als Polymethylenglykol eignen sich beispielsweise Äthylenglykol,
1,3-Propandiol und 1,4-Butandiol.
Pur die Herstellung der«vorstehend beschriebenen Esterdiole
geeignete aromatische Dicarbonsäuren sind beispielsweise j Terephthalsäure, ρ, ρ °-Biphenyldicarbonsäure, Bis-(p-carboxy«=·
phenyl)-methan, 1,2-Bis-(p-'carboxyphenyl)äthan, 1,3-Bis-(pcarboxyphenyl)»propan,
1,4-Bis-(p-carboxyphenyl)-butan, 1,5°Naphthalin-dicarbonsäure, 1,2-Naphthalin-dicarbonsäure,
2,6-Naphthalin-dicarbonsäure, 2,7-Naphthalin-dicarbönsäure
sowie Dimethylester und Diäthylester dieser Säuren. -
Für die Herstellung des ungesättigten Polyesters A) geeignete ungesättigte Dicarbonsäuren sind beispielsweise Malein-, Fumar-,
Gitracon-, Mesacon-, Itacon-, Glnatacon·=, Mucon-, Aconitsäure sowie
von niederen Alkoholen abgeleitete Ester solcher Säuren, χ wie Dimethyl- und Diäthyleeter, ferner eignen sich hierfür
Maleinsäureanhydrid und Citraconsäureaiahydrid.
Die Härte und Flexibilität des bei der Photopolymerisierung entstehenden Produktes kann geändert werden, indem man das
Äquivalent an Doppelbindungen, d.h. das Molekulargewicht je
Doppelbindung, in dem ungesättigten Polyester ändert, indem man da^i .der ungesättigten Dicarbonsäure oder ihrem Derivat ent-
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sprechende Molekülsegment (b) durch eine gesättigte Dicarbon=
säure oder deren Derivat ersetzt. Wenn jedoch der Anteil der gesättigten Dicarbonsäure oder ihres Derivates mehr als
90 llol.fo der ungesättigten Dicarbonsäure oder ihres Derivates
ausmacht, dann ist die chemische Widerstandsfähigkeit und die Zugfestigkeit des nach der Photopolymerisierung erhaltenen Produktes
unerwünscht niedrig.
Pur diese Zwecke geeignete gesättigte Dicarbonsäuren sind beispielsweise
Malon-, Methylmalon-, Bernstein-, Methylbernstein-,
Glutar-, Sebacin-, Hithal-, Isophthal-, Terephthalsäure sowie
davon abgeleitete Ester niedriger Alkohole, wie Dimethylester
und Diäthylester.
»
Die ungesättigten Polyester A)9 welche die vorstehend beschriebenen
Molekülaegmente (1) und/oder (2) sowie die sauren Segmente
Cb) enthalten, lassen sich herstellen, indem man ein
Ä'therdiül oder Est.erdiol oder eine Mischung dieser beiden Verbindungsarten
mit einer ungesättigten Dicarbonsäure oder ihrem Derivat und gegebenenfalls einer bestimmten Menge gesättigter
Dicarbonsäure oder deren Derivat in einer Inertatmosphäre bei einer Temperatur im Bereich von 150 bis 300 0C umsetzt.
Auf diese V/eise werden ungesättigte Polyester mit einem Schmelzpunkt oberhalb 100 0G erhalten.
Als Komponente ß) für die photopolymerisierbare Komponente eignen sich als äthylenisch ungesättigte monomere Verbindungen
Acrylamide, beispielsweise Acrylamid, Methacrylamid, N-Hydroxy-
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SAD
methylacrylamid, N~Hydroxymethy!methacrylamid, N-Methaoxymethylacrylamid,
N-Methoxymethy!methacrylamid, N-Äthoxymethylacrylamid,
N-Äthoxymethy!methacrylamid, Ίϊ-Butoxymethylacrylamid,
N-Butoxymethy!methacrylamid, ΪΓ,Ν'-Methylenbisacrylamid,
Ν,Ν-Methylenbismethacrylamid, !!,N-Hexamethylenbisacrylamid,
Ν,ϊϊ'-Hexamethylenbismethacrylamid, Acrylsäure und Acrylate, wie
Propylacrylat, Butylacrylat, 2-Hydroxyäthylacrylat, 2«=Hydroxypropylacrylat,
Äthylenglykoldiacrylat, Propylenglykoldiacrylat,
Diäthylenglykoldiacrylat, Triäthylenglykoldiacrylat, PoIyäthylenglykoldiacrylat
(das Durchschnittsmolekulargewicht des Polyäthylenglykol liegt unterhalb etwa 2000), Polypropylenglykoldiacrylat
(das Durchschnittsmolekulargewicht des Polypropylenglykol liegt unterhalb etwa 2000), 1,4=Butyienglyk'oldiacrylat,
Glycerintriacrylat, Trimethylolpropantriacrylat, Allylacrylat,
Glycidylacrylat, Cyclohexylacrylat, Tetrahydfofurylacrylat,
Methacrylsäure oder Methacrylate, wie Propylmethacrylat, Butylmethacrylatj
2-Hydroxyäthylmethacrylat, 2-Hydroxypropylmethacrylat,
Äthylenglykoldimethacrylat, Propylenglykoldimethacrylat,
Diäthylenglykoidimethacrylat, Triäthylenglykoldimethacrylat,
Polyäthylenglykoldimethacrylat (das Durchschnittsmolekulargewicht des Polyäthylenglykol liegt unterhalb etwa 2000),
Polypropylenglykoldimethacrylat (das Durchschnittsmolekulargewicht
des Polypropylenglykols liegt unterhalb etwa 2000), 1,4-Butylenglykoldimethacrylat, Glycerintrimethacrylat,
Trimethylolpropantrimethacrylat, Allylmethacrylat, Glycidylmethacrylat,
Cyclohexylmethacrylat, Tetrahydrofurfurylmethacrylat;
eine alpha-substituierte Acrylsäure, wie alpha-Chlor-
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acrylsäure, alpha-Bromacryleäure, Styrol und dessen Derivate,
wie p-Vinylphenol, p-Viny!benzoesäure, Divinylbenzol, Vinylester,
wie Vinylstearat, Vinylbensoat} Allylester, wie Allylmethacrylat,
Diallylphthalat; N-Vinylphthalmid und N-Vinylsuccinimid.
