DE1762377C - Color cathode ray tube with multiple electron guns and process for their manufacture - Google Patents

Description

von einer optischen Quelle »zweiter Ordnung« auf ge- Aufgäbe der Erfindung ist es, eine Kathodenstrahl-from an optical source "second order" on object of the invention is to produce a cathode ray

dnv±t sind (vgl die britische Patentschrift 1014 905). röhre der eingangs erwähnten Art mit noch bessererdnv ± t (see British patent specification 1014 905). tube of the type mentioned at the beginning with an even better one

Dies hat zur Wirkung, daß der Maske-Schirm-Abstand Fehlerkorrektur und trotzdem einfacher HerstellungThe effect of this is that the mask-to-screen distance is error correction and still easier to manufacture

an den Rändern geringer ist als an der Mitte, und zu schaffen.at the edges is less than at the center, and to create.

zwar um einen Betrag, der nicht so graß wie bei der 5 Erfindungsgemäß gelingt dies dadurch, daß derby an amount that is not as graß as in the case of the 5. According to the invention, this is achieved in that the

zweiten Anordnung ist Abstand zwischen den Mittelpunkten benachbartersecond arrangement is distance between the centers of adjacent ones

Die vorgenannten Erläuterungen lassen gewisse Löcher der Lochmaske am Rand der Maske größerThe above explanations leave certain holes in the shadow mask at the edge of the mask larger

weitere Verzerrungen der Dreiergruppen-außer be- ist als in der Mitte und Saß der Abstand der Mittel·further distortions of the groups of three-except there is than in the middle and Saß the distance of the middle

tracht, wie »Verkürzungs-Fehlüberdeckung« und punkte benachbarter Phosphorscheibchen auf demTracht, such as "shortening misregistration" and dots of neighboring phosphor discs on the

Verzerrung de/ Elektronenstrahlfleck-Dreiergruppe 10 Schirm ebenfalls am Rand des Schirmes größer ist alsDistortion de / electron beam spot triple 10 screen is also greater than at the edge of the screen

infolge ästigmatischer Ablenkfehler in den Abtast- in seiner Mitte.due to astigmatic deflection errors in the scanning in its center.

spulen, welche die Beschreibung der vorliegenden Der Maske-Schirm-Abstand wird vorzugsweise so Erfindung nicht grundsätzlich beeinflussen. gemacht, daß idie Maske auf dem Schirm Elektronen-Lochmasken werden gewöhnlich aus flachen »Roh- strahlfleck-Dreiergruppen erzeugt, welche, gemessen lingen« hergestellt, bei welchen der Abstand der 15 über einen kleinen Bereich, zusammenwirken, um Löcher über die Erstreckung der Maske gleichmäßig eine gleichmäßige Fleckanordnung zu bilden. Mit ist. Wenn einer solchen Maske eine kugelig gewölbte anderen Worten, es wird, nachdem der Abstand der Form gegeben wird, hat dies eine gewisse Vorzerrung öffnungen in der Mitte und am Rand der Maske festdieses Abstandes zur Folge, jedoch ist dieser immer gelegt worden ist, der Maske-Schirm-Abstand so genoch im wesentlichen konstant, wenn er längs der so wählt, daß die dadurch bedingte Vergrößerung in Oberfläche der fertigen Maske gemessen wird. Kombination mit der Konvergenzkorrektur-Degrup-Es ist üblich, die Größe der Löcher so abzustufen, pierung, welche im Betrieb der fertigen Röhre auftritt, daß diejenigen Löcher, die sich am Rand der Maske zur Folge hat, daß die drei Strahlerzeuger in Kombibefinden, kleiner als diejenigen in der Mitte derselben nation, gemessen über einem kleinen Bereich, eine sind. Diese Verringerung in der Größe nimmt mit »5 im wesentlichen gleichmäßige Elektronenstrahlfleckdem Abstand von der Maskenmitte zu. Zweck dieser anordnung erzeugen. Die Größe der Löcher kann Maßnahme ist, die Elektronenstrahlflecke bei der ebenfalls so eingestellt werden, daß die jeweils erforfertigen Röhre am Rand des Schirms relativ kleiner derliche Gesamt-Maskendurchlässigkeit in der Mitte zu machen, so daß, wenn die Phosphorscheibchen am und an den Rändern der Maske erhalten wird. Diese Schirmrand mit der gleichen Größe wie diejenigen an 30 Wahl wird durch die Berücksichtigung der Helligkeit der Röhrenmitte aufgedruckt werden, eine größere und der Elektronenstrahlfleck-Phosphorscheibchen-Toleranz für Auftreffehler eines Elektronenstrahl- Toleranz bestimmt.coils, which meet the description of the present The mask-to-screen distance is preferably so Do not fundamentally influence the invention. made that i the mask on the screen electron shadow masks are usually generated from flat »raw beamspot triplets, which, measured lingen «, in which the spacing of the 15 over a small area cooperate to Holes over the extension of the mask to form a uniform array of spots evenly. With is. If such a mask has a spherically domed other words, it will after the spacing of the Shape is given, this has some pre-distortion openings in the center and at the edge of the mask this fixed As a result, the distance between the mask and the screen has always been set essentially constant if he chooses along the so that the resulting enlargement in Surface of the finished mask is measured. Combination with the convergence correction Degrup-Es it is customary to graduate the size of the holes in such a way, which occurs in the operation of the finished tube, that those holes on the edge of the mask result in the three beam generators being in combination, smaller than those in the center of the same nation, measured over a small area, one are. This reduction in size decreases by 5 substantially uniform electron beam spots Distance from the center of the mask to. Create the purpose of this arrangement. The size of the holes can be The measure is that the electron beam spots are also adjusted so that they require each Tube at the edge of the screen is relatively smaller than the total mask permeability in the middle to make so that when the phosphor is obtained at and around the edges of the mask. This Screen edge with the same size as those at 30 choice is made by taking into account the brightness the center of the tube has a larger tolerance, and the electron beam spot phosphor disk tolerance intended for impact errors of an electron beam tolerance.

