DE1920944A1 - Imaging process - Google Patents

Imaging process

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DE1920944A1
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image
imaging method
softenable
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Goffe William Locke
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    • G03G17/10Electrographic processes using patterns other than charge patterns, e.g. an electric conductivity pattern; Processes involving a migration, e.g. photoelectrophoresis, photoelectrosolography; Processes involving a selective transfer, e.g. electrophoto-adhesive processes; Apparatus essentially involving a single such process using migration imaging, e.g. photoelectrosolography

Description

Patentanwälte Dipping. R Wejcxmann, 19ZÖ944Patent Attorneys Dipping. R Wejcxmann, 19ZÖ944

Dipl.-Ing. H. Weicxmann, Dipl-Phys. Dr.K.Fincke Dipl.-Ing. E A.WEICKMANN, Dipl.-Chem. B. Huber .Dipl.-Ing. H. Weicxmann, Dipl-Phys. Dr K. Fincke Dipl.-Ing. E A.WEICKMANN, Dipl.-Chem. B. Huber.

. SBPO. SBPO

t MÜNCHEN 27, DENt MUNICH 27, DEN

XEROX COHPOHATIOH, möhlstrasse 22, rufnummer 413921/22XEROX COHPOHATIOH, möhlstrasse 22, phone number 413921/22

' Rochester. N.Y.14603/U5A ' Rochester. NY14603 / U5A

AbbildungsverfahrenImaging process

Erfindung betrifft allgemein die Bilderzeugung und im engeren Sinne ein neues Abbildungsverfahren nach dem Prinzip der Teilchenwanderung.The invention relates generally to imaging and in the narrower sense a new imaging process based on the principle of particle migration.

In jüngerer Zeit wurde ein Teilchenwande:rungs-Abbildungeverfahren entwickelt, mit dem Bilder hoher Qualität und hoher Sichte, kontinuierlicher Tönung und hoher Auflösung erzeugt werden können. Eine Ausführungsform dieses Verfahrens ist in der französischen Patentschrift 1 466 349 beschrieben- Bei diesem Verfahren wird eine aus einer unterlage mit einer Schicht eines erweichbaren Stoffes, der lichtempfindliche Teilchen enthält, bestehende Bildplatte folgendermaßen mit einem Bild Versehens Auf der Platt» wird beispielsweise durch gleichförmige elektrostatisch· Aufladung und Belichtung mit einem Illuster mittels aktivierender elektromagnetischer Strahlung ein latentes Bild erzeugt. Dann wird die Bildplatt· duroh Einwirkung eines Lösungsmittels entwickelt« das nur die erweiohbare Schicht auflöst. Sie lichtempfindlichen Teilchen, die der Strahlung ausgesetzt waren, wandern durch die erweichte und gelöste Schicht und erzeugen auf der unterlage ein Bild aus gewanderten Teilohen, das dem Strahlungsmuster desMore recently, a particle migration mapping method has been developed that can produce high quality images high visibility, continuous tint and high resolution can be produced. An embodiment of this process is described in French patent specification 1,466,349 Contains photosensitive particles. Image plate on the plate as follows. For example, a latent image is generated by uniform electrostatic charging and exposure to an illuster by means of activating electromagnetic radiation. Then the image plate is exposed to a Solvent only develops the softenable layer dissolves. They photosensitive particles that have been exposed to the radiation migrate through the softened and loosened layer and create an image on the substrate from migrated parts that correspond to the radiation pattern of the

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Originalbildes entspricht» wobei die erweichbare Schicht praktisch vollständig abgewaschen werden kann. Das Teilchenbild kann dann auf der Unterlage fixiert werden· Bei vielen vorzugsweise zu verwendenden lichtempfindlichen Teilchenarten ergibt sich nach diesem Verfahren ein Negativbild eines positiven Originalbildes· Es sind jedoch auch Positivbilder möglich, wenn die Parameter des Abbildungsverfahrene geändert werden. Diejenigen Teile des lichtempfindlichen Stoffes, die nicht auf die Unterlage wandern, werden durch das Lösungsmittel mit der erweiohbaren Schicht abgewaschen· Es können auch andere Entwioklungsarten angewendet werden, 'bei denen die erweichbare Schicht zumindest teilweise auf der Unterlage zurückbleibt.Corresponds to the original image »whereby the softenable layer can be practically completely washed off. The particle image can then be fixed on the base · At Many types of photosensitive particles to be preferably used result in a negative image of a positive original image by this method Positive images are also possible if the parameters of the imaging process are changed. Those parts of the Photosensitive substances that do not migrate to the substrate are washed off by the solvent with the softenable layer. Other types of development can also be used, in which the softenable Layer remains at least partially on the base.

Allgemein können drei G-rundarten von Bildplatten verwendet werdeni Eine Schichtstruktur, die aus einer Unterlage und einer Schicht eines erweiohbaren Stoffes besteht, auf oder in der sich nahe der Oberfläche eine brechbare und -vorzugsweise teilchenförmige Schicht eines lichtempfindlichen Stoffes befindet, eine Bindemittelstruktur, bei der die lichtempfindlichen Teilohen in der erweiohbaren Schicht auf der Unterlage diapergiert sind, und eine Überzugsstruktur, bei der eine Unterlage mit einer Schicht eines erweichbaren Stoffes überzogen ist, auf der wiederum eine Schicht lichtempfindlicher Teilchen sowie ein zweiter Überzug eines erweiohbaren Stoffes vorgesehen ist. Beide erweichbare Schichten schließen dabei die lichtempfindlichen Teilchen ein» Unter einer breohbaren Sohicht bzw· einem brechbaren Stoff wird jede Schicht bzw» jeder Stoff verstanden, der während der Entwicklung zerbricht und eine Wanderung seiner Teile in bildmäßiger Verteilung auf die Unterlage der Bildplatte ermöglicht·In general, three basic types of optical disks can be used and a layer of an expandable fabric or in which near the surface there is a breakable and preferably particulate layer of a photosensitive substance, a binder structure of which the photosensitive parts in the softenable layer are diapered on the base, and a Cover structure in which a backing is covered with a layer of a softenable fabric which in turn has a layer of photosensitive particles and a second coating of softenable material is provided. Both softenable layers include the light-sensitive particles »under one Any material that can be broadened or broken will be Layer or any substance understood that breaks during development and a migration of its parts in image-wise distribution on the base of the image plate enables

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Das in der französischen Patentschrift 1 4-66 349 beschriebene Abbildungsverfahren besteht allgemein aus einer Kombination von Verfahrensschritten, die aus der Erzeugung eines latenten Bildes und der Entwicklung mit einer Lösungsflüssigkeit oder einem Lösungsdampf oder mit Wärme bzw. Kombinationen dieser Einwirkungsarten zur Sichtbarmachung des latenten Bildes bestehen. Bei gewissen Verfahren zur Erzeugung des latenten Bildes, die nicht auf Lichtempfindlichkeit beruhen und mit neutralen Stoffen arbeiten, können brechbare Schichten und teilchenförmige Stoffe zur Bilderzeugung verwendet werden, wie in der französischen Patentschrift 1 466 349 beschrieben ist. Dabei wird ein latentes Bild nach verschiedenen Verfahren erzeugt, beispielsweise durch Aufladung in bildmäßiger Verteilung mittels einer Maske oder Schablone oder durch Erzeugung eines Ladungsmusters auf einer separaten fotoleitfähigen Isolierstoffschicht nach der üblichen elektrofotografischen Reproduktionstechnik und Übertragung dieses Ladungsmusters auf die Bildplatte durch Annäherung der Bildplatte und Anwendung des in den US-Patentschriften 2 982 647tThe one described in French patent 1 4-66,349 The mapping process generally consists of a combination of process steps resulting from the creation of a latent image and development with a solution liquid or a solution vapor or with heat or combinations these types of action exist to make the latent image visible. With certain methods of production of the latent image, which are not based on photosensitivity and work with neutral substances Breakable layers and particulates are used to form images, as in the French U.S. Patent 1,466,349. A latent image is generated by various methods, for example by charging in an image-wise distribution by means of a mask or stencil or by generation a charge pattern on a separate photoconductive insulating material layer according to the usual electrophotographic Reproduction technology and transfer of this charge pattern to the image plate by approaching the image plate and using that disclosed in U.S. Patents 2,982,647t

2 825 814 und 2 937 943 beschriebenen Überschlagsverfahrens. Ferner können Ladungsmuster entsprechend besonders ausgewählten und geformten Elektroden oder Elektrodenkombinationen mit dem TESI-Entladungsverfahren erzeugt werden» das in den US-Patentschriften 3 023 731 und 2 919 967 beschrieben ist. Andere Verfahren sind in den US-Patentschriften2 825 814 and 2 937 943 rollover procedures described. Furthermore, the charge pattern can be correspondingly selected and shaped electrodes or electrode combinations generated with the TESI discharge process »that in U.S. Patents 3,023,731 and 2,919,967 is. Other methods are in US patents

3 001 848 und 3 001 849 beschrieben, schließlich ist die Elektronenstrahlaufzeichnung anwendbar, die in der US-Patentschrift 3 113 179 beschrieben ist. Bei einer anderen Ausführungsform des in der französischen Patentschrift 1 466 349 beschriebenen Abbildungsverfahrens wird ein Bild durch selektives Zerbrechen eines teilchenförmigen Stoffes erzeugt, der auf oder in einer elektrostatisch deformierbaren oder runzelungsfähigen Schicht angeordnet ist. Diese Ausführungsform hat den Unterschied, daß die3,001,848 and 3,001,849; finally, electron beam recording is applicable, which is described in US Pat 3 113 179 is described. In another embodiment of that in the French patent 1,466,349 creates an image by selectively breaking a particulate Substance generated, which is arranged on or in an electrostatically deformable or wrinkled layer is. This embodiment has the difference that the

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erweichbare Schicht in Verbindung mit einem Zerbrechen der auf ihr vorgesehenen Schicht deformiert wird, wie dies in der Patentanmeldung F 16 17 226,4 beschrieben ist.softenable layer is deformed in connection with a rupture of the layer provided on it, as shown in FIG the patent application F 16 17 226.4 is described.

Die Eigenschaften der erzeugten Bilder sind von den Verfahrensschritten der Aufladung, Belichtung und Entwicklung sowie von der jeweils verwendeten Kombination dieser Schritte abhängig· Hohe Bilddichte, kontinuierliche Tönung und hohe Auflösung sind einige der möglichen Bildeigenschaften. Sas Bild zeichnet sich allgemein dadurch aus, daß es ein teilchenförmiges Bild im fixierten oder unfixierten Zustand ist, wobei ein Teil der erweichbaren Schicht sowie nicht gewanderte Teile der Teilchenschicht auf der Bildplatte zurückbleiben können, die als Mikrofilm, normale Kopie, optische Maske und für ein klebendes Ab zugs verfahr en verwendet werden kann.The properties of the images produced depend on the process steps the charging, exposure and development as well as the combination of these used in each case Steps dependent · High image density, continuous tinting and high resolution are some of the possible image properties. Sas image is generally characterized by the fact that it is a particulate image in the fixed or The unfixed state is where part of the softenable layer as well as unmigrated parts of the particle layer Can be left on the optical disc as microfilm, normal copy, optical mask and for an adhesive Withdrawal method can be used.

Wie aus der französischen Patentschrift 1 466 349 hervorgeht, wird die erweichbare Schicht der Bildplatte bei einigen Entwicklungsverfahren praktisch vollständig abgewaschen, bei anderen Entwicklungsverfahren kann sie zumindest teilweise auf der Unterlage zurückbleiben. Die vorliegende Erfindung betrifft mehr die Verfahrensart, bei der die Schicht zumindest teilweise auf der Unterlage zurückbleibt, nachdem zumindest Teile der Teilchenschicht in bildmäßiger Verteilung auf die Unterlage gewandert sind. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Steuerbarkeit der Teilchenwanderung zu verbessern und wahlweise eine Teilchenwanderung bis zu verschiedenen Tiefen in die erweichbare Schicht hinein zu ermöglichen· Es sollen ferner mit einem derartigen Abbildungsverfahren Bildplatten geschaffen werden, die für sich bereits verwendbar sind, aber auch auf verschiedene Weise gewandelt oder behandelt werden können, um beispielsweise ihre optischen Eigenschaften oder ihre Verwendbarkeit als Bild zu ver-As is apparent from French patent specification 1,466,349, the softenable layer of the image plate is used in some Development process is practically completely washed off, with other development processes it can at least partially remain on the mat. The present invention relates more to the type of method in which the Layer remains at least partially on the substrate after at least parts of the particle layer in wandered onto the surface according to the image. The invention is based on the object of controllability to improve the particle migration and optionally a particle migration to different depths in to allow the softenable layer into it · There should also be image plates with such an imaging process are created that are already usable in themselves, but also changed or treated in different ways can be used, for example, their optical properties or their usability as an image.

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bessern. Ferner soll ti ei dem zu schaffenden Abbildungsverfahren die direkte Berührung der Bildplatte Bit einer Lösungsfliissigkeit vermieden werden. Wahlweise soll eine Positiv-Positiv-Bilderzeugung oder eine Positiv-Negativ-Bilderzeugung möglich sein»improve. Furthermore, in the imaging process to be created, direct contact with the image plate bit of a solution liquid should be avoided. Optionally, a Positive-positive image generation or positive-negative image generation be possible »

Für ein Abbildungsverfahren, das nach dem Prinzip der Teilchenwanderung arbeitet, wird diese Aufgabe erfindungsgemäß daduroh gelöst, daß die Teilchenwanderungsstoffschicht einer Bildplatte mit der einen Oberfläche einer erweichbaren Schicht in Berührung und in den Einwirkungsbereich einer bildmäßig verteilten, eine Teilohenwanderung erzeugenden Kraft gebracht wird und daß zur Bildentwioklung der Widerstand der erweiohbaren Schicht gegen ein Sindringen des Teilchenwanderungsstoffes verringert wird»For an imaging method that works on the principle of particle migration, this object is achieved according to the invention in that the particle migration material layer of an image plate with one surface of a softenable layer in contact and in the area of action of an image-wise distributed, a partial migration generating force is brought and that the development of the image is the resistance of the softenable layer to wrestling particle migration is reduced »

Bei der erfindungsgemäßen Erweichung der erweiohbaren Schicht bzw. Verringerung ihres Widerstandes gegen ein Eindringen, des Teilchenwanderungsstoffes ergibt sich eine Bilderzeugung, bei der der erweiohbare Stoff nickt aufgelöst oder abgewaschen wird· Aus der folgenden Beschreibung wird nooh hervorgehen, daß durch das erfindungsgemäße Verfahren optimale elektrisch-optische ixten der Teilchenwanderung möglich sind, wozu die latenten Bilder ähnlich der in der französischen Patentschrift 1 466 349 beschriebenen Art erzeugt werden. Vorzugsweise werden elektrische Teilchenwanderungskräfte durch elektrostatische Bilder wahlweise mit einem Balichtungsschritt erzeugt, die latenten Bilder können jedoch auoh auf andere Weise erzeugt werden, wie in der französischen Patentschrift 1 466 349 beschrieben ist· Ferner kann die Bilderzeugung ohne optisch« Belichtung durchgeführt werden, wobei die Teilohenwanderungskräf te nicht elektrischer Natur sein müssen*In the softening of the softenable ones according to the invention Layer or reducing its resistance to a Penetration of the particulate migration fabric results in an image formation in which the softenable fabric nods to dissolve or wash off · From the following description it will nooh emerge that the method according to the invention enables optimal electrical-optical axes of particle migration, to which the latent images are similar of the type described in French patent 1,466,349. Preferably be electrical Particle migration forces generated by electrostatic images optionally with a bleaching step, but the latent images can also be generated in other ways as described in French patent specification 1,466,349. Furthermore, the image generation can be carried out without optical exposure, whereby the partial migration forces do not have to be of an electrical nature *

Bin besseres Verständnis der Erfindung sowie ihrer weiteren Vorteile und Wesenszüge ergibt sich aus der folgendenA better understanding of the invention and its further advantages and characteristics emerges from the following

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- 6 -eingehenden Beschreibung an Hand der figuren. Es zeigen»- 6 - detailed description on the basis of the figures. Show it"

Fig* 1 eine schematise!*· Darstellung einer vorzugsweise anzuwendenden Art der Erzeugung eines latenten Bildes auf einer Ausführungsform einer Bildplatte, die im erfindungsgemäßen Verfahren angewendet wird, Fig. 1 is a schematic representation of a preferred method of generating a latent image on an embodiment of an image plate which is used in the method according to the invention,

Fig» 2 verschiedene Ausführungsformen von nach dem erfindungsgemäßen Verfahren mit Bildern versehener Bildplatten» Fig. 2 different embodiments of image plates provided with images according to the method according to the invention »

fig. 3 eine Kurve der optischen Sichte für blaues Licht abhängig vom Logarithmus der Belichtung für eine im erfindungsgemäßen Verfahren anzuwendende Bildplattet die Teilchen aus amorphem Selen mit weniger als 1 Mikron Größe enthält · fig. 3 a curve of the optical view for blue light as a function of the logarithm of the exposure for an image plate to be used in the method according to the invention which contains particles of amorphous selenium with a size of less than 1 micron

Fig. 4 eine weitere Kurve der optischen Dichte für Fig. 4 is another graph of the optical density for

blaues Lioht abhängig vom Logarithmus der Belichtung für elf verschiedene Belichtungspegel Ε» bis E10 für eine im erfindungsgemäßen Verfahren zu verwendende Bildplatte, bei der die Teilchenwanderungsschicht (Teilchen, aus amorphem Selen mit weniger als 1 Mikron Größe enthält» undblue light depends on the logarithm of the exposure for eleven different exposure levels Ε »to E 10 for an image plate to be used in the method according to the invention in which the particle migration layer (contains particles of amorphous selenium with a size of less than 1 micron» and

yig, 5 elf Darstellungen BQ bis B10 elektronischer yig, 5 eleven representations B Q to B 10 electronic

Mikrografien des Querschnittes einer Bildplatte, aus denen dl· verschiedenen Eindring ti ofen der Teilohenwanderung hervorgehen» Die Querschnitte Bq bis E10 entsprechen den in Fig» 4 grafisch dargestellt ext (Peilen E0 bis E10 der Kurve*Micrographs of the cross-section of an image plate, from which the different penetration points of the partial migration emerge. The cross-sections Bq to E 10 correspond to the ext (arrows E 0 to E 10 of the curve *

In Fig. IA ist scheaatisch ein Auaführungsbeiapiel einer Bildplatt· IO dargestellt ι die aus einer Unterlage 11, einer elektrisch isolierenden erweichbaren Schicht 12 und einer an deren Oberfläche vorgesehenen brechbaren Teilchenwanderungssohicht 13 eines teilchenförmigen Stoffes besteht·In Fig. 1A, schematic implementation example is one Image plat · IO shown ι from a base 11, an electrically insulating softenable layer 12 and a frangible layer provided on the surface thereof Particulate migration layer 13 of a particulate Substance consists

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Die Unterlage 11 kann elektrisch leitfähig oder nichtleitend sein. Leitfähige Unterlagen erleichtern allgemein die Aufladung oder Sensitivierung der Bildplatte nach dem optimalen elektrisch-optischen erfindungsgemäßen Verfahren und können aus Kupfer, Messing, Nickel, Zink, Chrom, Edelstahl, leitfähigen Kunststoffen und Gummierten, Aluminium, Stahl, Kadmium, Silber, Gold oder Papier bestehen, das durch die Einlagerung eines geeigneten chemischen Stoffes oder durch Einwirkung einer feuchten Atmosphäre mit einem derartigen Wasseranteil versehen ist, daß es leitfähig ist. Die erweichbare Schicht kann direkt auf die leitfähige Unterlage als Überzug aufgebracht oder selbsttragend ausgeführt sein, im letzteren Falle wird sie während der Bilderzeugung mit einer geeigneten Unterlage in Berührung gebracht·The base 11 can be electrically conductive or non-conductive. Conductive documents make things easier in general the charging or sensitization of the image plate after the optimal electrical-optical method according to the invention and can be made of copper, brass, nickel, zinc, chromium, stainless steel, Conductive plastics and rubberized materials, aluminum, steel, cadmium, silver, gold or paper are made up of that by storing a suitable chemical substance or by exposure to a humid atmosphere such a proportion of water is provided that it is conductive. The softenable layer can be applied directly to the conductive base as a coating or designed to be self-supporting in the latter case it will be in contact with a suitable support during image formation brought·

Die Unterlage kann jede geeignete Form haben, beispielsweise die eines Metallstreifens, eines Blattes, einer Platte, einer Spirale, eines Zylinders, einer Trommel, eines endlosen Bandes, eines Möbius-Streifens o.a. Falls erwünscht, kann die leitfähige Unterlage mit einem Überzug eines Nichtleiters wie z.B. Papier, Glas oder Kunststoff versehen sein. Beispiele dieser Unterlagenart sind mit durchsichtigem Zinnoxid überzogenes Glas, das unter der Bezeichnung NESA von der Pittsburgh Plate Glass Co. erhältlich ist, aluminisierter Polyesterfilm, der unter der Bezeichnung Mylar von DuPont erhältlich ist, oder mit Kupferiodid überzogenes Mylar.The base can have any suitable shape, for example that of a metal strip, sheet, plate, a spiral, a cylinder, a drum, an endless belt, a Möbius strip, etc. If desired, the conductive base can be provided with a coating of a non-conductor such as paper, glass or plastic be. Examples of this type of substrate are glass coated with transparent tin oxide, which is labeled NESA, available from Pittsburgh Plate Glass Co., is aluminized polyester film known as the Mylar available from DuPont, or Mylar coated with copper iodide.

Elektrisch nichtleitende Unterlagen können gleichfalls verwendet werden, wodurch eich ein weiter Anwendungsbereich verschiedenster filmbildender Stoffe wie z.B. Kunststoffe für die Unterlage 11 ergibt.Electrically non-conductive documents can also be used can be used, whereby a wide range of application of the most diverse film-forming substances such as Plastics for the base 11 results.

Die erweichbare Schicht 12, die die Struktur einer oder mehrerer Schichten haben kann, kann aus jedem geeigneten .The softenable layer 12, which may be in the form of one or more layers, can be any suitable.

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Stoff bestehen, typischerweise aus Kunststoff oder einem thermoplastischen Material, das beispielsweise in einer Lösungsflüssigkeit, einem Lösungsdampf, durch Wärme oder Kombinationen dieser Einwirkungsarten erweichbar ist. Ferner soll diese Schicht zur Erzielung der optimalen elektrischoptischen Eigenschaften elektrisch nichtleitend sein, wenn die Teilchenwanderungskraft einwirkt und die Erweichung durchgeführt wird. Es sei bemerkt, daß die Schicht 12 vorzugsweise deshalb elektrisch nichtleitend sein soll, weil elektrische Teilchenwanderungskräfte angewendet werden. Es können jedoch auch leitfähigere Stoffe verwendet werden, da durch die Erfindung eine erhöhte Fähigkeit besteht, bei der elektrischen Bilderzeugung eine konstante Ladungsmenge in bildmäßiger Verteilung zu liefern. Bei dieser optimalen und vorzugsweise angewendeten Betriebsart zeigt sich, daß mit einer höheren Leitfähigkeit der erweichbaren Schicht 12 eine Ladungsinjektion von der Unterlage in die Schicht 12 stattfindet und/oder durch andere mit der Leitfähigkeit zusammenhängende Mechanismen die Schicht 12 entladen wird, wodurch vor einer zufriedenstellenden Teilchenwanderung die Coulomb'sehen Teilchenwanderungskräfte verringert werden. Soll die erweichbare Schicht während oder nach der Bilderzeugung aufgelöst werden, so soll ein Lösungsmittel verwendet werden, das die Teilchen nicht angreift.Substance, typically made of plastic or a thermoplastic material, for example in a Solution liquid, a solution vapor, can be softened by heat or a combination of these types of action. Further this layer should be electrically non-conductive in order to achieve the optimal electro-optical properties, if the particle migration force acts and the softening is carried out. It should be noted that layer 12 is preferably should therefore be electrically non-conductive because electrical particle migration forces are applied. However, more conductive materials can also be used, as the invention provides an increased ability to provide a constant amount of charge in an imagewise distribution during electrical imaging. With this optimal and the preferred mode of operation used shows that with a higher conductivity of the softenable layer 12 shows charge injection from the substrate into the layer 12 takes place and / or the layer 12 is discharged by other mechanisms related to conductivity, whereby the Coulomb's particle migration forces are reduced prior to satisfactory particle migration. If the softenable layer is to be dissolved during or after imaging, a solvent should be used can be used that does not attack the particles.

Unter dem Begriff "erweichbar" sollen Schichten 12 verstanden werden, die für die durch Wanderung zu bewegenden Teilchen durchlässiger gemacht werden können. Eine übliche Art der Änderung der Durchlässigkeit wird durch die Erweichung erreicht. The term "softenable" should be understood to mean layers 12 which are to be moved by migration Particles can be made more permeable. A common way of changing the permeability is achieved by softening.

Typische elektrisch nichtleitende und erweichbare Stoffe sind Staybelite Ester 10, ein teilweise hydrierter Kolophoniumester, Foral Ester, ein hydrierter Kolophoniumtriester, Neolyne 23, ein Alkydharz, alle erhältlichTypical electrically non-conductive and softenable substances are Staybelite Ester 10, a partially hydrogenated one Rosin ester, foral ester, a hydrogenated rosin triester, Neolyne 23, an alkyd resin, all available

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von der Hercules Powder Co.J Siliconharze der Type SR, erhältlich von der General Electric Corporation! Sucrose Benzoate von der Eastman Chemical;, Velaicol X-37» ein Polystyrol-Olefin-Copolymer der Velsicol Chemical Corp»; hydriertes Piccopale 100, Piccopale H-2, hochverzweigte Polyolefine, Piccotex 100, ein Styrol-Vinyltoluol-Copolymer, die Polystyrole Piccolastic A-75, 100 und 125, ■ticeodiene 2215, ein Polystyrol-Olefin-Copolymer, alle erhältlich von der Pennsylvania Industrial Chemical Corp.? Araldite 6060 und 6071» Epoxyharze von CibaJ R5O61A, ein Phenylmethylsiliconharz der Dow Corning Corp.; Epon 1001, ein Bisphenol A-Epichlohydrin-Epoxyharz der Shell Chemical Corp.; die Polystyrole PS-2 und PS-3 sowie ET-693, ein Phenolformaldehydharz der Dow Chemical Corp.; auf übliche Weise synthetisierte Copolymere von Styrol und Hexylmethacrylat, ein auf übliche Weise synthetisiertes PolydiphenylsiloxanJ ein auf übliche Weise synthetisiertes Polyadipat; Acrylharze, erhältlich unter der Bezeichnung Acryloid von Röhm und Haas und unter der Bezeichnung Lueite von E. I. DuPont de Nemours ft Co.; thermoplastische Harze, erhältlich unter der Bezeichnung Pliolite von der Goodyear Tire & Rubber Co.; ein chlorierter Kohlenwasserstoff, erhältlich unter der Bezeichnung Aroclor von der Monsanto Chemical Co.; thermoplastische Polyvinylharze, erhältlich unter der Bezeichnung Vinylite von der Union Carbide Co»; weitere thermoplastische Stoffe,, die in der US-Patentschrift 3 196 OU beschrieben sind; Wachsarten sowie Mischungen und Copolymere dieser Stoffe»from Hercules Powder Co.J Type SR silicone resins available from General Electric Corporation! Sucrose Benzoate from Eastman Chemical; Velaicol X-37 "a polystyrene-olefin copolymer from Velsicol Chemical Corp"; hydrogenated Piccopale 100, Piccopale H-2, highly branched polyolefins, Piccotex 100, a styrene-vinyltoluene copolymer, the polystyrenes Piccolastic A-75, 100 and 125, ■ ticeodiene 2215, a polystyrene-olefin copolymer, all available from Pennsylvania Industrial Chemical Corp.? Araldite 6060 and 6071 »epoxy resins from CibaJ R5O61A, a phenylmethyl silicone resin from Dow Corning Corp .; Epon 1001, a bisphenol A epichlohydrin epoxy resin from Shell Chemical Corp .; polystyrenes PS-2 and PS-3 and ET-693, a phenol-formaldehyde resin from Dow Chemical Corp .; conventionally synthesized copolymers of styrene and hexyl methacrylate; a conventionally synthesized polydiphenylsiloxaneJ a conventionally synthesized polyadipate; Acrylic resins available under the name Acryloid from Röhm and Haas and under the name Lueite from EI DuPont de Nemours ft Co .; thermoplastic resins available under the name Pliolite from Goodyear Tire & Rubber Co .; a chlorinated hydrocarbon available under the designation Aroclor from Monsanto Chemical Co .; thermoplastic polyvinyl resins available under the designation Vinylite from Union Carbide Co. "; other thermoplastic materials ,, which are described in US Patent 3 196 OU; Types of waxes as well as mixtures and copolymers of these substances »

Die vorstehend aufgeführten Stoffe sollen keine Einschränkung der Erfindung bedeuten, sondern sind lediglich Beispiele für als erweichbare Schicht 12 verwendbare Materialien. Die erweichbare Schicht kann jede geeignete Stärke haben, wobei die stärkeren Schichten allgemein eine größere elektrostatische Spannung zur Durchführung des erfindungsge-The substances listed above are not intended to restrict the invention, but are merely examples for materials which can be used as the softenable layer 12. The softenable layer can be any suitable thickness have, the thicker layers generally having a greater electrostatic voltage for carrying out the invention

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ORIGINAL INSPECTEDORIGINAL INSPECTED

mäßen Verfahrens benötigen. Schichtstärken von ca. 0,5 bis ca. 16 Mikron sind günstig, jedoch ergibt eine gleichmäßige Stärke innerhalb des Bildfeldes von ca. 1 bis 4 Mikron Bilder hoher Qualität und erlaubt eine leichte Herstellung der Bildplatte.proper procedure. Layer thicknesses from approx. 0.5 to about 16 microns is cheap, but gives an even thickness within the field of view of about 1 to 4 microns High quality images and allows the optical plate to be easily manufactured.

Die Schicht 12 kann nach jedem geeigneten Verfahren gebildet werden, beispielsweise durch Tauchüberziehen, Aufwalzen, Gravurüberzug, Vakuumaufdampfung und andere Verfahren.The layer 12 can be formed by any suitable method, for example by dip coating, roller coating, Engraving coating, vacuum deposition and other processes.

Die Teilchenwanderungsschicht 13, die teilweise zur Unterlage bzw. in deren Richtung bei der Bilderzeugung unter dem Einfluß der Teilchenwanderungskräfte bewegt wird, besteht aus einer brechbaren Teilchenschicht. Um Bilder höchster Auflösung, Dichte und Nutzbarkeit zu erzeugen, soll die Schicht 13 brechbar und vorzugsweise teilchenförmig sein. Sie kann die Form einer kontinuierlichen oder halbkontinuierlichen, brechbaren Schicht haben, beispielsweise die eines Schweizer-Käse-Mustere, so daß sie in diskrete Teilchen von der Größe eines Bildelementes oder weniger während der Bildentwicklung zerbricht und dadurch eine Wanderung dieser Teilchen auf die Unterlage in bildmäßiger Verteilung ermöglicht.The particle migration layer 13, which is partially to the base or in the direction of which the image is moved under the influence of the particle migration forces from a breakable particle layer. To create images of the highest resolution, density and usability, the layer 13 is intended to be frangible and preferably particulate. They can be in the form of a continuous or semi-continuous, breakable layer, for example that of a Swiss cheese pattern, so that they can be in discrete particles the size of a picture element or less breaks apart during image development and thereby allows these particles to migrate onto the substrate in an image-wise distribution.

