DE1774800C3 - Process for making a low inductance memory matrix - Google Patents
Process for making a low inductance memory matrixInfo
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Description
gebettet.· Dabei erwärmen sich zwar die Magnet drähte 6, aber diese Erwärmung ist nicht kritisch, da die Eigenschaften der dünnen Magnetschicht zuvor bei einer höheren Temperatur stabilisiert werden· The magnet wires 6 heat up in the process, but this heat is not critical because the properties of the magnetic thin layer are previously stabilized at a higher temperature
leiten Magnetdrähte lockergehalten sind, über die
thermoplastische Schicht gesetzt wird und dabei die
Magnetdrähte etwa bis zum halben Durchmesser in
die thermoplastische Schicht eingebettet werden, daß
die thermoplastische Schicht zum Aushärten abge- 5 können,
kühlt und die aus Teilen dieser Schicht und der Ebensowenig wird die Isolierstoffschicht 7 ange-conduct magnet wires are loosely over the
thermoplastic layer is set and thereby the
Magnet wires up to about half the diameter in
the thermoplastic layer can be embedded that
the thermoplastic layer can harden to 5
cools and the parts of this layer and the same, the insulating material layer 7 is not attached.
Magnetdrähte gebildeten Oberfläche zuersi durch ein griffen. Anschließend wird die thermoplastische
rein chemisches und anschließend durch ein elektro- Schicht 4 mit den darin eingebetteten Magnetdrahlytisches
Verfahren mit einer elektrisch leitfähigen ten 6 langsam abgekühlt. Die von der thermoplasti-Grundplatte
überzogen wird, daß die Matrixplatte io sehen Schicht 4 und den Magnetdrähten 6 gebildete
von der Montageplatte abgehoben wird und aus der Oberfläche wird im nachfolgenden Herstellungsschrilt
nun offenliegenden elektrisch leitfähigen Schicht in einem zuerst rein chemischen und dann ele£i™~
durch Wegätzen überflüssiger Teile die Wortleitungen lytischen Verfahren verkupfert. Diese Kupferschicht
gebildet werden, und daß die gesamte Matrixober- bildet die Grundplatte 8 und stellt den gemeinsamen
fläche auf der Wortleitungsseite durch eine magne- 15 Rückleiter für alle Matrixströme dar.
tisch leitende Schicht abgedeckt wiiΔ. Nun werden noch die senkrecht zu den Magnet-Magnetic wires formed surface zuersi by a handle. Then the thermoplastic is purely chemical and then slowly cooled by an electro-layer 4 with the Magnetdrahlytisches process embedded therein with an electrically conductive th 6. Which is covered by the thermoplastic base plate that the matrix plate io see layer 4 and the magnet wires 6 formed is lifted off the mounting plate and from the surface is now exposed electrically conductive layer in a first purely chemical and then ele £ i ™ in the subsequent manufacturing step ~ by etching away superfluous parts, the word lines are copper-plated using the lytic method. This copper layer is formed, and that the entire matrix upper forms the base plate 8 and represents the common area on the word line side through a magnetic return conductor for all matrix currents.