Vorzugsweise wird die äthylenisch ungesättigte monomere Verbindung
in Mengen von etwa 10 bis 150 Gewichtsteilen je 100 Gewichtsteile
des ungesättigten Polyesters eingesetzt. Wenn die Menge des ungesättigten Monomeren weniger als 10 Gewichtsteile
beträgt, so ist die Geschwindigkeit der photochemischen Verne^zungsreaktion
sehr gering, und die mechanische Pestigke.it ist nach der Vernetzung für praktische Anwendungszwecke zu
klein. Wenn jedoch die Anteilsmenge des äthylenisch ungesättigten Monomeren über 150 Gewichtsteile liegt, wird dadurch die
Flexibilität des nach der Ph*οvernetzung erhaltenen Produktes
ungünstig beeinflusst und die chemische Widerstandsfähigkeit wird verringert.
Beispiele für im Rahmen der Erfindung geeignete Photopolymerisations-Initiatoren
sind Benzoinverbindungen, wie Benzoin, alpha-Methylbensoin, Benzoinmethyläther, Benzoinäthyläther,
alpha-Phenylbensoin, alpha-Allylbenzoin; Phenone, wie Acetophenon,
Benzophenon, omega-Bromacetophenon; Disulphide, wie
Diphenyldisulphid, Tetraäthylthiuramdisulphid; Diketone, wie
Benzil und Diacetyl; 2-Naphthalinsulfonylchlorid.
Diese Photopolynieri satt one- Initiatoren werden vorzugsweise in
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einer Menge von etv/a 0,01 bis 5 Gewichtsteilen auf je 100 Gev/ichtsteile
des ungesättigten Polyesters A angewendet. Wenn die Konzentration des Photopolymerisationsinitiatore unterhalb
0,01 Gewichtsteile beträgt, dann wird die Photopolymerisierung v/esentlich verzögert und ist für praktisch-technische Zwecke
zu gering. Wenn andererseits die Menge des Initiators mehr als 5 Gewichtsteile beträgt, wird dadurch die Reaktionsgeschwindigkeit
doch nicht mehr wesentlich erhöht und eine solche Ausführungsform würde dadurch unwirtschaftlich.
Um die Lagerungsstabilität a.ufx'echt zu erhalten, kann der
erfindungsgemässen photosensibilisierenden Lösung ein bekannter
Inhibitor für die thermische Polymerisation zugesetzt werden. Derartige Stabilisatoren können zugemischt werden, wenn
die Komponenten der photosensibilisierenden Lösung miteinander vermischt werden oder der Stabilisator kann auch jeder Komponente
getrennt vor einer solchen Vermischung zugesetzt werden.
Geeignete thermische Polymerisationsinhibitoren sind beispielsweise
Hydrochinon, Mono-tert^buty!hydrochinon, Phenothiazin,
p-Diaminobenzol, beta-Naphthol, alpha-Naphthol, Naphthylamin,
Pyrogallol, Cuprochlorid und Nitrobenzol. Diese Inhibitoren werden nur deshalb zugesetzt, um ein Portschreiten der Polymerisationsreaktion
bei Aufhören der Lichtbestrahlung zu verhindern; sie beeinträchtigen jedoch die eigentliche Photopolymerisierung
nicht. Demgemäss kann die Menge solcher Stabilisatoren zweckmässig etwa 0,01 bis 2 Gewichtsteile auf je 100 Gewichtsteile des ungesätigten Polyesters A betragen.
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Darüber hinaus können die photopolymerisierbaren Gemische
auch noch verschiedene andere Verbindungen enthalten, beispielsweise Tuilstoffe und Weichmacher. Derartige zusätzliche Komponenten sind beispielsweise Polymethylmethacrylat, Polystyrole, Polyurethane, Polyvinylchloride, Poly~(styrol-butadien)-polymere, Polybutadiene, Naturkautschuk, Polyvinylbutyral, Polyvinylpyrrolidon, lösliche Polyamide, Polyvinylacetate, Alkydharze, gesättigte Polyester, Celluloseacetate, Glasfasern,
Glasgewebe, feinpulvrige Siliciumoxyde, feinpulvriges Calciumcarbonat und Glimmer.
auch noch verschiedene andere Verbindungen enthalten, beispielsweise Tuilstoffe und Weichmacher. Derartige zusätzliche Komponenten sind beispielsweise Polymethylmethacrylat, Polystyrole, Polyurethane, Polyvinylchloride, Poly~(styrol-butadien)-polymere, Polybutadiene, Naturkautschuk, Polyvinylbutyral, Polyvinylpyrrolidon, lösliche Polyamide, Polyvinylacetate, Alkydharze, gesättigte Polyester, Celluloseacetate, Glasfasern,
Glasgewebe, feinpulvrige Siliciumoxyde, feinpulvriges Calciumcarbonat und Glimmer.