Die Schicht 13 kann jedoch auch nicht brechbar ausgeführt sein. Man kann zeigen, daß eine nicht brechbare, halbkontinuierliche Schicht 13 bildmäßig verteilt in die erweichbare Schicht hineinwandern kann. Vorzugsweise soll der Stoff zumindest halbkontinuierlich sein, z.B. in Form eines Schweizer-Käse-Musters, um eine leichtere Wanderung in die erweichbare Schicht zu ermöglichen. Wie z.B. in Beispiel XX gezeigt ist, wandern nicht brechbare Filme in Form eines Schweizer-Käse-Musters, die Selen enthalten, selektiv in bildmäßiger Verteilung, wenn sie dem erfindungsgemäßen Verfahren ausgesetzt werden. Auf dieseHowever, the layer 13 can also be made non-breakable be. One can show that a non-breakable, semi-continuous Layer 13 can migrate into the softenable layer in an imagewise distributed manner. Preferably the Fabric should be at least semi-continuous, e.g. in the form of a Swiss cheese pattern, for an easier hike to allow in the softenable layer. For example, as shown in Example XX, non-breakable films migrate in the form of a Swiss cheese sample, which contain selenium, selectively in an image-wise distribution, if they are the methods according to the invention are exposed. To this

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IG'^AL INSPECTEDIG '^ AL INSPECTED

- li -- li -

Weise ergeben sich Bildplatten, die durch reflektiertes Licht zu betrachten sind und keine feststellbare Dichteänderungen im Vergleich zu nicht belichteten Bildplatten zeigen. Mir zumindest kleine Wanderungstiefen zeigt der Film eine Streckung an den Kanten der Bildfelder. Daß die in Beispiel XJ beschriebene Selenschicht durch die Bilderzeugung nicht bricht, zeigt sich durch Eintauchen der belichteten Bildplatte in eine Lösungsflüssigkeit für den erweichbaren Stoff, wodurch die Selenschicht als großes Blatt oder mehrere Blätter abgelöst wird.This results in image plates that can be viewed by reflected light and no noticeable changes in density compared to unexposed optical plates. It shows me at least small hike depths Film a stretch at the edges of the image fields. That the selenium layer described in Example XJ through the Imaging does not break as shown by immersing the exposed imaging plate in a solvent liquid for the softenable material, whereby the selenium layer is peeled off as a large sheet or several sheets.

Die Schicht 13 soll zwar vorzugsweise brechbar und teilchenförmig sein, zur Bilderzeugung können jedoch auch ** nicht brechbare Schichten, die vorzugsweise perforiert sind, verwendet werden. Die mechanischen Eigenschaften der Schicht 13 können sich also innerhalb eines weiten Bereiches ändern. Aus diesem Grunde können viele Herstellungsverfahren für die Schicht 13 angewendet werden. Zu den typischen Verfahren gehört die Vakuumaufdampf ung, die in der französischen Patentschrift 1 466 349 beschrieben ist und bei der eine brechbare Schicht aus amorphem ■ Selen mit weniger als 1 Mikron Teilchengröße, die den beim erfindungsgemäßen Verfahren vorzugsweise verwendeten Stoff darstellt, auf einer erweichbaren Schicht beispielsweise durch Aufdampfung und Kondensierung in Vakuum mit einer Ablagerungsmenge von ca. 0*5 Mikron pro Stunde auf einer Unterlage erzeugt wird, die eine Temperatur von ca. 65°C bei einem Vakuum von ca. 10 bis ca. 10 J Torr hat. Die Vakuumaufdampf ung kann auch zur Bildung nicht brechbarer Schichten aus amorphem Selen und anderen Stoffen angewendet werden. Beispielsweise kann eine mechanisch kontinuierliche, nicht brechbare Teilchenwanderungsschicht erzeugt werden, die einen vorherrschenden Anteil aus Selen enthält, indem die Unterlage eine Temperatur von ca. 300C bis ca. 400C hat, während die Quellentemperatur ca. 2300CAlthough the layer 13 should preferably be breakable and particulate, non-breakable layers, which are preferably perforated, can also be used for image generation. The mechanical properties of the layer 13 can therefore change within a wide range. For this reason, many manufacturing methods for the layer 13 can be used. Typical processes include vacuum vapor deposition, which is described in French Patent 1,466,349 and in which a breakable layer of amorphous selenium with a particle size of less than 1 micron, which is the substance preferably used in the process according to the invention, is on a softenable layer for example, by vapor deposition and condensation in a vacuum with a deposition rate of approx. 0 * 5 microns per hour on a substrate which has a temperature of approx. 65 ° C at a vacuum of approx. 10 to approx. 10 J Torr. Vacuum evaporation can also be used to form non-breakable layers of amorphous selenium and other substances. For example, a mechanically continuous, non-breakable particle migration layer can be produced which contains a predominant proportion of selenium, in that the base has a temperature of approx. 30 ° C. to approx. 40 ° C., while the source temperature is approx. 230 ° C.

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"bis 2600C in einem teilweisen Vakuum von ca. 1,4 x 10*7 Torr führt. Die Ablagerung des Selens erfolgt bis zu einer ausreichenden optischen Dichte der Bildplatte. Die Schicht 13 kann als brechbare Schicht auch durch andere Verfahren hergestellt werden, beispielsweise durch Kaskadierung, Einstäubung usw., wie dies in der französischen Patentschrift 1 466 349 gezeigt ist. Ferner sind ein Abzugsverfahren und andere in der Patentanmeldung P 18 10 079.3 beschriebene Verfahren anwendbar. Sind stärkere Überzüge erwünscht, so kann die Schicht 12 beispielsweise durch Erhitzung leicht erweicht werden, so daß die auf ihrer Oberfläche abgelagerten Teilchen um einen geringen Betrag in "den Kunststoff einsinken, wonach zusätzliche Teilchen auf die Platte kaskadiert oder gestäubt werden können."leads to 260 ° C. in a partial vacuum of approx. 1.4 x 10 * 7 Torr. The selenium is deposited up to a sufficient optical density of the image plate. The layer 13 can also be produced as a breakable layer by other processes, for example by cascading, dusting, etc., as shown in French patent specification 1 466 349. Furthermore, a removal process and other processes described in patent application P 18 10 079.3 can be used are easily softened so that the particles deposited on their surface sink a small amount into the plastic, after which additional particles can be cascaded or dusted onto the plate.

Die Stärke der Schicht 13 liegt vorzugsweise zwischen ca. 0,01 und ca. 2,0 Mikron, jedoch zeigten auch 5 Mikron starke Schichten bei einigen Bildstoffen gute Ergebnisse.The thickness of the layer 13 is preferably between approx. 0.01 and about 2.0 microns, however, layers 5 microns thick also gave good results for some images.

Besteht die Schicht 13 aus Teilchen, so liegt die vorzugsweise mittlere Teilchengröße zwischen ca. 0,01 und ca. 2,0 Mikron, um Bilder optimaler Auflösung und hoher Dichte au erhalten, verglichen mit Bildern, die mit Teilchen von mehr als 2,0 Mikron Größe erzeugt werden. Mir eine optimale Bilddichte sollen die Teilchen nicht viel größer als 0,7 Mikron sein. Die Teilchenwanderungsschichten sollen vorzugsweise eine Stärke haben, die ungefähr der Stärke des kleinsten Teilchens der bchicht bis zur doppelten Stärke des größten Teilchens dieser Schicht entspricht. Es sei berücksichtigt, daß die Teilchen in seitlicher und vertikaler Richtung nicht insgesamt fest aneinander liegen, so daß ein Teil der Schichtstärke auch erweichbaren Stoff enthalten kann.When the layer 13 consists of particles, the preferred mean particle size is between about 0.01 and about 2.0 microns in order to obtain images of optimal resolution and high density compared to images obtained with particles greater than 2.0 Micron size. For optimal image density, the particles should not be much larger than 0.7 microns. The Teilchenwanderungsschichten should preferably have a thickness corresponding approximately to the thickness of the smallest chicht b of the particle up to twice the thickness of the largest particle corresponding to this layer. It should be taken into account that the particles do not lie firmly against one another in the lateral and vertical directions, so that part of the layer thickness can also contain softenable material.

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Die Schicht 13 kann jeden geeigneten einer extrem großen Anzahl von Stoffen sowie Mischungen solcher Stoffe enthalten, beispielsweise elektrische Isolatoren, elektrische Leiter, lichtempfindliche Stoffe und optisch neutrale Teilchen. Pur eine gemäß der Erfindung elektrisch verursachte Teilchenwanderung sollen die Teile der Schicht ausreichend nichtleitend sein, um die elektrische Teilchenwanderungskraft bis zur Verlagerung der gewünschten Teilchenmenge beizubehalten. leitfähige Teilchen können jedoch verwendet werden, wenn die Seitenleitfähigkeit durch lockere Packung minimal gehalten wird oder wenn nur eine dünne Teilchenschicht teilweise in die Schicht 12 eingebettet wird, so daß einander benachbarte Teilchen eine schlechte elektrische Verbindung zueinander haben.The layer 13 can contain any suitable one of an extremely large number of substances as well as mixtures of such substances, for example electrical insulators, electrical conductors, light-sensitive materials and optically neutral ones Particle. The parts of the layer are intended to be purely a particle migration caused electrically according to the invention Be sufficiently non-conductive to displace the electrical particle migration force up to the desired point Maintain particle amount. However, conductive particles can be used when the lateral conductivity is kept to a minimum by loose packing or when only a thin layer of particles partially penetrates the layer 12 is embedded, so that adjacent particles have a poor electrical connection to each other.

Der Teilchenwanderungsstoff soll vorzugsweise unlöslich im erweiohbaren Stoff sein und nicht schädlich mit diesem reagieren. Ferner soll er gegenüber jeder Lösungsflüssigkeit oder jedem Lösungsdampf widerstandsfähig sein, der beim erfindungegemäßen Verfahren zur Erweichung der erweichbaren Schicht verwendet wird.The particulate migrant should preferably be insoluble in, and non-deleterious to, the softenable material react. It should also be used against any solvent or any solution vapor to be resistant to the process according to the invention for softening the softenable Layer is used.

Die lichtempfindlichen Teilchen für die Schicht 13 ermöglichen die Erzeugung eines latenten Bildes auf einer Bildplatte nach dem erfindungsgemäßen optimalen elektrischoptischen Verfahren, mit dem sich in noch zu beschreibender Weise eine einfache, direkte und optisch empfindliche Erzeugung qualitativ hoher Bilder durchführen läßt. Typische derartige lichtempfindliche Stoffe sind anorganische oder organische fotoleitfähige Isolierstoffe, ferner Stoffe, die bei Lichterhitzung eine Leitfähigkeitsänderung erfahren und beispielsweise von Gassiers in Photog. Sei. Engr. 4, Nr. 4, Seite 199 (I960) beschrieben sind, sowie Stoffe, die bei Fotoerhitzung eine Lichtinjektion oder Ladungsinjektion verursachen»The photosensitive particles for layer 13 allow the generation of a latent image on an image plate according to the optimal electro-optical method according to the invention, with which in still to be described Way, a simple, direct and optically sensitive generation of high quality images can be carried out. Typical such photosensitive substances are inorganic or organic photoconductive insulating substances, furthermore Substances that experience a change in conductivity when light is heated and, for example, from Gassiers in Photog. May be. Engr. 4, No. 4, page 199 (I960) are described, as well as substances that inject light when photo-heated or cause charge injection »

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Vorzugsweise anorganische Fotoleiter sind bei ausgezeichneter Bildqualität amorphes Selen, amorphes Selen legiert mit Arsen, Tellur, Antimon oder Wismut usw·, amorphes Selen oder dessen legierungen dotiert mit Halogenen, sowie Mischungen von amorphem Selen mit den kristallinen Formen von Selen einschließlich der monoklinen und hexagonal en Form. Weitere typische anorganische Fotoleiter sind Cadmiumsulfid, Zinkoxid, Cadmiumsulfoselenid, Cadmiumgelb wie Lemon Cadmium Yellow X-2273 der Abteilung Imperial Color and Chemical der Hercules Powder Co., sowie viele andere Stoffe. In der US-Patentschrift 3 121 006 sind typische anorganische fotoleitfähige Pigmentstoffe beschrieben. Typische organische Fotoleiter sind Azofarbstoffe wie Watchung Red B, ein Bariumsalz von l-(4'-Methyl-5f-chlorazobenzol-2'-sulfonsäure)-2-hydrohydroxy-3-naphthensäure, C.I.Nr. 15865, ein Chinacridon, Monastral Red B, beide erhältlich von DuPontJ Indofast Double Scarlet Toner, ein pyranthronartige Pigmentstoff, erhältlich von Harmon Colors J Quindo Magenta RV-6803» ein chinacridonartiger Pigmentstoff, erhältlich von Harmon ColorsJ Cyan Blue GTNF, die Beta-Form von Kupferphthalocyaain, C,I,Nr · 74160, erhältlich von. Collway ColoreJ Monolite Fast Blue GS, die Alpha-Form von metallfreiem Phthalocyanin, C.I.Nr. 74100, erhältlich von der Arnold Hoffman Co.J handeleübliches Indigo, erhältlich von der Abteilung National Aniline der Allied Chemical Corp«; ferner gelbe Pigmentetoffβ, hergestellt gemäß der Beschreibung der französischen Patentschrift 1 467 oder der englischen Patentschrift 1 145 373» die X-Form metallfreien Phthalocyanine, hergestellt gemäß der französischen Patentschrift 1 508 173, Chinacridonchinon von DuPontr sensitiviertes Polyvinylcarbazol, Diane Blue, 3,3>-Methoxy-4,4'-diphenyl-bis-(ll'azo-2" hydroxy-3irnaphthanilid), C.I.Nr. 21180, erhältlich von Harmon Color3j und Algol G.C, 1,2,5,6-di (D,D'-Diphenyl)-thiazol-anthra-Preferably inorganic photoconductors are amorphous selenium, amorphous selenium alloyed with arsenic, tellurium, antimony or bismuth, etc., amorphous selenium or its alloys doped with halogens, as well as mixtures of amorphous selenium with the crystalline forms of selenium, including monoclinic and hexagonal ene, with excellent image quality Shape. Other typical inorganic photoconductors are cadmium sulfide, zinc oxide, cadmium sulfoselenide, cadmium yellow such as Lemon Cadmium Yellow X-2273 from the Imperial Color and Chemical department of Hercules Powder Co., as well as many other substances. Typical inorganic photoconductive pigment materials are described in US Pat. No. 3,121,006. Typical organic photoconductors are azo dyes such as Watchung Red B, a barium salt of 1- (4'-methyl-5 f -chlorazobenzene-2'-sulfonic acid) -2-hydroxy-3-naphthenic acid, CINr. 15865, a quinacridone, Monastral Red B, both available from DuPontJ Indofast Double Scarlet Toner, a pyranthrone-like pigment available from Harmon Colors J Quindo Magenta RV-6803 "a quinacridone-like pigment available from Harmon ColorsJ Cyan Blue GTNF, the beta form of Copper Phthalocyanine, C, I, No. 74160, available from. Collway ColoreJ Monolite Fast Blue GS, the alpha form of metal-free phthalocyanine, CINr. 74100 available from Arnold Hoffman Co.J Commercial Indigo available from the National Aniline Division of Allied Chemical Corp. "; also yellow pigment, produced according to the description of French patent specification 1,467 or English patent specification 1,145,373 "the X-form metal-free phthalocyanine, manufactured according to French patent specification 1,508,173, quinacridonequinone from DuPont r sensitized polyvinylcarbazole, Diane Blue, 3.3 > methoxy-4,4'-diphenyl-bis- (l l 'azo-2' hydroxy-3 ir naphthanilide), CI No.. 21180, available from Harmon Color3j and Algol GC, 1,2,5,6-di ( D, D'-diphenyl) thiazole anthra-

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chinon, G.I.Nr. 67300, erhältlich von General Dyestuffs sowie Mischungen dieser Stoffe, Die vorstehende Aufstellung organischer und anorganischer fotoleitfähiger lichtempfindlicher Stoffe enthält lediglich Beispiele für solche Stoffe und soll nicht eine vollständige Liste lichtempfindlicher Stoffe darstellen.chinon, G.I.Nr. 67300 available from General Dyestuffs and mixtures of these substances, the above list of organic and inorganic photoconductive photosensitive Substances contains only examples of such substances and is not intended to be a complete list of photosensitive substances Represent substances.

Jeder geeignete lichtempfindliche Stoff oder Mischungen derartiger Stoffe können zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens verwendet werden, unabhängig davon, ob der jeweilige Stoff organisch oder anorganisch ist, aus einer oder mehreren Komponenten in fester Lösung oder diepergiert ineinander besteht oder eine Schicht aus verschiedenartigen Teilchen oder aus mehreren Einzelschichten verschiedener Stoffe bildet.Any suitable photosensitive material or mixtures of such materials can be used to carry out the invention Process can be used, regardless of whether the respective substance is organic or inorganic one or more components in solid solution or dispersed consists of one another or a layer of different types of particles or of several individual layers of different types Forms substances.

Weitere Stoffe für eine lichtempfindliche Teilchenwanderungsschicht sind organische Donator-Akzeptor (Xewissäure-Lewisbase) ladungsübertragende Komplexstoffe, die Donatoren wie Phenolaldehydharze, Phenoxyharze, Epoxyharze, Polycarbonate, Urethane, Styrol o.a. enthalten, die mit folgenden Elektronenakseptoren komplex verbunden sindj 2,4,7-Trinitro-9-fluorenonj 2,4,5,7-Tetranitro-9-fluorenonJ. PicrinsäureJ 1,3,5-Trinitrobenzol', ChloranilJ 2,5-Dichlorbenzochinoni Anthrachinon-2-carboxylsäure, 4-Nitrophenol) Maleinsäureanhydridj Metallhalogenide der Metalle und Metalloide der Gruppen IB und II-VIII des Periodischen Systems wie z.B. Aluminiumchlorid, Zinkchlorid, ChIoreisen, Magnesiumchlorid, Kalziumjodid, Strontiumbromid, Chrombromid, Arsentrijodid, Magnesiumbromid, ZinnoxyChlorid usw.j Borhalogenide wie BortrifluorideJ Ketone wie Benzophenon und Anisil, Mineralsäuren wie Schwefelsäure; organische Carboxylsäuren wie Essigsäure und Maleinsäure, Bernsteinsäure, Zitraconsäure, Sulphonsäuren wie 4-Toluolsulphonsäure sowie Mischungen dieser Stoffe.Other substances for a light-sensitive particle migration layer are organic donor-acceptor (xewis acid Lewis base) charge-transferring complex substances that contain donors such as phenol-aldehyde resins, phenoxy resins, epoxy resins, polycarbonates, urethanes, styrene and the like, which are complexed with the following electron acceptors: 2,4,7-trinitro -9-fluorenonj 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenonJ. Picric acid, 1,3,5-trinitrobenzene , chloranil, 2,5-dichlorobenzoquinone, anthraquinone-2-carboxylic acid, 4-nitrophenol ) maleic anhydride, metal halides of metals and metalloids of groups IB and II-VIII of the periodic table such as aluminum chloride, zinc chloride, chlorine iron, Magnesium chloride, calcium iodide, strontium bromide, chromium bromide, arsenic triiodide, magnesium bromide, tin oxychloride, etc.j boron halides such as boron trifluorideJ ketones such as benzophenone and anisil, mineral acids such as sulfuric acid; organic carboxylic acids such as acetic acid and maleic acid, succinic acid, citraconic acid, sulphonic acids such as 4-toluenesulphonic acid and mixtures of these substances.

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Wie vorstehend ausgeführt wurde, kann jeder geeignete lichtempfindliche Stoff verwendet werden. Bei der optimalen Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens mit einer teilchenförmigen, brechbaren Teilchenwanderungsschicht bestehen die Teilchen lediglich aus dem reinen lichtempfindlichen Stoff oder einer sensitivieren Form dieses Stoffes, festen Lösungen oder Dispersionen des lichtempfindlichen Stoffes in einer Matrix aus einem thermoplastischen oder wärmehärtbaren Harz, Copolymeren lichtempfindlicher Pigmentstoffe und organischer Monomere, Mehrfachschichten von Teilchen, bei denen der lichtempfindliche Stoff in einer der Schichten eingeschlossen ist und die äußeren Schichten eine lichtfiltern.de Wirkung haben oder aus einem schmelzbaren oder durch Lösung erweichbaren Kern eines Kunstharzes oder einem Plüssigkeitskern wie z.B. ein Farbstoff oder ein anderer Markierungsstoff oder aus einem Kern eines lichtempfindlichen Stoffes,-der mit einer Schicht eines anderen lichtempfindlichen Stoffes zur Verbreiterung des Empfindlichkeitsspektrums überzogen ist. Weitere lichtempfindliche Strukturen sind Lösungen, Dispersionen oder Copolymere eines lichtempfindlichen Stoffes mit einem anderen sowie mit oder ohne-.hinsichtlich der Lichtempfindlichkeit neutralen Stoffen. V/eitere verwendbare Teilchenstrukturen sind in der US-Patentschrift 2 940 847 beschrieben. Hierzu gehören auch lichtempfindliche Stoffe, bei denen die durch die Bestrahlung erzeugte Änderung bleibend, anhaltend oder vorübergehend ist, sowie diejenigen Teilchenarten, die. Thermoleitfähigkeit besitzen, also eine Änderung durch die Wärmewirkung der einfallenden Strahlung erfahren.As stated above, any suitable may be used photosensitive substance are used. In the optimal embodiment of the method according to the invention having a particulate, frangible, particle migration layer the particles consist only of the pure light-sensitive substance or a sensitized form this substance, solid solutions or dispersions of the photosensitive substance in a matrix of a thermoplastic or thermosetting resin, copolymers photosensitive pigments and organic monomers, multilayers of particles where the photosensitive Fabric is enclosed in one of the layers and the outer layers have a lichtfiltern.de effect or from a fusible or solution-softenable core of a synthetic resin or a liquid core such as a dye or other marking substance or from a core of a photosensitive substance, -der with a layer of another photosensitive material is coated to broaden the sensitivity spectrum. Other light-sensitive structures are solutions Dispersions or copolymers of one photosensitive substance with another and with or without substances that are neutral in terms of photosensitivity. Other particulate structures that can be used are disclosed in U.S. Patent 2 940 847. This also includes light-sensitive substances in which the change produced by the irradiation is permanent, persistent or is temporary, as well as those types of particles that. Have thermal conductivity, so a change through experience the thermal effect of the incident radiation.

Bei der vorzugsweisen Bilderzeugung mit einer elektrischen Teilchenwanderungskraft werden lichtempfindliche Stoffe verwendet. Bei Verwendung elektrostatischer Bilder können jedoch auch geeignete nicht lichtempfindliche Teilchen-In the preferred imaging with an electric particle migration force, photosensitive materials become photosensitive materials used. If electrostatic images are used, however, suitable non-photosensitive particles can also be used.

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stoffe verwendet werden, beispielsweise Graphit, Farbstoffe, Stärke, Granatetein, Eisenoxid, Ruß, Eisen, Wolfram sowie Mischungen dieser Stoffe, wie dies in der französischen Patentschrift 1 466 349 und der folgenden Beschreibung erläutert ist·materials are used, for example graphite, dyes, starch, garnet stone, iron oxide, soot, iron, Tungsten and mixtures of these substances, as described in French patent specification 1,466,349 and the following Description is explained

Es sei ferner darauf hingewiesen, daß die Teilchenwanderungsschicht 13 aus einer Stoffmischung bestehen kann, die speziell in farblicher Hinsicht zusammengestellt ist. Entsprechende Ausführungen finden sich in der belgischen Patentschrift 709 131·It should also be noted that the particle migration layer 13 can consist of a mixture of substances that is specially composed in terms of color. Corresponding statements can be found in Belgian patent specification 709 131

Außer der in Fig. 1 gezeigten Konfiguration mit oder ohne Unterlage 11 sind weitere Abänderungen der Grundstruktur möglich, beispielsweise eine Überzugsstruktur, bei der die Teilchenwanderungsschicht zwischen zwei Schichten eines erweichbaren Stoffes liegt. Die Überzugsschicht kann auch nicht erweichbar sein und aus. Gelatine oder Mylar bestehen, wobei sie die Teilchenwanderungsschicht nicht unbedingt berühren muß. Ferner können mehrere Schichten verwendet werden, wobei jede Schicht eine Teilchenwanderungsschicht auf oder in einer erweichbaren Schicht ist. Dabei können die etagenweise übereinanderliegenden Teilchenwanderungsschichten voneinander getrennt sein oder sich gegenseitig berühren.In addition to the configuration shown in FIG. 1 with or without a base 11, there are further modifications to the basic structure possible, for example a coating structure in which the particle migration layer lies between two layers of a softenable fabric. The coating layer also can't be softened and out. Gelatin or Mylar are made up, being the particle migration layer does not necessarily have to touch. Furthermore, multiple layers can be used, with each layer being one Particulate migration layer is on or in a softenable layer. The floors can be stacked on top of each other Particle migration layers be separated from one another or touch one another.

Die erweiohbare Schicht kann ferner aus einer oder mehreren Teilschichten verschiedener erweichbarer Stoffe bestehen, wobei die Teilchenwanderungsschicht beispielsweise an der freien Oberfläche einer Teilschicht liegt, die auf eine tragende erweichbare Schicht oder auch wahlweise auf eine tragende Unterlage aufgebracht ist. Eine weitere Variation besteht darin, daß eine der Schichten aus erweichbarem Stoff stabil gegenüber einer Agglomeration des TeilchenwanderungsstoffesThe expandable layer can also consist of one or more consist of several sub-layers of different softenable substances, the particle migration layer for example, on the free surface of a partial layer which is on a supporting softenable layer or optionally applied to a supporting base. Another variation is that one of the layers of softenable material is stable to agglomeration of the particle migration material

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und eine weitere Schicht instabil gegenüber einer Agglomeration ist, ao daß damit die agglomerierende und Hintergrundzeichnungen verringernde Wirkung verbessert wird, die in der belgischen Patentschrift 709 703 beschrieben ist. Dabei wird die optische Durchlässigkeit des nicht gewanderten brechbaren Stoffes wesentlich erhöht, und zwar durch die Agglomerationswirkung des nicht gewanderten Stoffes, die diese Teile der Bildplatte weitgehend durchsichtig macht.and another layer is unstable to agglomeration, thus causing the agglomerating and background drawings reducing effect, which is described in Belgian patent 709,703. The optical permeability of the non-migrated breakable material is significantly increased, namely by the agglomeration effect of the non-migrated material, which makes these parts of the image plate largely transparent power.

Das erfindungsgemäße Bilderzeugungsverfahren wird im folgenden an Hand der mit ihm erzeugten Teilchenwanderungswirkung auf Bildplatten der vorstehend beschriebenen Art insbesondere hinsichtlich der Eindringtiefe in die erweichbare Schicht beschrieben. Insgesamt gesehen, kann das erfindungsgemäße Abbildungsverfahren in zwei Grundarten unterteilt werden:The image forming method of the present invention is as follows on the basis of the particle migration effect generated with it on image plates of the type described above in particular with regard to the depth of penetration into the softenable layer. Overall, can the imaging method according to the invention can be divided into two basic types:

(A) Bildmäßig verteilte Krafteinwirkung auf die Teilchenwanderungsschicht, wobei eine latente bildmäßige Änderung der Bildplatte auftritt, die direkt oder indirekt die Kraft auf die Teilchenwanderungsschicht in Richtung der erweichbaren Schicht bzw· einer ihrer Oberflächen oder bei Verwendung einer Unterlage in Richtung der Grenzschicht zwischen Unterlage und erweichbarer Schicht ändert. Der Schritt der Krafteinwirkung auf die Teilchenwanderungsschicht tritt vor, während oder nach einem zweiten Schritt der Änderung des Widerstandes der erweichbaren Schicht gegenüber der Teilehenwanderung auf. (A) Image-wise distributed force effect on the particle migration layer, whereby there is a latent imagewise change in the image plate, which directly or indirectly affects the Force on the particle migration layer in the direction of the softenable layer or one of its surfaces or when using an underlay in the direction of the boundary layer between the underlay and the softenable layer changes. The step of applying force to the particle migration layer occurs before, during or after a second step of the change in the resistance of the softenable layer to partial migration.

(B) Einwirkung einer Kraft auf die Teilchenwanderungsschicht vor, während oder nach einem zweiten Schritt der bildweisen Änderung des Widerstandes der erweichbaren Schicht gegen eine Wanderung der Teilchen.(B) Applying a force to the particle migration layer before, during or after a second step of the imagewise change in the resistance of the softenable layer to particle migration.

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Bei der Verfahrensart A oder B treten verschiedene Kraftwirkungen auf, die auf die Teilchenwanderungsschicht einwirken können und ihre bildmäßig verteilte Bewegung in eine erweichbare Schicht hinein bewirken. Derartige Kräfte sind elektrischer, elektrostatischer oder magnetischer Art oder Schwerkraft und Zentrifugalkräfte. Eine noch größere Anzahl von Möglichkeiten der Einwirkungsarten auf die Schicht in gleichmäßiger oder bildmäßiger Verteilung ist vorhanden.With the procedure type A or B different force effects occur that can act on the particle migration layer and their image-wise distributed movement in effect a softenable layer into it. Such forces are electrical, electrostatic or magnetic in nature or gravity and centrifugal forces. An even greater number of ways of acting on the A layer is present in a uniform or imagewise distribution.

Durch die Vielseitigkeit des erfindungsgemäßen Verfahrens ergeben sich für die Verfahrensart A folgende Möglichkeiten der bildmäßigen Einwirkung einer Kraft auf die Teilchenwanderungsschicht: The versatility of the method according to the invention results in the following possibilities for method type A. the pictorial effect of a force on the particle migration layer:

a) Einwirkung einer bildmäßig verteilten Ladung auf eine Teilchenwanderungsschicht, wodurch eine bildmäßig verteilte Anziehung der Teilchenwanderungsschicht zu entgegengesetzt polarisierten Ladungen erfolgt, die durch die anfangs aufgebrachten Ladungen induziert v/erden und auf der entgegengesetzten Seite der erweichbaren Schicht oder der Unterlage der Bildplatte vorhanden · sind.a) The action of an imagewise distributed charge on a particle migration layer, whereby an imagewise distributed one Attraction of the particle migration layer to opposite polarized charges, which are induced by the initially applied charges, take place and present on the opposite side of the softenable layer or backing of the image plate are.

b) Einwirkung eines bildmäßig verteilten externen elektrischen Feldes auf eine gleichmäßig geladene Teilcheiiwanderungsschicht. .b) Exposure to an image-wise distributed external electrical Field on a uniformly charged particle migration layer. .

c) Einwirkung eines gleichmäßigen externen elektrischen Feldes auf eine bildmäßig geladene Teilchenwanderungsschicht. -■ ■c) The action of a uniform external electric field on an image-wise charged particle migration layer. - ■ ■

d) Einwirkung eines bildmäßig verteilten magnetischen Feldes auf eine gleichmäßig magnetisierte Teilchenwand erungs s chi cht.d) Action of an image-wise distributed magnetic field on a uniformly magnetized particle wall protection.