table conductive layer covered wii Δ. Now the perpendicular to the magnet
Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung können drähten 6 verlaufenden Wortleitungen 9 gebildet. I.citungsabschlüsse kollektiv in einem Herstellungs- Dazu wird die soweit vorgefertigte Matnxplatte von schritt dadurch vergenommen werden, daß zum gal- der Montageplatte 1 abgehoben und damit die elekvaiiiscliui Vciliiiiden von Diähien und/oder Wort- 20 trisch ieitfähige Scliiclit 2 freigelegt. Daraus wi-nU-n leitungen an einer Matrixkante die elektrisch leiifä- nun mit Hilfe bekannter Verfahren die überflüssigen Iiige Schicht an den gewünschten Stellen freigelegt. Teile weggeätzt, so daß nur die Wortlcitungen die elektrische Isolierstoffschicht an den Enden der stehenbleiben In einem abschließenden Herstellungs-/u verbindenden Magnetdrähte abgenommen wird, schritt wird die Mutrisoberfläche auf der Wortlci- und daß gleichzeitig mit der Grundplatte diese Ver- 25 tungsscite durch eine magnetisch leitende Schicht IH bindungen kollektiv hergestellt werden. abgedeckt, die den Flußrückschluß (Flux-Keeper)According to a further development of the invention, word lines 9 running 6 wires can be formed. For this purpose, the prefabricated matnx plate is taken from step by the fact that the mounting plate 1 is lifted to the gal- and thus the elecvaiiiscliui Vciliiiui Vciliiiui von Diähien and / or literally conductive Scliiclit 2 exposed. From this, the superfluous layer is exposed at the desired points with the help of known methods, on a matrix edge, which electrically conducts. Parts are etched away so that only the word lines remain, the electrical insulating material layer at the ends of the magnetic wires is removed conductive layer IH bonds are collectively made. covered the back flux (flux keeper)
Weiterhin kann der Abstand /wischen den Wort- dar^ellt. Die magnetisch leitende Schicht IO Umleitungen und der als gemeinsamer Rückleiter aller steht in bekannter Weise aus Ferritpulver und be-Matrixstrome dienenden Grundplatte noch dadurch nutzt z. B. Silikongummi als organisches Bindemittel, weiter vermindert werden, daß die thermoplastische 30 Dieses magnetisch leitende Material wird nun, wie Schicht direkt auf die Montageplatte aufgebracht bereits vorgeschlagen wurde, in fließfähigem Zustand wird, die der Montageplatte zugekehrte Schichtseite auf die Wortleitungsseite der Matrix aufgebracht, nach der Herstellung der Grundplatte und dem Ab- damit die magnetische Rückschlußschicht besonders heben von der Montageplatte mit Hilfe eines chemi- eng anliegt und einen guten Rückschluß für das maschen Verfahrens verkupfert und aus dieser Schicht 35 gnetische I eld des Speichers bildet. Hin Ausschnitt die Wortleitungen ausgeätzt werden. aus einer nach dem erfindungsgemäßen VerfahrenFurthermore, the spacing / wipe can represent the word-. The magnetically conductive layer IO diversions and as the common return conductor of all is made up of ferrite powder and be matrix currents in a known manner serving base plate still uses z. B. silicone rubber as an organic binder, be further reduced that the thermoplastic 30 This magnetically conductive material is now how Layer applied directly to the mounting plate has already been proposed in a flowable state the layer side facing the mounting plate is applied to the word line side of the matrix, after the production of the base plate and thus the magnetic backing layer in particular lift from the mounting plate with the help of a chemi- cally close fitting and a good conclusion for the mesh Process copper-plated and from this layer 35 forms magnetic I eld of the memory. Towards neckline the word lines are etched out. from one according to the method according to the invention
hergestellten Magnetdrahtspeichermatrix ist in F- 1 g. _ dargestellt. Sie zeigt außerdem, wie ein Kurzschluß zwischen einem Magnetdraht 6 oder einer Wort-40 leitung 9 und der Grundplatte 8 er/eugl wird. An einer Matrixkante ist, wie bei 12 dargestellt wird, die Isolierstoffschicht 7 eines Magnetdrahtes 6 entfernt und an einer anderen Kante fehlt, wie bei 11 dargestellt, die duroplastische Schicht 2 und damit ist ein 45 Teil der Wortleitung 9 freigelegt. Beim Herstellen der Grundplatte 8 werden diese Stellen dann mitverkupfert. Auf diese Weise können alle LcitungsabrchlüsseThe magnetic wire memory matrix produced is in F-1 g. _ shown. It also shows how a short circuit between a magnet wire 6 or a word 40 line 9 and the base plate 8 he / eugl is. On a matrix edge, as shown at 12, is the Insulation layer 7 of a magnet wire 6 removed and missing at another edge, as shown at 11, the thermosetting layer 2 and thus is a 45 part of the word line 9 is exposed. When producing the base plate 8, these points are then also copper-plated. In this way, all leads can be concluded
Eine nach deren erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte Magnetdrahtspeicnermatrix ist in der Zeichnung schematisch dargestellt und wird im folgenden näher beschrieben. Es zeigtA magnet wire storage matrix produced by its method according to the invention is shown in FIG Drawing shown schematically and is described in more detail below. It shows
F i g. 1 die schematische Darstellung eines Ausschnittes einer Magnetdrahtspeichermatrix nach den ersten Verfahrensschritten undF i g. 1 the schematic representation of a section a magnetic wire memory matrix according to the first method steps and
F i g. 2 die schematische Darstellung eines Ausschnittes einer fertigen Magnetdrahtspeichermatrix.F i g. 2 shows the schematic representation of a section of a finished magnet wire storage matrix.