Die photosensibilisierende Lösung gemäss der Erfindung wird
ο
durch Licht mit Wellenlängen unterhalb 1000 A,im allgemeinen
durch Licht mit Wellenlängen unterhalb 1000 A,im allgemeinen
mit Wellenlängen im Bereich von 2000 bis 5000 A,photοpolymerisiert.
Geeignete Lichtquellen für diesen Zweck sind beispielsweise Kohlebogenlampen, Hochdruckquecksilberlampen, Niederdruckquecksilberlampen,
UV-Fluoreszenzlichtlampen und Xenonlampen.
Die photosensibilisierenden Lösungen gemäss der Erfindung werden
erhalten, indem man die photopolymerisierbare Komponente I in einem Lösungsmittel (II) auflöst. Ein hierfür geeignetes
Trocknung^-
Lösungsmittel muss eine relative //geschwindigkeit
V von 500 bis 10000 und vorzugsweise von 1000 bis 5000 auf-
weisen. Die -./geschwindigkeit wird durch die nachstehende
Formel wiedergegeben :
Vr = P χ Μ
In dieser Formel bedeutet P den Dampfdruck des Lösungsmittels •in mm Hg bei 20 0C und M bedeutet das Molekulargewicht des
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Lösungsmittels. Palls eine Lösungsmittelmischung verwendet wird,
so wird die relative Trocknungsgeschwindigkeit durch die nachstehende Formel wiedergegeben :
Z-J
In dieser Formel haben P und M die vorstehend angegebene Bedeutung
und m. ist der Molentruch· der Lösungsmittelkomponente
Wenn die relative Trocknungsgeschwindigkeit einen Wert unterhalb -500 hat, so weist die Schicht aus der photopolymerisierbaren
Komponente nach Überziehen mit einem Decklack keine genau bestimmbare Dicke auf und auf der Oberfläche der Kopier-=
schicht wird daher eine ungleichmässige Strahlung beobachtet.
Wenn andererseits die relative Trocknungsgeschwindigkeit einen Wert oberhalb 10000 hat, ist es schwierig*, die Stärke der
Schicht richtig zu kontrollieren, und dann ist die Bildfläche nicht vollständig klar.
Im Rahmen der Erfindung werden als Lösungsmittel chlorierte aliphatische Kohlenwasserstoffe verwendet, beispielsweise
Dichlormethan, Chloroform, Tetrachlormethan, 1,2-Dichloräthan,
Trichloräthylen, Tetrachloräthylen, bromierte aliphatische Kohlenwasserstoffe, wie Dibromäthan, Isobutylbromid, Isoamylbromid;
Ketone, wie Aceton, Methylethylketon, Diacetonalkohol;
cyclische Äther, wie Dioxan, Tetrahydrofuran, Dioxolan, Tetrahydropyran; und Pyridin. Torzugsweise wird eine Lösungsmittelmischung
aus einem cyclischen Äther und eine Keton oder eine
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Mischung aus einem chlorierten aliphatischen Kohlenwasserstoff und einem Keton verwendet. Um die Oberflächenbeschaffenheit
einer erfindungsgemässen photosensibilisierenden Lösung nach
dem Beschichten zu verbessern und die relative Trocknungsgeschwindigkeit
einer solchen Lösung zu kontrollieren, wird vorzugsweise ein niedriger aliphatischer Alkohol mit 1 bis
Kohlenstoffatomen in dem Lösungsmittel mitverwendet, beispielsweise Methanol, Äthanol, Isopropanol und n-Butanol. Das Gev.'ichtsverhältnis
von photopolymerisierbarer Komponente zu dem Lösungsmittel liegt vorzugsweise im Bereich von 1 : 5 bis
1 : 25. Wenn dieses Verhältnis einen Wert unter 1 : 5 annimmt, so wird eine Anteilemenge der photosensibilisierenden Lösung
ausgefällt und die Lagerungsstabilität wird schlecht. Wenn andererseits dieses Gewichtsverhältnis einen Vvert oberhalb
1 : 25 annimmt, verringert sich die Dicke der Überzugsschicht und es wird schwierig, die Schichtdicke selbst einzuregeln.
Die photosensibilisierenden Lösungen gemäss der Erfindung
haben vorzugsweise eine Viskosität von etwa 5 bis 150 cP.
Geeignete Trägermaterialien sind Papier, beispielsweise mit einem Harz oder einem Ton beschwertes Papier, mit einem Harz
überzogenes Papier, Metalle oder Legierungen, wie Aluminium, Zink, Kupfer, Magnesium, mit Kupfer plattiertes Aluminium, mit
Kupfer pl&ttiertes Eisen, mit Chrom plsttlertes Kupfer, rostfreier
Stahl, Bronze, Kunststoffe, wie Polyester, Polyamide, Polyvinylchloride, Polymethylmethacrylate oder Polystyrole so -
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-.16 -
wie Celluloseester. Vorzugsweise haben die Trägermaterialien
eine Stärke im Bereich von 0,1 bis 2,0 mm. Besonders bevorzugt
sind Aluminiumplatten mit einer Stärke von 0,3 bis 0,5 mm unö.
Zinkplatten mit einer Stärke von 0,3 bis 1,0 mm.
Die erfindungsgemässen photosensibilisierenden Lösungen eignen
sich besonders gut für die Herstellung von Relief-Druckplatten.