Es ist zu erkennen, daß die Stärke eines' bildmäßig verteilten elektrischen oder elektrostatischen Kraftfeldes,It can be seen that the strength of a 'distributed image-wise electric or electrostatic force field,

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das die vorzugsweise erzeugte Kraftwirkung darstellt, von der Stärke der elektrischen Ladung auf oder in der Teilchenwanderungsschicht und der Stärke eines externen elektrischen Feldes abhängt. Die Erzeugung der Ladung auf oder in der- Teilchenwanderungsschicht kann erfolgen durch:which represents the preferably generated force effect, on the strength of the electrical charge on or in the particle migration layer and the strength of an external one electric field depends. The generation of the charge on or in the particle migration layer can take place by:

i) Die Verteilung der Ladung auf oder in der Bildplattenstruktur sowie auf oder in der Teiichenwänderungs-' schicht, --' 'i) The distribution of the charge on or in the optical disk structure as well as on or in the part of the wall layer, - ''

ii) die Fähigkeit der Teiichenwänderungsschicht, eine·ii) the ability of the partial wall layer to

Ladung zu speichern,. - ■■"--.-'To store charge. - ■■ "--.- '

iii) die Fähigkeit.der erweichbaren Schicht, eine Ladungiii) the ability of the softenable layer to carry a charge

zu speichern,
iv) die Stärke des elektrischen Feldes in der Bildplatte.
save,
iv) the strength of the electric field in the image plate.

Arten der Einwirkung einer Teilchenwanderungskraft auf die Teilchenwanderungsschicht bei der Verfahrensart-B mit gleichzeitiger bildmäßiger Änderung des Widerstandes der erweichbaren Schicht gegenüber einer Teilchenwanderung sind: .Modes of applying a particle migration force to the particle migration layer in the method-B with a simultaneous change in the resistance of the softenable layer against particle migration are:.

a) Einwirkung einer gleichmäßigen Ladung auf eine Teilchenwanderungsschicht, wodurch eine gleichmäßige Anziehung des Schichtstoffes durch entgegengesetzt polarisierte Ladungen erfolgt, die durch die gleichmäßige Schichtladung induziert werden und auf der entgegengesetzten Seite der erweichbaren Schicht oder auf der Unterlage der Bildplatte vorhanden sind,a) The action of a uniform charge on a particle migration layer, whereby a uniform The laminate is attracted by oppositely polarized charges that are induced by the uniform layer charge and on the on the opposite side of the softenable layer or on the backing of the image plate,

b) Einwirkung eines externen elektrischen Feldes auf eine gleichmäßig elektrostatisch geladene Teilchenwanderungsschicht, b) the effect of an external electric field on a uniformly electrostatically charged particle migration layer,

c) Einwirkung magnetischer Felder auf eine gleichmäßig magnetisierte Teilchenwanderungsschicht,c) Action of magnetic fields on a uniformly magnetized particle migration layer,

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ORIGINAL FWSPECTEDORIGINAL FWSPECTED

d) Einwirkung von Zentrifugalkräften auf die Teilchenwanderungsschi cht,d) the effect of centrifugal forces on the particle migration layer,

e) Einwirkung von Schwerkräften auf die Teilchenwanderungsschicht.e) Action of gravitational forces on the particle migration layer.

Bei der Verfahrensart B ist ferner festzustellen, daß die bildmäßig verteilte Änderung des Widerstandes der erweichbaren Schicht gegenüber der Teilchenwanderung jede Änderung des erweichbaren Stoffes oder des Teilchenwanderungsstoffes einschließt, die direkt oder indirekt die Viskosität des erweichbaren Stoffes während des Wanderungsvorganges in dem Bereich ändert, in dem sich die Teilchen bewegen, oder die auf irgendeine andere Weise den viskosen Widerstand der Teilchen in der erweiohbaren Schicht ändert·In the case of method B, it should also be noted that the change in the resistance, distributed over the image, of the softenable layer versus particle migration includes any change in the softenable fabric or the particulate migration fabric that directly or indirectly affects the Viscosity of the softenable substance changes during the migration process in the range in which the Particles move, or which in some other way increase the viscous resistance of the particles in the expandable Shift changes

Aus Pig· IB und IC ist zu erkennen, daß ein latentes Bild nach der optimalen elektrisch-optischen Verfahrensart Aa) auf einer Bildplatte 10 erzeugt wird, die mit einer Schicht 13 eines lichtempfindlichen Stoffes versehen ist. Das Verfahren besteht aus den Schritten der gleichmäßigen Koronaladung (Fig. IB) und der bildmäßigen Belichtung (Fig. IC). In Fig. IB ist die gleichmäßige elektrostatische Ladung der Bildplatte mit einer Korona-Entladungs vor richtung 14- dargestellt,, die von links nach rechts über die Bildplatte geführt wird und eine gleichmäßige, positiv dargestellte Ladung auf die Oberfläche der Schicht 13 aufbringt. Für diese Ladung der Bildplatte 10 können Korona-Entladungsvorrichtung en der in den US-Patent schrift en 2 836 725 und 2 777 957 beschriebenen Art mit ausgezeichneten Ergebnissen verwendet werden» Sie Koronaladung wird vorzugsweise angewendet, da sie leicht durchzuführen ist und die Erzeugung beständiger und qualitativ guter Bilder bewirkt. Jede andere Koronaquelle kann jedoch gleichfalls verwendet werden, beispiels-From Pig · IB and IC it can be seen that a latent Image according to the optimal electrical-optical method type Aa) is generated on an image plate 10, which with a layer 13 of a photosensitive material is provided. The procedure consists of the steps of uniform corona charge (Fig. IB) and the pictorial Exposure (Fig. IC). In Fig. IB is the uniform electrostatic charge of the image plate with a corona discharge device 14- shown, from left to right across the image plate and an even, positively represented charge on the surface the layer 13 applies. For this charge of the image plate 10 corona discharge devices of the type described in U.S. Patents 2,836,725 and 2,777,957 Kind to be used with excellent results »You corona charge is preferably applied as it is easy to perform and produces consistent and good quality images. However, any other corona source can also be used, for example

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weise radioaktive Strahlungsquellen, wie sie von Dessauer 9 Mott, Bogdonoff in Photo Eng. 6, Seite 250 (1955) beschrieben sind. Viele andere Ladeverfahren wie z.B. Reiben der Bildplatte, Induktionsladung gemäß US-Patentschrift 2 934 649, sind gleichfalls anwendbar. Das in der Schicht 12 zur Bilderzeugung herrschende Feld kann für die optimale Verfahrensart einen Wert zwischen ca. 5 Volt/Mikron und ca. 200 Volt/Mikron haben, und zwar bei elektrisch leitenden oder nichtleitenden Unterlagen. Bilder optimaler Qualität ergeben sich jedooh, wenn die Feldstärke innerhalb der Schicht zwischen ca. 40 Volt/Mikron und ca. 100 Volt/Mikron liegt.wise radioactive radiation sources, as described by Dessauer 9 Mott, Bogdonoff in Photo Eng. 6, page 250 (1955) are described. Many other charging methods such as rubbing the optical disc, induction charging according to US Pat. No. 2,934,649 are also applicable. The field prevailing in the layer 12 for image generation can have a value between approx. 5 volts / micron and approx. 200 volts / micron for the optimal type of process, specifically in the case of electrically conductive or non-conductive substrates. However, images of optimal quality result when the field strength within the layer is between approx. 40 volts / micron and approx. 100 volts / micron.

Besteht die Unterlage 11 aus einem nichtleitenden Stoff, so kann die Aufladung der Bildplatte beispielsweise durch Berührung der nichtleitenden Unterlage mit einer leitenden Fläche und Ladung gemäß Fig. IB erfolgen. Ferner können auch andere in der Elektrofotografie zur Ladung elektrofotografischer Bildplatten mit nichtleitenden Unterlagen bekannte Ladeverfahren angewendet werden. Beispielsweise kann die Bildplatte einer doppelseitigen Korona-Entladungsvorrichtung auegesetzt werden, bei der sich auf jeder Seite der Bildplatte eine Entladungsvorrichtung befindet, die entgegengesetzt zur jeweils anderen polarisiert ist und gemeinsam mit dieser an der Bildplatte 10 vorbeigeführt wird.If the base 11 consists of a non-conductive material, the image plate can be charged, for example, by Contact of the non-conductive surface with a conductive surface and charge according to Fig. IB. Furthermore can also others in electrophotography to charge electrophotographic Image plates with non-conductive surfaces known charging methods are used. For example can use the image plate of a double-sided corona discharge device in which there is a discharge device on each side of the image plate is located, which is polarized opposite to the other and together with this on the image plate 10 is passed.

In Fig. IC ist der zweit· Verfahrenssohritt der Erzeugung des latenten Bildes nach der Aufladung dargestellt. Hierzu wird die Bildplatte 10 mittels aktivierender Strahlung 15 bildmäßig belichtet. Zum Zwecke der Erläuterung sind die elektrischen Oberflächenladungen in den belichteten Fläohenteilen in die teilohenförmige Schicht 13 gewandert dargestellt«. Obwohl diese Darstellung nicht unbedingt den tatsächlichen Verhältnissen entsprechen muß, begünstigtIn Fig. 1C, the second procedural step is generation of the latent image after charging. For this purpose, the image plate 10 is activated by means of activating radiation 15 imagewise exposed. For the purpose of illustration, the surface electric charges are in the exposed area parts shown migrated into the part-ohen-shaped layer 13 «. Although this representation is not necessarily must correspond to the actual circumstances

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sie das Verständnis des erfindungsgemäßen Verfahrens hinsichtlich einer Betrachtung der Teilchen der Schicht 13 in den belichteten Flächenteilen "bzw. deren größere Aufnahmefähigkeit für Ladungen. Das auf diese Weise erzeugte latente Bild kann mit normalen elektrometrisehen Verfahren nicht wie ein elektrostatisches Bild wie in der Elektrofotografie ausgewertet werden, so daß auch keine Änderungen der elektrostatischen oder Coulomb'sehen Kräfte nach der. Belichtung feststellbar sind, obwohl bei Erweichung der Schicht 12 das durch die Ladung und Belichtung erzeugte latente Bild eine bildmäßig verteilte selektive Teilchenwanderung verursacht. . they regarding the understanding of the method according to the invention a consideration of the particles of the layer 13 in the exposed parts of the surface "or their greater absorption capacity for cargoes. The latent image produced in this way can be processed using normal electrometric methods not like an electrostatic image like in electrophotography evaluated so that no changes are made the electrostatic or Coulomb's forces according to the. Exposure can be determined, although as the layer 12 softens, that produced by the charge and exposure latent image causes an image-wise distributed selective particle migration. .

Jede geeignete Belichtungsstärke kann verwendet werden. Sie hängt zur Erzielung von Bildern optimaler Qualität von vielen Faktoren ab, beispielsweise von der Zusammensetzung der lichtempfindlichen Schicht 13. Für amorphe Selenschichten ergeben sich mit Belichtungen zwischen ca·Any suitable exposure level can be used. It depends on getting images of optimal quality on many factors, for example on the composition of the photosensitive layer 13. For amorphous Selenium layers result with exposures between approx

p Οp Ο

0,05 erg/cm und ca. 50 erg/cm bei einer Lichtwellenlänge von ca. 4000 AngstrÖm-Einheiten und vorzugsweise0.05 erg / cm and approx. 50 erg / cm at a wavelength of light of about 4000 Angstrom units and preferably

bei einer Belichtung zwischen ca. 1 und ca. 10 erg/cm Bilder maximaler Dichte und guten Kontrastes. Belichtungsstärken von über 10 760 Luxsec werden vorzugsweise für lichtempfindliche Teilchenwanderungsschichten bzw. Stoffzusamiaensetzungen verwendet, die anders ausgebildet sind als die amorphes Selen enthaltenden Schichten. Geringere Belichtungsstärken von ca. 5,4 Luxsec können bei lichtempfindlichen Teilchenschichten verwendet werden, die bestimmte Phthalocyanine enthalten.at an exposure between approx. 1 and approx. 10 erg / cm Images of maximum density and good contrast. Exposure levels of over 10 760 Luxsec are preferred for light-sensitive particle migration layers or compositions of matter used, which are formed differently than the amorphous selenium-containing layers. Lesser ones Exposure strengths of approx. 5.4 Luxsec can be achieved with light-sensitive Particle layers are used which contain certain phthalocyanines.

Die Belichtung kann entweder von der Seite der Teilchenschicht oder von der Rückseite der Bildplatte her erfolgen, wozu die erweichbare Schicht und die eventuelle Unterlage zumindest teilweise für die aktivierende Strahlung durchlässig sein müssen.The exposure can either be from the side of the particle layer or from the back of the imaging plate, including the softenable layer and the possible base at least partially for the activating radiation must be permeable.

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ORIGINAL INSPECTEDORIGINAL INSPECTED

Eine gleichmäßige Belichtung oder keine Belichtung mit gleichmäßiger Erweichung und gleichmäßiger Teilchenwanderungskraft kann "bei Fehlen eines Bildmusters Filme der für vorgegebene Farben erwünschten optischen Dichte ergeben. Dies stellt ein vorteilhaftes Verfahren zur Erzeugung von Lichtfiltern oder speziellen lichtstreuenden Strukturen dar.A uniform exposure or no exposure with uniform softening and uniform particle migration force can "in the absence of an image pattern, result in films of the optical density desired for given colors. This represents an advantageous method for producing light filters or special light-scattering ones Structures.

Jede geeignete aktivierende elektromagnetische Strahlung kann verwendet werden. Typische derartige Strahlungsarten sind die der normalen Glühlampen, Röntgenstrahlen, Strahlen geladener Teilchen, Infrarotstrahlung, Ultraviolettstrahlung usw. Die bildmäßige Belichtung kann vor, während ■ oder"nach der Aufladung stattfinden sowie auch vor oder während des Zeitraumes, zu dem die erweichbare Schicht sich im erweichten Zustand befindet. Hierbei ist die Lichtempfindlichkeit dauerhaft, beständig oder vorübergehend vorhanden. Auch kann das latente Bild durch die Wärmewirkung der einfallenden Strahlung erzeugt werden, und zwar entweder auf der erweichbaren Schicht oder der Teilchenschicht, so daß eine bildmäßig verteilte Änderung der Leitfähigkeit erfolgt, wodurch sich ein bildmäßig verteiltes elektrisches Kraftfeld ergibt. Die vorstehend beschriebene Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens der elektrisch-optischen Art wird vorzugsweise angewendet, da sie einfach und vielseitig ist, sowie Bilder hoher Qualität ergibt.Any suitable activating electromagnetic radiation can be used. Typical types of radiation of this type are those of normal incandescent lamps, X-rays, charged particle rays, infrared rays, ultraviolet rays, etc. The imagewise exposure can take place before, during ■ or "take place after charging as well as before or during the period in which the softenable layer is in the softened state. Here is the Permanent, permanent or temporary sensitivity to light. The latent image can also be created by the Thermal effect of the incident radiation are generated, either on the softenable layer or the Particle layer, so that there is an imagewise distributed change in conductivity, whereby an imagewise distributed change occurs electric force field results. The above-described embodiment of the method according to the invention of the electro-optical type is preferably used, because it is simple, versatile and gives high quality images.

Eine andere Ausführungsform einer Bildplatte, die in den vorstehend beschriebenen elektrisch-optischen Verfahrensarten verwendet werden kann, enthält eine lichtempfindliche erweichbare Schicht und eine Teilchenwanderungsschicht aus einem Stoff, der nicht lichtempfindlich sein muß. Eine derartige Bildplatte ist ausführlicher in der französischen Patentschrift 1 533 289 beschrieben.Another embodiment of an optical disk that can be used in the types of electro-optical processes described above includes a photosensitive one softenable layer and a particle migration layer made of a substance that is not photosensitive got to. Such an optical disc is described in more detail in French patent specification 1,533,289.

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Eine Abänderung der elektrisch-optischen Verfahrensart besteht in einer bildmäßig verteilten Wärmebestrahlung einer thermoleitfähigen erweichbaren Schicht und/oder einer Teilchenwanderungsschicht, wobei die elektrische Leitfähigkeit sich mit der Temperatur ändert. Selbstverständlich kann die bildmäßig verteilte Erwärmung auch durch Berührung der Bildplatte mit einer bildmäßig geformten und erhitzten Platte erfolgen. Die Teilchen können schnell entladen oder in ihrer LadungsSpeicherfähigkeit geändert werden. Diese Entladung bzw. Änderung kann auch nach der Erweichung der Schicht 12 stattfinden.A modification of the electro-optical type of procedure consists in an image-wise distributed heat radiation a thermoconductive softenable layer and / or a particle migration layer, wherein the electrical Conductivity changes with temperature. The image-wise distributed heating can of course also be used by contacting the image plate with an image-wise shaped and heated plate. The particles can quickly discharged or in their charge storage capacity to be changed. This discharge or change can also take place after the layer 12 has softened.

Entsprechend der vorzugsweisen Verfahrensart Aa) mit elektrischer Kraftwirkung wird ein latentes elektrostatisches Bild ähnlich wie bei der Elektrofotografie in oder auf der Bildplatte nach jedem geeigneten Verfahren erzeugt, und zwar möglichst so, daß keine direkte optische Belichtung der Bildplatte erforderlich istr die deren Funktion stören könnte. Diese Bilderzeugung kann erfolgen durch:According to the preferred procedure Aa) with electric power effect is produced a latent electrostatic image similar to the electrophotography in or on the optical disc by any suitable method, if possible so that there is no direct optical exposure of the image plate is required r could interfere with the their functions . This image generation can be done by:

i) ladung in bildmäßiger Verteilung mittels einer Maske oder Schablone,i) charge in image distribution by means of a mask or stencil,

ii) Erzeugung eines Ladungsmusters auf einer separaten fotoleitfähigen Isolierstoffschicht nach herkömmlichen elektrofotografischen Reproduktionsverfahren und anschließende übertragung dieses Ladungsmusters auf die hier verwendeten Bildplatten, indem beide Schichten sehr nahe aneinander gebracht werden und das Überschlagsverfahren gemäß US-Patentschrift 2 982 647, 2 825 814 und 2 937 943 angewendet wird, iii) Erzeugung von Ladungsmustern entsprechend ausgewählten und besonders geformten Elektroden oder Elektrodenkombinationen mit dem TESI-Entladungsverfahren, das in den US-Patentschriften 3 023 731 und 2 919 967 beschrieben ist, oder mit den in denii) generation of a charge pattern on a separate photoconductive insulating material layer according to conventional electrophotographic reproduction processes and then transferring this charge pattern to the optical disks used here by both Layers are brought very close to one another and the rollover method according to US patent specification 2,982,647, 2,825,814 and 2,937,943 is applied, iii) generation of charge patterns appropriately selected and specially shaped electrodes or electrode combinations with the TESI discharge process, that is described in U.S. Patents 3,023,731 and 2,919,967, or with those disclosed in U.S. Patents 3,023,731 and 2,919,967

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US-Patentschriften 3 001 848 und 3 001 849 beschriebenen Verfahren,Processes described in U.S. Patents 3,001,848 and 3,001,849,

iv) Elektronenstrahlaufzeichnung, beschrieben in der US-Patentschrift 3 113 179 oder Röntgenstrahlenaufzeichnung, wobei die Röntgenstrahlen eine Sekundäremission von Elektronen verursachen, die die nachfolgende Ablagerung von Ladungen auf der Bildplatte bewirken, wie es beispielsweise von Reise in Image Production With Ionizing Radiation Through Electrostatic Accumulation From Electron Avalanches in Zeitschrift für angewandte Physik, 19, 1, Seiten 1 bis 4 (1965) und in der US-Patentschrift 3 057 997 beschrieben ist, undiv) electron beam recording described in U.S. Patent 3,113,179 or X-ray recording; wherein the X-rays cause a secondary emission of electrons, which the subsequent deposition of charges on the Image plate effect, as for example from Reise in Image Production With Ionizing Radiation Through Electrostatic Accumulation From Electron Avalanches in Zeitschrift für angewandte Physik, 19, 1, pages 1 to 4 (1965) and in US Pat. No. 3,057,997, and

v) Verwendung einer Bildplatte der vorstehend beschriebenen Art mit einer fotoleitfähigen Schicht zwischen der erweichbaren Schicht 12 und der Unterlage 11. Las latente Bild wird durch Schritte erzeugt, wie sie bei der Hattierungsrunzelung erforderlich sind, beispielsweise duroh Ladung, Bildbelichtung und nochmalige Ladung auf die Anfangsspannung, wie sie in der US-Patentschrift 3 196 011 sowie von Gundlach und Claus in A Cyclic Xerographie Method Based On Frost Deformation, Photographic Science and Engineering 7, Nr. 1, Seiten 14 bis 19 (Jan.-Feb.1963) beschrieben sind· v) Use of an optical plate of the type described above with a photoconductive layer between of the softenable layer 12 and the backing 11. The latent image is created by steps such as they are required for hatching, for example duroh charging, image exposure and recharging to the initial voltage, like them in US Pat. No. 3,196,011 and by Gundlach and Claus in A Cyclic Xerography Method Based On Frost Deformation, Photographic Science and Engineering 7, No. 1, pages 14 to 19 (Jan.-Feb. 1963) are described.

In typischer Weise wird das latente elektrostatische Bild auf die Bildplatte aufgebracht und dann die erweichbare Schicht erweicht, jedoch soll hierzu eine bereits erweichte Schicht verwendet werden, um die Teilchenwanderung zu bewirken, sobald die Ladung aufgebracht wird. Es kann ein lichtempfindlicher Teilchenwanderungsstoff mit oder ohne gleichmäßige Lichtbelichtung nach der Erzeugung eines latenten Ladungsbildes in vorstehend beschriebener Weise verwendet werden. Bei einigen Verfahrens-Typically the electrostatic latent image is applied to the imaging plate and then the softenable image Layer softens, but for this purpose an already softened layer should be used to prevent particle migration to effect as soon as the charge is applied. It can be a photosensitive particle migrant with or without uniform light exposure after the formation of a latent charge image as described above Way to be used. In some procedural

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arten kann eine derartige gleichmäßige Belichtung die Wanderung durch Verringerung des hierzu erforderlichen Potentials verbessern.Such an even exposure can Improve migration by reducing the potential to do so.

Die Stärke des elektrostatischen latenten Bildes, das auf diese Weise erzeugt wird, muß nicht nur über dem zur Teilchenwanderung erforderlichen Schwellwert liegen, der auch durch die jeweilige Stoffzusammensetzung bestimmt ist., In der Praxis soll vorzugsweise innerhalb der Schicht ein Feld von mindestens ca. 10 Volt/Mikron erzeugt werden, um Bilder optimaler Qualität zu erhalten. Es wurden jedoch auch Bilder mit Ladungsbildern erzeugt, deren Feld innerhalb der Schicht 12 unter 10 Volt/Mikron und sogar unter 4 Volt/Mikron lag.The strength of the electrostatic latent image that is on generated in this way does not just have to be above that for particle migration required threshold, which is also determined by the respective substance composition., In practice, a field of at least approx. 10 volts / micron should preferably be generated within the layer, to get images of optimal quality. However, images were also generated with charge images whose field within layer 12 below 10 volts / micron and even was below 4 volts / micron.

Entsprechend der Verfahrensart Ab) können entgegengesetzt geladene, bildmäßig geformte Elektroden auf einander entgegengesetzten Seiten einer gleichmäßig geladenen Bildplatte angeordnet werden, die eine bildmäßig verteilte elektrische Kraftwirkung erzeugen. Viele spezielle Arten der Krafteinwirkung entsprechend den Verfahrensarten Ac) und Ad) sind dem Fachmann nach Kenntnis der vorliegenden Beschreibung möglich.According to the type of procedure Ab), the opposite can be done charged, image-wise shaped electrodes on opposite sides of a uniformly charged one Image plate are arranged, which generate an image-wise distributed electrical force effect. Many special Types of force applied according to the types of procedures Ac) and Ad) are possible for the person skilled in the art after knowledge of the present description.

Entsprechend der Verfahrensart Ba) können die beim erfindungsgemäßen Verfahren verwendeten Bildplatten auch mit einem latenten Bild versehen werden, indem sie gleichmäßig aufgeladen und selektiv in bildmäßiger Verteilung die Durchlässigkeit der erweichbaren Schicht für die Teilchen physikalisch geändert, und zwar erhöht oder verringert wird. Dies kann vor, während oder nach der Aufladung erfolgen. Jedes geeignete Verfahren zur bildmäßig verteilten Änderung der Durchlässigkeit der erweichbaren Schicht kann verwendet werden, beispielsweiseAccording to the process type Ba) in the invention Method used optical plates can also be provided with a latent image by making them evenly charged and selectively in image-wise distribution the permeability of the softenable layer for the particles physically changed, namely increased or decreased. This can be before, during or after charging take place. Any suitable method of imagewise changing the permeability of the softenable Layer can be used, for example

i) bildmäßige Härtung der erweichbaren Schicht vor, nachi) image-wise hardening of the softenable layer before, after

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oder während der Ladung z.B. durch Einwirkung einer ■bildmäßig verteilten ultravioletten Strahlung auf gewisse erweichbare Stoffe nach dem in der US-Patentschrift 3 307 941 beschriebenen Verfahren. Staybelite Ester 10 kann beispielsweise in bildmäßigerVerteilung durch Einwirkung einer üblichen ultravioletten Lampe für die Dauer einiger Minuten durch eine Bildmaske oder eine Schablone hindurch gehärtet werden.or during the charge, e.g. through the action of an image-wise distributed ultraviolet radiation certain softenable fabrics by the process described in U.S. Patent 3,307,941. Staybelite Ester 10 can, for example, be distributed imagewise by exposure to a conventional ultraviolet The lamp can be cured for a few minutes through an image mask or stencil.

ii) Bildmäßige Erweichung der erweichbaren Schicht vorzugsweise nach der Aufladung z.B. durch Einwirkung eines Infrarotmusters oder durch Berührung mit einer erhitzten bildmäßig geformten Platte. Nach ausreichender Erweichung kann der nachfolgend durchzuführende Erweichungsschritt entfallen. Die Teilchenschicht, die erweichbare Schicht, die Unterlage oder Kombinationen dieser Elemente können die Infrarotstrahlung absorbieren und verursachen eine Erhitzung der erweichbaren Schicht. "".-"■ii) Image-wise softening of the softenable layer is preferred after charging, e.g. by exposure to an infrared pattern or by contact with a heated imagewise shaped plate. After sufficient softening, the following can be carried out There is no softening step. The particle layer, the softenable layer, the backing, or combinations these elements can absorb the infrared radiation and cause the softenable elements to be heated up Layer. "" .- "■

Abhängig von bestimmten in der Bildplatte verwendeten Stoffen und insbesondere vom Stoff der Schicht 12 können auch andere Formen der aktivierenden Strahlung verwendet werden (vor oder nach der Bildung der Schicht 11), um eine selektive Änderung (Härtung und Erweichung der Schicht 12) der Durchlässigkeit der Schicht 12 für die Teilchen zu erreichen. Geeignete Verfahren sind! Röntgenstrahl enbehandlung, Beta-Strahlenbehandlung, Gamma-Strahlenbehandlung und Beschüß mit energiereichen Elektronen.Depending on certain substances used in the image plate and in particular on the substance of the layer 12, other forms of activating radiation can also be used (before or after the formation of layer 11) a selective change (hardening and softening of the layer 12) of the permeability of the layer 12 for the Particle to reach. Suitable procedures are! X-ray treatment, beta-ray treatment, gamma-ray treatment and bombard you with energetic electrons.

iii) Bildmäßige Verunreinigung der erweichbaren Schicht zur Einwirkung auf deren Viskosität vorzugsweise vor oder nach der Aufladung z.B. durch Kondensation flüchtiger Bestandteile eines in geringem Abstand angeordneten Blattes, das ein Färbstoffbild enthält.iii) Image-wise contamination of the softenable layer to affect its viscosity, preferably before or after charging, e.g. by condensation of volatile constituents at a short distance arranged sheet containing a dye image.

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Die Schicht 15 kann auf der Schicht 12 vor oder nach der Änderung der Durchlässigkeit angeordnet werden.Layer 15 can be placed on layer 12 before or after the change in permeability.

Nach dem Schritt der bildmäßig verteilten Änderung kann jede geeignete Teilchenwanderungskraft in gleichmäßiger Verteilung auf die Schicht 13 einwirken. Beispielsweise kann entsprechend der Verfahrensart Ba) die Schicht 13 gleichmäßig geladen werden, um in der Schicht 12 Felder zu erzeugen, die ähnlich den oben beschriebenen sind.After the step of image-wise changing, any suitable particle migration force can be used in more uniform Act on the layer 13 distribution. For example, according to the type of method Ba), the layer 13 charged uniformly to produce fields in layer 12 similar to those described above.

Entsprechend der Verfahrensart Bb) können entgegengesetzt gepolte flache Elektroden auf einander entgegengesetzten Seiten der gleichmäßig geladenen Bildplatte angeordnet werden, die noch stärkere gleichmäßige elektrostatische Teilchenwanderungsfelder im Bereich der gesamten Schicht 13 erzeugen.Corresponding to method type Bb), flat electrodes of opposite polarity can be placed on opposite electrodes Sides of the evenly charged image plate are arranged, the even more evenly electrostatic Generate particle migration fields in the area of the entire layer 13.

Viele spezielle Formen der Kraftwirkung entsprechend den Verfahrensarten Bc), Bd) und Be) sind dem Fachmann nach Kenntnis der vorliegenden Beschreibung möglich. Beispielsweise verursacht bei der Verfahrensart Bd) nach einer relativ langen bildmäßigen Erweichung der Schicht 12 die Zentrifugalkraft allein eine bildmäßig verteilte Teilchenwanderung. Many special forms of the force effect corresponding to the types of procedures Bc), Bd) and Be) are known to the person skilled in the art Knowledge of the present description possible. For example, in the case of the type of procedure Bd), after a relative long image-wise softening of the layer 12 the centrifugal force alone an image-wise distributed migration of particles.

Der zweite grundlegende Schritt des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht darin, die erweichbare Schicht ausreichend durchlässig für die wandernden Teilchen zu machen, um eine Teilchenwanderung und danach eine Sichtbarmachung des latenten Bildes zu ermöglichen» Diese Wirkung wird mit der Schicht 13 erzeugt, die in bildmäßiger Verteilung in die Schicht 12 hineinwandert· Die Erweichung kann vor, während oder nach der Einwirkung der Teilohenwanderungskraft auf die Teilchenschioht erfolgen und ermöglicht die bildmäßig verteilte Wanderung der Teilohenschicht an Stellen bestimm-The second basic step of the method of the invention is to make the softenable layer sufficiently to make permeable to the migrating particles, to a particle migration and then a visualization of the latent Image to enable »This effect is generated with the layer 13, which is distributed in image-wise fashion in the Layer 12 migrates into it · The softening can take place before, during or after the effect of the partial migration force the particle schioht take place and enables the pictorial distributed migration of the partial shift in places

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ter Tiefe in die erweichbare Schicht, während die restlichen Teilchen in oder auf der erweichbaren Schicht verbleiben oder nur um einen kürzeren Betrag in diese hineinwandern. Diese mit der Erweichung bzw. Entwicklung verursachte selektive Wanderung erzeugt ein nutzbares und oft auch sichtbares Bild auf der Bildplatte.the depth into the softenable layer, while the remaining particles remain in or on the softenable layer or only wander into it by a smaller amount. This caused with the softening or development selective migration creates a usable and often visible image on the image plate.

