DE1771475A1 - Verfahren und Vorrichtung zum chemischen Aufbringen von Gold auf poroese,nichtleitende Koerper oder Glas - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum chemischen Aufbringen von Gold auf poroese,nichtleitende Koerper oder GlasInfo
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Description
Boblingen, 27. 2'ai 1968
ru-rna
Amtliches Aktenzeichen:
zeichen der Anmelderin:
Ducket GH 1T.;: O-iu. --,f. 8 Γ 8 0 39
Λ'ί£F^ '' 1'C1U und Vorrichtung y.w. . chemischen Aufbringen von Gold aui
p_oröije, nichtleitende ί"(Ϊ£.Ιί^_£ "doi* Cilas
Die Lri'indung l)etrifft ein Verfahron zum chemischen Aufbringe-, "on Gold
ai.f poröse, nichtleitende ί -rf>er oder CJlas unter Anv/endun;4 bekannter
Sensii.-üisierungs- und Aktivierung8/erfahren, insbesondere ?ur herstellung
voi. T.eiierzügen für mikrominiaturisierte Schaltungen, so.· ie eine
Vorriclitung zur Durchführung des Verfahrens.
Prinzipiell sind drei Verfahren bekannt, um Metalle r-.uf nicht'.netallisc'ie
poröse Unterlagen oder Glas aufzubringen. Einmal ist es möglich, die
Metalle mechanisch durch Plattierung bzw. durch Aufsprühen oder Aufdampfen aufzubringen. Diese '/erfahren haben jedoch den Nachteil, dass
die aufgebrachten Schichten sehr grosse Dickenunterschiede aufweisen
und die Haftfähigkeit auf der Unterlage sehr klein ist. so dass sogar Unterbrechungen
der I.eiterzüge axif Schaltkarten möglich sind, wobei zu beachten ist das« die Leiterzüge auf den Schaltungepl/ittchen für mikrominiaturieierte
Schaltkreise nur eine Breite von 100 ti und kleiner haben. Eine
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Dicke über das gan/.e Plättchen ist deshalb von so grosser Bedeutung,
.'iil der Widerstand der einzelnen Leiterzüge des T>lättchens konstant
und sehr klein sein soll, um möglichst wenig elektrische Verluste /.u hnhen.
Γ!_> ist '.'uUerhin l>ek;üii.t . Metalle, .vie ■/.. PV Knpi'er und ("!old, mit ilili'e der
C !,ilvauol.e-"" aiik ,Ί".ί :i i--'.tmetallische Unterlagen aufzubringen. Aici sind die
!>ier:-u erforderliche;. '. or richtungen bekannt.
B Diese \Crfa!iren utid v'or ri c!\t\.mgen haben jedoch den r'ru!iteil, dass die
nic'iti.ietailisciien f'uterlnger. mit viel Aufwand an 7eit und Vaterial für
den ^aI'■;<aischen "ro/.ess vorbereitet werden müssen. Damit eine ein-■'/:"ii:f'irei»;
Kattuns.; ties ' loldes auf der nichtmetallischen Tr7iterlage erreicht
wird, Müssen vor doi eigentlichen ^rergoldungsvorgang in mehreren Prozessen
verschieden»· metallische Zwischenschic htten auf chemischem oder galvanise!.ein V.'eg auf das Cl-rundireterial aufgebracht werden.
^ Dadurch wird das gesamte Verfahren sehr teuer und ^eitaufv/ondig. Ausser-
dem haben diese bekannte Verfahren den Nachteil, dass sie zur Herstellung
von mehrschichtigen I.eiterzügen auf nichtmetallischen Unterlagen ungeeignet
sind, da die Leiterzüge durch Atzen mittels Königswasser hergestellt
werden müssen,
Ausserdem ist es bei.aunt, Kupfer oder Silber mit Hilfe chemischer Verfahren
auf nichtleitende poröse Körper oder Unterlagen aufzubringen. Dabei
wird der zu versilbernde bzw. verkupfernde Körper vor dem eigentlichen
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Yereilberungs- bzw. Verkupferungsprozess sensibilieiert und aktiviert
so /ie ggf. noch mit einer anderen metallhaltigen /'v/ischensc'iicht versehen.
Diese chemischen Verfahren, die sich zur Aufbringung von Kupfer oder Silber eignen, sind jedoch zur Aufbringung von Gold ungeeignet,
da hier keine einwandfreie Haftung am Grundmaterial erreicht wird.
Weiterhin wurde vorgeschlagen, elektrische Gold-Leiterzüge auf nichtmetallische
Unterlagen dadurch aufzubringen, dass der sensibilisierte und aktivierte Körper in eine Lösung einer Goldverbindung, r,. H.