Beispielsweise lassen sich derartige Relief-Druckplatten unter
Verwendung von für Offset-Druck verwendeten Aluminiumplatten
mit einer Stärke von 0,3 bis 0,5 mm oder von Zinkplatten mit einer Stärke von 0,3 bis 1,0 mm herstellen, deren Oberfläche
in üblicher Weise fein gekörnt ist (Komgrösse entsprechend etwa 600 bis 800 Maschen) und welche per Hand oder mechanisch
mit der erfindungsgemässen photosensibilisierenden lösung be-
man
schichtet werden. Die Beschichtung kann/mittels eines Schleuderapparates
für Druckplatten,..welcher mit einer Rotationsgeschwindigkeit
von 30 bis 300U/Min. arbeitet, mittels einer Auftragswalze mit einer Rotationsgeschwindigkeit von etwa 5 bis
100 U/Min, oder mittels einer Streichmaschine mit einer Spaltbreite von etwa 0,1 bis 1,0 mm, einer zugeführten Lösungsmenge
von etwa 20 bis 5000 cnr/Min. und einer Geschwindigkeit der
Fördervorrichtung von etwa 0,5 bis 120 m/Min, durchführen. Falls die photosensibilisierende Lösung zur Herstellung von
Relief-Druckplatten für üblichen Offset-Druck verwendet wird, braucht die Oberfläche des Trägermaterials nicht unbedingt gekörnt
zu sein. Nachdem das Lösungsmittel durch den Trocknungs-'
0 0 9814/1357
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Phosphorsäuire» Salpetersäure oder Calcium- oder Aipaoniumsalge
dieser Säuren» ferner organische Säuren sowit deren Natrium-,
KaIiUS" vmü G%leiuiBtsalze. Das Seneibilisttrungaittittel wird u"blieherweise
p®y Hand alt einem: weichen Schwan» übtrsQhichttt.
Die so h^rgesttllttn iitlitf-Druekplatttn weisen im Vergleich
»it übliehtn yorsenaibilisierttiü odtr mit titfgeätsttn Flachein©
bemerkenswert verbesserte Druokabnutaungaauf
% u®d t& k^nmen von einer einzigen.
über 3QOi ©©ei Dirueke hergtattllt werben. Bei ifcnwendUing ep.
. gestellter- Ikrue^platte® kann, dit
1345456
, ■«. 16 - '
lieh erMht werden* und selbst bei linsatg eimer Höohdruok~
Qff set-PimckimsGhine wird keine Abnutzung der Hatten und kein
Abblättern der Kopierschicht beobachtet. Darüber hinaus ist
ein Terwischen der Druckfarbe infolge der geringen benötigten
Menge a.m AufeuQbtwaaser bei den lelief|ilatten geaäss der B?-
fimctuxkg sebr gering. Auf diese Weise werden ganz klare und
konture&aoharfe Dtruclce erkalten. Äucli ist es mSglioii, geprägtes
Papier oder geschäumtes Material mittels der so hergestellten
Beiief~I!öniokfarmen su bedrucken.
In den naoastehend aufgeftilirteii Beispielen sind die angegebenen
Teile Hole, falls nicht ausdrücklich etwas anderes angegeben
ist.
Beispiele 1 bis t4
Iu tQQ g See mngesättigten lolyesters f welcher aus den in
fabelle I aufgeführten Biolen umd licarbonsäuren hergestellt
worden istt werden 15 g jLthylendisethacrylat, 23 g
Hethacrylamid, 0f5 g g-Haphthalinsulfonylchlorid und
0,04 g Haphthylamin sugesetst. Je 10Q g der so erhaltenen
lischung werden in 2000 g eines lSsungsutittelgeniisches aus
1,^McWoJ?äthan^tyridin CMKl^e^hiltnis 5 ; 2>t welche nachstehend
als lösung 4 beseichmet istt^ba«* in t 80Q g eines
Msungsjiittel^»tÄChes aus tetrahydrofuran, und Äthanol CKoI-
¥erhiltöis 1 % 1>t welches nachstehend als Lasung B beaseichmet
tat* aufgelöst· Aluminiuaiplattem üit einer Stärke von 0,3
Vielehe fein gekörnt sind! (EorngrJSsse; etwa €Qd MaseiienK werten
14/13S7
in einer Schleudervorrichtung für Druckplatten mit einer Rotationsgeschwindigkeit
von 60 U/fciin. mit der lösung A oder der
Lösung B beschichtet. Auf diese Weise erhält man photosensibilisierte
Druckplatten. Jede Platte wird in einen ■Vakuumrahmen eingeführt und 50 Sekunden lang durch einen Negativfilm
mit einer Linienzahl von 59/cm mit einer Kohlebogenlampe von 5 kW aus einer Entfernung von 1 m belichtet. Man entwickelt
anschliessend mit einer 0,5 5&-igen wässrigen Natriumhydroxydlösung
und überdeckt per Hand mittels eines Celluloseschwammes mit einer im Handel erhältlichen Kautschuklösung. Unter Verwendung
einer eo hergestellten Relief-Druckplatte druckt man
in einer üblichen Offset-Druckmaschine und erhält auf diese
Weise klare und konturenscharfe Drucke.
009814/1357
Tab e lie
Bei-
opiel
Diol
Ätherdiol
Esterdiol
Diearbonsäurβ
ungesättigt
gesättigt
Schmelz- Photopunkt d. sensibi- Viskoungesattiglisi<&
< oität, ten Polynie- rande cP
risatsj °0 Lösung
ο
ο
to
oo
ο
to
oo
Polyäthylenglykol
(Durchschnitt smolekulargewioht s
200
(Durchschnitt smolekulargewioht s
200
desglο
1,4-Butandiol
1,4-Butandiol
Pumar-Gäure
desglο
Maleinsäure
desglo
Äthylenglykol- Pumar-Dimethylterephsäure
thalat(Durchschnitte-Mol
ο Gewicht: 1055)
desglο desglο
1,3-Propanglykol-
diSa^o^lSethyl Swe11"
(DurohBohnitts- mv*B
t 2286)
Adipinsäure
Adipinsäure
Bernstein säure
no
104
115
115
110
184
184
180
176
A B
A B
A B
A B
A B
A B
A B
10
6 8
11
6 9
17 H
16 H
15 13
!Tabelle I ( Fortsetzung )
Beispiel
12
13
H
3)iol
Dicarbonsäure
Ätherdiol
Esterdiol
Diäthylenglykol
desgl«
desgl.
desgl.
desglο
Polyoxyäthylenglykol (Durehsehnltts-Mol
·-
Grewicht: 600
Grewicht: 600
Polypropylenglykol (Durchschnitt s-Hol·-
Gewicht: 400
Gewicht: 400
dosgl.