flecks auf dem jeweiligen Phosphorscheibchen an den Der höhere Durchlässigkeits-Wirkungsgrad größe-Schirmrändern besteht. Verschiedene an sich be- rer Löcher begünstigt die Helligkeit, jedoch auf kannte Faktoren machen diesen Auftreffehler am 35 Kosten der Fleck-Scheibchen-Auftrefftoleranz. Beim Rand des Schirms wahrscheinlicher als in der Nähe besten Kompromiß unterscheidet sich die Fleckder Mitte. Scheibchen-Auftrefftoleranz von der Mitte zum Rand Es wurden bereits verschiedene Vorschläge ge- des Schirms hin wegen der größeren Wahrscheinlichmacht, die Form der Lochmaskenöffnungen zu ver- keit von Auftreffehlern am Rand, ändern, wie Verkürzungsfehler oder »Azimute-Form- 40 Es könnte vermutet werden, daß ein Nachteil der korrektur. erfindungsgemäßen Anordnung darin besteht, daß die Diese bedingen eine gewisse Veränderung im Mit- Schirmstruktur an den Schirmrändern gröber als in tenabstand der öffnungen, aber nur wie es zur Wie- der Schinnmitte ist und daß diese Vergröberung der derherstellung der »Packung« der Phosphorscheib- Scheibchenstruktur eine schlechtere Bildauflösung an chen erforderlich ist, deren Form verändert worden 45 den Ecken des Bildes zur Folge hat. Eine solche Verist. Gemäß der USA.-Patentschrift 2 947 899 werden schlechterung in der Bildauflösung dürfte jedoch voll derartige Veränderungen nur für die radiale Richtung akzeptabel sein, da das Interesse normalerweise auf angegeben. Die USA.-Patentschrift 3 109 117 befaßt die Bildmitte konzentriert ist. In Kathodenstrahlröhsich mit der »Azimut«-Korrektur. Aus dieser Druck- ren ist die Bildauflösung an den Ecken wegen der schrift ist zu entnehmen, daß die Löcher der Loch- 50 Fleckunschärfe des Strahls normalerweise schlecht maske und die Phosphorscheibchen in radialer Rieh- und in Lochmaskenröhren wegen der Eckentung länglich ausgebildet und in bestimmten azimu- konvergenzfehler noch schlechter. Es ergibt sich talen Positionen ebenfalls in radialer Richtung in daher kein wesentlicher Verlust in der Bildweiterem Abstand voneinander angeordnet sind, und qualität. stains on the respective phosphor disc on the screen edges consists. Different holes in themselves favor the brightness, but on Known factors make this impact error at the cost of the spot-disc impact tolerance. At the Edge of the screen more likely than near the best compromise differs the fleckder Center. Disc impact tolerance from the center to the edge Various proposals have already been made for the screen because of the greater probability that the shape of the shadow mask openings to avoid impact errors at the edge, change such as foreshortening errors or »azimuth shape- 40 It could be suspected to be a disadvantage of the correction. The arrangement according to the invention is that the These cause a certain change in the umbrella structure at the edges of the screen, coarser than in ten spacing of the openings, but only as it is to the center of the Schinn and that this coarsening of the The production of the "pack" of the phosphor disk-disk structure indicates a poorer image resolution is required, the shape of which has changed 45 the corners of the picture result. Such a verist. However, according to US Pat. No. 2,947,899, deterioration in image resolution is likely to be complete such changes would only be acceptable for the radial direction, since interest is normally on specified. U.S. Patent 3,110,117 deals with the center of the image being concentrated. In cathode ray tube with the "azimuth" correction. From this printer, the image resolution at the corners is due to the It can be seen from the writing that the holes of the hole-spot blur of the beam are normally poor mask and the phosphor discs in radial Rieh- and in shadow mask tubes because of the Eckentung elongated and even worse in certain azimuth convergence errors. It surrenders talen positions are also arranged further in the radial direction in therefore no significant loss in the image distance from one another, and quality.