A? r'iges V Au (CT^ und konzentrierte Natronlauge bei einem Gewichte-
anteil von 5 bis 8g pro Liter bzw. 80g pro Liter gebracht wird, dass diese
Lösung auf eine Temperatur von 70 bis 90 gebracht wird und danach
8 '; iges T7inn-Chlorid mit einem Anteil von 32 ml pro Liter in die Lösung
gegeben wird, wodurch nach ca. 1 bis 2 Minuten das Held durch das 7.inn
aus der Lösuni; gedrängt ird und sich auf dem zu vergoldenden Körper
niederschlä ;;1
Dieses ''er fahrer, hat iedoch den T Tn c l"it oi 1. das π das Goldbnd n-'tch einmaligem
(".ebram-.h für einen weiteren Vergold'inpsprozers unbvr·': "hhnr ™
ist. so dass sirli dnrnus ein relativ hoher ' -oldvorhrrm^h ei <dbt Weiteren
'at dieses ' ι rfnhren (!on "larhteil. <h>Bf κ s fiii· οϊ;ηπ kcal iiiuierli' :h('ii
I 'roduklii1:;;^!!!' -css unrec!. Met in', d ) bei ifdvr. i.'· :■ "ei".'oJ !i'ihisjto.-chs
ic<lt'8ü ;\\ ei>. ]·,<■ 'ce Had Mi'ise^.t werdn: j "es, ■■'..·.- ^''ίγ "eitrrtubrjul 'nd
t«>\ic:r ist
'Irr l.if .·.· ■:■,·[ iJci't des1'.-·!'.
<li'' Ί fe.·1"* : ι πιμ-Ιι«. Hi· ''erfahrtM! inul eine
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Do.l-.e, (,Τ:%.ΊίΜ0
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Unterlagen, wie ν.. ΙΊ. Keramik oder Glas, zu schaffen, wodurch es
möglich wird, dass das einmal angefertigte Goldbad ständig wieder
verwendet werden J nun und der Goldverlust relativ klein bleibt.
Das erfindungsger ;isse Verfahren zur Lösung der Aufgabe besteht
darin, dass ein Goldbnd mit der folgenden 7usnmrrensetz\ing verwendet
wird:
stoffe
Goldchlorwaeserfsäure 4 g pro Liter, Harnstoff 8g pro läter, Zitronen-
Goldchlorwaeserfsäure 4 g pro Liter, Harnstoff 8g pro läter, Zitronen-
fc säure 10g pro Liter, dass dieses Rad zum Vergolden durch eine Umlaufpumpe
in ständiger Bewegung gehalten und auf eine Betriebstemperatur von 75 bis 85 C gebracht wird und danach der zu vergoldende
Schichtträger in dieses Bad eingetaucht wird.
Die erfindung.3gem;isse Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemSseen
Verfahrens besteht darin, dass am Ausgang eines Badbeh.'ilters
über ein Rohrsystem eine Kühlvorrichtung angeschlossen ist, die die Badtemperatur auf die erforderliche Betriebstemperatur für ein nachgeschaltetes
Filter herabsetzt und dass dem Filter eine Heizvorrichtung nachgeschaltet ist, die das Goldbad wieder auf die erforderliche Betriebstemperatur
erhitzt..
Der Vorteil des erfindungsgemässen Verfahrene sowie der erfindungsgemässen
Vorrichtung besteht darin, dass das einmal angefertigte Goldbad ständig wieder verwendet werden kann und unter zeitweiliger ?ugabe der
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Goldverbindung das Goldbad in se.ner erforderlichen Konzentration kontinuierlich
erhalten werden kann. Dies hat deshalb besondere Vorteile, weil bei einer Grosserienfertigung der Furtigungsprozess nicht unterbrochen
werden braucht und ein Vergolden praktisch ständig möglich ist. Ausserdern werden die aufgebrachten Goldschichten in Form von Leiterzügen
sehr homogen und künn^n bis zu 10 u Dicke ohne weiteres aufgebracht
werden. .Auch mehrschichtige Leiterzüge laesen sich auf diese .Art
und Weise sehr einfach herstellen, weil die Abdeckung schon vorhandener
Leiterzüge auf einer Grundlage mit bestimmten elektrischen Isolationematerialien,
sehr einfach zu realisieren ist und der Atzvorgang entfällt.
Die Erfindung wird nun anhand eines in der Zeichnung dargestellten
Ausführungsbeispiels näher beschrieben, jedoch sind auch weitere Variationen des Ausführungsbeispiels ohne weiteres möglich, ohne dass der
Bereich der vorliegenden Erfindung verlassen wird.
Die Figur zeigt eine besondere vorteilhafte Vorrichtung zum chemiechen
Vergolden von Schaltungsplättchen oder dergleichen
Zunächst soll das erfindungsgemiisse chemische Verfahren zum Aufbringen
von Gold auf nichtmetallische Unterlagen beschrieben werden.