1,4-Butandiol-Dimethylt
erephthalat
de sgl β
Athylenglykollüaphthalinsäure
(DurchschnoMolgewichts
3015
desglo
Ithylenglykol-Dimethylt
erephthalat (DurchsohnoHolekular-Q-ewioht:
1055
Äthylenglykol-1,5-Bis-p-oarboxylphenyläthan
desgl·
Fumarsäure
desgl.
Glut ac onsäure
desgl»
Fumarsäure
desgl< Bernsteinsäure
Adipinsäure
Malonsäure
Adipinsäure
Schmelzpunkt do
ungesätto
Polymerisats. 0C
ungesätto
Polymerisats. 0C
Photosensibisierende lö-
174
151
148
142
142
140
145
145
139
A
B
B
A
B
B
A
B
B
A
B
B
A
B
B
A
B
B
Viskosität, CP
15 13
11 14
11 13
12 11
13 10
11 14
11 12
Bemerkung:
1) Molverhältnis Diöl zu Bicarbonsäure t 1 :
2) Molverhältnis Ätherdiol zu Diol : 4
3) Molverhältnis ungesättigte zu gesättigte Bioarbonsäure t
ϊ 1
- 22 Herstellung des ungesättigten Polyesters von Beispiel 1 :
100 g Polyäthylenglykol mit einem Durchschnittsmolekulargewicht
von 200 werden in einer Stickstoffatmosphäre auf eine Temperatur von 220 bis 240 0C erhitzt und dann setzt man
58 g Fumarsäure sowie 1 g p-Toluolsulfonsäure hinzu. Die Umsetzung
dauert 10 Stunden, wobei das erzeugte Wasser abdestilliert wird. Man erhält auf diese Weise einen ungesättigten
Polyester mit einem Säurewert von 16 und einem Schmelzpunkt
von 110 0C.
Die.ungesättigten Polyester der Beispiele 2 bis 4 werden in
der gleichen Weise wie vorstehend angeführt hergestellt.
Herstellung des Esterdiols von Beispiel 5 s
Zu 824 g Dimethylterephthalat und 789 g Äthylenglykol werden
0,5 g Zinkacetat hinzugesetzt und diese Mischung wird in einer Stickstoff atmosphäre auf eine temperatur zwischen\ 180 und 2000C
erhitzt· Es werden insgesamt 2?! g des freigesetzten Methanols
abdestilliert, und die so erhaltene Reaktionsmischung wird weiter auf eine Temperatur von 220 bis 240 °C erhitzt, wobei
insgesamt 453 g Xthylenglykol abdestilliert werden. Auf diese
Weise erhält man ein bis-beta-Hyäroxyäthylterephthalat mit
einem Polymerisationsgrad von 3,2.
Herstellung des ungesättigten Polyesters von Beispiel 5 :
Zu dem vorstehend hergestellten Esterdiol werden 144 g Fumar- ·
0098U/13S7
eäure rind 3 g p-Toluolsulfonsäure zugesetzt und diese Mischung
wird in einer Stickstoffatmosphäre 8 Stunden lang auf 240 0O
erhitzt, wobei das freigesetzte Wasser abdestilliert wird. Man erhält so einen ungesättigten Polyester mit einem Säurewert von 16,5 und einem Schmelzpunkt von 184 0C.
Die in den Beispielen 6 bis 8 verwendeten ungesättigten Polyester werden in der gleichen Weise wie vorstehend für das
Beispiel 5 erläutert hergestellt.
Zu 789 g Äthyleuglykol werden 824 g Dimethylterephthalat und 0,5 g Zinkacetat zugesetsto Diese Mischung wird 80 Minuten
lang in einer Stickstoffatmosphäre auf eine Temperatur von 180 bis 200 0C erhitzt, wobei insgesamt 271 g Methanol abdestilliert werden. Die Eealctionstemperatur wird dann allmählich auf 220 bis 240 0C erhöht und die entstehende Mischung
wird weitere zweieinhalb Stunden lang auf dieser Temperatur gehalten, wobei Insgesamt 456 g Xthylenglykol abdestilliert
werden.
Zu dem vorstehend beschriebenen Esterdiol werden 155 g Fumarsäure, 105t5 ß Adipinsäure und 3g p-Toluoleulfoneäure hinzugesetzt, während die Temperatur auf 240 °C gehalten wird.
Nach 30 Minuten werden 523 g eines Polyäthylenglykols mit einem Durchschnittsmolekulargewicht von 600 zu der Mischung .
009814/1357
zugesetzt und diese Mischung wird in einer Stickstoffatmosphäre
8 Stunden lang auf einer Temperatur von 240 0C gehalten, während
gleichzeitig das freigesetzte Wasser abdestilliert wird.* Man erhält so einen ungesättigten Polyester mit einem Säurewert von 21,4 und einem Schmelzpunkt vom 145 0C.
Die in den Beispielen 9 bis 12 und 14 verwendeten ungesättigten
Polyester werden in der gleichen Weise hergestellt, wie vorstehend für Beispiel 13 erläutert.