zwar in einem Ausmaß, das von einem Minimum in 55 Wenn die Phosphorscheibchengrößen an den Röh-to an extent that goes from a minimum in 55. When the phosphor disc sizes at the

der Nähe der Maskenmitte zu einem Maximum in der renrändern durch geeignete Mittel beim Bedruckenthe proximity of the center of the mask to a maximum in the edge of the mask by suitable means when printing

Nähe des Randes variiert. Bezüglich der Phosphor- des Schirms so vergrößert werden, daß der tangen-Near the edge varies. With regard to the phosphor, the screen should be enlarged so that the tangential

scheibchen wird angegeben, daß eine Kompensation tiale Kontakt der Phosphorscheibchen aufrechterhal-disc it is stated that a compensation tial contact of the phosphor disc is maintained.

des azimutalen Fehlers durch Veränderung der Größe ten wird, ist die Gesamtwirkung ein Schirm, dessenof the azimuthal error is th by changing the size, the overall effect is a screen, its

der Phosphorscheibchen zu keinem Erfolg führt. Die 60 Phosphorscheibchen, Elektronenstrahlflecken und diethe phosphor disc does not lead to success. The 60 phosphor discs, electron beam spots and the

Phosphorscheibchen werden deshalb in bestimmten entsprechenden Dreiergruppen an den Rändern grö-Phosphorus disks are therefore larger in certain corresponding groups of three at the edges.

Bereichen des Schirmes verzerrt. Für die Zwecke der ßer als in der Mitte sind.Distorted areas of the screen. For the purpose of being wider than in the middle.

Erfindung ist es jedoch wesentlich, daß der Abstand Vorteile der Erfindung gegenüber dem Stand der.Invention, however, it is essential that the distance advantages of the invention over the prior art.

zwischen den Lochmittelpunkten nicht nur an be- Technik sind unter anderem:between the centers of the holes not only in terms of technology include:

stimmten azimutalen Stellen verändert wird. Das 65agreed azimuthal digits is changed. The 65th

Aufbringen von elliptisch ausgebildeten Phosphor- 1. der Röhre kann eine höhere Toleranz für be-Application of elliptically formed phosphor 1. The tube can have a higher tolerance for loading

scheibchen und die Herstellung von elliptischen Lö- stimmte Verzerrungen verliehen werden, die sichwashers and the manufacture of elliptical soldering certain distortions are imparted, which are

ehern ist wesentlich komplizierter als bei Kreisform. im Sinne einer Verschlechterung der Fleck-Brazing is much more complicated than circular. in the sense of a worsening of the stain

Scheibchen-Überdeckung in der Nähe der Strahl auftrifft. Die voll ausgezogene Linie 18 gibt dieDisc overlap near where the jet strikes. The solid line 18 gives the Schirmränder auswirken; Mittellinie dieses Strahls unter normalen BedingungenImpact screen edges; Center line of this ray under normal conditions