Vor den eigentlichen Vergoldungsprozess wird das nichtleitende poröee
Material, im vorliegenden Falle ein A1_O- -Substrat, das als Träger für
aufzubringende Leiterzüge elektrischer Schaltungen dient, mit Photolack beschichtet, mit Hilfe bekannter Seneibilieierungsverfahren sensibilisiert
und danach aktiviert. 1 0 9 8 5 1 / 1 3 9.8
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Die Sensibiliaierung kann dabei in einer Zinn-Chlorid-Lösung auf bekannte
Art und V/eise geschehen und die Aktivierung kann in einer Palladium-Chlorid-Losung
oder in Oold-Chlorwnsserstoff-S.'iure vorgenorm. en werden.
Vor der Sensibilisieren und Aktivieren wird das Al_O,rSubstrat wie schon
beschrieben mit Photolack überzogen und entsprechend den aufzubringenden
Leiterzügen belichtet. Danach wird der belichtete Körper nach bekannteti Verfahren entwickelt und die Sensibilisierung sowie die Aktivierung findet
fß nur an den Stellen intensiv statt, die durch den P>olu ' tungsnroi'.ess vorgezeichnet
sind und sp.iter die Leitungezüge tragen. Tet;.t wird der Photolack wieder entfernt.
Nacli dem Aktivieren erfolgt der eigentliche Vergoldungsprozess.
Für das Vergolden wird ein Goldbad verwendet, dae folgende Zusammensetzung
aufweist:
Goldchlorwasserstoffsüure 4g pro Liter
Harnstoff 8g pro Liter
" Zitronensäure 10g pro Liter
Das aktivierte A1_O -Substrat wird in ein Bad. mit obiger Zusammensetzung
gebracht, das in der Zwischenzeit auf 75 bis 85 C erhitzt wurde. Sofort
nach dem Eintauchen des A1?O,-Substrates erfolgt die Abscheidung des
Goldes auf die aktivierten S^ eilen, die die aufzubringenden Leiterzüge
kennzeichnen.
Die Goldmenge, die sich an den aktivierten Stellen niederschlägt, hangt
von der Eintauchzeit des AI2O3-Substrates ab Dadurch ist es möglich, die
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Dirke der aufzubringen Leiterzüge durch Variieren der Eintauchzeit zu
bestimmen.
Eine Goldschicht von ca. 4 bis 5 11 Dicke wird innerhalb einer halben biß
einer Stunde auf das Al.,0 -Substrat abgeschieden.
Diö Ergebnisse haben gezeigt, dass das Gold tatsächlich nur an den Stellen
niedcrgeschlntren wird, die aktiviert sind. Dadurch ist es möglich, dass
sofort nach Beendigung des Vergoldens die Leiterzüge exakt auf dem Al-O-Substrat
aufgebracht sind, und ein kompliziertes '''tren mit Hilfe von Könige- ^
wasser entfällt völlig.
Tn dem Rad nach der oben angegebenen Zusammensetzung bilden sich wä'lirend
des Vergoldungsvorganges Kristallisationskeime. Diese Kristallisationskeime würden dazu führen, dass nach relativ kurzer reit, das gesamte Gold
aus der Lösung ausgeschieden wäre und somit das Bad unbrauchbar geworden
wä re.
Um dies zu verhindern, wurde eine Vorrichtung geechaffen, die die Aus- i
scheidung des Goldes innerhalb des Bades verhindert. Diese Vorrichtung ist
in der Zeichnung dargestellt und besteht aus dem Behälter 1, der für das Bad dient, einem Rohrsystem 2, in dem sich nach dein Badnusgang 3 eine
4
Kühlvorrichtung'befindet, an deren Atisgang eine Pumpe S angeschlossen ist, die die Badmenge in einer Stunde mindestens zweimal umlaufen l/isst. Am Ausgang der Pumpe 5 ist ein Filter 6 angeschlossen, dessen Durchlässigkeit in der C/rössenordnung zwischen 1 bis 5 π liegen muss.
Kühlvorrichtung'befindet, an deren Atisgang eine Pumpe S angeschlossen ist, die die Badmenge in einer Stunde mindestens zweimal umlaufen l/isst. Am Ausgang der Pumpe 5 ist ein Filter 6 angeschlossen, dessen Durchlässigkeit in der C/rössenordnung zwischen 1 bis 5 π liegen muss.
Do.-kct GE 968 040 109851/1398
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für das Vergolden erforderliche Temperatur, im vorliegenden Falle auf
ca. 75 bis 85 C gebracht.
Die Kühlvorrichtung 4 in dem Rohrsystem 2 ist im vorliegenden Fn
deshalb erforderlich, weil die Betriebstemperatur von 75 bis 85 C eine
unerwünschte Goldabscheidung innerhalb des Filters zur Folge hätte.