Unter der Bezeichnung "erweichbar" soll jede geeignete Eigenschaft zur Erweichung der Schicht verstanden werden, wodurch diese durchlässiger für die Teilchen der Teilchenwanderungsschicht wird. Die Erweichung kann hierzu durch Wärmeeinwirkung oder Löaungsdampfeinwirkung oder Kombinationen dieser Einwirkungsarten erfolgen. Auch kann eine relativ kurze Einwirkung eines Lösungsmittels auf die erweichbare Schicht erfolgen, wodurch diese anschwillt und in gewissem Maße erweicht wird. Eine Erweichung schließt auch den Pail ein, daß die Schicht 12 von sich aus ausreichend erweicht ist, so daß ein besonderer Erweichungsschritt nicht erforderlich ist. Beispielsweise kann die Teilchenschicht auf eine Schicht aufgebracht werden, die bei Zimmertemperatur schon ausreichend weich ist, so daß bei Einwirkung der Wanderungskraft gleichzeitig oder kurz danach bereits die Wanderungsbilder entstehen.The term "softenable" should be understood to mean any suitable property for softening the layer, whereby this becomes more permeable for the particles of the particle migration layer. The softening can do this by Exposure to heat or release steam, or combinations these types of action take place. A relatively short exposure to a solvent can also affect the softenable Layer take place, whereby this swells and is softened to a certain extent. A softening also includes admit that the layer 12 is inherently sufficiently softened to allow a particular softening step is not required. For example, the particle layer can be applied to a layer that is shown in Room temperature is already sufficiently soft, so that at the same time or shortly afterwards when the migration force acts the migration pictures are already emerging.

Die mit einem Bild versehene Bildplatte kann nach der Entwicklung auf vielfache Weise genutzt und betrachtet v/erden· The image plate provided with a picture can be used and viewed in many ways after development.

Obwohl die Schicht 12 und die nicht gewanderten Teile der Schicht 13 nicht abgewaschen werden, kann das nach Durchführung der Schritte des erfindungsgemäßen Verfahrens erzeugte Bild im Gegensatz zu der Lösungsflüssigkeitsentwicklung gemäß der französischen Patentschrift 1 466 349 mittels Durchleuchtung, Reflexion, Streulicht mit oder ohne Hilfsmittel und durch spezielle Sichtverfah-Although the layer 12 and the non-migrated parts of the layer 13 are not washed off, this can be done after implementation the steps of the method of the invention produced image as opposed to the solution liquid development according to French patent specification 1,466,349 by means of fluoroscopy, reflection, scattered light with or without aids and through special visual processes

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ren betrachtet werden, die beispielsweise in einer Fokussierung des auf einen Sichtschirm reflektierten Lichtes bestehen« Durch diese Betrachtungsverfahren kann das Bild die Erscheinungsform bildmäßig verteilter Änderungen im Bereich des in die erweichbare Schicht einfallenden und aus ihr austretenden Lichtes erhalten, während das Licht an den gewanderten Schichtteilen reflektiert wird. ren be considered, for example, exist "in a focusing of the light reflected to a viewing screen light Through this observation method, the image the appearance imagewise distributed changes in the area of the incident in the softenable layer and obtained from their emerging light while the light to the migrated layer parts is reflected.

Me gemäß der Erfindung hergestellten Bilder können auch mit interferometrischen Einrichtungen wie Interferenzmikroskopen und holografischen Einrichtungen betrachtet v/erden. Im letzteren Falle hat das Bild die Eigenschaft vieler nahe benachbarter Linien veränderlicher Frequenz.Me images produced according to the invention can also viewed with interferometric devices such as interference microscopes and holographic devices. In the latter case, the image has the property of many closely spaced lines of variable frequency.

Ferner kann das Bild auch mit anderen Abbildungsverfahren aufgezeichnet und diese Aufzeichnung betrachtet oder anderweitig genutzt werden.Furthermore, the image can also be recorded using other imaging methods and this recording can be viewed or otherwise be used.

Die erfindungsgemäß erzeugten Bilder sind oft sehr gut geeignet zur Durchleuchtungsprojektion, insbesondere wenn die Stoffe der Schichten 11 und 12 zumindest teilweise durchsichtig sind und der Stoff der Teilchenwanderungsschicht 13 undurchsichtig ist. So kann die erfindungsgemäß mit einem Bild versehene Bildplatte als ein Diapositiv verwendet werden, mit dem eine Darstellung auf einem Sichtschirm o.a. mit hoher Auflösung erzeugt wird.The images generated according to the invention are often very well suited for fluoroscopic projection, in particular when the fabrics of the layers 11 and 12 are at least partially transparent and the fabric of the particle migration layer 13 is opaque. Thus, the image plate provided with an image according to the invention can be used as a slide can be used, with which a representation on a display screen or similar is generated with high resolution.

Die Bilder können ferner mit einer Projektionseinrichtung aer in Fig. IF der US-Patentschrift 3 196 GIl dargestellten Art betrachtet werden, sowie mit optischen Systemen, die mit reflektiertem Licht arbeiten und in der US-Patentanmeldung Ser.No. 619 072 vom 27.2.1967 beschrieben sind. Eine Auswertung der Bilder kann auch mit einer Abtasteinrichtung erfolgen, die die selektive Verlagerung der teilchen feststellt. Beispielsweise kann hierzu eine magnetische Abtastvorrichtung in Verbindung mit einemThe images can also be provided with a projection device aer shown in Fig. IF of U.S. Patent 3,196 GIl Art are considered, as well as with optical systems that operate with reflected light and in the US patent application Ser.No. 619 072 of February 27, 1967. The images can also be evaluated using a scanning device that enables the selective displacement of the detects particles. For example, this can be a magnetic scanning device in conjunction with a

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Teilchenwanderungsstoff verwendet werden, der eine magnetische Komponente enthält.Particulate matter containing a magnetic component can be used.

Der erfindungs^emäß vorgesehene Erweichungsschritt und insbesondere die vorzugsweise angewendeten Erweiehungsverfahren für die erweichbare Schicht durch Einwirkung von Wärme, Lösungsmitteldampfen oder Kombinationen dieser Arten werden im folgenden eingehender beschrieben.The softening step provided according to the invention and in particular, the preferred method of softening the softenable layer by exposure from heat, solvent vapor, or combinations of these Types are described in more detail below.

Bei der Lösungsdampfentwicklung erfolgt allgemein eine Einwirkung eines Lösungsmitteldampfes auf die Bildplatte für eine bestimmte Zeit beispielsweise in einer Kammer bei Fehlen einer aktivierenden Strahlung im Falle der elektrisch-.optischen Verfahrensart. Allgemein ist jede Lösungsflüssigkeit, die auch für die Flüssigkeitsentwicklung geeignet ist und von denen einige in der französischen Patentschrift 1· 466 349 genannt sind, zur Lösungsdampf en twicklung gemäß der Erfindung geeignet.In the case of the evolution of solution vapor, there is generally a Action of solvent vapor on the image plate for a certain time, for example in a chamber in the absence of activating radiation in the case of electrical / optical radiation Type of procedure. In general, any solution liquid that is also suitable for liquid development and some of which are mentioned in French patent 1 · 466 349, for the development of solution vapor according to suitable for the invention.

Allgemein sollen die Lösungsmittel für Dämpfe zur Erweichung der Schicht 12 vorzugsweise die Schicht 12, jedoch nicht die Schichten 11 und 13 lösen und für die elektrischoptische und elektrische Verfahrensart einen ausreichend hohen elektrischen Widerstand haben, da bei der Erzeugung der Teilchenwanderungskraft elektrostatische Ladungen verwendet werden und ein Ladungsverlust derjenigen Teile der Schicht 13 vermieden werden soll, die in die erweichbare Schicht wandern sollen. Typische Lösungsmittel für die verschiedenen als Schicht 12 geeigneten Stoffe sind beispielsweise Aceton, Trichloräthylen, Chloroform, Äthyläther, Xylol, Dioxan, Benzol, Toluol, Zyclohexan, 1,1,1-Trichloräthan, Pentan, n-Heptan, Odorless Solvent 3440 (Sohio), Trichlortrifluoräthan, erhältlich unter der Bezeichnung Preon 113 von DuPont, Freon TIvIC von DuPont, m-Xylol, Tetrachlorkohlenstoff, Thiophen, Diphenyläther,Generally, the solvents for vapors are intended to soften of layer 12, preferably layer 12, but not layers 11 and 13, and one is sufficient for the electro-optical and electrical type of method have high electrical resistance because of the generation the particle migration force electrostatic charges are used and a charge loss of those parts of the Layer 13 should be avoided, which should migrate into the softenable layer. Typical solvents for the various substances suitable as layer 12 are, for example, acetone, trichlorethylene, chloroform, ethyl ether, Xylene, dioxane, benzene, toluene, cyclohexane, 1,1,1-trichloroethane, Pentane, n-heptane, Odorless Solvent 3440 (Sohio), trichlorotrifluoroethane, available under the name Preon 113 from DuPont, Freon TIvIC from DuPont, m-xylene, carbon tetrachloride, thiophene, diphenyl ether,

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p-Cymen, cis-2, 2-Dichloräthylen, Nitromethan, N,N-Dimethylformamid, Äthanol, Äthylacetat, Methyläthylketon, Äthylendichlorid, Methylenchlorid, trans-1,2-Dichlorethylen, Super Naphtholite, erhältlich von Buffalo Solvents and Chemicals, sowie Mischungen dieser Stoffe.p-cymene, cis-2, 2-dichloroethylene, nitromethane, N, N-dimethylformamide, Ethanol, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, ethylene dichloride, methylene chloride, trans-1,2-dichloroethylene, Super Naphtholite available from Buffalo Solvents and Chemicals, as well as mixtures of these substances.

Vorzugsweise werden Dämpfe eines Lösungsmittels für den erweichbaren Stoff verwendet, es können jedoch auch solche Dampfarten zur Entwicklung verwendet werden, deren Flüssigkeiten keine Lösungsmittel oder zumindest nicht gute Lösungsmittel für den erweichbaren Stoff sind. Beispielsweise bewirkten die Dämpfe von Freon 113 eine Wanderung eines Stoffes in einem erweichbaren Stoff aus in üblicher Weise synthetisiertem 80/20 Mol-$-Copolymer von Styrol und Hexylmethacrylat, wofür Freon 113 an sich kein gutes Lösungsmittel ist.Preferably, vapors of a solvent for the softenable material is used, but such types of steam can also be used for development, their Liquids are not solvents, or at least are not good solvents for the softenable fabric. For example, the fumes from Freon 113 caused a fabric to migrate in a softenable fabric conventionally synthesized 80/20 mole $ copolymer of styrene and hexyl methacrylate, for which Freon 113 per se is not a good solvent.

Wie ferner aus Beispiel XVI hervorgeht, kann auch eine Erweichung durch Eintauchen in ein Lösungsmittel bei solchen Flüssigkeiten erreicht v/erden, die keine guten Lösungsmittel für die erweichbare Schicht sind«As can also be seen from Example XVI, softening by immersion in a solvent can also occur such liquids which are not good solvents for the softenable layer "

Bei den Verfahrensarten, bei denen Ladungen auf der Teilchenwanderungsaehicht sur Brseuguiig der Kraftwirkung nicht notwendig sind* ist die elektrische Isolationseigensehaft des Losungsdampfes weniger wichtig.In the types of processes in which charges are deposited on the particle migration surface sur Brseuguiig the force effect not are necessary * is the electrical insulation properties of the solution vapor is less important.

Bi e Eroeiohiuigs zelten können für die Dampf entwicklung kurzer sein als für die iöaiingeentwlclLlung gemäß der französischen Patentschrift 1 4δ6 349? äa Ma© Seit auf die Auflösung der erweiohba?ea Sohi«Vt? 12 verwendet werden muß. Die Einwirkung des Sä^-iigsdampföst erfolgt normalerweise nur ksirse £■:.■:-■';,-. beispielsweise ungefähr 0,5 Sekunden oder w^r.gsi? Ms ssu ca. 1 Minute und im allgemeinen von gq3 1 BetsmäM bis ca» 10 Sekunden,Bi e energy tents can be shorter for the development of steam than for the development according to the French patent 1 4 6 349? äa Ma © Since on the dissolution of the erweiohba? ea Sohi «Vt? 12 must be used. The action of the sauté steam is normally only applied to sirse £ ■:. ■: - ■ ';, -. for example about 0.5 seconds or w ^ r.gsi? Ms ssu approx. 1 minute and generally from gq 3 1 BetsmäM to approx »10 seconds,

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was u.a. von der Temperatur und der Dampfkonzentration, der Stärke der lösung und der jeweiligen erweichbaren Schicht abhängt. Ein praktischer oberer Grenzwert von 1 Minute kann für die Dampferweichung angegeben werden, es sei jedoch bemerkt, daß für begrenzte Dampfkonzentrationen bei den meisten Stoffen eine üb er entwicklung praktisch unmöglich ist, da die wandernden Teilchen einen Punkt erreichen, beispielsweise die Grenzschicht zwischen der erweichbaren Schicht und der Unterlage, an dem die Wanderung unabhängig von der Durchlässigkeit der erweichbaren Schicht aufhört, da die Kraftwirkung insbesondere bei elektrischer Ladung verbraucht ist. Bei einigen anderen Stoffen ist jedoch festzustellen, daß ein gewisser Verlust an das Bild erzeugenden gewanderten Teilcnen auftritt, wenn die Dampfentwicklung nach der vollständigen Teilchenwanderung fortgesetzt wird. Ein Begrsnzungsfaktor für die Dampf entwicklung ist bei langer Dauer1 und hohen Dampfkonzentrationen dadurch gegeben,, daß die erweichbare Schicht von der Unterlage abfließt w&ü. eine lomänderung der gesamten Bildplatte bewirkt,,This depends, among other things, on the temperature and the steam concentration, the strength of the solution and the respective softenable layer. A practical upper limit of 1 minute can be given for steam softening, but it should be noted that for limited steam concentrations, over-evolution is practically impossible for most substances as the migrating particles reach a point, for example the boundary layer between the softenable layer and the base on which the migration stops regardless of the permeability of the softenable layer, since the force is consumed, especially when it is electrically charged. For some other materials, however, it is found that some loss of the image-forming migrated particles occurs if vapor evolution continues after the particles have completely migrated. A limiting factor for the development of steam is given with a long duration 1 and high steam concentrations, that the softenable layer flows off the base w & ü. causes a lom change of the entire image plate,

Bei der Einwirkung von Lösungsmitteldämpfen kann die mit dem latenten Bild versehene Bildplatte in einfacher V/eis© zwischen zwei Pinzetten oder Klammem einige Sekunden lang in die Dämpfe gehalten werden? &±g -τοη einer geringen Menge Lösungsflüssigkeit oder SLi1r#ieklerst©£f ausgehen^ der in einem Gefäß vorgesehen ±b%. 1st eine "bessere Steuerungsmöglichkeit erwünscht, so Irami ein MeSsylinäer von beispielsweise 5 cm Durchmesser· waä 1000 esm Inhalt verwendet werdenr der teilweise mit Eatwicklumgaflüssigkeit gefüllt ist,"Die zu entwickelnde Bildplatte wird dasei einige Sekunden lang an einer bestimmten Stelle, beispiels= weise an der 500 ccm-Markierungf angeordnet; v/em?. der M©ß- zylinder ca. 200 ecm Entwicklungaflüssigkeit antlaält. Durofe dieses Verfahren Scönnen Bilder mit !beständig hoher QualitätWhen exposed to solvent vapors, can the image plate provided with the latent image be held in the vapors for a few seconds in a simple V / eis © between two tweezers or clamps? & ± g -τοη a small M close solution liquid or SLi1r # ieklerst © £ f go out ^ which is provided in a vessel ± b%. 1st a "desired improved control possibility so Irami a MeSsylinäer of for example 5 cm diameter x waae 1000 ESM content r be used which is partially filled with Eatwicklumgaflüssigkeit," The image to be developed plate dasei for several seconds at a certain point, example = example at the 500 cc markf located; v / em ?. the cylinder contains about 200 ecm of developing liquid. Durofe this process beautiful pictures with! Consistently high quality

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leicht hergestellt werden. Selbstverständlich kann auch jede geeignete Einrichtung zur Steuerung der Dampfintensität verwendet werden, und dem Fachmann sind nach Kenntnis der vorliegenden Beschreibung viele derartige Steuerarten möglich. Falls erwünscht, kann der Dampf auch mit einem Gebläse o.a. an die Bildplatte herangebracht werden, wodurch ein konstanter Dampfdruck beibehalten wird. Während die Regulierung der Dampfkonzentration und der Erweichungszeit primäre Veränderliche bei der Dampferweichung sind, ermöglicht die Regelung der Temperatur des Dampfes eine weitere Steuerung der llrbWi^^mg., wobei die wärmeren Dämpfe allgeiaein eine schnellere Ei^eiohung und Teilchenwanderung verursachen.can be easily manufactured. Of course, any suitable device for controlling the steam intensity can also be used may be used, and many such types of controls will be apparent to those skilled in the art, given this description possible. If desired, the steam can also be brought to the image plate with a fan or similar, whereby a constant vapor pressure is maintained. While the regulation of the steam concentration and the softening time are primary variables in steam softening, The regulation of the temperature of the steam allows further control of the llrbWi ^^ mg., with the warmer Vapors generally accelerate ovulation and particle migration cause.

erwünscht, können auch Mischungen verschiedener Lösungsmittel verwendet werden. Beispielsweise bilden die Dämpfe piner Flüssigkeitsmischung von bis zu 50 VoIf-^i Methylenchlorid in Freon 113 einen guten Entwicklerstoff. if desired, mixtures of different solvents can also be used. For example, form The vapors of a liquid mixture of up to 50 volumes of methylene chloride in Freon 113 are a good developer.

Bei der Entwieklimg üxüceh Wärme erweichung wird die Bildplatte beispielsweise wenig© Sekunden in heiße luft gehalten, einer Infrarotstrahlung ausgesetzt9 mit einer erhitzten Platte berührt oder in eine heiße, nicht lösende Flüssigkeit wie z.B. Siliconöl eingetaucht.Softening at the Entwieklimg üxüceh heat the image plate, for example, held bit © seconds in hot air, exposed to 9 with a heated plate contacts or an infrared radiation is immersed in a hot, non-solvent liquid such as silicone oil.

Die Wärmeeinwirkung erfolgt normalerweise nur kurze Zeit, beispielsweise ca. 1 Sekunde oder weniger bis zu ca. 10 Sekunden oder mehr, was von der Intensität und der Art der Erwärmung, dem jeweiligen erweichbaren Stoff, seinem Zusammenhang zwischen Viskosität und Temperatur sowie anderen Eigenschaften abhängt. Es zeigte sich, daß bei den vorzugsweise zu verwendenden Teilchenarten wie z.B. bei amorphem Selen eine Erwärmung der Bildplatte von ca. 500C bis zu ca· 1500C für eine Dauer von 1 bis ca. 10 Se-The heat is normally only applied for a short time, for example about 1 second or less to about 10 seconds or more, which depends on the intensity and type of heating, the respective softenable substance, its relationship between viscosity and temperature and other properties. It was found that with the types of particles to be used with preference, such as amorphous selenium, heating of the image plate from approx. 50 ° C. to approx. 150 ° C. for a period of 1 to approx. 10 seconds

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- 36 künden optimale Bilder ergibt.- 36 announce optimal pictures results.

Ea ist zwar schwierig, die Erweichung mit zu großer Wärme durchzuführen, eine Einschränkung kann jedoch für einige Stoffe darin bestehen, daß die gewanderten Teile der Schicht 13 miteinander verschmelzen und einen Verlust an Bildschärfe verursachen.While Ea is difficult to perform the softening with too much heat, a limitation may be felt for some Substances consist in that the migrated parts of the layer 13 fuse together and a loss cause image sharpness.

Selbstverständlich können auch Kombinationen von Lösungsdänipfen und Wärmeerweichung gleichzeitig oder nacheinander verwendet werden. Entsprechende Ausführungen finden sich in der belgischen Patentschrift 709 703.Combinations of solution dumps can of course also be used and heat softening can be used simultaneously or sequentially. Find corresponding versions in Belgian patent specification 709 703.

Im folgenden wird die Struktur der im erfindungsgemäßen Verfahren verwendeten Bildplatte während und nach der Bilderzeugung beschrieben.The following is the structure of the in the invention Methods used imaging plate during and after imaging are described.

In Fig. 2A ist eine mit einem Bild versehene Bildplatte 18 dargestellt, deren Bild nach den verschiedenen Verfahrensarten erzeugt sein kann und durch die innerhalb der Schicht 12 erfolgte Teilchentrennung erkennbar ist. Einige Teilchen 20 sind praktisch vollständig auf die Unterlage gewandert, während einige Teilchen 22 nicht gewandert sind. Die Teile 20 entsprechen in ihrer Verteilung dem Muster aktivierender elektromagnetischer Strahlung 15 aus Fig. 1, die Teile 22 dem Bildhintergrund.FIG. 2A shows an image plate 18 provided with an image, the image thereof according to the various types of processes can be generated and can be recognized by the particle separation that has taken place within the layer 12. Some particles 20 have practically completely migrated onto the base, while some particles 22 have not have hiked. The parts 20 correspond in their distribution to the pattern of activating electromagnetic Radiation 15 from FIG. 1, parts 22 to the image background.

Wie bereits beschrieben wurde, handelt es sich bei der in Pig. 1 dargestellten Bilderzeugung um eine Positiv-Negativ-Abbildung, da die optisch belichteten Teilchen wandern und die nicht belichteten Teilchen nicht oder nur weniger stark wandern. Es ist ferner möglich, eine Positiv-Positiv-Abbildung zu erhalten, bei der die nicht belichteten Teilchen auf die Unterlage oder um einen größeren Betrag als die belichteten Teilchen wandern.As already described, the in Pig. 1, the image generation shown is a positive-negative image, since the optically exposed particles migrate and the unexposed particles do not migrate or only migrate to a lesser extent. It is also possible to use a To obtain positive-positive images in which the unexposed particles are on the base or around a larger amount than the exposed particles migrate.

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Alle Paktoren, die einen Einfluß darauf haben, ob ein vor-.gegebenes lichtempfindliches Teilchen eine Positiv-Positiv-Abbildung oder eine Positiv-Negativ-Abbildung bewirkt, sind noch nicht vollständig geklärt. ils ist jedoch bekannt, daß die Abbildungsart durch die Wahl des Vorzeichens und der Stärke des einwirkenden Feldes bzw. der Oberflächenladung, " durch die Wahl des erweichbaren Stoffes, durch die Wahl des zur Dampferweichung verwendeten Lösungsmittels und durch die Wahl der Zusammensetzung der lichtempfindlichen Teilchen sowie durch andere Verfahrensgrößen einschließlich der Temperatur beeinflußt werden kann. Daher sollen aus den lichtempfindlichen Stoffen, den Erweichungsarten und den erweichbaren Stoffen diejenigen ausgewählt werden, mit denen die jeweils erwünschten Bilder erzeugt werden. Verfahren zur Änderung des Abbildungssinnes der erzeugten Bilder sind ferner in der belgischen Patentschrift 714 068 und der deutschen Patentanmeldung P 17 97 039 beschrieben.All factors that have an influence on whether a given light-sensitive particles cause a positive-positive image or a positive-negative image not yet fully clarified. However, ils is known that the type of mapping through the choice of the sign and the strength of the acting field or the surface charge, " by the choice of the softenable substance, by the choice of the solvent used for steam softening and by the choice of the composition of the photosensitive particles as well as by other process parameters inclusive the temperature can be influenced. Therefore, from the photosensitive substances, the softening types and the softenable Substances those are selected with which the respectively desired images are produced. procedure to change the sense of the image generated also described in Belgian patent specification 714 068 and German patent application P 17 97 039.

Im Gegensatz zu der maximal möglichen Teilchentrennung in Fig. 2A zeigt die in Fig. 2B dargestellte Bildplatte, daß die gewanderten Teilchen 20, die den Teilchen 20 aus Fig. 2A entsprechen, nicht unbedingt in ihrer Gesamtheit auf die Unterlage U wandern müssen, sondern nur zu einem gewissen Grade in die Schicht 12 eindringen, um ein Bild zu erzeugen. Dieses kann abhängig von dem Betrag der Wanderung in reflektiertem Licht als Interferenzfarben erscheinen, denen eine Schiohtstärke der Schicht 12 über den teilweise gewanderten Teilchen 20 zugeordnet ist.In contrast to the maximum possible particle separation in Fig. 2A, the image plate shown in Fig. 2B shows that the migrated particles 20, which correspond to the particles 20 from FIG. 2A, do not necessarily have their entirety the substrate U must migrate, but only penetrate to a certain extent into the layer 12 in order to obtain an image produce. This can appear as interference colors depending on the amount of migration in reflected light, to which a layer thickness of the layer 12 over the partially migrated particles 20 is assigned.

Eine derartige teilweise Wanderung kann durch schwächere Belichtung, geringere Ladespannung oder weniger starke Einwirkung: von -^tWeiohungsmitteln in Form von Wärme, Dampf oder Flüssigkeiten erzielt werden. Zur Erzeugung von Interferenzfarben, ist die perforierte und nicht brechbare Art der Teilchenwanderungsschicht 13 außergewöhnlich gut geeignet, da die Wanderung so gering seinSuch partial migration can be caused by weaker exposure, lower charging voltage or less intense Influence: of living means in the form of heat, Steam or liquids can be achieved. To generate interference colors, the perforated and not The breakable nature of the particle migration layer 13 is exceptionally suitable because the migration will be so little

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kann, daß die Schicht nicht bricht, so daß ihre starke üeflexionsfähigkeit beibehalten wird, die satte Interferenzfarben erzeugt. Extrem winzige Änderungen des Wanderungsbetrages in der Größenordnung von 0,01 Mikron können merkliche Farbänderungen zur Folge haben. Fig, 2E zeigt im Querschnitt eine halbkontinuierliche Schicht eines nicht brechbaren Stoffes in Schweizer-Käse-Struktur, die bei Bilderzeugung eine direkte Betrachtung der Interferenzfarben ermöglicht. Selbstverständlich können auch brechbare Schichten zur Erzeugung des Interferenzfarbenbildes verwendet v/erden.can that the layer does not break, so that its strong eflectivity is maintained, which produces rich interference colors. Extremely tiny changes in the amount of migration on the order of 0.01 microns can result in noticeable color changes. Figure 2E shows in cross section a semi-continuous layer of a non-breakable substance with a Swiss cheese structure, which enables the interference colors to be viewed directly when the image is generated. Of course you can also breakable layers for generating the interference color image uses v / earth.

Fig. 2C zeigt eine Bildplatte, die für relativ kurze Zeit erweicht wurde oder bei der infolge relativ geringer Belichtung gemäß Fig. 1 die gewanderten Teilchen nicht vollständig auf die Unterlage 11 gelangt sind und nicht untereinander denselben Weg zurückgelegt haben. Wegen der Streuunge-und Brechungswirkung, die mit. der Teilehendispersion bzw. der unterschiedlichen Eindringtiefe auftritt, läßt der gewanderte Stoff 20 im Vergleich zu dem nicht gewanderten Stoff mehr oder weniger Licht durch, was von der Teilchengröße und der Verteilung sowie dem Grad der Dispersion und der verwendeten Lichtfarbe abhängt. Auf diese Weise kann die mit dem Bild versehene Platte als ein Durchsichtbild verwendet werden, wenn ihre Unterlage und die erweichbare Schicht zumindest teilweise durchsichtig sind.Figure 2C shows an optical plate that has been softened for a relatively short time or that has been softened as a result of relatively low exposure According to FIG. 1, the migrated particles have not completely reached the base 11 and not among one another have traveled the same way. Because of the scattering and refraction effects associated with. the part dispersion or the different penetration depth occurs, leaves the migrated substance 20 compared to that Not migrated substance more or less light through what the particle size and the distribution as well as the Degree of dispersion and the light color used depends. In this way, the tagged with the picture Plate can be used as a see-through image if its backing and the softenable layer are at least partially are transparent.

Duron die Dispersion des gewanderten brechbaren Stoffes in verschiedenen Tiefen der erweichbaren Schicht ist das in Mg. 2C dargestellte Teilchenwanderungsbild ein sichtbares Bild, bei dem die gewanderten Bereiche weniger durchsichtig oder untersohiedlich gefärbt sind. Bei Bildplatten mit der vorzugsweise verwendeten lichtempfindlichen Teilchensohicht aus amorphem Selen erscheinen die teilweiseDuron is the dispersion of the migrated breakable substance in different depths of the softenable layer Particle migration image shown in Mg. 2C is a visible image in which the migrated areas are less transparent or are colored differently. In the case of image plates with the photosensitive particle layer preferably used from amorphous selenium they appear partially

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gewanderten Bereiche bei Durchleuchtung mit dem normalen weißen Licht einer Glühlampe blau, während die nicht gewanderten Bereiche gelb-orange bis rot-orange erscheinen. Allgemein läßt der teilweise gewanderte Stoff mehr Licht durch, das von dem Selen stark absorbiert wird.Hiked areas when fluoroscopic with the normal white light of an incandescent lamp blue, while the non-hiked areas Areas appear yellow-orange to red-orange. In general, the partially migrated material lets in more light which is strongly absorbed by the selenium.

Fig. 2D zeigt eine Bildplatte, bei der die Kraftwirkung für die Teilchenwanderung in der für Fig. 1 beschriebenen Weise erzeugt wird* die gleichmäßige Ladung vor der Belichtung jedoch relativ stark ist, wodurch eine gewisse Ladungsinjektion in den brechbaren Stoff hinein auch in denjenigen Bereichen erzeugt wird, die normalerweise nicht wandern. Dadurch wandern auch diese Bereiche teilweise in verschiedene Tiefen der Schicht 12, während die an sich KU bewegenden Bereiche vollständig auf die Unterlage wandern. FIG. 2D shows an image plate in which the force effect for the particle migration is that described for FIG. 1 Way is generated * the even charge before exposure is relatively strong, creating a certain amount Charge injection into the frangible material is also generated in those areas that are normally not hike. As a result, these areas also migrate partially to different depths of the layer 12, while the per se KU moving areas move completely onto the surface.