2. es kann eine Röhre mit einem konstanten Maske- ^{beim n}°™^a!?ⁿ Auftreffai des Strahls bei 21 ar. In Schirm-Abstand hergestellt werden, bei welcher «^ner 90°-Rohre betragt der maximale Wert des Wmdie Flecke und Scheibchen an der Schirmmitte ⁵ *^els <*> ^{wie m Fl}8- ? Bf^, etwa 45°. Eine häufige und am Rand konzentrisch sind, und der Schirm ^F°^{rm e}!^nes mechanischen Fehlers bei Lochmaskenaus sich im wesentlichen tangential berührenden ^{rohren ls}\ ^ein| ^axiale.. Bewegung der Maske konzen-PhosDhorscheibchen besteht· ^{tnert an den} Schirmrandern zwischen dem Zeitpunkt2. it can be a tube with a constant mask- ^{at n} ° ™ ^{a!? n} impact of the beam at 21 ar. Are produced in Screen distance at which ^"ner 90 ° -pipes the maximum value of Wmdie stains and slices amounts at the screen center ⁵ * ^els <*> ^{as m Fl} 8-? Bf ^, about 45 °. A common and concentric at the edge, and the screen ^F ° ^{rm e} ! ^nes mechanical error in Lochmaskenaus substantially tangentially touching ^{pipes ls} \ ^a | ^axial .. movement of the mask concentric phosphor disk exists between the point in time ^{at the edges of the screen}

^v ' ^v ' des Aufbringens des Schirms und der Inbetriebnahmeapplying the screen and putting it into operation

3. es kann eine Röhre hergestellt werden, bei wel- ₁₀ der fertigen Röhre infolge der Behandlung, einer eher die Randtoleranz für Auftreffehler der Maskenverzerrung u. dgl. Die gestrichelten Linien Lochmaske mit abgestufter Lochgröße ohne Ab- _zej_gen die Wirkung eines solchen Fehlers, bei welstufung der Lochgrößen erhalten wird; _cnem die Maske sich bei 15', das Loch bei 19' und3. there may be a tube can be prepared in WEL ₁₀ of the finished tube due to the treatment, a rather u the edge tolerance for landing error of the mask distortion. Like. The dashed lines shadow mask with a graduated hole size without waste _ze J _Gen the effect of such an error , with which grading of the hole sizes is obtained; _cne m the mask is at 15 ', the hole at 19' and

4. es kann eine Röhre hergestellt werden, bei wel- der Strahl bei 18' dargestellt ist und auf den Schirm chsr sowohl ein konstanter Maske-Schirm- *5 bei 21' auftrifft. Wie ersichtlich, ist die Wirkung des Abstand besteht als auch bei welcher die Loch- Fehlers auf das Auftreffen des Strahls größer, je maskenlöcher von konstanter Größe sind und kleiner die Abmessungen der Scheibchen und je gröbei welcher ferner die meisten Vorteile eines ßer der Abtastwinkei ist. Die vorgenannten Vorteile 1 veränderlichen Maske-Schirm-Abstandes mit und 5 ergeben sich aus dem Umstand, daß die Erfinabgestufter Lochgröße beibehalten sind; »° dung zur Vergrößerung des Maßstabs der Scheibchen-4. A tube can be made with the beam shown at 18 'and onto the screen chsr hits both a constant mask-screen * 5 at 21 '. As can be seen, the effect of the Distance exists as well as at which the hole error is larger, depending on the impact of the beam Mask holes are of constant size and the dimensions of the wafers are smaller and the larger they are, furthermore, the most advantages of a ßer the scanning angle. The aforementioned advantages 1 variable mask-screen spacing with and 5 result from the fact that the invented graded hole size are retained; »° dung to enlarge the scale of the disc

, _,... . . . ^ ... . struktur und damit ihrer Abmessungen in der Nähe, _, .... . . ^ .... structure and therefore its dimensions in the vicinity

5. es kann eine Rohre mit einem breiteren Abtast- _{der Ränder der Röhre w einer} ^„^ _{Röhre ver}.5. It can be a _{tube with a wider scanning of the edges of the tube w a} ^ "^ _{tube ver} .