Aus der Fig. i sind die ersten Verfahrensschritte zu entnehmen. Eine mit einer elektrisch leitfähigen Schicht 2 überzogene duroplastische Schicht 3 wirdThe first method steps can be seen in FIG. One with an electrically conductive one Layer 2 coated thermosetting layer 3 is
gemeinsam bei der Herstellung der Grundplatte 8 erzeugt werden.are generated together in the manufacture of the base plate 8.
mit der nach unten weisenden Schichtseife 2 auf eine -.-—o. with the layered soap 2 pointing downwards on a -.-- o .
Montageplatte 1 gelegt Die duroplastische Folie 3 ist 5» Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung werden etwa f) bis 10 um und die elektrisch leitfähige Schicht die Wortleitungen auf einem anderen Weg hergestellt 2, die z. B. aus Kupfer besteht, ungefähr K) inn dick. Dabei verzichtet man auf die duroplastische Schien; ·· Auf diese duroplasiische Folie 3 wird eine thermo- und die elektrisch leitfähige Schicht 2 und bringt die plastische Schicht 4 — entweder als Folie oder als thermoplastische Schicht 4 — als Folie oder als VerVergußmasse — aufgebracht. Sie ist etwa 25 μτη stark 5s gußmasse — direkt auf die Montageplatte! aut. und besteht aus einem Kunststoff, der schon bei Nach dem F.inbcltcn der Magnetdrahte 6 werdenMounting plate 1 placed The thermosetting film 3 is 5 »According to a further development of the invention about f) up to 10 µm and the electrically conductive layer made the word lines in a different way 2, the z. B. made of copper, about K) inn thick. The thermoset splint is dispensed with; ·· On this thermosetting film 3 is a thermally and electrically conductive layer 2 and brings the plastic layer 4 - either as a film or as a thermoplastic layer 4 - as a film or as a potting compound - upset. It is about 25 μτη strong 5s casting compound - directly on the mounting plate! aut. and consists of a plastic that will be used as soon as the magnet wires 6 are closed
beide Seilen der soweit vorgefertigten Matnxplatte in einem zuerst rein chemischen und dann in einem elektrolytischen Verfahren verkupfert, eine der beiden Kupferschichten bildet wieder die Grundplatte 8, und aus der anderen werden die Wortlcitungen 9 ausgtboth ropes of the so far prefabricated Matnx plate in one first purely chemical and then copper-plated in an electrolytic process, one of the two Copper layers again form the base plate 8, and the word lines 9 are made from the other
etwa 100° C plastisch ist. Diese thermoplastische Schicht 4 wird durch Wärmezufuhr in fließfähigem Zustand gehalten und darüber ein nur schematisch dargestellter Rahmen 5 gelegt. Dieser Rahmen 5 trägt eine Vielzahl von parallel angeordneten Magnetdrähten 6, die mit einer Isolierstoffschicht 7 ummantelt sind. Die Magnetdrähte 6 können ohne große Zugspannung in dem Rahmen 5 gehalten werden, da ihre Positionierung nicht mehr kritisch ist.around 100 ° C is plastic. This thermoplastic layer 4 becomes flowable by the supply of heat Maintained state and overlaid a frame 5, which is only shown schematically. This frame 5 carries a multiplicity of magnet wires 6 arranged in parallel and coated with a layer of insulating material 7. The magnet wires 6 can without large Tensile stress are held in the frame 5, since their positioning is no longer critical.
. Beim Aufsetzen des Rahmens 5 auf die thermoplastische
Schicht 4 werden die Magnetdrähte is etwa bis zur Hälfte in die thermoplastische Schicht 4 einätzt.
Anschließend wird dann noch in der beschriebenen Weise die magnetisch leitende Schicht 10 als
magnetische Rückschlußschicht aufgebracht.