Bei der Durchleuchtungsbetrachtung mit weißem Projektionslicht ist der Abbildungssinn der in Fig. 2D gezeigten Bildplatte entgegengesetzt derjenigen aus Fig. 2G, da die dispergierten Teile 22 des brechbaren Stoffes in Fig.· 2D mehr blaues Licht durchlassen und ein negatives Projektionsbild eines positiven Originals erzeugen. Dies ist beispielsweise der Fall, wenn die bildmäßige Belichtung 15 aus Fig. IC durch Reflexion an einer positiven Originalkopie entsteht, die aus dunklen Bildflächenteilen auf relativ hellerem oder reflexionsfähigerem Hintergrund besteht und ein normal geschriebener Brief sein kann. Für dasselbe Original erzeugt die Bildplatte gemäß Fig. 2C ein positives Projektionsbild, da die Teile 20 aus gewandertem Stoff hier denjenigen Teilen der Bildplatte entsprechen, die durch die Belichtung 15 beeinflußt wurden und relativ mehr blaues Licht durchlassen, während die Teile 22 den dunklen Teilen des Originals entsprechen und relativ wenig blaues Licht auf den Sichtschirm durchlassen. Ferner erscheint in Gegensatz zu dem in Fig. 2C ge-When viewing fluoroscopy with white projection light, the imaging sense is that shown in FIG. 2D Image plate opposite to that of Fig. 2G, since the dispersed parts 22 of the frangible substance in Fig. 2D let more blue light through and a negative projection image of a positive original. This is the case, for example, when the imagewise exposure 15 from FIG lighter or more reflective background and can be a normally written letter. For the same original, the image plate according to FIG Substance here correspond to those parts of the image plate which were influenced by the exposure 15 and transmit relatively more blue light, while the parts 22 correspond to the dark parts of the original and let relatively little blue light through to the viewing screen. Furthermore, in contrast to the one shown in FIG. 2C,

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zeigten Bild das in Pig. 2D gezeigte Bild bei Durchleuchtung mit weißem Licht als ein negatives Bildmuster aus orange-rotem amorphem Selen der Flächen 20 und einem Hintergrundmuster blauer'Färbung, das den Teilen 22 entspricht, die durch Brechung, Streuung und Absorption in verschiedenen Tiefen des erweichbaren Stoffes als blaue Teile erscheinen.showed picture that in Pig. 2D image shown as a negative image pattern when fluoroscopic with white light orange-red amorphous selenium of the surfaces 20 and a background pattern of blue color, which corresponds to the parts 22, which appear as blue parts due to refraction, scattering and absorption at different depths of the softenable material.

Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren erzeugten Teilchenwanderungsbilder, von denen einige Ausführungsformen in den Mg. 2A bis 2E dargestellt sind, können die verschiedensten physikalischen, chemischen, elektrischen und optischen Eigenschaften haben, die von der jeweiligen bildmäßig verteilten Absonderung des TeiIchenstoffes abhängen:The particle migration images generated by the method according to the invention, some of which are shown in FIGS Mg. 2A to 2E are shown, the most varied physical, chemical, electrical and optical properties which depend on the respective image-wise distributed secretion of the particulate matter:

a) Das Teilchenwanderungsbild bewirkt bei Lichteinwirkung eine bildmäßig verteilte Entladung durch Ladungsüber-a) The particle migration pattern is caused by exposure to light an image-wise distributed discharge through charge over-

% tragung, so daß es zur Erzeugung eines nutzbaren elektrostatischen Bildes, das dem Wanderungsbild entspricht, geladen und gleichmäßig belichtet werden kann. Das so erzeugte Ladungsbild kann durch übliche elektrofotografische Entwicklungsverfahren sichtbar gemacht werden. % transmission so that it can be charged and uniformly exposed to produce a usable electrostatic image corresponding to the migration image. The charge image generated in this way can be made visible by conventional electrophotographic development processes.

b) Das Teilchenwanderungsbild kann als Maske zur selektiven Einwirkung von härtender ultravioletter Strahlung auf die erweichbare Schicht verwendet werden. Beispielsweise bewirkt bei der Bildplatte gemäß I1Ig. 2C eine Einwirkung der Strahlung von oben eine Härtung der erweichbaren Schicht oberhalb der gewanderten Schichtteile 20.b) The particle migration image can be used as a mask for the selective action of hardening ultraviolet radiation on the softenable layer. For example, in the case of the image plate according to I, 1 Ig causes. 2C, exposure to radiation from above, hardening of the softenable layer above the layer parts 20 that have migrated.

c) Ist das Teilchenwanderungsbild aus magnetischen1Teilchen gebildet, so kann es als magnetisches Bild verwendet werden. c) If the particle migration image is formed from magnetic 1 particles, it can be used as a magnetic image.

d) Das Teilchenwanderungsbild kann zur Erzeugung eines anderen Bildes verwendet werden, indem eine selektive Reaktion des Teilchenwanderungsstoffes entsprechend sei-d) The particle migration pattern can be used to generate a different picture can be used by a selective reaction of the particle migratory substance accordingly.

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ner Lage mit einer reaktionsfähigen Unterlage oder einer reaktionsfähigen Oberschicht herbeigeführt wird.ner layer is brought about with a reactive underlay or a reactive top layer.

e) Das Teilchenwanderungsbild kann mit oder ohne erweichbare Schicht zur selektiven Belichtung seiner Unterlage verwendet werden, die lichtempfindlich sein und hierzu aus einer Diazoschicht, einem Kalvarfilm, einer fotografischen Emulsion oder einer Ätzschutzschioht bestehen kann.e) The particle migration image can be used with or without a softenable layer for the selective exposure of its base are used that are photosensitive and for this purpose made of a diazo layer, a Kalvar film, a photographic emulsion or a protective layer.

Wird eine fotohärtbare (oder fotoerweichbare) lichtempfindliche Unterlage verwendet, siehe beispielsweise Beispiel XXVIII, so kann mit der bildmäßig fotogehärteten Unterlage leicht ein geätztes Reliefbild hergestellt werden, das beispielsweise als Druckplatte verwendet wird. Die "Verwendung der Teilchenwanderungsbilder als optische Maske zur Erzeugung von Bildern in oder auf einer lichtempfindlichen Unterlage bringt eine bildmäßig verteilte Projektionsempfindlichkeit (die fotohärtende Strahlung hat eine gleichmäßige Einwirkung), eine positive oder negative Abbildungsmöglichkeit und eine verzögerte Belichtung und Entwicklung der Unterlage mit sich. Die Maske kann nach der Fotohärtung entfernt werden.Becomes a photo-curable (or photo-softenable) photosensitive Base used, see for example Example XXVIII, so can with the image-wise photo-hardened base an etched relief image can easily be produced, which is used, for example, as a printing plate. The usage the particle migration images as an optical mask for generating images in or on a light-sensitive Underlay brings an image-wise distributed projection sensitivity (the photo-hardening radiation has a uniform exposure), a positive or negative imaging option and a delayed exposure and Development of the document with itself. The mask can be removed after photo curing.

Bei einer Ausftihrungsform des Verfahrens kann die lichtempfindliche Schicht ein Fotoleiter sein. Wird ein Teilchenwanderungsbild auf dem Fotoleiter erzeugt und die erweichbare1 Schicht entfernt, so kann das Teilchenwanderungsbild als optische Maske zur Erzeugung eines elektrofotografischen Tonerbildes verwendet werden^ wozu der mit der Maske versehene Fotoleiter gleichmäßig elektrostatisch aufgeladen, gleichmäßig mit aktivierender Strahlung belichtet und damit in den belichteten Flächenteilen entladest, und das so entstandene latente Bild mit elektroskopisohem Zeichenmaterial entwickelt wird. Es werden hierbei die üblichen elektrofotografischen Verfahrensschritte durch-In one embodiment of the method, the light-sensitive layer can be a photoconductor. If a particle migration image is generated on the photoconductor and the softenable 1 layer is removed, the particle migration image can be used as an optical mask to generate an electrophotographic toner image, for which the photoconductor provided with the mask is uniformly electrostatically charged, evenly exposed to activating radiation and thus exposed in the exposed Discharge surface parts, and the resulting latent image is developed with electroscopic drawing material. The usual electrophotographic process steps are carried out here.

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geführt, die dem Fachmann geläufig sind bzw. in der deutschen Patentanmeldung P 19 10 748.3 beschrieben sind. Die Maske kann, falls erwünscht, nach der Belichtung entfernt werden. Wird sie nicht entfernt, so wird das Tonerbild über dem Teilchenwanderungsbild erzeugt und hat eine verbesserte Dichte oder verbesserte bzw. geänderte Färbung.out, which are familiar to the person skilled in the art or are described in German patent application P 19 10 748.3. the If desired, mask can be removed after exposure. If it is not removed, the toner image will be over the particle migration pattern and has an improved density or improved or changed coloration.

Das mit verschieden empfindlichen Stoffen in derselben erweichbaren Schicht erzeugte Teilchenwanderungsbild zeichnet sich dadurch aus, daß seine verschiedenen Stoffe mit verschiedener Tiefe abhängig von ihrer Empfindlichkeit für die verwendete Strahlung in der erweictibaren Schicht dispergiert sind. Die verschiedenen Stoffe können ferner verschiedene Ladungsmengen zur Wanderung benötigen, da sie entweder unterschiedlich in ihrer Teilchengröße oder der ladungs in j ektionsmenge sind· In diese® Falle muß die brechbare Schicht nicht bestrahlt werden? na das Teilchenwanderungsbild aus verschiedenen Stoffen sit Terschiedenen Dispersionen zu erzeugen.That with different sensitive substances in the same softenable layer generated particle migration is characterized by the fact that its various substances with different depth depending on their sensitivity to the radiation used in the softenable layer are dispersed. The various substances can also need different amounts of charge to migrate because they either different in their particle size or in the amount of charge in j ection · In this® trap, the breakable one must Layer not be irradiated? well the particle migration picture Different dispersions can be produced from different substances.

Die verschiedenen brechbaren Stoffe Können von Anfang an verschiedenartig in der erweiehbarea Schicht verteilt wer-' den, beispielsweise kann Zinkoxid gleichmäßig in der erweichbaren Schicht verteilt sein, während Bisenteilchen, die als Schicht verteilt sind, an der ofeeren Fläche der erweichbaren Schicht eingebettet sind.The various crushable materials can from the start variously distributed in the erweiehbarea layer advertising 'to, for example, zinc oxide can be evenly distributed throughout the softenable layer, while Bisenteilchen distributed as a layer, are embedded in the ofeeren surface of the softenable layer.

Wie bereits ausgeführt, bestehen die merklichsten Wirkungen der Teilohenwanderung in Änderungen der optischen Durchlässigkeit, der Heflexion und der Lichtstreuung, Diese Wirkungen ändern sich mit der Wellenlänge des zur Betrachtung verwendeten Lichtes. Wie gleichfalls bereits erläutert wurde, kann eine nur teilweise Wanderung des Stoffes 20 durch schwächere Belichtung Taei der Erzeugung des latenten Bildes verursacht werden·As already stated, the most noticeable effects exist the partial migration in changes of the optical transmittance, the heflexion and the light scattering, These effects change with the wavelength of the zur Viewing used light. As has also already been explained, only a partial migration of the Fabric 20 by weaker exposure Taei of the generation of the latent image

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Auf diese Weise kann lediglich durch Änderung der Belichtung ein großer Bereich der Wanderungstiefe und der entsprechenden Dispersionen des gewanderten Stoffes in den jeweiligen Eindringtiefen erreicht werden, wobei andere Faktoren wie die Erweichung und die Ladespannung unverändert bleiben. Entsprechend ändern sich die Färbung und die optische Dichte eines entwickelten Bildes abhängig von der Belichtung· Allgemein verringert sich die optische Dichte der belichteten Bereiche bis zu einem gewissen Minimalwert bei Betrachtung mit Durchleuchtungslicht, für das der Teilchenwanderungsstoff 20 einen hohen Absorptionskoeffizienten hat, wenn die zur Erzeugung des latenten Bildes verwendete Lichtmenge erhöht wird. An diesem Punkt verhalten sich die belichteten Bereiche ähnlich den gewanderten Bereichen 20 bei dem in Fig. 2C gezeigten Bild, wonach bei ansteigender Belichtung und Konstanthaltung der anderen Faktoren die optische Dichte bis zum Originalwert ansteigt* An diesem Punkt verhalten sich diese Bereiche ähnlich den gewanderten Teilen des in Fig. 2A gezeigten Bildes.In this way, just by changing the exposure, a wide range of hike depth and corresponding Dispersions of the migrated material in the respective Penetration depths can be achieved, with other factors such as the softening and the charging voltage remain unchanged. The color and the optical density change accordingly of a developed image depending on the exposure · General the optical density of the exposed areas is reduced to a certain minimum value when viewed with fluoroscopic light, for which the particle migrant 20 has a high absorption coefficient when the amount of light used to form the latent image is increased. At this point, the exposed areas behave similarly to the migrated areas 20 in the image shown in Fig. 2C, according to which with increasing exposure and keeping the other factors constant the optical density increases to the original value * At this point these areas behave similarly to the migrated parts of the image shown in Fig. 2A.

Der im vorstehenden Absatz beschriebene Effekt ist in Fig. 3 grafisch dargestellt. Diese zeigt den Zusammenhang der optischen Durchlässigkeit für blaues Licht und der Lichtfärbung bei weißem Projektionslieht mit verschiedenen Belichtungswerten für eine Bildplatte mit einer Teilchenwanderungsschicht aus Selen. Die Bildbelichtung der an Hand von Fig. 1 beschriebenen Art steigt ausgehend vom Punkt 26 zum Punkt 27 hin an. Die Lichtfärbung für weißes Projektionslicht in den belichteten Flächenteilen ändert sich von anfangs rot-orange bis blau. Die Farbe kehrt zum anfänglichen Rot-Orange zurück, wenn die Belichtung vom Punkt 27 zum Punkt 28 hin verstärkt wird. Die Rot-Orange-Färbung entspricht den vernachlässigbar schwach oder nicht belichteten Bereichen sowie den maximal belichteten Bereichen, während die blaue Färbung in einem Bereich auftritt, der mit ungefährThe effect described in the previous paragraph is shown graphically in FIG. This shows the connection the optical transmittance for blue light and the light color for white projection light with different Exposure values for an image plate with a particle migration layer made of selenium. The image exposure of the type described with reference to FIG. 1 increases starting from point 26 to point 27. The color of light for white projection light in the exposed Area parts changes from initially red-orange to blue. The color reverts to the initial red-orange as the exposure increases from point 27 to point 28 will. The red-orange color corresponds to the negligibly weak or unexposed areas as well as the maximally exposed areas, while the blue coloration occurs in an area corresponding to approximately

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lie Selen enttmltendienLet selenium be removed

so ausgebildet sein, daß sie l»ei der eine Fä^ataitgsandeirang erialireii öder nicht. In Weise perlen Sciiicliten verwendet, die iiire Pärtre so; laß siöii feilctoen^rnnderungsMläei' ergelien^ diie weise als frBjefctlons-^Mrclisiclitfeilder zur Originalbildes frei der Mefetrocfotografle Terwendetbe trained in such a way that they a Fä ^ ataitgsandeirang erialireii or not. In Wise pearls Sciiicliten used, the iiire Pärtre so; Let siöii feilctoen ^ change orders come ^ thie as frBjefctlons- ^ Mrclisiclitfeilder Original image freely from Mefetrocfotografle Terwendet

Die farbänderting kann Isei Durch! euch tang entweder direkt ©der durch Projektion auf einem Bildschirm festgestellt werden«: , " ""■;/"...The color change can be done by Isei! you tang either directly © which can be determined by projection on a screen «:," "" ■; / "...

ORIGINAL INSPECTEDORIGINAL INSPECTED

Die Art des erzeugten Teilchenwariderungsbildes sowie dessen Färbung für eine vorgegebene Schicht, Ladespannung und Entwicklung hängt von den Belichtungswerten ab. Werden beispielsweise nur die Werte 26 und 27 verwendet, so ergeben sich nurrot-orange-farbene und blaue Bereiche. Werden Belichtungswerte zwischen den Punkten 26 und 27 verwendet-, so können rot-blaue Färbungen in gleicher Weise festgestellt v/erden.The type of particle replication image generated and its Color for a given layer, charging voltage and development depend on the exposure values. For example If only the values 26 and 27 are used, only red-orange-colored and blue areas result. Will Exposure values between points 26 and 27 are used, so red-blue colorations can be determined in the same way v / earth.

Allgemein lassen die blauen Bereiche mehr Licht durch, das durch das Selen stark absorbiert wird. Lieht, das durch das Selen nicht stark absorbiert wird, beispielsweise rotes Licht, wird durch die Selenteilchen mehr absorbiert und gestreut, wenn, es in der durch die teilweise Wanderung erhaltenen Konfiguration dispergiert wird. Es entspricht dann dem blauen Bereich 27 in Fig. 3.In general, the blue areas let more light through, which is strongly absorbed by the selenium. Lies that by which selenium is not strongly absorbed, for example red light, is more absorbed by the selenium particles and, if, it is in the by the partially scattered Migration obtained configuration is dispersed. It then corresponds to the blue area 27 in FIG. 3.

Jede der in Fig. 2A bis 2E dargestellten Bildplatten sowie auch andere Bildplattenarten können mit der vorzugsweise verwendeten Wärme- und Dampferweichung sowie Kombinationen dieser Erweichungsarten behandelt werden.Each of the optical disks shown in FIGS. 2A to 2E, as well as other types of optical disks, can preferably be used with the used heat and steam softening and combinations these types of softening are treated.

Mit V/ärme erweichung und mit Dampf erweichung ergeben sich vergleichbare Bilder* Es sind außer den in Fig· 2A bis 2E dargestellten Bildern viele andere Formen der Teilchenwanderungsbilder möglich, wenn die Anfangsstruktur unterschiedlich ist. Diese bestimmt den Ort für die nicht gewanderten Teilchen, ihre Verteilung und den Betrag der Wanderung der anderen Teilchen, bevor sie die Unterlage oder eine Grenzfläche der erweichbaren Schicht erreichen.With V / arm softening and with steam softening result Comparable Images * There are many forms of particle migration images other than those shown in FIGS. 2A to 2E possible if the initial structure is different is. This determines the place for those who have not hiked Particles, their distribution and the amount of migration of the other particles before they hit the substrate or an interface reach the softenable layer.

Da die optischen Eigenschaften der durch Teilchenwanderung erzeugten Bilder (Bilddichte, Durchlässigkeit und Färbung) von der Lage der Teilchen und ihrer Verteilung abhängen, wurden Versuche mit dem Elektronenmikroskop durchgeführt,Because the optical properties of the particles due to migration generated images (image density, transparency and coloring) depend on the position of the particles and their distribution, experiments were carried out with the electron microscope,

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um bei ultrafeinen Querschnitten der Bildplatten die Lage der durch Belichtung gewanderten Teilchen festzustellen^'' Hierzu wurden verschiedene Teilchenwanderungsbilder mit' Dampferweichung oder Wärmeerweichung in noch zu beschreibender Weise vorbereitet. Die Bilderzeugung erfolgte entsprechend dem in Fig. 1 dargestellten Verfahren, wobei Keilstufenbelichtungen im Belichtungsbereich für maximalen Farbkontrast bzw. maximale Dichteänderung durchgeführt wurden. Ultradünne Schnitte des mit einem Bild versehenen Filmmaterials wurden für jeden Belichtungsschritt mechanisch unter Verwendung des Ultra-Mikrotoms hergestellt.in order to determine the position of the particles migrated by exposure in the case of ultrafine cross-sections of the image plates ^ '' For this purpose, various particle migration patterns with 'steam softening or heat softening in a yet to be described Way prepared. The image generation was carried out according to the method shown in FIG. 1, wherein Wedge step exposures carried out in the exposure area for maximum color contrast or maximum change in density became. Ultrathin sections of the imaged film material were mechanical for each exposure step made using the ultra-microtome.

Die Anwendung dieses Verfahrens erforderte, daß die mit einem Bild versehene Bildplatte in einige tragende Schichten eingebettet wurde, um ihr während der Schnittbildung einen Halt zu verleihen. Ein hierzu geeigneter Stoff ist eine Epoxyzusammensetzung von ca. 70 fo Araldite 6020, ein flüssiges aromatisches Epoxyharz der Ciba Corp., und 30 $ Lancast Α-Härter, ein Polyamin-Flexibilisierungsiaittel der Lancaster Ghemical Corp. Diese Mischung härtet sich bei Zimmertemperatur mit geringer exothermischer Wirkung aus und hat keine wahrnehmbare chemische Wirkung auf den erweichbaren Stoff. Zur Herstellung von Schnitten mit ca. 500 bis 1000 Angström-Einheiten Stärke wurde ein Ultra-Mikrotom von Leitz verwendet. Die Proben wurden dann mit einem Elektronenmikroskop Philips EM200 von Philips Electronic Instruments, Mt. Vernon, New York, geprüft.Use of this process required that the imaged optical plate be embedded in some structural layers to provide support during the cut. A suitable material for this purpose is an epoxy composition of about 70 fo Araldite 6020, a liquid aromatic epoxy resin from Ciba Corp., and 30 $ Α Lancast curing agent, a polyamine-Flexibilisierungsiaittel Lancaster Ghemical Corp. This mixture hardens at room temperature with little exothermic effect and has no noticeable chemical effect on the softenable material. A Leitz ultra-microtome was used to produce sections between 500 and 1000 Angstrom units thick. The samples were then examined with a Philips EM200 electron microscope from Philips Electronic Instruments, Mt. Vernon, New York.

Fig. 5 zeigt in Mikrografien bei ca. 7200 X die Teilchenwanderung einer gleichmäßig belichteten Bildplatte bei verschiedenen Bellchtungsstärken E« bis Et~. Fig» 4 zeigt die optische Dichte für blaues Licht abhängig von der bei den verschiedenen Mikrografien EQ bis E-, 0 verwendeten Belichtung. Jede der Mikrografien stammt von derselben Bildplatte, die in der dargestellten Weise schrittweise immerFig. 5 shows in micrographs at approx. 7200 X the particle migration of a uniformly exposed image plate at different viewing strengths E «to Et ~. FIG. 4 shows the optical density for blue light as a function of the exposure used in the various micrographs E Q to E 0. Each of the micrographs comes from the same image plate, always step by step in the manner shown

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werden* Beispielsweise fcann ζ« Jedem näen der läitwicfelong eine Iiöstmgsfliissigkeit auf ein Oieiliihenwandertingsbild aufgetiracM werdenf xm es in ein Bild zti -verwandeln^ dessen erweiefrbare ScMsht das Eöstmgsmi-ttel afegewasclien wird, wie es in der* For example, fcann are ζ "Each Naeen the läitwicfelong a Iiöstmgsfliissigkeit be aufgetiracM a Oieiliihenwandertingsbild f xm it into an image whose zti -verwandeln ^ erweiefrbare ScMsht the Eöstmgsmi-ttel afegewasclien is, as shown in

Patentsenrift 1 4S6 549 iDesisihrietoen ist» In diesem Zusammenhang sei ferner darauf hingewiesen, daß die angebrachte LösnngsfBissigkeit nicht isolierend sein mtiß» Es können vielmehr auch leitfähige Flüssigkeiten ■verwendet werden.-Patent document 1 4S6 549 iDesisihrietoen is » In this context, it should also be noted that that the attached solvent bite is not insulating "Rather, conductive liquids can also be used ■ be used.

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Bm ,zjeigt-jä ssucjfe f mmez* da& dia nicht gewandert en. Toil ciis^ dear. leilc^f^a^ep^gaacJjiclrt: durchs Abreiben, entfernte, wer, könne.3%. so, daß «sin; besser sichtbares- BjLLd; entsteht». könneni diese Bereiche durch, klebendes Abziehen> encfe-ii ode^ die^ BiIdj)Jl:a1;te wird, durek andaara Bm , zjeigt-jä ssucjfe f mmez * da & dia not hiked en. Toil ciis ^ dear. leilc ^ f ^ a ^ ep ^ gaacJjiclrt: by rubbing, removed, who could, 3%. so that «sin; more visible- BjLLd; arises ». kanni these areas through, adhesive peeling> encfe-ii ode ^ die ^ BiIdj) Jl: a1; te will, durek andaara

WiSb erdpitdiptgsgemäß herge.srb.ellteii, Bilder r <iie5 Eii"b: Dapgf e33weichung: erzeug1;eii., können, von WiSb erdpitdiptgsgemäß herge.srb.ellteii, images r <iie 5 E ii "b: Dapgf e33weichung. Erzeug1; eii can, of

awuß die- an#e?re tlfeertrageiii werden.. Aucii kann, eina leieirfc abziehbare; Zwisöhenschichit beispielsweiia must be an # e? re tlfeertrageiii .. Aucii can, aa leieirfc peelable; Zwisöhenschichit, for example

von. General Electric, zwischen, dier Sehichrt xm&i der ΙϋηΛerläge vorgeBehen sein;,, i Abziehen, ohnei einen, sehr apitzen Winkel in, npcfc zu, toesch3?eihender Weise, zu, erleicht ern;r In einem. ^ ein© mit Baiapf vonJPreon 113: eiweiehrt;e; Bildiglai^te. auffrom. General Electric, between the views xm & i of the ΙϋηΛerläge be done; ,, i peel off, without a, very sharp angle in, npcfc to, toesch3? r in one. ^ a © with Baiapf fromJPreon 113: eiweiehrt; e; Pictorial ice. on

Mylairunfcerlage: mit der Teilohenwand]erungs>-nach, unten gegen ein: Blatt aus. ·» .Φ63* itbteilung: Anseo der G-eneral Aniline: gelegt undi diese Kombination zwischen DruckrollenMylairunfcerlage: with the partial wall] erungs> -nach, down against on: sheet off. · ».Φ63 * division: Anseo der G-eneral Aniline: placed andi this combination between pressure rollers

äm<& au£ cav,10Q^Q erhitzt waren. Beim wurdm das, aluniinisierte. Mylar unter einem, spitzen= s ch^rf najch hinten* bis zur Ebene,, djer Oberfläche weichbaren. Schicht zurückgebogen,,; wobei die erweichbajre, Schiehife. mit diem nicht gewanderten und in bildmäßiger: TejßT: teilung: gewanderten, dleilchenstoff unversehrt auf das? Pl.esta^.übejrtragen wurde. äm <& au £ cav, 10Q ^ Q were heated. When it was, aluniinized. Mylar under a pointed = s ch ^ rf najch back * up to the level of the softenable surface. Layer bent back ,,; being the softener, Schiehife. with the not hiked and in pictorial form: TejßT: Teilung: hiked, dleilchenstoff undamaged on that ? Pl.esta ^. Was carried over.

Die, optische Durchlässigkeitsdichte wird mit einem Joyce-kobel Mikrodensitometer bei einer. Beleuchtung . mit einer\Ioiframfa4eniampe von 30000K, einer Fotozelle der Empfindlichkeit S-5 ψιο. einer 0,1 NA-Öptik gemessenv Blaues Licht wird mit einem Blaufilter, Corning CS5-56, rotes Licht mit einem Filter Ilford 204 erzeugt, und zwar mit einem Durchlaßbereich>vön. -5700 A^igström-Eiriheiten über 7000The optical transmission density is measured with a Joyce-kobel microdensitometer at a. Lighting. with a \ Ioiframfa4eniampe of 3000 0 K, a photocell of the sensitivity S-5 ψιο. 0.1 NA optics. Blue light is generated with a blue filter, Corning CS5-56, red light with an Ilford 204 filter, with a transmission range> vön. -5700 A ^ igström units over 7000

ORIGINAL INSPECTEDORIGINAL INSPECTED

. - 49 -. - 49 -

Im Gegensatz zur vorstehenden Beschreibung des Wanderungsweges der Teilchen als einfach und direkt zeigt die Elektron enmikroskopie bei einigen Bilderzeugungen einen zellenartigen kreisförmigen Wanderungsweg, der wohl mit entsprechend verlaufenden Wärmeströmungen verwandt ist«In contrast to the above description of the migration path of the particles as simple and direct, the electron shows enmikoskopie a cell-like circular migration path with some image generation, which is probably with corresponding is related to thermal currents «

Die folgenden Beispiele dienen der weiteren speziellen Erläuterung des erfindungsgemäßen Verfahrens, Anteile und Prozentwerte beziehen sich auf das Gewicht, falls nicht anders angegeben. Alle Belichtungen erfolgen mit einer Wolframfadenlampe, falls nicht anders angegeben. Die folgenden Beispiele stellen einige vorzugsweise Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Verfahrens dar. The following examples serve for further specific explanation of the method according to the invention, proportions and percentages relate to the weight, if not stated otherwise. All exposures are made with a tungsten filament lamp, unless otherwise stated. The following examples represent some preferred embodiments of the method according to the invention.

BEISEIEL" l"EXAMPLE "l"

Eine Bildplatte der in Pig. 1 dargestellten Art wird hergestellt, indem zunächst ca. 5 Teile Staybelite Ester 10 in ca. 20 Teilen Zyclohexanon und ca. 75 Teilen Toluol gelöst werden. Unter Verwendung einer Tiefdruckrolle wird die lösung dann auf einen 0,08 mm starken Mylar-Polyesterfilm aufgebracht, der mit einem dünnen, halbdurchlässigen Aluminiumüberzug versehen ist. Die Lösung wird bis zu einer derartigen Stärke aufgebracht, daß sie nach einer Lufttrocknung von ca. 2 Stunden zur Verdunstung des Zyclohexanons und des Toluols aus einer ca. 2 Mikron starken Schicht aus Staybelite Ester besteht. Eine dünne Schicht aus teilchenförmigen! glasigen Selen von ca. 0,5 Mikron Stärke wird dann auf die Staybelite-Fläche durch Vakuumauf dampfung aufgebracht, wozu das in der französischen Patentschrift 1 466 349 beschriebene Verfahren angewendet wird. . .-An image plate of the in Pig. 1 type shown is produced, by first adding about 5 parts of Staybelite Ester 10 in about 20 parts of cyclohexanone and about 75 parts of toluene be solved. The solution is then applied to 0.08 mm thick Mylar polyester film using a gravure roller applied, which is provided with a thin, semi-permeable aluminum coating. The solution will be up to applied such a strength that it after air drying of about 2 hours for evaporation of the cyclohexanone and the toluene consists of an approx. 2 micron thick layer of Staybelite ester. A thin layer from particulate! glassy selenium of about 0.5 microns Starch is then vacuum applied to the Staybelite surface applied steam, including the method described in French patent 1,466,349 used will. . .-

Die Bildplatte wird dann nach dem erfindungsgemäßen Verfahren mit einem Bild versehen, indem sie bei Dunkelheit auf eine positive Spannung von ca· 100 Volt unter Verwen-The image plate is then provided with an image according to the method according to the invention by placing it in the dark to a positive voltage of approx. 100 volts using

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dung einer Korona-Entladungsvorrichtung der in der 0S schrift 2 588 699 beschriebenen Art aufgeladen wird,-Belichtung erfolgt mit 54 Luxsec. Der Film wird dann entwickelt, d.h. erweicht, während er in Dunkelheit gehalten wird, indem er in die Dämpfe von 1,1,1-Trichloräthan gebracht wird. Hierzu wird er mit Klammern in ein 2-Liter-Gefäß gebracht, das ungefähr 100 ecm flüssiges 1,'1,1-Triehloräthan enthält. Der Film wird oberhalb des Entwicklerstoffes gehalten und den Dämpfen 3 Sekunden lang ausgesetzt, wonach er aus dem Gefäß herausgenommen wird.formation of a corona discharge device in the OS font 2 588 699 described type is charged, -exposure takes place with 54 Luxsec. The film is then developed, i.e., softened, while it is kept in the dark by being brought into the vapors of 1,1,1-trichloroethane. To do this, it is put into a 2-liter jar with clips brought about 100 ecm of liquid 1,1-triehlorethane contains. The film is held above the developer and exposed to the vapors for 3 seconds, after which it is removed from the vessel.