winkel als normal hergestellt werden ohne daß _{wendet wenJen kann} ^ _{Anpassun des Maß}. die Toleranz fur bestimm te mechanische Verzer- _{stabs def Sc}heibchenstruktur - und damit ihrer Abrangen geringer wird, als sie gegenwartig bei _messungen _ _{in der Nähe der Ränder der Röhre m} normalen Rohren besteht. _{den vergrößerten} Abtastwinkel einer Weitwinkel-Nachfolgend wird die Erfindung beispielsweise in röhre.angles can be made as normal without _{turning if anyone can adjust the dimension} . the tolerance for mechanical distortion limited hours te _{stabs def Sc} heibchenstruktur - and thus their wrested is less than it is at present in _measurements _ _{near the edges of the tube m} normal tubes. _{The enlarged} scanning angle of a wide-angle-Subsequently, the invention is for example in tube.

Verbindung mit den Zeichnungen näher beschrieben, Der Vorteil 2 wird in einem speziellen Fall erzielt,Described in more detail in connection with the drawings, advantage 2 is achieved in a special case,

und zwar zeigt bei welchem eine Röhre, die sonst einen sich ver-and that shows in which a tube that would otherwise

Fig. 1 eine Ansicht in etwas schematischer Dar- ₃₀ ändernden Maske-Schirm-Abstand haben würde, wieWould Fig. 1 is a view, in somewhat schematic representation ₃₀ changing mask-screen distance, have like

stellung einer Farbfernsehröhre, auf welche die Erfin- bei der zweiten der vorangehend beschriebenen be-position of a color television tube, on which the invention in the second of the above-described

dung angewendet werden kann, kannten Anordnung, eine Scheibchenstruktur hat, diecan be applied, known arrangement, has a disc structure that

F i g. 2 in stark vergrößertem Maßstab eine An- in ihrem Maßstab am Schinnrand um einen solchenF i g. 2, on a greatly enlarged scale, an area in its scale on the edge of the river around one

sieht eines Teils der Maske und des Schirms der in Betrag vergrößert ist, daß der Maske-Schirm-Abstandsees a portion of the mask and screen increased in amount that the mask-screen distance

Fi g. 1 dargestellten Röhre in der Nähe des Schirm- 35 konstant gemacht werden kann. Bei einer 90°-63-cm-Fi g. 1 in the vicinity of the screen 35 can be made constant. At a 90 ° -63-cm-

randes und Röhre würde die Scheibchengröße von etwa 0,42 mmrandes and tube would have the disc size of about 0.42 mm

Fig. 3 ein Diagramm, welches ein Verfahren zur · im Schirmmittelpunkt auf 0,43 mm an den Rohr-Herstellung einer erfindungsgemäßen Röhre darstellt. ecken zunehmen, so daß der Vorteil 1 ebenfalls er-3 is a diagram showing a method for producing a tube according to the invention in the center of the screen to 0.43 mm on the tube. corners increase, so that advantage 1 is also

In Fig. 1 sind zwei der drei Elektronenstrahl- halten wird.In Fig. 1, two of the three electron beam are held.

erzeuger bei 10 und 11 gezeigt, die im Halsteil des 40 Der Vorteil 3 wird in einem besonderen Fall er-shown at 10 and 11, which are in the neck part of 40. Advantage 3 is shown in a special case.

Röhrenkolbens 12 angeordnet sind. Die gestrichelte reicht, bei dem die Scheibchenstruktur einer Röhre inTubular piston 12 are arranged. The dashed line is enough, in which the disc structure of a tube in Linie 13 ist die Ablenkebene, in welcher die Mittel ihrem Maßstab um einen solchen Betrag am Röhren-Line 13 is the deflection plane in which the means are scaled by such an amount on the tube

zur gemeinsamen Ablenkung der drei Strahlen ange- Tand vergrößert ist, daß die Größe der Löcher amfor the common deflection of the three rays, the size of the holes on the

ordnet sind. Als Schirm ist ein Schinnträger 14 vorge- Rand der Lochmaske gleich derjenigen der Löcher inare arranged. As a screen, a pinned carrier 14 is in front of the edge of the perforated mask identical to that of the holes in FIG

sehen, an dessen Innenseite in an sich bekannter 45 der Mitte gemacht werden kann, wobei trotzdem eisesee, on the inside of which can be made in a known 45 in the middle, but still iron