ORIGINAL 109851/1398
Docket GE <K>8 040 -9-
Claims (7)
- - 9 -
IBM Deutschland Internationale Büro-Maschinen Getelhchafl mbH ' ' ' ' H ' üBöblingen. 27. Mai 1968 Docket GE 968 040, GE 868 039 ru-maPatentansprücheVerfahren zum chemischen Aufbringen von Gold auf poröse, nichtleitende Körper oder Glas unter Anwendung bekannter Sensibilisie rungs- und Aktivierungeverfahren, insbesondere zur Herstellung von Leiter-. zügen für mikrominiaturisierte Schaltungen, dadurch gekennzeichnet, dass ein Goldbad mit der folgenden Zusammensetzung verwendet wird: Goldchlorwasserstoffsäure 4g pro LiterHarnstoff 8g pro LiterZitronensäure 10g pro Literdass dieses Bad zum Vergolden durch eine Umlaufpumpe (5) in ständiger Bewegung gehalten und auf eine Betriebstemperatur von 75 bis 85 C gebracht wird und danach der zu vergoldende Schichtträger in dieses Bad eingetaucht wird. - 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass zur Herstellung von Leiterzügen in mehreren Schichtebenen der zu vergoldend· Schichtträger für die erste Leitungsschicht mit Photolack beschichtet, belichtet, sensibilisiert und aktiviert wird, dass danach der Photolack entfernt wird und der zu vergoldende Schichtträger in das Goldbad eingetaucht wird und nach dem Abscheiden des Goldes auf dem Schichtträger eine Isolierschicht (ζ. B. Glas) aufgebracht wird und wiederum mit Photolack beschichtet, belichtet, sensibilisiert und aktiviert wird, um nach dem Eintauchen in das Goldbad eine weitere Leitung* schicht *u er-halten 109851/1398 BAD original-ΙΟ
- 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Gold nur an den Stellen des Schichtträgere niedergeschlagen wird, an denen Leiterzüge in der jeweiligen Leitungsschicht aufgebracht werden.
- 4. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass am Ausgang (3) eines Badbehälters (1) über ein Rohrsystem (2) eine Kühlvorrichtung (4) angeschlossen ist, die die Badtemperatur auf die erforderliche Betriebstemperatur für ein nachgeschaltetes Filter (6) herabsetzt und dass dem Filter eine Heizvorrichtung (7) nachgeschaltet ist, die das Goldbad wieder auf die erforderliche Betriebstemperatur erhitzt
- 5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass in das Rohrsystem (2) eine Pumpe (5) eingefügt ist, die das Goldbad ständig umlaufen lässt, so dass die sich bildenden Kristallisationskeime im Badbehälter (1) an das Filter (6) gelangen, wo sie ausgeschieden werden.
- 6. Vorrichtung nach den Ansprüchen 4 und 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Durchlässigkeit des Filters (6) für die Goldkrietallisationskeime in der Orössenordnung zwischen 1 bis 5 ju liegt.
- 7. Vorrichtung nach den Ansprüchen 4 und 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Förderleistung der Pumpe (5) im Rohrsystem (2) so bemessen ist, dass die gesamte Badmenge in einer Stunde mindestens zweimal umgewälzt wird.109851/1398Dockst GE 968 040
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19681771475 DE1771475A1 (de) | 1968-05-30 | 1968-05-30 | Verfahren und Vorrichtung zum chemischen Aufbringen von Gold auf poroese,nichtleitende Koerper oder Glas |
FR6910797A FR2009624A1 (de) | 1968-05-30 | 1969-04-17 | |
GB1257995D GB1257995A (de) | 1968-05-30 | 1969-05-13 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19681771475 DE1771475A1 (de) | 1968-05-30 | 1968-05-30 | Verfahren und Vorrichtung zum chemischen Aufbringen von Gold auf poroese,nichtleitende Koerper oder Glas |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1771475A1 true DE1771475A1 (de) | 1971-12-16 |
Family
ID=5700872
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19681771475 Pending DE1771475A1 (de) | 1968-05-30 | 1968-05-30 | Verfahren und Vorrichtung zum chemischen Aufbringen von Gold auf poroese,nichtleitende Koerper oder Glas |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1771475A1 (de) |
FR (1) | FR2009624A1 (de) |
GB (1) | GB1257995A (de) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1558762A (en) * | 1975-07-04 | 1980-01-09 | Johnson Matthey Co Ltd | Metal or alloy coated powders |
-
1968
- 1968-05-30 DE DE19681771475 patent/DE1771475A1/de active Pending
-
1969
- 1969-04-17 FR FR6910797A patent/FR2009624A1/fr not_active Withdrawn
- 1969-05-13 GB GB1257995D patent/GB1257995A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2009624A1 (de) | 1970-02-06 |
GB1257995A (de) | 1971-12-22 |
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