Zu 100 g des ungesättigten Polyesters mit einem Schmelzpunkt
von 142 0C, welcher durch eine übliche Kondensationsreaktion
aus 0,5 Teilen Dipropylenglykol, 0,5 Teilen Bis-beta-hydroxyäthylmethylen-biephenyl-dicarbonsäureester
(erhalten durch Ester-Austausch aus Athylenglykol und dem Dimethylester der
p,pl-Diphenylmethandicarbonsäure), 0,5 Teilen Fumarsäure und
0,5 Teilen Adipinsäure erhalten worden ist, werden 25 g N-Methylolacrylamid,
25 g Acrylsäure, 1,0 g Allylbenzoin und 0,02 g Hydrochinon zugesetzt. 100 g der so erhaltenen Reaktionsmischung
werden in einer Anzahl von Lösungsmitteln aufgelöst, welche in der nachstehenden Tabelle 2 angegeben sind.
Auf diese Weise erhält man eine photosensibilisierende Lösung
gemäss der Erfindung. Eine Aluminiumplatte mit einer Stärke
von 0,5 mm, die fein gekörnt ist (Korngrösse etwa 800 Maschen)
wird unter Verwendung einer Walzauftragemaechine mit einer
0098 U/135 7
Rotationsgeschwindigkeit von 15 ü/Miri. mit der photoseneibilisierenden
Lösung beschichtet. Anechlieasend trocknet man die so
hergestellte Platte* Diese Platte wird dann in einen Vakuum- rahmen
eingesetzt und 70 Sekunden läng durch einen Negativfilm
mit einem Eestrastef, der Buchstaben aus 7 bis 34 Punkten aufweist,
aus einer Entfernung von 80 cm mit einer 500 W-Hoehdruck-QueckaÜberlampe
belichtet. Anschliessend entwickelt man mit einer 0,6 ?S-igen wässrigen Hatriumhydroxydlösung, trocknet und
Überschichtet mit einer Gummilösung, die per Hand mit einem Celluloseschwamm aufgetragen wird. Auf diese Weise erhält man
eine Relief-Druckplatte für den Offset-Druck.
009814/135 7
II
Beispiel
Ny0
Lösungsmittel
Mol-Verhältnis
der Lösungsmittel
15 | Chloroform | —— | |
0 0 9 8 | 16 17 |
Dlchloräthan Dlbromäthylen |
|
18 | Methyläthyl- keton |
||
1357 | 19 | Diaceton- alkohol |
|
20 | Dioxan , | ||
21 | Dioxolan | ||
22 | Pyridin | -—. | |
23 | Irichloräthy- lan-Aoeton |
3 t 1 | |
24 | Isotiut ylbromid - 1,2-Dl« ohloräthan |
1 t 1 | |
25 | Hethyläthylketon- Dioxan ■ |
1 » 5 |
Gewicht sverhältnis Kelativvon photopolymeri- Trook- Viskosierbarer
Komponente nungage- sität zu Lösungsmittel schwin- (cP)
digkeit
Dicke Druckder quali-Sohicht
tat *)
1 J 10 1 : 10 1 : 20
1 : 20
1 s 15
1 ι 15
1t 15
1 ί 15
1 : 10
1 ί 15
1 t 15
5
19 | 280 | 125 | 68 | sohlecht |
26 | 780 | 115 | 74 | |
1 | 690 | 10 | 10 | gut |
1 280 | 10 | 12 |
2 380 | 24 | 22 |
5 180 | 22 | 26 |
1 220 | 25 | 22 |
8 310 | 95 | 57 |
4 940 | 22 | 24 |
2 920 | 26 | 25 |
ι» it
.cn | |
1. ■. . | •Ρ- |
err | |
ΐ; * | |
Beispiel LÖeunge-Hr0 mittel
der !lösungsmittel
frewiohtererbaltniB Relativ-Ton photopolymeri- Trook- Viakosleroarer Komponente nungsge- eität
zu Lösungsmittel sehwln- (oP)
digkeit (V)
der quali-
Schioht tat ♦) (U)
Chloroform-Dloian
Ohloroform-Dioxan
Chloroform-Dioxan
Dioxan-Aoθton»
Methanol
6 ι
1 t 1 ι
5*1*1
1 t
1 t
1 t
1 t
16 840 | 27 | 27 | schlecht |
10 830 | 24 | 24 | It |
4 800 | 23 | 23 | ÄUt |
3 626
21
23
gut
*) Als Hass für die Sruokqualität diente die Tonwert-Wiedergabe des Hegativs
Bin Teil Polyäthylenglykol mit einem Durchschnittsmolekulargewicht
von 600, 0,5 Teile Fumarsäure und 0,5 Teile Terephthalsäure
werden auf übliche Weise polykondensiert, und man erhält
so einen ungesättigten Polyester mit einem Schmelzpunkt von 125 0C. 100 g dieses ungesättigten Polyester, 30 g Acrylamid,
20 g Styrol, 2 g Benzoinmethylather und 0,0 2 g beta-
Naphthol werden sorgfältig miteinander vermischt und 100 g
dieser Mischung werden in 1500 g eines Lösungsmittelgemisches aus Dioxan und Aceton in deü in Tabelle III angegebenen Holverhältnissen
aufgelöst, wodurch man eine erfindungsgemässe photosensibilisierende Lösung erhält. Eine Aluminiumplatte mit
einer Stärke von 0,3 nun, die fein gekörnt ist (Körnung entsprechend
800 Maschen), wird unter Verwendung einer Streichmaschine mit einer Spaltbreite von 0,5 mm unter Verwendung verschiedener
Volumenmengen der Lösung und verschiedener Durchlaufgeschwindigkeit der Aluminiumplatte beschichtet. Die so erhaltene
Relief-Druckplatte wird in einen Vakuumrahmen eingebracht und
2 Minuten lang durch einen Negativfilm mit einer Linienzahl von
59/cm aus einer Entfernung von 1 m mittels einer 6 kW-Kohlebogenlampe
belichtet. Anschliessend entwickelt man mit einer 0,5 #-igen v/ässrigen Natriumhydroxydlösung, trocknet und überdeckt
per Hand mit einem Schwamm mit einer Kautschuklösung. Man erhält so eine Relief-Druckplatte für den Offset-Druck.