Bei Prüfung lies Films unter dem Mikroskop zeigt sich, daß ein Teilchenwanderungsbild entstanden ist, das aus einer teilweisen Dispersion der fotoleitfähigen Teilchen in der Tiefe der erweichbaren Schicht besteht und die in Fig. 2C gezeigte Struktur hat. Das Bild ergibt sich aus der bildmäßig verteilten Wanderung der belichteten fotoleitfähigen Teilchen in Richtung der Plattenunterlage, während die fotoleitfähigen Teilchen in den nicht belichteten Flächenteilen unbeeinflußt bleiben.Examination of the film under the microscope shows that a particle migration image has arisen from a partial dispersion of the photoconductive particles exists in the depth of the softenable layer and has the structure shown in Fig. 2C. The picture emerges from the imagewise distributed migration of the exposed photoconductive particles in the direction of the plate substrate, while the photoconductive particles in the unexposed areas remain unaffected.

Bei Verwendung als Projektionsbild ergibt sich ein Abbildungssinn, der dem Originalbild entspricht. Ist das Originalbild beispielsweise das von. einer normalen Kopie reflektierte und fokussierte Licht, das schwarze oder dunkle Bildflächenteile auf hellerem Hintergrund wiedergibt, wie dies bei normaler Sehreibmaachinenschrift der Pail ist, so hat das projizierte Bild dunklere orange-farbene Bildflächenteile auf bläulich weißem Hintergrund auf dem Projektionsschirm. Wird die Stärke des projezierten; Lichtes erhöht, go wird der bläulich weiße Hintergrund heller, und die Bildflächenteile werden relativ mehr orange-farben, da eine höhere Gesamtmenge sichtbaren Lichtes durch die Hintergrundflächen hindurchtritt·When used as a projection image, the result is a sense of image which corresponds to the original image. For example, if the original image is that of. a normal copy reflected and focused light that reproduces black or dark parts of the image on a lighter background, as is the case with normal typewriter writing Pail is so the projected image has darker orange tones Image surface parts on a bluish white background on the projection screen. Will the strength of the projected; Light increases, the bluish white background becomes go lighter, and the image area parts are relatively more orange in color, since a higher total amount is visible Light passes through the background surfaces

Bei grünem oder blauem Projektionslicht erscheint dasThis appears with green or blue projection light

909840/0984909840/0984

,eines: positiven Original- ^aAi^-kldf e^sohg-iint» dfte>. sfe% hergestellte. Bildplatte^ von=, one : positive original ^ aAi ^ -kldf e ^ sohg-iint »dfte>. sfe% produced. Image plate ^ of =

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sie, mi"b: eiiiemshe, mi "b : eiiiem

. erg/cm . Dairn er~. erg / cm. Dairn he ~

duucli EinwirkWÄg einteswozu, da^s, in; Bespiel, X toeseiiriela mit' d\em: "Lfeterscliied- angewenctet: wird;,, daß dieduucli EinffektWÄg one thing to, that ^ s, in; Example, X toeseiiriela with 'd \ em : "Lfeterscliied- applied : is; ,, that the

erzeagt werden, -und: ca.- 2 SelEuitdeil· laugand: approx. 2 SelEuitdeil · laug

Es ergi1?t: siiolL eiri BiXd1 d©r in, Big. 20 dargestellten Apt, das wie^ %τ% Beispiel I betraglitet: wird»The result is : siiolL eiri BiXd 1 d © r in, Big. 20 shown apt, which amounts to ^ % τ% example I: is »

. BEISEIEL· III . EXAMPLE III

Eine Bildplatte wird gemäß Beispiel I hergestellt, wobei der Staytoelite Ester dMXQh ein, auf -iibliche Yteise. syntheti siertes 80/20 Mol-^-Copolymer τοη, Stj-rol und; Hexylmetha-. .crylat ersetzt ist», das eine Eigen.visfcpsität von ca. 0,179 dl/g (gemessen in toluol) hat. Die so hergestellte Bildplatte, hat eine dünne, teilchenf örmige und glasige Selenschicht von ca· 0,3 Mikron Stärke an der Oberfläche der KvinsiJstoffschicht, die eine Stärke von ca. 2 Mikron hat "und, auf einer ca. 0,08 mm starken aluminisierten Mylaruntjerlage angeordnet ist.An optical plate is made according to Example I, wherein the Staytoelite Ester dMXQh, on the usual yteise. syntheti sated 80/20 mol - ^ - copolymer τοη, Stj-rol and; Hexylmetha-. .crylate is replaced », which has an inherent viscosity of approx. 0.179 dl / g (measured in toluene). The one made in this way Image plate, has a thin, particulate and vitreous shape Selenium layer approximately 0.3 microns thick on the surface the KvinsiJstoffschicht, which is about 2 microns thick has "and, on an approximately 0.08 mm thick aluminized Mylaruntjerlage is arranged.

0098 48/09 8 40098 48/09 8 4

BAD ORIGINALBATH ORIGINAL

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ii;aiJ£L feei .Smafcelhaeit ^auf von ca.. 200 Ifait isrter Verwendung einer iKorona-ii; aiJ £ L feei .Smafcelhaeit ^ on from approx. 200 ifait isrter use of an iKorona-

aufgeladen, .wie sie. :in der UB-Patent-' ssihrif t ,2 ;5S8 &99 toesehrietoen ist=, Bann wird die liladrfce mtb Einem crptisciien Bild belicliijei:,, wobei di:e Energie in d:en feelicäiteiien Flaaheniieilen ;ea;. 54 I/uxsee toeträg-t^ Ein won 10:00 com liiüäll; liuid 5 cm BcLrokmes&er wirdcharged like them. : in the UB-Patent- 'ssihrif t, 2; 5S8 & 99 toesehrietoen is =, spell is the liladrfce mtb Belicliijei a crptisciien picture: ,, where di: e energy in d: en feelicäiteiien flaaheniieilen; ea ; . 54 I / uxsee toeträg-t ^ Ein won 10:00 com liiüäll; liuid 5 cm BcLrokmes & he will

.mänfc -200 ©cm einer :50 $igen Misclnmg won Ire on 113 .'..mänfc -200 © cm one: 50 $ igen Misclnmg won Ire on 113. '.

iB^üylenBiilQrid gafüllt. "Bei Itankellrei'fc wird er darua: o;a·« 4 iSiektmäen. lang an der 500 ecm-Markierung des Zylinders toei sa* 250O gehalten,. Bei !Prüfung unter dem Mikrosk©p zeigt dsr S1IIm ein aus gewanderten fotoleitfänlgen Teil-X3teen. toe stehendes Bild, ahnlich aen Teilchen 20 in !"ig;· 2G1 die in. άΒχι feelieirteten Plächenteilen gewandert siind^ während :d3ie nicht toeliehteten ^Plächenteile die fo-toleitfähigen Teilchen wo. der Oteerfläehe des Kunststoffes praktisch iinheeinflußi; enthalteai. Me so mit einem Bild versehene Bildplatte wird mittels Durchleuchtung mit weißem lacht betrachtet und zeigt ein blaues Bild auf einem rot-orange-farbenem Hintergrund.iB ^ üylenBiilQrid gafüll. "With Itankellrei'fc it is held darua: o; a ·« 4 iSiektmä. Long at the 500 ecm mark on the cylinder toei sa * 25 0 O. When examined under the microscope, the S 1 IIm shows an off siind · 2G 1 hiked the feelieirteten in άΒχι Plächenteilen ^ while; migrated fotoleitfänlgen part-X3teen toe still image, resembling ate particles 20 in "ig: d3ie not toeliehteten ^ Plächenteile the fo-toleitfähigen particles where.!.. the surface of the plastic practically has an influence; containeai. The image plate provided with an image in this way is viewed by means of fluoroscopy with white laughs and shows a blue image on a red-orange-colored background.

Eine Bildplatte bzw. ein iilm wird hergestellt gemäß Beispiel I^ waotoei der Btajrbelilie Ester durch Mccopale H-2 eraeiizt ist und eine teilchenförmige Schicht aus ; glasförmigem Selen von ca. 0,5 Mikron Stärke an der Oberfläche der ca. 2 Mikron starken Schicht .aus Ticcppale angeordnet ist, die auf einer alumiiiisi er ten Mylar ~ folie liegt.. . :. ■ - ,,:- An image plate or film is produced according to Example I ^ waotoei the Btajrbelilie Ester is purified by Mccopale H-2 and a particulate layer of; glass-like selenium of approx. 0.5 micron thickness on the surface of the approx. 2 micron thick layer of ticcppale, which lies on an aluminum-coated mylar foil. :. ■ - ,,: -

Diese Bildplatte wird bei Dunkelheit auf ein positives Potential vo|if;ica. 200 TpIt. durch Verwendung einer Korona EntladungsVorrichtung aufgeladeii?l wie· sie in der üS-Pa>tentsOhrif-|x2 3588 699 beschrieben. jLst. Dann wird sie mit, einem= optischen Bild belichtet, wobei die Energie in den belichteten Plächenteilen ca. 161 Luxsec beträgt.In the dark, this image plate is set to a positive potential vo | if; ica. 200 TpIt. aufgeladeii by using a corona discharge device l Like · them in the U-Pa> tentsOhrif- |? described x2 3588 699th jLst. Then it is exposed with an = optical image, the energy in the exposed parts of the surface being approx. 161 Luxsec.

9098487098490984870984

ORIGINAL INSPECTEDORIGINAL INSPECTED

Unter Verwendung des Meßzylinders aus Beispiel III wird die Bildplatte 3 Sekunden lang an der 500 com-Markierung, über der Entwicklungsflüssigkeit gehalten und dann aus dem Zylinder herausgenommen. .Ea zeigt sich ein Teilchenwanderungsbild, das ähnlich wie in Beispiel III betrachtet wird.Using the graduated cylinder from Example III, mark the image plate for 3 seconds at the 500 com mark, held over the developing liquid and then taken out of the cylinder. .Ea shows a particle migration pattern, which is considered similar to Example III.

BEISPIEL· VEXAMPLE · V

Eine Bildplatte wird hergestellt, indem auf eine aluminisierte Mylarfolie ein Bioloid-Wachs mit einem Schmelzpunkt von ca. 53°C bis 55°C bis zu einer Stärke von ca. 2 Mikron aufgewalzt wird,., das von der Will Scientific Go. erhältlich ist. In die freie Oberfläche der Wachsschicht wird dann eine Mischung von luftgeschleuderten Graphitteilchen der Type 200-19 der Joseph Dixon Crucible Co. eingebettet, indem die Teilchen zusammen mit 50 Mikron starken G-laskömern über die Oberfläche der Wachsschicht kaskadiert werden. Dabei wird eine Graphitschicht von ca. 1 Mikron Stärke gebildet.An image plate is made by placing on an aluminized one Mylar film is a bioloid wax with a melting point of approx. 53 ° C to 55 ° C up to a thickness of approx. 2 microns rolled by the Will Scientific Go. is available. In the free surface of the wax layer is made then a mixture of air-thrown graphite particles of type 200-19 from Joseph Dixon Crucible Co. embedded by the particles together with 50 microns thick G-Laskömern cascaded over the surface of the wax layer will. This creates a graphite layer of approx. 1 micron Strength formed.

Ein elektrostatisches Bild wird dann auf die Platte mittels einer Korona-Entladungsvorrichtung und einer Schablone aufgebracht, wie in der französischen Eatentschrift 1 466 beschrieben. Die Bildflächenteile werden auf ca. 200 Volt negativ aufgeladen (es reicht auch ein Potential zwischen 100 und 240 Volt), wonach die gesamte Platte auf ca. 550C in einem Ofen erhitzt und diese Temperatur ca. 3 Sekunden lang beibehalten wird, um ein Teilchenwanderungsbild zu erzeugen, das sich aus der Wanderung geladener Teilchen der Graphitschicht auf die aluminisierte Unterlage des Polyesterfilms ergibt.An electrostatic image is then applied to the plate by means of a corona discharge device and a stencil as described in French Patent 1,466. The image area parts are negatively charged to approx. 200 volts (a potential between 100 and 240 volts is also sufficient), after which the entire plate is heated to approx. 55 ° C. in an oven and this temperature is maintained for approx. 3 seconds To generate particle migration pattern, which results from the migration of charged particles of the graphite layer on the aluminized base of the polyester film.

Das erhaltene Bild hat eine Struktur der in Fig. 2A gezeigten Art und kann bei Durchleuchtung nicht gut betrachtet werden· Auch auf andere Weise ist es optisch nicht gut nutzbar. Dieses Bild kann leicht in ein optischThe obtained image has a structure as shown in Fig. 2A Kind and cannot be viewed well with fluoroscopy · It cannot be used optically in any other way either. This image can easily be converted into an optical

909848/0984909848/0984

nutzbares Bild verwandelt werden, indem die freie Oberfläche der Bildplatte abgerieben oder abgezogen wird, so" " daß die nicht gewanderten Teilchen 22 (Fig. 2A) entfernt " sind.usable image can be transformed by the free surface the image plate is rubbed off or peeled off, so "" that the non-migrated particles 22 (Fig. 2A) removed " are.

Eine Bildplatte wird gemäß Beispiel III hergestellt und bei Dunkelheit auf ein negatives Potential von ca. 80 Volt aufgeladen. Dann erfolgt eine schrittweise Belichtung von ca. 3,2 Luxsec bis ca. 54 Luxsec. Die mit dem latenten Bild versehene Bildplatte wird erweicht, indem heiße Luft von ca. IjJO0C ca. 10 Sekunden lang angeblasen wird, wodurch sich ein mittels Durchleuchtung direkt sichtbares Bild ergibt, das entsprechend den Belichtungsstufen eine, orange-farbene bis hellblaue Färbung hat, wobei die Teilchen entsprechend den Teilchen 20 in Fig. 2C verteilt sind.An image plate is produced according to Example III and charged to a negative potential of about 80 volts in the dark. Then there is a step-by-step exposure from approx. 3.2 Luxsec to approx. 54 Luxsec. The image plate provided with the latent image is softened by blowing hot air at approx. IJO 0 C for approx. 10 seconds, which results in an image that is directly visible by means of fluoroscopy and which has an orange to light blue color depending on the exposure levels wherein the particles are distributed corresponding to the particles 20 in Fig. 2C.

Die Durchleuohtungsdichte für blaues Licht im Bereich von 54 Luxseo beträgt ca. 0,98, für 5,4 Luxsec und 3,2 Luxsec ungefähr 1,66. Die Durchleuchtungsdichte für rotes Licht beträgt für 54 Luxsec ca. 1,2, für 5,4 Luxsec und 3,2 Luxsec ca. 0,73. Die Durchleuchtungsdichten ändern sich zwischen den Belichtungswerten monoton.The transmission density for blue light in the area of 54 Luxseo is about 0.98, for 5.4 Luxsec and 3.2 Luxsec about 1.66. The transmission density for red light is approx. 1.2 for 54 Luxsec and for 5.4 Luxsec 3.2 Luxsec approx. 0.73. Change the fluoroscopic densities becomes monotonous between the exposure values.

Es ist wiederum zu erkennen, daß der Abbil dungs sinn, d.h. positiv oder negativ, geändert werden kann, was im vorliegenden Falle durch die Farbe des Projektionslichtes bei der Durchsichtbetrachtung erfolgt. Diese Änderung der Dichte abhängig von dem verwendeten Licht ergibt sich aus der Brechung, Absorption und Streuung, die durch die bildmäßig verteilte Dispersion der Teilchen in der Tiefe der erweichbaren Schicht verursacht wird. Die Größe dieser Wirkungen hängt weitgehend von der Wellenlänge des Betrachtungslichtes ab.It can again be seen that the sense of the illustration i.e. positive or negative, can be changed, which in the present case by the color of the projection light takes place during the review. This change in density results depending on the light used from the refraction, absorption and scattering caused by the image-wise dispersion of the particles caused in the depth of the softenable layer. The size of these effects depends largely on the wavelength of the viewing light.

909.848/0984 *909.848 / 0984 *

wwmmwwmm

WcmMmhWcmMmh

Dana wasaä csiLe saut: >eäm ^©sS-täwaäs iP^mtäaal ^Qn ea» 120 i /g3imos!bmäl3;g eiektrsstbai^siäi mcßgelälen« Die Belichtung er-Dana wasaä csiLe saut:> eäm ^ © sS-tawaäs iP ^ mtäaal ^ Qn ea »120 i / g3imos! Bmäl3; g eiektrsstbai ^ siäi mcßgelälen« The exposure

tasa -xzeu. 0,3.1 üuaGsee -Etna ca», 26 jQutx-tasa -xzeu. 0.3.1 üuaGsee -Etna ca », 26 jQutx-

3. 3Ü© aiELtt :fera Hsa^EaiSbHa BalkS -ve^Belien-e EiLairfee wliPiL erweieht, 33tiiäem iBise ^m*. 4 ISsafciaaaiHii lang ^n Ib Kleine ÖfÜnorig eines 3 . 3Ü © aiELtt: fera Hsa ^ EaiSbHa BalkS -ve ^ Belien-e EiLairfee wliPiL arouses, 33tiiäem iBise ^ m *. 4 ISsafciaaaiHii lang ^ n Ib Small ÖfÜnorig one

g^slmliteen -vrabrd, indem eine geringe Wi0S ^orgeseiien is-fc.g ^ slmliteen -vrabrd, adding a low Wi 0 S ^ orgeseiien is-fc.

sidh einsidh a

3?ärbmig,, äas ähnlien eier in iterb .1st tmä jrui wenig Djäer keine iäsr liicäiibiempiindliöitsn Srelenteilc3ien zeigt. Ätxsee seigt die Bildplatte eine o-rang-e-sröte Tand ahr QtLerschnltt "ist «ntsprecnend den Seilen 22 :Ln IiLg,. 2D ausgebildet. "Pur 3,2 l/uxsejD. ergibt sieh ein blatiBs Darchleuohtxingsbild mit einem Querschnitt der für die Teilchen 20 in Fig,» .20 dargestellten Verteilting. Bir 13 und „26 Luxsec zeigt sich eine rötlich-lalaue Färlamig, und der Querschnitt der Bildplatte zeigt, daß alle oder praktisch alle Selenteilehien 'vollständig mit die Grenzschicht zwischen Unterlage und erwelchibarer ,Schieht gewandert sind.3? Ärbmig ,, AEAS ähnlien eggs in iterb .1st TMAE jrui little Djäer shows no iäsr liicäiibiempiindliöitsn S r elenteilc3ien. Ätxsee shows the image plate an o-rang-e-red tand ahr QtLerschnltt "is designed" in accordance with the ropes 22: Ln IiLg,. 2D. "Pur 3.2 l / uxsejD. results see a sheet-like image with a cross-section of the distribution shown for the particles 20 in FIG. 20. Bir 13 and 26 Luxsec shows a reddish-lalaue color, and the cross-section of the image plate shows that all or practically all selenium parts have migrated completely with the boundary layer between the base and the removable layer.

Die so mit einem Bild verBehene Bildplatte liefert ein Bild, das mittels Durchleuchtung direkt "betrachtet und auch, projiziert werden kann. Das Bild ändert seine Färbung abhängig Tfon der Stärke der Belichtung von gelb-orange über orange-rot und hellblau bis rötlich-blau.The image plate thus provided with an image delivers a Image that can be viewed and projected directly by means of fluoroscopy. The image changes its color depending on the strength of the exposure of yellow-orange through orange-red and light blue to reddish blue.

Wird die Bildplatte in eine Lösungsflüssigkeit aus 1,1,1-Trichloräthan ca.: 2 Sekunden lang eingetaucht* so "bleibt eine Selenschicht auf der Unterlage in den Belichtungsbereichen von 26 und 15 Luxsec zurück, währendIf the image plate is immersed in a solution of 1,1,1-trichloroethane for approx . 2 seconds

im Bereich von 3,2 Luxsec wenig Teilchen und in den Be-' reichen von O,75f 0,22 -und 0,11 Luxsec keine Teilchen : zurückbleiben. Es handelt sich dabei also um ein Bild mit abgewaschener erweichbärer Schicht, wobei die dichte4-ren Bereiche entsprechend den höheren Belichtungswerten und die durchsichtigeren Bereiche entsprechend den kleineren Belichtungswerten ein Negativbild eines positiven Originalbildes darstellen.in the range of 3.2 luxsec few particles and in the ranges of 0.75 f 0.22 and 0.11 luxsec no particles : remain. This is an image with a washed-off, softenable layer, the dense four- fold areas corresponding to the higher exposure values and the more transparent areas corresponding to the lower exposure values representing a negative image of a positive original image.

BEISPIEL VIIIEXAMPLE VIII

Eine Bildplatte mit Schichtstruktur wird hergestellt, : indem eine ca. 4 Mikron starke Schicht aus Piccotex 100 auf einer ca. 0,-08 mm starken Unterlage aus Mylarfilm gebildet wird. Über die erweiohbare Schicht wird eine Schicht einer Pigmentstoff-Bindemitteldispersion aus der X-Form metallfreien Phthalocyanine aufgebracht, das 'gemäß der französischen Patentschrift 1 508 173 hergestellt ist. Die Dispersion besteht neben dem Pigmentstoff aus Piccotex 100 und hat ein G-ewiehtsverhältnis von Pigmentstoff zu erweichbarer Schicht von ca. 1 : 3. Sie wird ferner mit ca. 10 Teilen Toluol und ca. 20 Teilen Stahlkugeln mit geringem Kohlenstoffanteil und 3»2 mm Durchmesser in einem Gefäß von 59 ecm Inhalt in einer Red Devil-Quickie-Mühle ca. 30 Minuten lang gemahlen, wodurch sie beim Aufbringen auf die erweichbare Schicht eine Stärke von 2 Mikron erhält.An image plate with a layered structure is produced by: forming an approx. 4 micron thick layer of Piccotex 100 on an approx. 0.08 mm thick base of mylar film. A layer of a pigment-binder dispersion of the X-form metal-free phthalocyanine, which is produced according to French patent specification 1,508,173, is applied over the softening layer. In addition to the pigment, the dispersion consists of Piccotex 100 and has a weight ratio of pigment to softenable layer of approx. 1: 3. It is also made with approx. 10 parts of toluene and approx. 20 parts of steel balls with a low carbon content and 3 »2 mm Diameter in a jar with a capacity of 59 ecm, ground in a Red Devil Quickie mill for about 30 minutes, which gives it a thickness of 2 microns when applied to the softenable layer.

Eine Teilchenwanderungskraft wird erzeugt, indem die Bildplatte gleichmäßig elektrostatisch auf ein positives Potential von ca. 4000 Volt aufgeladen wird, wozu eine einseitige Korona -Entladungsvorrichtung verwendet wird, der eine geerdete Platte zugeordnet ist. Ferner erfolgt eine Kontaktbelichtung mit einem Diapositiv bei ca. 1,1 Luxsec in den belichteten Flächenteilen·A particle migration force is created by evenly electrostatically applying the image plate to a positive one Potential of approx. 4000 volts is charged, including a unilateral corona discharge device is used, which is associated with a grounded plate. Furthermore takes place a contact exposure with a slide at approx. 1.1 Luxsec in the exposed areas

Die mit dem latenten Bild versehene Bildplatte wird erweicht durch ca. 5 Sekunden lange Einwirkung von Toluol- The image plate provided with the latent image is softened by exposure to toluene for about 5 seconds.

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dämpfen, wodurch aich eine vollständige Entwicklung ergibt, . d.h. keine Teilchenwanderung in den belichteten Flächenteilen und Teilchenwanderung in den unbelichteten Flächenteilen, Das Gewichtsverhältnis von Pigmentstoff zu Bindemittel an der Grenzschicht zwischen Unterlage und erweichbarer Schicht ist größer als 1:1.dampen, which results in a complete development,. i.e. no particle migration in the exposed areas and particle migration in the unexposed areas, the weight ratio of pigment to binder the boundary layer between the base and the softenable layer is greater than 1: 1.

Diese Bildplatte wird dann durch Einwirkung heißer Luft von ca. 12O0C ca. 5 Sekunden lang weiter erweicht, wobei sie mit einer Mylarfolie berührt und von dieser wieder getrennt wird, so daß die nicht gewanderten Teilchen abgezogen werden. Dadurch entsteht ein negatives Abzugsbild und ein positives Bild auf der Unterlage. Beide Bilder können als Durohsiohtbilder auch für die Projektion verwendet werden.This optical disc is then about 5 seconds further softened by the action of hot air at about 12O 0 C long, being affected with a Mylar film and is separated therefrom again, so that the non-migrated particles are drawn. This creates a negative print image and a positive image on the base. Both images can also be used for projection as Durohsiohtbilder.

BEISPIEL IXEXAMPLE IX

Eine Bildplatte mit Schichtstruktur wird wie in Beispiel I hergestellt mit dem Unterschied, daß die erweichbare Schicht eine Stärke von ca. 2 Mikron hat und aus dem Silioonharz R5O61A der Dow Corning Corp. besteht. Sie hat bei Durchleuchtung eine rötlich-braune Farbe.An optical plate with a layer structure is produced as in Example I with the difference that the softenable Layer has a thickness of approx. 2 microns and consists of the R5O61A silicone resin from Dow Corning Corp. consists. she has a reddish-brown color when fluoroscopic.

Es wird eine elektrische Teilohenwanderungskraft erzeugt, indem die Bildplatte gleichmäßig elektrostatisch auf ein positives Oberflächenpotential von ca. 60 Volt aufgeladen und dann eine schrittweise Belichtung zwischen ca. 0,11 und 15 Iiuxseo durchgeführt wird·An electrical partial migratory force is generated, by evenly electrostatically charging the image plate to a positive surface potential of approx. 60 volts and then a step exposure between about 0.11 and 15 Iiuxseo is performed

Die mit dem latenten Bild versehene Bildplatte wird dann durch Einwirkung der Dämpfe von Freon 113 oa. 45 Sekunden lang bis zur vollständigen Entwicklung erweicht·The image plate provided with the latent image is then due to the action of the vapors of Freon 113 or the like. 45 seconds softened until fully developed

Bei weißem Licht erscheint das Bild dem Auge mit einer rötlich-braunen Färbung, wobei die DurohleuchtungsdichteIn white light the image appears to the eye with a reddish-brown coloring, the duro luminance

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kontinuierlich von ca. 1,4 für 13 luxsec und 6,5 Luxsec Ms ca. 0,8 für 0,22 Luxsec und 0,11 Luxsec abnimmt. Das Abbildungsverfahren ist positiv-negativ.continuously from approx. 1.4 for 13 luxsec and 6.5 luxsec Ms decreases approx. 0.8 for 0.22 Luxsec and 0.11 Luxsec. That The imaging process is positive-negative.

BEISPIEL· XEXAMPLE X

Eine Bildplatte wird hergestellt, indem eine doppelte Schicht eines erweichbaren Stoffes auf eine aluminisierte Mylarunterläge aufgebracht wird. Die obere Schicht hat eine Stärke von 2 Mikron und besteht aus Piccopale H-2, das Teilchen der X-Form metallfreien Phthalocyanine mit weniger als ca. 0,5 Mikron mittlerer Teilchengröße dispergiert mit einem Gewichtsverhältnis von ca. 1 : 3 enthält. Die untere Schicht besteht aus Piccotex 100 und hat eine Stärke von ca. 2 Mikron.An image plate is made by placing a double layer of a softenable fabric on top of an aluminized one Mylar pads is applied. The top layer has a thickness of 2 microns and is made from Piccopale H-2, the X-shaped particle disperses metal-free phthalocyanines less than about 0.5 microns mean particle size with a weight ratio of approx. 1: 3. The lower layer is made of Piccotex 100 and has a Approx. 2 microns thick.

Es wird ein latentea Bild erzeugt, indem die Bildplatte gleichmäßig elektrostatisch auf ein positives Oberflächenpotential von ca. 200 Volt aufgeladen und eine Belichtung mit einem Negativbild bei 5,4 Luxseo durchgeführt wird. Es erfolgt eine Entwicklung durch ca. 20 Sekunden lange Einwirkung der Dämpfe von Freon 113.A latent image is created by uniformly electrostatically applying the image plate to a positive surface potential charged by approx. 200 volts and an exposure is carried out with a negative image at 5.4 Luxseo. Development takes place through exposure to the vapors of Freon 113 for about 20 seconds.

Die nicht belichteten Teilchen wandern in das Piccotex 100 hinein, während die belichteten Teilchen insgesamt gleichmäßig dispergiert in ihrer Schicht verbleiben, so daß sich ein Bild ergibt, das bei Durchleuchtung als Positivbild erscheint.The unexposed particles migrate into the Piccotex 100, while the exposed particles as a whole remain evenly dispersed in their layer, so that the result is an image that appears as a positive image when fluoroscopic.

Eine Bildplatte wird gemäß Beispiel I hergestellt mit dem Unterschied* daß die fotoleitfähig« Schicht eine mechanisch kontinuierliche und perforierte Schicht aus Selen ist, d.h. sie hat die Schweizer-Käse-Struktur.An image plate is produced according to Example I with the difference that the photoconductive layer is a mechanically continuous and perforated layer made of selenium, i.e. it has the Swiss cheese structure.

Sie Bildplatte wird mit einem latenten Bild versehen, indem, sie gleichmäßig elektrostatisch auf ein positivesThe image plate is provided with a latent image, by making them evenly electrostatically to a positive

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- - 59 -- - 59 -

Oberflächenpotential von ca. 200 YoIt auf geladen.· -und mit. einem Positiybild bei ca. 108 Luxsec belichtet-, wird.Surface potential of approx. 200 YoIt charged on. · -And with. a positive image is exposed at approx. 108 Luxsec.

Es erfolgt eine Entwicklung durch ca. 5 Sekunden lange Einwirkung der Dämpfe von Trichlorätlrylen, wodurch in den unbelichteten und nicht gewanderten Flächenteilen eine rötlich-blaue reflektierte Interferenzfarbe entsteht, während in den belichteten Flächenteilen eine gelbe reflektierte Interferenzfarbe auftritt, so daß das Bild als gelbes Bild auf rötlich-blauem Hintergrund.oder in gelbem Licht als Positivbild eines positiven Originalbildes erscheint.There is a development by about 5 seconds long exposure to the vapors of Trichlorätlrylen, which in the unexposed and non-migrated areas reddish-blue reflected interference color arises, while a yellow reflected interference color occurs in the exposed areas, so that the image as a yellow image on a reddish-blue background. or in yellow light appears as a positive image of a positive original image.

BEISPIEL· XIIEXAMPLE XII

Eine Bildplatte wird hergestellt, indem eine ca. 2 Mikron starke Schicht aus Staybelite Ester IO auf eine aluminisierte Mylarunterlage aufgebracht wird. Die Teilchenwanderungsschicht wird mit 1 Mikron Stärke aus einer Mischung von Indigo und Monastral Red B im Trockengewichtsverhältnis von ca. 1 : 1 auf der erweichbaren Schicht gebildet.An image plate is made by placing an approximately 2 micron thick layer of Staybelite Ester IO on top of an aluminized one Mylar underlay is applied. The particle migration layer is 1 micron thick from a mixture of Indigo and Monastral Red B in dry weight ratio of about 1: 1 formed on the softenable layer.