6:5 Die Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens ergeben sich aus der einfachen Technologie und den
günstigen Eigenschaften der Speichermatrix. Die Magnetdrähie können ohne große mechanische Bean-. When placing the frame 5 on the thermoplastic layer 4, the magnet wires are einätzt is about half in the thermoplastic layer. 4 The magnetically conductive layer 10 is then applied as a magnetic back yoke layer in the manner described.
6: 5 The advantages of the method according to the invention result from the simple technology and the favorable properties of the memory matrix. The magnet wires can be used without great mechanical
sprudnmg in die thermoplastische Schicht 4 eingebettet werden. Wenn dabei die Temperatur von ,etwa 100 C eingehalten wird, ist auch die thermische Heanspiuduing nicht kritisch. An das Verkupfern und das Ätzen werden keine besonderen Anforderungen gestellt, und in dem hier auftretenden Umfang weiden diese Techniken beherrscht. Dies gilt auch tür das Aufbringen der magnetischen Rückschlußschieht 10.embedded in the thermoplastic layer 4 will. If the temperature is about 100 C is maintained, is also the thermal Heanspiuduing not critical. The copper plating and the etching no special requirements are made, and to the extent that occurs here have mastered these techniques. This also applies to the application of the magnetic return path 10.
Besonders vorteilhaft sind dabei auch die Eigenschaften, die sich aus dem Aufbau einer Magnetspeichennatrix ergeben, die nach dem erfindungsgcmälkn Verfahren hergestellt ist. Die tragende Grundplatte 8 wird als Rückleiter für sämtliche Matrixströme verwendet, und ihr Abstand zu den Wortleitungen ·) ist sehr gering. Er wird insbesondere dann optimal, wenn man, wie beschrieben, auf die duroplastischc Folie 3 verzichtet. Durch diesen geringen Abstand zwischen den Wortleitungen 9, bzw. den Magncldrähtcn 6 und der Grundplatte 8, wird für alle Leitungen ein niedriger Wellenwiderstand (<1 50 U) erreicht. Dabei wird die elektromagnetische Kopplung 7wischen benachbarten parallelen Leitungen oder Speicherplätzen in der horizontalen Ebene vermindert. Das bedeutet aber, daß nunmehr auch in dieser Richtung geringere Leitungsabständc ohne unerwünschte elektromagnetische Kopplung möglich sind. So werden die günstigen Eigenschaften des Magnetdrahtes als Speicherelement vorteilhaft ausgenutzt. Gegenüber den bekannten Anordnungen hat damit der erfindungsgemäße Matrixaufbau den Vorteil der geringeren Steuerimpulsleistung, der größeren Packungsdichte und insbesondere der höheren Arbeitsgeschwindigkeit. Particularly advantageous are the properties which result from the structure of a magnetic memory matrix, which according to the invention Process is established. The supporting base plate 8 is used as a return conductor for all matrix currents used, and their distance to the word lines ·) is very small. He becomes particular optimally if, as described, the thermosetting film 3 is dispensed with. Because of this little The distance between the word lines 9 or the magnetic wires 6 and the base plate 8 is A low wave impedance (<1 50 U) is achieved for all lines. The electromagnetic Coupling 7 between adjacent parallel lines or storage locations in the horizontal plane reduced. But this means that now also in this direction smaller line spacings without undesired electromagnetic coupling are possible. This is how the favorable properties of the Magnet wire advantageously used as a storage element. Has compared to the known arrangements thus the matrix structure according to the invention has the advantage of the lower control pulse power, the greater Packing density and especially the higher operating speed.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19681774800 DE1774800C3 (en) | 1968-09-12 | 1968-09-12 | Process for making a low inductance memory matrix |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19681774800 DE1774800C3 (en) | 1968-09-12 | 1968-09-12 | Process for making a low inductance memory matrix |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1774800A1 DE1774800A1 (en) | 1972-01-05 |
DE1774800B2 DE1774800B2 (en) | 1973-03-15 |
DE1774800C3 true DE1774800C3 (en) | 1973-10-11 |
Family
ID=5702276
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19681774800 Expired DE1774800C3 (en) | 1968-09-12 | 1968-09-12 | Process for making a low inductance memory matrix |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1774800C3 (en) |
-
1968
- 1968-09-12 DE DE19681774800 patent/DE1774800C3/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1774800A1 (en) | 1972-01-05 |
DE1774800B2 (en) | 1973-03-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) |