0 098 U/135 7
H H H
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«Φ τ- ■ t^ τ- W «
CM
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00!!14/11Sf
194145a
Zu too g eines ungesättigten Polyesters mit einen*
von 102 0QV weJL,efeer aus einem Teil Polyathylengiyip?! mit einem
Jtarchechnittsmelekulargewiefct von 600, 0,5 feilen Fumarsäure
und 0,5 Stellen Adipinsäure hergestellt worden ist, werden
g5 g Metöylen-liis-aLcrylamid, 25 g Itaconsäure, 2 g Benzoin
und 0,01 g Hydrochinon zugesetzt. 100 g der so erhaltenen
Mischung werden in 2000 g eines LöaungsmittelgemiBchee aus
frichloräthylen und Methylät&ylteeton in Molverhältnis 1 ;
aufgelöst* üan erhält so eine pnotosensibilisierende Iiösung mit
einer ViskpsitSt von 10 oP und einer relativen Troctamngsge^·
sonwindigTceit von 6280. Eine Zinkplatte von 1 nun Stärke, welche,
fein gekörnt ist (Körnung etwa 600 his 800 Maschen), wird
unter Verwendung eines Verti&alsehleuderers mit einer Rota·?»
tionegeschwinäigkeitj weiche in Tabelle 4 angegeben ist, mit
der erfindungsgemässen photpsensibilisierenden Lösung be·"
schichtet. Die Platte wird dann in einen Yakuumrahmen eingesetzt und 2 Hinuten lang durch ein Negativ mit einem Testraster,
der Buchstaben von ? bis 34 Punkten aufweist, aus einem Abstand
von 50 cm mittels einer 500 W-Quecksilberlampe belichtet.
Man entwickelt anschliessend mit einer 0,5 5&-igen wässrigen
Natriumhydroxydlösung, trocknet und überdeckt per Hand mit einem Cellulo8eaohwamm mit einer Kautschuklösung. Man erhält so
eine Relief-Druokplatte ffUe den
Verwendung derj&j?tige£ Druckplatten können mthi· mis
500 000 Kopien hergeetellt wtrdsn«
Tabelle IT
Beispiel Hr.
Rotationsgeschwindigkeit, U/Min.
Schichtdicke t
40 | 50 | 32 | |
- | 41 | 75 | 26 |
42 | 100 | 24 | |
43 | 150 | 18 | |
44 | 200 | 12 | |
Beispiel 45 |
100 g des ungesättigten Polyesters von Beispiel 40, 15 g Äthylacrylat, 30 g Styrol, 2 g Diphenyl-disulfid und O11 g
beta-Naphthol werden sorgfältig Miteinander vermischt und
100 g dieser Mischung werden in 1500 g Lösungsmittelgemisch aus
1,2-Dichloräthan-4Hoxan~?fetbanol im Holverhältnis 4:4:1
aufgelöst. Man erhält so eine photosensibilisierende Lösung mit
einer Viskosität von 27 cP und einer relativen Trocknungegeschwindigkeit von 3620. Eine Aluminiumplatte von 0,3 mm Stärke
wird mittels einer Walzenmaschine mit einer Rotationsgeschwindigkeit von 10 U/Min, mit der photosensibilisierenden Lösung
beschichtet. Man erhält so eine photosensibilisierte Druckplatte
mit einer Kopierschicht von 25/U Dicke. Diese Druckplatte wird
In einem Vakuumrahmen 3 Hinuten lang durch ein Negativ mit
einer Linienzahl von 59/cm aus einer Entfernung von 1 m mit
009814/1357
eine* 2 kW-Kohlebogenlampe ,.belichtet;. Man entwickelt mit einer
0,5 #-igen wässrigen Natriunhydroxydlösung, trocknet und überdeckt
per Hand mittels eines Celluloseschwammeß mit einer
Kautschuklösung. Man erhält so eine Relief-Druckplatte für den Offset-Druclc. Mit einer solchen Platts kann geprägtes Papier
bedruckt werden, wobei die Druckgeschwindigkeit 10 000 Kopien
pro Stunde beträgt.
Kautschuklösung. Man erhält so eine Relief-Druckplatte für den Offset-Druclc. Mit einer solchen Platts kann geprägtes Papier
bedruckt werden, wobei die Druckgeschwindigkeit 10 000 Kopien
pro Stunde beträgt.