Die Bildplatte wird mit einem latenten Bild versehen, indem sie gleichmäßig elektrostatisch auf ein negatives Oberflächenpotential von ca. 100 Volt aufgeladen und dann streifenweise durch Verwendung von Filtern mit rotem, blauem, grünem und weißem licht belichtet wird. Die Entwicklung erfolgt durch Einwirkung der Dämpfe von Freon 113 für 5 Sekunden.The image plate is provided with a latent image by uniformly electrostatically applying a negative Surface potential of approx. 100 volts and then charged in strips by using filters with red, exposed to blue, green and white light. The development takes place by exposure to the vapors of Freon 113 for 5 seconds.

In den rot belichteten Flächenteilen ist das Indigo vorwiegend auf die Unterlage gewandert, in den grünen Bereichen das Monastral Red B, in den blauen Bereichen hat keine Teilchenwanderung stattgefunden und in den weißen Bereichen sind das Monastral Red B und das Indigo vollständig auf die Unterlage gewandert.The indigo is predominant in the red exposed areas Hiked onto the mat, in the green areas the Monastral Red B, in the blue areas no particle migration has taken place and in the white areas are the Monastral Red B and the Indigo completely wandered onto the subfloor.

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BEISPIEL XIII . . :c EXAMPLE XIII . . : c

Eine Bildplatte wird hergestellt, indem auf einer alumini.-^ sierten Mylarunterlage eine erweichbare Schicht von ca. . 2 Mikron Stärke gebildet wird. Diese besteht aus Staybelite Ester 10 als Bindemittel und Zinkoxidteile hen von ca. 0,5 Mikron mittlerer Größe, die gleichmäßig in der oberen Hälfte des Bindemittels dispergiert sind. Das Trockengewichts verhältnis beider Stoffe beträgt ca. 1:1. Die Teilchenwanderungsschicht hat eine Stärke von ca. 0,5 Mikron und besteht aus Eisenpulver, das an der Oberfläche der erweichbaren Schicht eingebettet ist.An image plate is made by placing on an alumini .- ^ mylar pad has a softenable layer of approx. 2 microns thick. This consists of Staybelite Ester 10 as a binder and zinc oxide parts from approx. 0.5 microns of medium size, evenly spread across the top Half of the binder are dispersed. The dry weight the ratio of both substances is approx. 1: 1. The particle migration layer has a thickness of approx. 0.5 Microns and is made up of iron powder that adheres to the surface the softenable layer is embedded.

Die Bildplatte wird gleichmäßig elektrostatisch auf ein negatives Oberflächenpotential von ca. 240 Volt aufgeladen und mit einem Bild belichtet, wobei die Belichtungsstärke in den belichteten Flächenteilen ca. 2150 Luxsec beträgt. Die Entwicklung erfolgt durch Einwirkung der Dämpfe von Freon 113 für eine Dauer von ca. 10 Sekunden, wodurch die Eisenteilchen und die Zinkoxidteilchen nur in den nicht belichteten Flächenteilen wandern. Die belichteten Flächenteile sind durchsichtiger als die nicht belichteten.The image plate becomes evenly electrostatic to a negative surface potential of approx. 240 volts and exposed with an image, the exposure intensity in the exposed areas being approx. 2150 luxsec amounts to. The development takes place through the action of the vapors of Freon 113 for a duration of approx. 10 seconds, whereby the iron particles and the zinc oxide particles migrate only in the unexposed areas. The exposed Parts of the surface are more transparent than those that are not exposed.

BEISPIEL XIVEXAMPLE XIV

Eine Bildplatte wird hergestellt wie in Beispiel III, jedoch mit dem Unterschied, daß die lichtempfindliche Schicht aus Selen mit einer ca· 0,5 Mikron starken Schicht fotografischer Gelatine überzogen ist. Diese wird gebildet, indem die vakuumaufgedampfte Selenschicht in die in V/asser gelöste Gelatine eingetaucht wird.An optical plate is made as in Example III, however with the difference that the photosensitive layer made of selenium has a layer approximately 0.5 microns thick photographic gelatin coated. This is formed by the vacuum deposited selenium layer in the is immersed in gelatin dissolved in water.

Die Erzeugung des latenten Bildes erfolgt durch gleich- _ mäßige elektrostatische Aufladung auf ein positives Oberflächenpotential von ca· 200 Volt und Belichtung mit einem positiven optischen Bild, wobei die Beiichtunge-The latent image is generated by moderate electrostatic charging to a positive surface potential of approx. 200 volts and exposure with a positive optical picture, whereby the reporting

809848/09*4809848/09 * 4

stärke in den belichteten Flächenteilen ca. 108 Luxsec . beträgt. Zur Entwicklung wird die Bildplatte mit heißer Luft von ca. 100QC ca. 10 Sekunden lang in Berührung gebracht, so daß eine teilweise Wanderung der Selenteilchen in den nicht belichteten Flächenteilen erfolgt, wodurch ein negatives Durchleuchtungsbild entsteht* das auch durch Reflexion zu betrachten ist und geringen Hintergrund hat.strength in the exposed areas approx. 108 Luxsec. amounts to. For development, the image plate is brought into contact with hot air at approx. 100 ° C. for approx. 10 seconds, so that a partial migration of the selenium particles takes place in the unexposed parts of the surface, resulting in a negative fluoroscopic image * which can also be viewed by reflection and has little background.

Der positiv-negative Abbildungssinn wird durch einen Agglomerations- oder Verschmelzungseffekt der teilweise gewanderten Teilchen verursacht, wodurch die gewanderten Bereiche weitgehend durchsichtig werden. Die belichteten Flächenteile sind nicht gewandert und haben eine stärkere Dichte.The positive-negative sense of image is represented by a Agglomeration or amalgamation effect caused by the partially migrated particles, whereby the migrated Areas become largely transparent. The exposed areas have not migrated and are stronger Density.

Eine Bildplatte wird ähnlich wie in Beispiel III hergestellt· Dann, wird sie gleichmäßig elektrostatisch mittels einer Korona-Entladungsvorrichtung auf ein positives Oberflächenpotential von ca, 37 Volt aufgeladen. Die Belichtung erfolgt stufenweise zwischen ca. 26 und ca. 0,32 Luxsec. Das latente Bild wird entwickelt, indem die Bildplatte an die Öffnung eines Gallonengefäßes gehalten wird, das eine geringe Menga 1,1,1-Trichloräthanflüssigkeit bei einer Zimmertemperatur von ca. 240C enthält. Diese Entwicklung erfolgt etwa 10 Sekunden lang. In den mit 0,32 und 0,75 Luxseo belichteten Bereiohen erscheint das Bild bei Durchleuchtung mit orangegelber Färbung und entspricht der in Mg. IA gezeigten Art mit nur wenig oder keinen gewanderten lichtempfindlichen Selenteilohen. In den mit 1,6 Luxseo belichteten Bereichen erscheint das Bild bei Durchleuchtung mit einer οrange-roten Färbung, und sun Querschnitt hat die in Fig» 2D für diet Teilchen 22 gezeigte Struktur.An optical plate is prepared similarly to Example III. Then, it is uniformly electrostatically charged to a positive surface potential of about 37 volts by means of a corona discharge device. The exposure takes place in stages between approx. 26 and approx. 0.32 Luxsec. The latent image is developed by holding the image plate against the opening of a gallon jar which contains a small amount of 1,1,1-trichloroethane liquid at a room temperature of about 24 ° C. This development takes about 10 seconds. In the areas exposed with 0.32 and 0.75 Luxseo, the image appears with an orange-yellow coloration when fluorinated and corresponds to the type shown in Mg. IA with little or no migrated photosensitive selenium parts. In the areas exposed with 1.6 Luxseo, the image appears with an orange-red coloration on fluoroscopy, and the sun cross-section has the structure shown in FIG. 2D for the particles 22.

90914· /OH 490914 · / OH 4

In den mit 3»2 Luxsec belichteten Bereichen erscheint das Bild bei Durchleuchtung mit bläulich-roter Färbung, die gewanderten Teilchen entsprechen den Teilchen 22 aus Fig. 2D, jedoch ist ihre Wanderungstiefe größer als bei den mit 1,6 Luxsec belichteten Bereichen. In den mit 13 und 26 Luxsec belichteten Bereichen erscheint das Bild mit Dauerfärbung, und sein Querschnitt zeigt eine gewanderte Teilchendispersion ähnlich den Teilchen 20 in Fig. 20.In the areas exposed with 3 »2 Luxsec appears the image with fluoroscopy with bluish-red coloration, the migrated particles correspond to the particles 22 from Fig. 2D, however, its depth of migration is greater than at the areas exposed with 1.6 Luxsec. In the with 13 and 26 Luxsec exposed areas, the image appears with permanent coloring, and its cross-section shows a migrated particle dispersion similar to particles 20 in FIG. 20.

Bei Eintauchen der Bildplatte für zwei Sekunden in flüssiges Trichloräthan werden der. erweichbare Stoff und alle Selenteilchen der Teilchenwanderungsschicht in den mit 3,2 und 0,32 Luxsec belichteten Bereichen entfernt, während in den mit 13 und 26 Luxsec belichteten Bereichen nur einige Teilchen entfernt und einige auf der Unterlage abgelagert werden, wodurch sich ein abgewaschenes Bild ergibt, dessen dichtere Bereiche den stärker belichteten Bereichen entsprechen und dessen durchsichtigere Bereiche den schwächer belichteten Bereichen entsprechen, es handelt sich also um eine Positiv-Negativ-Abbildung.When the image plate is immersed in liquid trichloroethane for two seconds, the. softenable fabric and all Selenium particles removed from the particle migration layer in the areas exposed with 3.2 and 0.32 Luxsec, while in the areas exposed with 13 and 26 Luxsec only a few particles removed and some on the substrate deposited, resulting in a washed-off image, the denser areas of which are more exposed Corresponding areas and whose more transparent areas correspond to the less exposed areas, it is So it is a positive-negative image.

BEISPIEL XVIEXAMPLE XVI

Eine Bildplatte gemäß Beispiel III wird bei Dunkelheit auf ein positives Potential von ca. 100 Volt aufgeladen. Dann erfolgt eine stufenweise Belichtung zwischen ca. 32 und ca. 0,08 Luxsec Die Entwicklung erfolgt durch Eintauchen in flüssiges Freon 113 für οβ· 10 Sekunden.An image plate according to Example III is charged to a positive potential of about 100 volts in the dark. Then there is a stepwise exposure between approx. 32 and approx. 0.08 Luxsec. Development takes place through Immerse in liquid Freon 113 for οβ · 10 seconds.

In den mit 32 bis 16 Luxsec belichteten Bereichen hat das Bild seine originale Orange-Färbung bei Durchleuchtung mit weißem Licht* Unter diesem Belichtungswert ändert sich die Farbe in rötlich-orange bis rot bei 0,75 Luxsec, bis rötlich-purpur bei 0,16 Luxsec und bis blau unter 0,16 Luxseo,In the areas exposed with 32 to 16 Luxsec, the image has its original orange coloration when fluoroscopic with white light * Below this exposure value the color changes from reddish orange to red at 0.75 Luxsec, to reddish purple at 0.16 Luxsec and to blue below 0.16 Luxseo,

90M4I/C9I490M4I / C9I4

.-■-." ■ . : ORlGiMAL INSPECTED.- ■ -. "■ .: ORlGiMAL INSPECTED

. ^;, 19209 A A. ^ ;, 19209 A A

Die orange-farbenen Bereiche enthalten Teilchen entsprechend den Teilchen 22 aus Pig. 2C. Die "blauen Bereiche enthalten Teilchen entsprechend den Teilchen 20 aus Fig. 2C.The orange-colored areas contain particles accordingly the particles 22 of Pig. 2C. The "blue areas contain particles corresponding to particles 20 from FIG. 2C.

Das erhaltene Bild ist ein Teilchenwanderungsbild, bei dem die Kunststoffschicht 12 noch vorhanden ist, da das Eintauchen in Freon 113 keine Lösung bewirken soll, sondern lediglich ein Anschwellen oder eine anderweitige Verringerung der Durchlässigkeit der Schicht 12 für die wandernden Selenteilchen.The image obtained is a particle migration image, at which the plastic layer 12 is still present, since immersion in Freon 113 is not intended to cause a solution, but rather merely a swelling or some other reduction in the permeability of the layer 12 for the migrating selenium particles.

BEISPIEL XYIIEXAMPLE XYII

Eine Bildplatte wird hergestellt, indem eine ca. 2 Mikron starke Schicht aus Staybelite Ester 10 auf eine 0,08 mm starke aluminisierte Mylarunterläge aufgebracht wird. Die Teilchenwanderungsschicht wird mit einer Stärke von ca« 0,5 Mikron gebildet, indem Eisenteilchen zusammen mit ca. 50 Mikron starken Stahlteilchen als Träger über die Staybelite-Schicht kaskadiert werden und danach eine Wärmeerweichung der Staybelite-Schicht zur Festsetzung der Eisenteilchen durchgeführt wird.An image plate is made by placing an approximately 2 micron thick layer of Staybelite Ester 10 on a 0.08 mm strong aluminized mylar underlay is applied. the Particle migration layer is formed with a thickness of about «0.5 microns by iron particles together with Approx. 50 micron thick steel particles are cascaded as a carrier over the Staybelite layer and then a Heat softening of the Staybelite layer to fix the iron particles is carried out.

Das latente Bild wird erzeugt und gleichzeitig entwickelt, indem es ca. 10 Sekunden lang in die Dämpfe von 1,1,1-Trichloräthan gebracht wird, während ein besonders geformter Magnet an die Rückseite der Bildplatte gehalten wird.The latent image is created and developed at the same time by immersing it in the vapors of 1,1,1-trichloroethane for about 10 seconds while a specially shaped magnet is held on the back of the optical disc.

Die Eisenteilchen wandern in die erweichbare Schicht hinein und sammeln sich an den Kanten des Magneten, so daß seine ümrißlinie mit größerer Dichte erzeugt wird. Das Bild kann sichtbarer gemacht werden, indem die nicht gewanderten Teilchen abgezogen werden und nur die gewandelten Teilchen, die dön Umriß des Magneten bilden, zurückbleiben. The iron particles migrate into the softenable layer and collect on the edges of the magnet, see above that its outline is generated with greater density. The picture can be made more visible by not migrated particles are withdrawn and only the migrated particles, which form the outline of the magnet, remain.

909848/0984909848/0984

ORIGINAL INSPECTEDORIGINAL INSPECTED

192094k 192094 k

"■■- 64 -"■■ - 64 -

BEIgPIELE-XVIII BIS XXEXAMPLES-XVIII TO XX

Beispiel -V wird wiederholt- mit dem Unterschied, 'daß Eisenoxid, Granätstein oder Eisentellc'hen an Stelle des Graphits verwendet werden. ,Example -V is repeated with the difference that iron oxide, garnet stone or iron plate instead of graphite be used. ,

; BEISPJEL XXI :: ' ' '] \ ; EXAMPLE XXI :: '''] \

Eine Bildplatte wird hergestellt wie In Beispiel XVII. Sie wird mit einem !Corotron bildmäßig verteilt auf ca. -100 Volt aufgeladen, wozu eine geerdete Metallmaske oder eine Schablone verwendet wird. Das latente Bild wird dann durch Einwirkung des Dampfes von Freön 113 ca. 5 Sekunden lang entwickelt, wodurch ein Teilchenwanderungsbild entsteht, dessen-Teilchen in den geladenen Bereichen vollständig gewandert sind.An optical plate is made as in Example XVII. It is spread over approx. -100 volts charged, including a grounded metal mask or a stencil is used. The latent image is then exposed to the steam from Freön 113 for about 5 seconds long developed, creating a particle migration pattern, the -particles of which are completely in the charged areas have hiked.

BEISPIEL XXIIEXAMPLE XXII

Eine Bildplatte wird hergestellt wie in Beispiel XVII, jedoch werden an Stelle der Eisenteilchen Granatsteinteilchen und an Stelle der Glasteilchen Stahlkörner verwendet. An image plate is made as in Example XVII, however, garnet stone particles are used in place of the iron particles and steel grains are used in place of the glass particles.

Die Bildplatte wird mit einem !Corotron bildmäßig verteilt auf ein Potential von ca. +95 -Volt aufgeladen, wozu eine geerdete Metallmaske verwendet wird. Das latente Bild wird durch Einwirkung von Zyclohexandämpfen ca. 2 Sekunden lang entwickelt, wodurch ein Teilchenwanderungsbild ähnlich demjenigen aus Beispiel XXI entsteht.The image plate is distributed image-wise with a! Corotron charged to a potential of approx. +95 volts, including a grounded metal mask is used. The latent image is created by exposure to cyclohexane vapors for about 2 seconds developed long, giving a particle migration pattern similar to that of Example XXI.

BEISPIEL XXIIIEXAMPLE XXIII

Eine Bildplatte wird hergestellt wie in Beispiel XXII mit dem Unterschied, daß an Stelle der Granatsteintei1-chen Bisenoxidteilchen verwendet werden. Die Bildplatte wird geladen und entwickelt wie in Beispiel XXII, wodurch ein Teilchenwanderungsbild ähnlich demjenigen aus Beispiel XXII entsteht.An image plate is produced as in Example XXII with the difference that instead of the garnet stone pieces Iron oxide particles can be used. The optical disk is loaded and developed as in Example XXII, whereby a particle migration pattern similar to that from example XXII is created.

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ψ ;tr ψ ; - tr

ORIGINAL INSPECTED.ORIGINAL INSPECTED.

BEISPIEL XXIVEXAMPLE XXIV

Sine Bildplatte wird hergestellt wie in Beispiel XXII mit dem Unterschied, daß luftgeschleuderte Graphitteilchen (Type 200-19 der Joseph Dixon Crucible Co., Jersey City, New Jersey) an Stelle der Granatsteinteilchen und Piccotex 100 an Stelle des Staybelite Ester 10 verwendet · wird. Die Bildplatte wird mit einem !Corotron bildmäßig verteilt mittels einer geerdeten Metallmaske auf ein Potential von ca. +20 Volt aufgeladen. Das latente Bild wird wie in Beispiel XXEI entwickelt, wodurch sich ein Teilchenwanderungsbild ähnlich demjenigen aus Beispiel XXII ergibt.Its optical plate is made as in Example XXII with the difference that air-thrown graphite particles (Type 200-19 from Joseph Dixon Crucible Co., Jersey City, New Jersey) used in place of garnet particles and Piccotex 100 in place of Staybelite Ester 10 will. The image plate is distributed image-wise with a corotron by means of an earthed metal mask Potential of approx. +20 volts charged. The latent image is developed as in Example XXEI, resulting in a Particle migration results similar to that of Example XXII.

BEISPIEL XXVEXAMPLE XXV

Beispiel XXIV wird wiederholt mit dem Unterschied, daß ein Ladungsbild von ca. +60 Volt (es genügen auch Spannungen zwischen 2 und 200 Volt) erzeugt und die Bildplatte nach Dampferweichung in flüssiges Zyclohexan ca. 10 Sekunden lang eingetaucht wird, um das Piccotex 100 und die nicht gewanderten Teilchen zu entfernen. Dadurch ergibt sich ein gutes und klar sichtbares Abbild des erzeugten Bildes in Form von Graphit auf der Unterlage.Example XXIV is repeated with the difference that a charge profile of approx. +60 volts (voltages between 2 and 200 volts) and the image plate after steam softening in liquid cyclohexane for about 10 seconds is immersed for a long time to remove the Piccotex 100 and the unmigrated particles. This results in a good and clearly visible image of the generated image in the form of graphite on the surface.

BEISPIEL XXVIEXAMPLE XXVI

Die Bildplatte aus Beispiel III, bei der die Aluminiumschicht eine Durchlässigkeit für weißes Licht von ca. 50 # hat, wird bei Dunkelheit auf ein negatives Oberfläohenpotential von ca. 80 Volt gleichmäßig aufgeladen. Dann erfolgt eine gleichmäßige Belichtung mit ca. 108 Luxsec. Die Bildplatte wird dann mit einem Bild mittels infraroter Strahlung (entweder von der Teilchenschicht oder der Unterlage her) belichtet, wodurch die erweichbare Schioht auf ca. 1100C ca. 3 Sekunden lang erhitzt wird. Dadurch ergibt sioh eine Wanderung des Selens in den der infraroten Strahlung ausgesetzten Flächenteilen»The image plate from Example III, in which the aluminum layer has a permeability for white light of approx. 50 #, is evenly charged in the dark to a negative surface potential of approx. 80 volts. Then there is a uniform exposure with approx. 108 Luxsec. The image plate is then exposed to an image using infrared radiation (either from the particle layer or the backing forth), whereby the softenable Schioht to about 110 0 C for about 3 seconds heated. This results in a migration of the selenium in the parts of the surface exposed to the infrared radiation »

909941/0994909941/0994

192094A192094A

- 66 BEISPIEL XXVII - 66 EXAMPLE XXVII

Die Bildplatte aus Beispiel V wird gleichmäßig auf ein negatives Oberflächenpotential von ca. 200 Volt aufgeladen. Dann wird sie mit einem Bild mittels einer Strahlung belichtet, deren Infrarotanteil groß ist, so daß sie nach ca. 3 Sekunden auf ca. 550C erhitzt wird. Dadurch ergibt sich eine Wanderung des Selens in den bildmäßig belichteten Flächenteilen.The image plate from Example V is charged uniformly to a negative surface potential of approx. 200 volts. Then it is exposed to an image by means of radiation, the infrared component of which is large, so that it is heated to approx. 55 ° C. after approx. 3 seconds. This results in a migration of the selenium in the image-wise exposed parts of the surface.

BEISPIEL XXVIIIEXAMPLE XXVIII

Eine Bildplatte wird hergestell-t aus ainer Teilohenwanderungsschicht entsprechend Beispiel VIII, auf der eine 4 Mikron starke Schicht aus Piccotex aufgebracht ist. Auf dieser Schicht befindet sich eine ca» 0,5 Mikron starke Schicht aus Kodak Photoresist (KPR), die als Ätzschutzschicht dient· Als Unterlage dient eine aluminisierte Mylarfolie. Die Bildplatte wird gleichmäßig geladen, dann wird sie mit sichtbarem Licht bei einer Stärke von ca. 32 Luxsec in den belichteten Flächenteilen mit einem Bild belichtet. Die erweichbare Schicht wird in Dampf von Freon 113 erweicht, um eine bildmäßig verteilte Teilchenwanderung zu bewirken, wonach sie in flüssiges Freon 113 eingetaucht wird, um eine bildmäßige optische Maske aus Phthalocyaninteilchen auf der KPR-Schicht zu bilden.An image plate is made from a partial immigration layer as in Example VIII, on which a 4 micron thick layer of Piccotex is applied. On top of this is a 0.5 micron thick layer of Kodak photoresist (KPR), which acts as an etch protection layer serves · An aluminized Mylar foil serves as a base. The optical disk is loaded evenly, then it becomes with visible light at a strength of approx. 32 Luxsec in the exposed parts of the surface with an image exposed. The softenable layer is softened in Freon 113 steam to cause image-wise particle migration after which they are immersed in liquid freon 113 is to form an imagewise optical mask made of phthalocyanine particles to form on the KPR layer.

Die mit de.r Maske versehene Bildplatte wird dann gleichmäßig ca. 1 Minute lang einer ultravioletten Strahlung ausgesetzt, die mit zwei Sylvania F4T5/BLB-Lampen in einem Abstand von ca. 2,5 om erzeugt wird. Dann wird die Bildplatte ca.. 30 Sekunden lang in Trichloräthylen eingetaucht, um die KPR-Schicht hauptsächlich in den maskierten Bereichen, aufzulösen und ein erhabenes Bildmuster der nicht maskierten Bereiche zu erzeugen.The image plate provided with the mask then becomes uniform exposed to ultraviolet radiation for approx. 1 minute with two Sylvania F4T5 / BLB lamps in a distance of about 2.5 om is generated. Then the Image plate dipped approx. 30 seconds in trichlorethylene to mask the KPR layer mainly in the Areas to dissolve and a raised image pattern of the Generate unmasked areas.

900048/0984900048/0984

Obwohl spezielle Bestandteile -und Stoffmengen in der vorstehenden Beschreibung vorzugsweiser Ausführungsformen des erfindungsgeiaäßen Verfahrens genannt wurden, können auch andere geeignete Stoffe* wie-öie:weiter oben aufgeführt sind·, mit ähnlichen Ergebnissen Terwejridet: werden. Zusätzlich können· weitere Stoffe oder Strukturen der Bildplatte vorgesehen sein und Änderungen der yersehi e denen ■-. Verfahrensschritte, vorgenommen- werden, vm- eine synergeti·-\- sehe, verbessernde oder^ anderweil;ig< günstige Wirkung auf das Verfahren zu erzielen. Beispielsweise ^können verschiedene Y/eichmacher, Zusatzstoffe, Schutzstoffe gegen Feuchtigkeit oder andere EinflüBse ;zu. den erweichbaren Stoffen hinzugegeben werden, falls dies erwünscht ist. Ferner können Farbstoff eund; Färbungsmi ttel vorgesehen sein.Although special constituents and amounts of substance were mentioned in the above description of preferred embodiments of the method according to the invention, other suitable substances, such as those listed above, can also be Terwejridet: with similar results. In addition, further substances or structures of the image plate can be provided and changes to the different types can be provided. Be vorgenommen- process steps vm a synergeti · - \ - see improving or ^ other because ig <favorable effect on the process to achieve. For example, various calibrators, additives, protective substances against moisture or other influences can be added. can be added to the softenable fabrics if desired. Furthermore, dye e and; Colorants may be provided.

Zahlreiche weitere Abänderungen in Einzelheiten, Stoffen und Verfahrensschritten sowie Anordnungen von Bildplatten sind dem Fachmann nach Kenntnis der vorstehenden Beschreibung möglich. Diese weiteren Ausführungsformen werden insgesamt durch den Grundgedanken der Erfindung umfaßt.Numerous other changes in details, substances and process steps as well as arrangements of image plates are possible for a person skilled in the art after knowing the above description. These further embodiments will be encompassed as a whole by the basic concept of the invention.

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■ Λ 5 S ;7 -: W ν) 3 ORIGINAL INSPECTED■ Λ 5 S ; 7 -: W ν) 3 ORIGINAL INSPECTED

Claims (90)

192094A192094A Patentansprüche ;Claims; JlU Abbildungsverfahren nach dem Prinzip der Teilchen-Wanderung, dadurch gekennzeichnet, daß die Teilchenwanderungs st off schicht (13-) einer Bildplatte (10) mit der einen Oberfläche einer erweiehbaren Schicht (12) in Berührung und in den Einwirkungsbereich einer bildmäßig verteilten, eine Teilchenwanderung .erzeugenden Kraft gebracht wird und daß zur Bildentwicklung der Widerstand der erweichbaren Schicht (12) gegen ein Eindringen des Teilchenwanderungsstoffes (13) verringert wird. JlU imaging method according to the principle of particle migration, characterized in that the particle migration st off layer (13-) of an image plate (10) in contact with one surface of a softenable layer (12) and into the area of action of an image-wise distributed particle migration . Generating force is brought and that, for image development, the resistance of the softenable layer (12) to penetration of the particle migration substance (13) is reduced. 2. Abbildungsverfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine erweichbare Schicht (12) verwendet wird, 'die mit ihrer der Teilchenwanderungsstoffschicht (13) angewandten Seite auf einer Unterlage (11) angeordnet ist.2. Imaging method according to claim 1, characterized in that in that a softenable layer (12) is used, the same as that applied to the particle migratory layer (13) Page is arranged on a base (11). 3%. Abbildungsverfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine elektrisch leitfähige Unterlage (11) verwendet wird.3 % . Imaging method according to Claim 2, characterized in that an electrically conductive base (11) is used. 4. Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3» dadurch gekennzeichnet, daß eine Teilchenwanderungsstoffschicht von ca. 0,01 bis ca. 2,0 Mikron Stärke verwendet wird.4. Imaging method according to one of claims 1 to 3 » characterized by employing a particulate matter layer from about 0.01 to about 2.0 microns thick will. 5. Abbildungsverfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß eine brechbare Teilchenwanderungsstoffschieht (13) verwendet wird.5. The imaging method according to claim 4, characterized in that a frangible particulate migratory material occurs (13) is used. 6. Abbildungsverfahren nach Anspruch 5, ^dadurch gekennzeichnet, daß eine brechbare Teilchenwanderungsstoffschicht (13) verwendet wird, die Teilchen mit einer mittleren Größe von ca. 0,01 bis ca. 2,0 Mikron enthält.6. An imaging method according to claim 5, characterized in that a frangible particle migratory layer (13) is used which contains particles with an average size of about 0.01 to about 2.0 microns. 909848/0984909848/0984 7. Abbildungsverfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß Teilchen mit einer mittleren Teilchengröße, zwischen ca. 0,01 und ca. 0,7 Mikron verwendet werden.7. Imaging method according to claim 6, characterized in that that particles having an average particle size between about 0.01 and about 0.7 microns are used. 8. Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß eine erweichbare Schicht mit einer Stärke von ca. 0,5 bis ca. 16 Mikron verwendet wird.8. imaging method according to any one of claims 4 to 7, characterized in that a softenable layer with a thickness of about 0.5 to about 16 microns is used. 9. Abbildungsverfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß eine erweichbare Schicht von ca. 1 bis ca. 4 Mikron Stärke verwendet wird»9. Imaging method according to claim 8, characterized in that that a softenable layer approx. 1 to approx. 4 microns thick is used » 10. Abbildungsverfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine lichtempfindliche Teilchenwanderungsstoffschicht .(13) verwendet wird.10. Imaging method according to one of the preceding claims, characterized in that a photosensitive Particulate matter layer (13) is used. 11. Abbildungsverfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine fotoleitfähige Teilchenwanderungsstoffschicht (13) verwendet wird.11. Imaging method according to one of the preceding Claims, characterized in that a photoconductive particle migration material layer (13) is used. 12» Abbildungsverfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine thermoleitfähige Teilchenwanderungsstoffschicht (13) verwendet v/ird.12 »Imaging method according to one of the preceding claims, characterized in that a thermoconductive Particulate matter layer (13) is used. 13. Abbildungsverfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß eine Teilchenwanderungsstoffschicht (13) verwendet wird, die lichtempfindlich, jedoch bezüglich der Fotoleitfähigkeit neutral ist.13. Imaging method according to claim 10, characterized in that that a particle migration material layer (13) is used, which is photosensitive, but with respect to the photoconductivity is neutral. 14. Abbildungsverfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Teilchenwanderungsschicht (13) ferner hinsichtlich der Thermoleitfähigkeit neutral ist.14. Imaging method according to claim 13, characterized in that that the particle migration layer (13) is also neutral in terms of thermal conductivity. 15» Abbildungsverfahren nach einem der vorhergehenden Annprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine magnotiaierbare Teilchemvandetnmgsachichb (1^) verwendet wird.15 »Mapping method according to one of the preceding Claims, characterized in that a magnotiaatable Part chemvandetnmgsachichb (1 ^) is used. 98 40/09 0h 98 40/09 0 h 16. Abbildungaverfähren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine Teilehenwanderungsschicht (13) verwendet wird, die an einer Oberfläche der erweichbaren Schicht (12) anliegt.16. Image procedure according to one of the preceding Claims, characterized in that a partial walking layer (13) is used, which rests against a surface of the softenable layer (12). 17. Abbildungsverfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß die Teilchenwanderungsschicht (13) an derjenigen Oberfläche der erweichbaren Schicht (12) anliegt, die der Unterlage (11) abgewandt i3t.17. Imaging method according to claim 16, characterized in that that the particle migration layer (13) lies against that surface of the softenable layer (12), facing away from the base (11). 18. Abbildungsverfahren nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß eine Teilchenwanderungsstoffschicht (15) verwendet wird, die in brechbarer und lichtempfindlicher Ausführung eine Stärke von ca. 0,01 bis ca. 2 Mikron hat,18. Imaging method according to claim 17, characterized in that that a particulate migration material layer (15) is used, which is breakable and light-sensitive Execution has a thickness of approx. 0.01 to approx. 2 microns, 19. Abbildungaver fahr en nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß die •Teilchenwanderungsstoffschicht (13) Selen, vorzugsweise amorphes Selen enthält.19. Bildaver fahr s according to claim 18, characterized in that the • particle migration material layer (13) Contains selenium, preferably amorphous selenium. 20. Abbi1dungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 19, dadurch gekennzeichnet, daß eine elektrisch isolierende erweichbare Schicht (12) und eine die Teilchenwanderung erzeugende elektrische Kraft verwendet v/ird, die durch ein bildmäßig verteiltes ladungsmuster einer ersten Polarität auf der Teilchenwanderungsstoffschicht (13) erzeugt wird.20. Imaging method according to one of claims 1 to 19, characterized in that an electrically insulating softenable layer (12) and a particle migration Generating electrical force is used, which is generated by an image-wise distributed charge pattern of a first polarity is generated on the particulate migratory layer (13). 21. Abbildungsverfahren nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, daß die bildmäßig verteilte elektrische Kraft eine Anziehung der Teilchenwanderungsstoffschicht (13) in Richtung von Ladungen mit einer der ersten Polarität entgegengesetzten Polarität bev/irkt, die an einer der Teilchenwanderungsstoffschicht (13) abgewandten Oberfläche der erweichbareri Schicht (12) induziert werden.21. Imaging method according to claim 20, characterized in that the image-wise distributed electrical Force causes the particle migration material layer (13) to be attracted in the direction of charges with a polarity opposite to the first polarity, which at a the surface of the softenable layer (12) facing away from the particle migration substance layer (13). 009040/0984009040/0984 22. Abbildungsverfahren nach Ansprach 21, dadurch gekennzeichnet, daß bei einer Iichi:empfindlichen Teilchenwanderungsstoffschicht (13) das "bildmäßig verteilte Ladungsmuster durch gleichmäßige elektrostatische Aufladung der Bildplatte (10) und Belichtung mit einem Bildmuster mittels aktivierender Strahlung erzeugt wird.22. Imaging method according to spoke 21, characterized in that with a Iichi: sensitive particle migration material layer (13) the "image-wise distributed charge pattern by uniform electrostatic charging of the Image plate (10) and exposure to an image pattern is generated by means of activating radiation. 23. Adoildungsverfahren nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß die elektrische Feldstärke innerhalb der erweichbaren Schicht (12) nach der Aufladung ca. 5 Volt/Mikron bis ca. 200 Volt/Mikron beträgt.23. Adoildungsverfahren according to claim 22, characterized in that, that the electric field strength within the softenable layer (12) after charging is about 5 volts / micron to about 200 volts / micron. 24. Abbildungsverfahren nach Anspruch 23» dadurch gekennzeichnet, daß das elektrische Feld innerhalb der erweichbaren Schicht (12) nach der Airfladung ca. 40 Volt/Mikron bis ca. 100 Volt/Mikron beträgt.24. Imaging method according to claim 23 »characterized in that that the electric field within the softenable layer (12) after the air charge is about 40 volts / micron to about 100 volts / micron. 25. Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 22 bis 24, dadurch gekennzeichnet, daß die elektrostatische Aufladung zumindest teilweise durch Korona-Entladung erfolgt.25. Imaging method according to one of claims 22 to 24, characterized in that the electrostatic charge takes place at least partially by corona discharge. 26. Abbildungsverfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß die die Teilchenwanderung bewirkende elektrische Kraft durch ein a\if die Bildplatte (10) einwirkendevS äußeres elektrisches Feld erzeugt wird.26. Imaging method according to claim 21, characterized in that that the electrical force causing the migration of the particles by a \ if the image plate (10) acting evS external electric field is generated. 27. Abbildungsverfahren nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, daß ein elektrisches Feld mit gleichmäßiger Verteilung verwendet wird.27. Imaging method according to claim 26, characterized in that that an electric field with a uniform distribution is used. 28. Abbi!düngeverfahren nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet r daß eine aktivierende Strahlung mit gleichmäßiger Verteilung und ein äußeres elektrisches Feld mit Mldmäßi-^er Verteilung verwendet wird.28 Abbi! Fertilizing method according to claim 26, characterized in that r is an activating radiation with uniform distribution and an external electric field with Mldmäßi- ^ used distribution. 9 09848/09849 09848/0984 29· Abbildungsverfahren nach Anspruch 27 oder 28, da-durch gekennzeichnet, daß ein elektrisches Feld erzeugt wird, dessen Stärke innerhalb der erweichbaren Schicht ca. 5 Volt/Mikron bisca. 200 Volt/Mikron beträgt.29 · Imaging method according to Claim 27 or 28, characterized in that it generates an electric field whose strength within the softenable layer is approx. 5 volts / micron to approx. 200 volts / micron. 30. Abbildungsverfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine für die aktivierende Strahlung zumindest teilweise durchsichtige Unterlage (11) und erweichbare Schicht (12) verwendet wird und daß die aktivierende Bestrahlung von der Unterlagenseite her erfolgt.30. Imaging method according to one of the preceding claims, characterized in that one for the activating Radiation at least partially transparent base (11) and softenable layer (12) is used and that the activating irradiation takes place from the base side. 31. . Abbildungsverfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß bei einer Teilchenwanderungsstoff schicht (13)ι die amorphes Selen enthält,31. Imaging method according to one of the preceding claims, characterized in that in the case of a particle migration substance layer (13) ι contains the amorphous selenium, die Belichtung mit ca. 0,05 bis ca. 50 erg/cm erfolgt.the exposure takes place at approx. 0.05 to approx. 50 erg / cm. 32. Abbildungsverfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß die die Teilchenwanderung bewirkende elektrische Kraft durch ein latentes elektrostatisches Bild auf der Bildplatte (10) erzeugt wird.32. Imaging method according to claim 21, characterized in that that the electrical force causing the migration of particles by a latent electrostatic Image is generated on the image plate (10). 33. Abbildungsverfahren nach Anspruch 32, dadurch gekennzeichnet, daß das mit dem latenten elektrostatischen Bild erzeugte Feld innerhalb der erweichbaren Schicht (12) eine Stärke von mehr als ca. 10 Volt/Mikron hat.33. Imaging method according to claim 32, characterized in that that the field generated with the latent electrostatic image within the softenable layer (12) has a strength greater than about 10 volts / micron. 34. Abbildungsverfahren nach Anspruch 33, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich ein äußeres elektrisches Feld erzeugt wird und daß die durch das latente elektrostatische Bild und das äußere Feld erzeugte Feldstärke in der erweichbaren Schicht (12) mehr als ca. "10 Volt/ Mikron beträgt..34. Imaging method according to claim 33, characterized in that that in addition an external electric field is generated and that the latent electrostatic Image and the external field generated field strength in the softenable layer (12) more than about "10 volts / Micron is .. SG9848/0984SG9848 / 0984 OFIlGlNAL INSPECTEDOFIlGlNAL INSPECTED 1 92G9441 92G944 35." Abbildungsverfahren nach Anspruch 34» dadurch ge- kennzeichnet, daß das latente elektrostatische Bild eine gleichmäßige Verteilung und das äußere elektrische Feld eine bildmäßige Verteilung hat.35. "Imaging method according to claim 34» characterized in that that the latent electrostatic image has a uniform distribution and the external electric field has an image-wise distribution. 36. Abbildungsverfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine Teilchenwan-derungsstoffschicht (13) verwendet wird, die einen hinsichtlich einer lichtempfindlichkeit neutralen Stoff enthält. 36. Imaging method according to one of the preceding claims, characterized in that a particle migration substance layer (13) which contains a substance neutral in terms of photosensitivity is used. 37. Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 20, dadurch gekennzeichnet, daß die die Teilchenwanderung bewirkende Kraft durch ein bildmäßig verteiltes Magnetfeld auf eine gleichmäßig magnetisierte Teilchenwanderungsstoffschicht (13) einwirkt.37. Imaging method according to one of claims 1 to 20, characterized in that the particle migration effecting force through an image-wise distributed magnetic field onto a uniformly magnetized particle migrant layer (13) acts. 38. Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 37» dadurch gekennzeichnet, daß die Entwicklung durch Erweiohung der erweichbaren Schicht (12) erfolgt.38. Imaging method according to one of claims 1 to 37 »characterized by the fact that development by enlargement the softenable layer (12) takes place. 39. Abbildungsverfahren nach Anspruch 38, dadurch gekennzeichnet, daß eine gleichmäßige Erweichung durchgeführt wird.39. Imaging method according to claim 38, characterized in that a uniform softening is carried out will. 40. Abbildungsverfahren nach Anspruch 38 oder 39» dadurch gekennzeichnet, daß die Erweichung durch Einwirkung von Wärme auf die erweichbare Schicht (12) durchgeführt wird.40. Imaging method according to claim 38 or 39 »thereby characterized in that the softening is carried out by the action of heat on the softenable layer (12) will. 41. Abbildungsverfahren nach Anspruch 38 oder 39» dadurch gekennzeichnet, daß die Erweichung durch Einwirkung des Dampfes einer Erweichungsflüssigkeit auf die erweichbare Schicht (12) erfolgt.41. Imaging method according to claim 38 or 39 »characterized in that the softening by action of the vapor of an emollient liquid on the softenable layer (12) takes place. 909848/0984909848/0984 42. Abbildungsverfahren nach Anspruch 41, dadurch gekennzeichnet, daß die Erweichungsflüssigkeit ein Lösungsmittel für die erweichbare Schicht (12) ist.42. Imaging method according to claim 41, characterized in that that the emollient liquid is a solvent for the softenable layer (12). 43· Abbildungsverfahren nach Anspruch 38 oder 39, dadurch gekennzeichnet, daß die Erweichung durch Berührung der erweichbaren Schicht (12) mit einer Erweichungsflüssigkeit erfolgt.43 · Imaging method according to Claim 38 or 39, characterized in that the softening by contact the softenable layer (12) takes place with a softening liquid. 44. Abbildungsverfahren nach Anspruch 43, dadurch gekennzeichnet, daß die Erweichungsflüssigkeit ein Lösungsmittel für die erweichbare Schicht (12) ist.44. Imaging method according to claim 43, characterized in that that the softening liquid is a solvent for the softenable layer (12). 45. Abbildungsverfahren nach Anspruch 38 oder 39, dadurch gekennzeichnet, daß die Erweichung durch Einwirkung von Wärme und des Dampfes einer Erweichungsflüssigkeit auf die erweichbare Schicht (12) erfolgt.45. Imaging method according to claim 38 or 39, characterized in that the softening by action of heat and the vapor of a softening liquid on the softenable layer (12) takes place. 46. Abbildungsverfahren nach Anspruch 40, dadurch gekennzeichnet, daß die erweichbare Schicht (12) auf eine Temperatur von ca. 500C bis ca» 1500O erwärmt wird*46. The imaging method according to claim 40, characterized in that the softenable layer (12) is heated to a temperature of about 50 0 C up to about "150 0 O * 47. Abbildungsverfahren nach Anspruch 46, dadurch gekennzeichnet, daß die genannte Temperatur für ca. 1 bis ca* 10 Sekunden beibehalten wird.47. Imaging method according to Claim 46, characterized in that that the said temperature is maintained for about 1 to about 10 seconds. 48. Abbildungsverfahren nach Anspruch 41, dadurch zeichnet, daß die Einwirkung des Dampfes der Lösungsflüssig keit für eine Dauer von ca. 0,5 bis ca. 60 Sekunden durchge führt wird.48. Imaging method according to claim 41, characterized in that the action of the vapor of the solution liquid for a period of approx. 0.5 to approx. 60 seconds will lead. 49. Abbildungsverfahren nach Anspruch 38 oder 39, dadurch gekennzeichnet, daß nach Erweichung und Einsetzen der Teilchenwanderung eine Berührung der erweichbaren Schicht (12) mit einem Lösungsmittel erfolgt, um eine49. Imaging method according to claim 38 or 39, characterized in that after softening and onset the particle migration a contact of the softenable layer (12) with a solvent takes place to a 909848/0984909848/0984 . - 75 -. - 75 - Entfernung der erweichbaren Schicht (12) und damit eine Ablagerung des Teilchenwanderungsstoffes (13) auf der Unterlage (11) in bildmäßiger Verteilung zu "bewirken.Removal of the softenable layer (12) and thus a Deposition of the particle migration substance (13) on the base (11) in an image-wise distribution. 50. Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis50. Imaging method according to one of Claims 1 to 49» dadurch gekennzeichnet, daß die Teilehenwanderungsstoffschicht (13) mit der erweichbaren Schicht (12) in Berührung gebracht wird, bevor die die Teilchenwanderung bewirkende Kraft erzeugt wird»49 »characterized in that the partial walking fabric layer (13) in contact with the softenable layer (12) is brought before the force causing the particle migration is generated » 51. Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 49» dadurch gekennzeichnet, daß die die Teilchenwanderung bewirkende Kraft erzeugt wird, bevor die Teilchenwanderungsstoffschicht (13) mit der erweichbaren Schicht (12) in Berührung gebracht wird.51. Imaging method according to one of claims 1 to 49 »characterized in that the particle migration causing force is generated before the particulate matter layer (13) is brought into contact with the softenable layer (12). 52. Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 49» dadurch gekennzeichnet, daß während des Zusammenbringens der Teilchenwanderungsstoffschicht (13) mit der erweichbaren Schicht (12) die die Teilchenwanderung bewirkende Kraft erzeugt wird.52. Imaging method according to one of Claims 1 to 49 »characterized in that during the bringing together of the particle migration material layer (13) with the softenable Layer (12) the force causing the particle migration is generated. 53. Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 41 bis 52, dadurch gekennzeichnet, daß eine elektrisch isolierende Erweichungsflüssigkeit verwendet wird.53. Imaging method according to one of claims 41 to 52, characterized in that an electrically insulating Emollient liquid is used. 54. Abbildungsverfahren nach Anspruch 12 und 21, dadurch gekennzeichnet, daß die Bildplatte (10) gleichmäßig elektrostatisch geladen und in bildmäßiger Verteilung erhitzt wird.54. Imaging method according to claim 12 and 21, characterized in that the image plate (10) is uniformly electrostatic charged and heated in an image-wise distribution. 55. Abbildungsverfahren nach Anspruch 32, dadurch gekennzeichnet, daß eine lichtempfindliche Teilchenwanderungsstoffßchicht (13) verwendet wird und daß die Bildplatte (10) gleichmäßig mit aktivierender Strahlung bestrahlt wird.55. Imaging method according to claim 32, characterized in that that a photosensitive particle migrant layer (13) is used; and that the optical plate (10) is uniformly irradiated with activating radiation. 909848/0984909848/0984 56. Abbildungsverfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die die Teilchenwanderung bewirkende Kraft mit einer gleichmäßigen Verteilung erzeugt wird und daß der V/iderstand der erweichbaren Schicht gegen ein Eindringen des Teilchenwanderungsstoffea (13) in bildmäßiger Verteilung verringert wird.56. Imaging method according to one of the preceding Claims, characterized in that the force causing the particle migration is uniformly distributed is generated and that the resistance of the softenable Layer against penetration of the particle migration substances a (13) is reduced in image distribution. 57. Abbildungsverfahren nach Anspruch 56, dadurch gekennzeichnet, daß die die Teilchenwanderung bewirkende Kraft durch gleichmäßige elektrostatische Aufladung der Bildplatte (10) erzeugt wird.57. Imaging method according to claim 56, characterized in that that the force causing the particle migration by uniform electrostatic charging of the Image plate (10) is generated. 58. Abbildungsverfahren nach Anspruch 57, dadurciugekennzeichnet, daß durch die Aufladung ein elektrisches Feld innerhalb der erweichbaren Schicht (12) erzeugt wird, dessen Stärke größer als 10 Volt/Mikron ist.58. Imaging method according to claim 57, characterized by that the charge generates an electric field within the softenable layer (12) whose strength is greater than 10 volts / micron. 59. Abbildungsverfahren nach Anspruch 57» dadurch gekennzeichnet, daß ferner ein auf die Bildplatte (10) einwirkendes äußeres elektrisches Feld erzeugt wird.59. Imaging method according to claim 57 »characterized in that, furthermore, a external electric field is generated. 60. Abbildungsverfahren nach Anspruch 59, dadurch gekennzeichnet, daß die durch die Aufladung und das äußere elektrische PeId in der erweichbaren Schicht (12) erzeugte Feldstärke mehr als 10 Volt/Mikron beträgt.60. Imaging method according to claim 59, characterized in that by the charge and the outer electrical PeId generated in the softenable layer (12) Field strength is greater than 10 volts / micron. 61. Abbildungsverfahren nach Anspruch 56, dadurch gekennzeichnet, daß die die Teilchenwanderung bewirkende Kraft durch ein auf die gleichmäßig magnetisierte Teilchenwanderungsstoff schicht (13) einwirkendes gleichmäßiges Magnetfeld erzeugt wird.61. Imaging method according to claim 56, characterized in that the particle migration causing Force through a uniformly magnetized particle migratory substance layer (13) acting uniform magnetic field is generated. 62. Abbildungsverfahren nach Anspruch 56, dadurch gekennzeichnet, daß die die Teilchenwanderung bewirkende Kraft durch die Erdanziehungskraft erzeugt wird.62. Imaging method according to claim 56, characterized in that the particle migration causes Force is generated by gravity. 909848/0 984909848/0 984 63.- Abbildungsverfahren nach Anspruch 56, dadurch ge-~ kennzeichnet, daß die die Teilchenwanderung bewirkende Kraft durch Zentrifugalkraft erzeugt wird.63.- Imaging method according to claim 56, characterized in that ~ indicates that the force causing the particle migration is generated by centrifugal force. 64. Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 56 bis64. Imaging method according to one of Claims 56 to 65. dadurch gekennzeichnet, daß die Entwicklung durch Einwirkung einer bildmäßig verteilten härtenden Strahlung auf die erweichbare Schicht (12) erfolgt.65. characterized in that the development by action an image-wise distributed curing radiation takes place on the softenable layer (12). .65. Abbildungsverfahren nach Anspruch 64, dadurch gekennzeichnet, daß zur Entwicklung ein Erweichungsmittel gleichmäßig auf die erweiohbare Schicht aufgebracht wird..65. Imaging method according to Claim 64, characterized in that that a softening agent is applied evenly to the softening layer for development. 66. Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 56 bis 63» dadurch gekennzeichnet, daß die Entwicklung durch Einwirkung einer bildmäßig verteilten erweichenden Strahlung auf die erweichbare Schicht (12) erfolgt.66. Imaging method according to one of Claims 56 to 63 »characterized by the fact that the development through action an imagewise distributed emollient radiation takes place on the softenable layer (12). 67. Abbildungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 66, dadurch gekennzeichnet, daß die einzelnen Verfahrensschritte in folgender Reihenfolge durchgeführt werden: 67. Imaging method according to one of Claims 1 to 66, characterized in that the individual method steps are carried out in the following sequence: a) Änderung der Durchlässigkeit der erweichbaren Schicht (12) für wandernde Teilchen in bildmäßiger Verteilung,a) change in the permeability of the softenable layer (12) for migrating particles in an image-wise distribution, b) Auflegen einer Teilchenwanderungsstoffschicht (13) auf die bildmäßig entwickelte erweichbare Schicht (12) undb) laying on of a particle migration material layer (13) the imagewise developed softenable layer (12) and c) Erzeugung einer die Teilchenwanderung bewirkenden Kraft.c) Generation of a force causing the particle migration. 68. Abbildungsverfahren nach Anspruch 57» dadurch gekennzeichnet, daß gleichzeitig mit oder nach der elektrostatischen Aufladung eine gleichmäßige Bestrahlung mit aktivierender Strahlung durchgeführt wird. 68. Imaging method according to claim 57 »characterized in that that at the same time as or after the electrostatic charge, a uniform irradiation with activating radiation is carried out. 69. Bildplatte, hergestellt nach dem Abbildungsverfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 68, gekennzeichnet durch eine Schicht (12) eines erweichbaren Stoffes und durch eine69. Image plate, produced according to the imaging method according to one of claims 1 to 68, characterized by a layer (12) of a softenable fabric and through a 90984 87 098490 984 87 0984 Schicht (13) eines Teilehenwanderungsstoffes, der innerhalb der erweichbaren Schicht (12) bildmäßig verteilt ist.Layer (13) of a partial migration fabric, which within the softenable layer (12) is distributed imagewise. 70. Bildplatte nach Anspruch 69, dadurch gekennzeichnet, daß der erweichbare Stoff (12) ein elektrischer Isolator ist.70. Image plate according to claim 69, characterized in that that the softenable fabric (12) is an electrical insulator. 71. Bildplatte, hergestellt nach dem. Abbildungsverfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 68, gekennzeichnet durch eine Schicht (12) eines erweichbaren Stoffes und durch einen brechbaren Stoff (12),der innerhalb des erweichba*- ren Stoffes (12) bildmäßig verteilt ist.71. Image plate, made after. Imaging process according to any one of claims 1 to 68, characterized by a layer (12) of a softenable material and a breakable material (12), which is within the softenable * - ren substance (12) is distributed image-wise. 72. Bildplatte nach Anspruch 71» gekennzeichnet durch ein erstes Bildmuster aus brechbarem Stoff, das in dem erweichbaren Stoff (12) verteilt ist, und durch ein komplementäres Bildmuster aus brechbarem Stoff, das in dem erweichbaren Stoff (12) mit Abstand zum ersten Bildmuster verteilt ist.72. Image plate according to claim 71 »characterized by a first image pattern of frangible fabric dispersed in the softenable fabric (12) and through a complementary image pattern made of breakable material, which is used in the softenable fabric (12) is distributed at a distance from the first image pattern. 73. Bildplatte nach Anspruch 72, dadurch gekennzeichnet, daß das komplementäre Bildmuster an der Oberfläche der erweichbaren Schicht (12) angeordnet ist,73. Image plate according to claim 72, characterized in that the complementary image pattern on the surface the softenable layer (12) is arranged, 74· Bildplatte nach Anspruch 71» dadurch gekennzeichnetr daß die erweichbare Schicht (12) eine Stärke von ca, 0,5 bis 16 Mikron hat.74 · optical disc according to claim 71 'characterized in that r the softenable layer (12) has a thickness of approx, 0.5 to 16 microns. 75. Bildplatte nach Anspruch 74» dadurch gekennzeichnet, daß die erweichbare Schicht eine Stärke von ca. 1 bis ca, 4 Mikron hat.75. Image plate according to claim 74 »characterized in that that the softenable layer has a thickness of approx. 1 to approx. Has 4 microns. 76. Bildplatte nach Anspruch 71, dadurch gekennzeichnet, daß der brechbare Stoff (13) teilchenförmig ist und daß die Teilchen eine mittlere Größe von weniger als ca, 2 Mikron haben.76. Image plate according to claim 71, characterized in that that the breakable substance (13) is particulate and that the particles have an average size of less than approx. 2 microns. 909848/0984909848/0984 192Θ9Α4192Θ9Α4 77· Bildplatte nach Anspruch 76, dadurch gekennzeichnet, daß der teilchenförmige Stoff Selen ist.77 · Image plate according to claim 76, characterized in that that the particulate is selenium. 78. Bildplatte nach Anspruch 77» dadurch gekennzeichnet, daß der teilchenförmige Stoff amorphes Selen ist.78. Image plate according to claim 77 »characterized in that that the particulate is amorphous selenium. 79. Bildplatte nach Anspruch 73» dadurch gekennzeichnet, daß das komplementäre Bildmuster eine Stärke von ca. 0,01 · bis ca. 2,0 Mikron hat.79. Image plate according to claim 73 »characterized in that the complementary image pattern has a thickness of approx. 0.01 · to about 2.0 microns. 80. Bildplatte nach Anspruch 71» dadurch gekennzeichnet, daß die erweichbare Schicht (12) aus zwei oder mehr Einzelschichten besteht.80. Image plate according to claim 71 »characterized in that the softenable layer (12) consists of two or more individual layers consists. 81. Bildplatte nach einem der Ansprüche 71 bis 80, dadurch gekennzeichnet, daß der brechbare Stoff (13) lichtempfindlich ist.81. Image plate according to one of claims 71 to 80, characterized in that the breakable substance (13) is light-sensitive is. 82. Bildplatte nach einem der Ansprüche 73 bis 80, dadurch gekennzeichnet, daß der brechbare Stoff (13) fotoleitfähig und die erweichbare Schicht (12) elektrisch isolierend ist.82. Image plate according to one of claims 73 to 80, characterized characterized in that the breakable material (13) is photoconductive and the softenable layer (12) is electrically insulating is. 83. Abbildungsverfahren unter Verwendung einer nach Anspruch 82 ausgebildeten Bildplatte, dadurch gekennzeichnet, daß die Bildplatte (10) gleichmäßig elektrostatisch aufgeladen, zur Erzeugung eines latenten elektrostatischen Bildes gleichmäßig mit aktivierender Strahlung bestrahlt und zur Erzeugung eines sichtbaren Bildes mit elektroskop!- schem Zeichenmaterial entv/ickelt wird.83. Imaging method using an image plate designed according to claim 82, characterized in that that the image plate (10) is evenly charged electrostatically, to generate a latent electrostatic Image irradiated evenly with activating radiation and to generate a visible image with an electroscope! - Schematic drawing material is being developed. 84. Abbildungsverfahren zur Verwendung einer gemäß Anspruch 73 ausgebildeten Bildplatte, dadurch gekennzeichnet, daß die Bildplatte (10) durch das an ihrer Oberfläche angeordnete Bildmuster hindurch mit einer die erweichbare Schicht (12) härtenden Strahlung bestrahlt84. Mapping method for using an according to Claim 73 formed image plate, characterized in that the image plate (10) by the on its The image pattern arranged on the surface is irradiated with a radiation which cures the softenable layer (12) 909848/0984909848/0984 85. Abbildlingsverfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine lichtempfindliche Unterlage (11) verwendet wird.85. Imaging method according to claim 2, characterized in that a light-sensitive base (11) is used. 86. Abbildungsverfahren nach Anspruch 85, dadurch gekennzeichnet, daß die Bildplatte (10) nach der Teilchenwanderung durch das in der erweichbaren Schicht (12) erzeugte Teilchenwanderungsbild hindurch mit die lichtempfindliche Unterlage (11) aktivierender Strahlung bestrahlt wird.86. Imaging method according to claim 85, characterized in that the image plate (10) after the particle migration irradiated through the particle migration image produced in the softenable layer (12) with radiation that activates the photosensitive substrate (11) will. 87.' Abbildungsverfahren nach Anspruch 86, dadurch gekennzeichnet, daß eine gleichmäßige Bestrahlung durchgeführt wird.87. ' Imaging method according to Claim 86, characterized in that that a uniform irradiation is carried out. 88. Abbildungsverfahren nach Anspruch 85, dadurch gekennzeichnet, daß die erweichbare Schicht (12) nach der Teilchenwanderung mit einem Lösungsmittel in Berührung gebracht wird, das eine Entfernung der erweichbaren Schicht (12) und eine selektive Ablagerung des Teilchenwanderungsstoffes (13) in bildmäßiger Verteilung auf der Unterlage (11) bewirkt,und daß die Unterlage (11) durch das abgelagerte Teilchenwanderungsbild hindurch mit aktivierender Strahlung bestrahlt wird.88. Imaging method according to claim 85, characterized in that the softenable layer (12) according to the Particle migration is brought into contact with a solvent that removes the softenable Layer (12) and a selective deposition of the particulate migration material (13) in an image-wise distribution of the substrate (11) and that the substrate (11) through the deposited particle migration pattern is irradiated with activating radiation. 89. Abbildungsverfahren nach Anspruch 88, dadurch gekennzeichnet, daß eine gleichmäßige Bestrahlung durchgeführt wird.89. Imaging method according to claim 88, characterized in that that a uniform irradiation is carried out. 90. Abbildungsverfahren nach Anspruch 87, dadurch gekennzeichnet, daß als lichtempfindliche Unterlage (11) eine fotohärtbare Schicht verwendet wird, daß als aktivierende Strahlung eine die Unterlage (11) fotohärtende90. Imaging method according to claim 87, characterized in that the light-sensitive substrate (11) a photo-curable layer is used that the substrate (11) is photo-curing as the activating radiation 909848/0984909848/0984 T9.20S44T9.20S44 Strahlung verwendet wird und daß der erweichbare Stoff (12) mit einem Lösungsmittel in Berührung gebracht wird, so daß er entfernt werden kann und das lösungsmittel die bildmäßig gehärtete Unterlage (11) zur Erzeugung eines Reliefbildes ätzt.Radiation is used and that the softenable fabric (12) is brought into contact with a solvent, so that it can be removed and the solvent the image-wise hardened base (11) for generating a relief image etches. 91. Abbildungsverfahren nach Anspruch 89, dadurch gekennzeichnet , daß als lichtempfindliche Unterlage (11) eine fotohärtbare Schicht verwendet wird, daß als aktivierende Strahlung eine die fotohärtbare Schicht härtende Strahlung verwendet wird und daß die fotohärtbare Schicht zur Erzeugung eines Reliefbildes durch ein Lösungsmittel in bildmäßiger Verteilung geätzt wird,91. Imaging method according to claim 89, characterized in that the light-sensitive substrate (11) is a photohardenable layer is used that as an activating Radiation a radiation curing the photo-curable layer is used and that the photo-curable layer for production a relief image by a solvent in an imagewise Distribution is etched, 92. Abbildungsverfahren nach Anspruch 89, dadurch gekennzeichnet, daß als lichtempfindliche Unterlage (U) ein Fotoleiter verwendet wird, der zur Erzeugung eines latenten elektrostatischen Bildes naoh der genannten Bestrahlung gleichmäßig elektrostatisch aufgeladen wird, und daß das latente elektrostatische Bild mit einem elektroskopischen Zeichenmaterial zur Erzeugung eines sichtbaren Bildes entwickelt wird·.92. Imaging method according to claim 89, characterized in that a photoconductor is used as the photosensitive substrate (U) is used to generate a latent electrostatic image after the aforementioned irradiation is evenly charged electrostatically, and that the latent electrostatic image with an electroscopic Drawing material is developed to produce a visible image. 93. Abbildungsverfahren naoh Anspruch 92, dadurch gekennzeichnet, daß die Teilchenwanderungsbildmaske von dem Fotoleiter (11) vor der Entwicklung entfernt wird·93. Imaging method according to claim 92, characterized in that that the particle migration image mask is removed from the photoconductor (11) before development 90 98 48/0 9 8490 98 48/0 9 84 LeerseiteBlank page
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