Patentansprüche
0098U/1357
Claims (1)
- Patentansprüche :<JPhotosensibilisierende Lösung mit einer Viskosität beio etwa ,>0 0 TOf/5 bis 150 CP0 dadurch gekennzeichnet, dass sieI; eine photopolyraerisierbare Komponente undIX) »in !lösungsmittel wit einer relativen Trocknungsgescbv/mdigkeit Im Bereich von 500 bis 10 000 enthält, wobei « Komponente I ? aus?A siTiem ungesättigten Polyester mit. einem Schmelzpunkt üb sr ICO 0O, welcher ird Molekül mindestens ein Segment (a) der iV'.oIistehsiideTi Struktur (1) ;in violcher E1 eine Alkyl engruppe mit 2 bis 4 Kohl ens toffatouion bedeutet nnd χ eine ganise Zahl von 2 bis 100 ist, oder der nachstehenden Struktur (2) ιO Oit it"-'■"r-'COHf)} ■■■ ' O "■ C ——— Η» ' ' 0 ·=«·—■ 0 "j" "■'■(OHn)·""■I '■ j c J3 yin welcher Eo siwe der folgenden Gruppen oder die Naphthalingrupna bedeutet, j eine ganze 2ah.l von 2 bis 4» ζ eine ganze 2ahl Ton 1 bis 10 und w eine ganae Zahl von 1 bis 4 ist ;t-.-'jv;-.l,i iii.U.a*K;tüi.is Qin'S^ßEä^rtt <b) enthält? welchem sich von ,0 098 U/135 7BAD ORIGINAL·- 3* 1 einer ungesättigten Dicarboneäure ableitet;B) etwa 10 bis 130 Gewicht st eilen, bezogen auf Je 100 Oewlohteteile dea Polyesters (A), mindestens eines Ton dem ungeeättigten Polyester (A) unterschiedlich^ ftthylenis oh ungesättigten Monomeren undC) etwa α,01 bis 5 Gewicht β teil en, bezogen auf je 100 Gewichteteile des Polyesters (A), eines Photopolyraerisations-Initiators besteht, während die Komponente II ein chlorierter oder bromierter aliphatischer Kohlenwasserstoff, Keton, cyclischer Äther und/oder Pyridin ist·2. Pbdtoaensibiliaierende Lösung nach Anspruch 1, daduroh gekennzeichnet, dass das Lösungsmittel auseerdem mindestens einen niedrigen aliphatischen Alkohol mit 1 bis 4 Kohlenstoff atomen im Höleklil enthält»3· Photosenaibilisierende Lösung nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass die photopolymerisierbare Komponente ausserdem etwa 0,01 bis 2 Oewiohteteile, bezogen auf je 100 Gewicht at eile dea ungesättigten Poly eaters (A), eines Thermopolymerlaatlona-Inhibitors enthält.4· Photosensibilisierende Lösung nach Anspruch 1 bis ^3 dadurch gekennselchnet, dass das Gewicht β verhältnis τοη photopolymerisierender Komponente su Lösungsmittel im Bereich von 1 : 5 bis 1 : 25 liegt.009 814/135 7 " ' *;5. Ehotosensibilisiereude Lösung, dadurch gekennzeichnet, dasβ das Lösungsmittel Diohlormethan, Chloroform, Tetrachlormethan, 1,2-Dichloräthan, frichloräthylen und/oder Tetrachloräthylen enthält.6. Photosensibilisierende Lösung nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Lösungsmittel Dibromäthan, Isobutylbromid und/oder Isoamylbromid enthält.7> Photosensibilisierende Lösung nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Lösungsmittel Aceton, Hethyläthylketon und/oder Diacetonalkohol enthält.8. Photoseneibilisierende Lösung nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Lösungsmittel Dioxan, Tetrahydrofuran, Dioxolan und/oder Tetrahydropyran enthält.9* Verwendung einer photosensibilisierenden Lösung gemäss Anspruch 1 bis θ zur Herstellung Ton Relief-Druckformen.10. Relief-Druckform, dadurch gekennzeichnet, dass sie aus einem Trägermaterial von 0,1 bis 2,0 mm Stärke und einer Kopierschicht von 10 bis 200 ä aufgebaut ist, und dass die Kopierechicht aus dem bei der Photopolymerisation der photopolymerisierbaren Komponente (I) gemäss Anspruch 1 entstehenden Produkt besteht.11. Relief-Druckform nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,009814/1-357BAD ORIGINALdas· da· Trägermaterial aas Papier, Metall oder einer Le* gierung, einem Kunststoff oder einen Celluloseester besteht.12. Relief -Druckform nach Anspruch 11» dadurch gekennzeichnet, daes das Trägermaterial eine Aluainluaplatte von 0,3 bis 0,5 aa Stärke ist.13* Relief-Bruekfor« nach Anspruch it, dadurch gekenneeichnet, dass da· Trägeraaterial eine Zinkplatt· von 0,3 bis 1,0 Stärke ist.0098 U/ 1357 BAD ORIGINAL
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6495268 | 1968-09-11 | ||
JP8038268 | 1968-11-05 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1945456A1 true DE1945456A1 (de) | 1970-04-02 |
Family
ID=26406098
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE19691945456 Pending DE1945456A1 (de) | 1968-09-11 | 1969-09-08 | Photosensibilisirende Loesung und ihre Verwendung zur Herstellung von Relief-Druckformen |
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DE (1) | DE1945456A1 (de) |
FR (1) | FR2017830A1 (de) |
GB (1) | GB1275767A (de) |
SU (1) | SU424372A3 (de) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE2138582A1 (de) * | 1970-08-03 | 1972-02-10 | Uniroyal Inc | Photosensitives Material |
FR2413222A1 (fr) * | 1977-12-28 | 1979-07-27 | Asahi Chemical Ind | Plaques d'impression en relief en resine photo-durcie et procede de production |
-
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- 1969-09-08 DE DE19691945456 patent/DE1945456A1/de active Pending
- 1969-09-10 GB GB4462269A patent/GB1275767A/en not_active Expired
- 1969-09-11 SU SU1364853A patent/SU424372A3/ru active
- 1969-09-11 FR FR6930948A patent/FR2017830A1/fr not_active Withdrawn
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2017830A1 (de) | 1970-05-22 |
SU424372A3 (ru) | 1974-04-15 |
GB1275767A (en) | 1972-05-24 |
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