Weise eine Anordnung von Farbphosphorscheibchen Toleranz in der Fleck-Scheibchen-FehlausrichtungWay an arrangement of color phosphor discs tolerance in the spot-disc misalignment

vorgesehen ist. Diese Scheibchen sind wie üblich in eingehalten werden kann, die derjenigen einer üb-is provided. These disks are as usual in can be adhered to that of those of an ex-

Dreiergruppen angeordnet, von denen jede durch liehen Lochmaske mit sich änderndem Lochdurch-Arranged in groups of three, each of which is provided with a perforated mask with changing hole diameters. Scheibchen von drei verschiedenfarbigen Phosphoren messer entspricht Auch der Vorteil 1 wird bei dieserSlices of three different colored phosphor knives also correspond to advantage 1 with this one

gebildet wird. In dem erforderlichen Abstand vom 50 Röhre erzielt.is formed. Achieved at the required distance from the 50 tube.

Schirm 14 ist eine Loch- bzw. Schattenmaske 15 an- Der Vorteil 4 ergibt sich aus dem Umstand, daßScreen 14 is a perforated or shadow mask 15. The advantage 4 results from the fact that

geordnet, die eine Vielzahl von Löchern aufweist die beiden vorerwähnten Fälle einen sehr ähnlichenordered, which has a large number of holes, the two aforementioned cases are very similar

Die beiden Elektronenstrahlen aus den Strahlerzeu- Betrag der Zunahme im Maßstab am Rand bedingen gern 10 und 11 sind bei 16 und 17 in ihren Mittel- und der Fall eines konstanten Maske-Schirmstellungen und bei 16' und 17' in ihren Stellungen 55 Abstands bedingt eine fast konstante Lochgröße bei maximaler Ablenkimg gezeigt. einer herkömmlichen 90°-Röhre. Es würde daher einThe two electron beams from the Strahlerzeu- amount to the increase in the scale at the edge Like 10 and 11 are at 16 and 17 in their middle and the case of a constant mask-screen positions and at 16 'and 17' in their positions 55 distance due to an almost constant hole size maximum distraction shown. a conventional 90 ° tube. It would therefore be a

Fig. 1 zeigt daß bei einer solchen Weitwinkel- Kompromiß mit einer konstanten Lochgröße akzep-Fig. 1 shows that with such a wide-angle compromise with a constant hole size acceptable

röhre, bei der ein Schirmträger 14 von einem verhält- tabel sein.tube, in which a faceplate 14 can be compared to one another.

nismäßig großen Krümmungsradius verwendet wird, Eine Maske zur Verwendung für die Durchführunga moderately large radius of curvature is used, a mask to use for performing

die Strahlen durch die Lochmaske hindurchtreten 60 der Erfindung kann auf verschiedene Weise erzeugtthe rays passing through the shadow mask 60 of the invention can be generated in a number of ways

und den Schirm in der Nähe der Schirmränder mit werden, z. B. durch eine manuelle Herstellung einerand the screen near the screen edges with, e.g. B. by a manual production of a

einem beträchtlichen Winkel zur Senkrechten beanf- Negativ-Schablone oder durch, eine photographischeat a considerable angle to the vertical. Negative stencil or through a photographic

schlagen. Modifikation eines Nachformmodells von gleichmäßi-hit. Modification of a postform model of uniform

Fig. 2 zeigt eine stark vergrößerte Ansicht der gem Abstand.Fig. 2 shows a greatly enlarged view of the gem distance. Maske 15 und des Schirms 14 einer solchen Röhre in 65 Fi g. 3 zeigt eine mögliche Methode zur optischenMask 15 and the screen 14 of such a tube in Fig. 65 Fi g. 3 shows a possible method for optical

der Nähe des Schirmrandes. Es ist ein Strahl, ein Erzeugung einer Negativschablone. EC ist die Achsenear the edge of the screen. It is a ray, a creation of a negative stencil. EC is the axis

Loch 19, welches diesen Strahl begrenzt, und ein des Systems. GE stellt einen Querschnitt einer sp].ur'-Hole 19, which limits this beam, and one of the system. GE represents a cross section of a sp] .ur'- Phosphorscheibchen 20 dargestellt auf dem deT sehen lichtempfindlichen Oberfläche dar. EF stelltPhosphor disks 20 shown on the deT see photosensitive surface. EF shows

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\o\O

einen Querschnitt einer sphärischen Maske von kleinerem Krümmungshalbmesser ais EG dar. A und C sind die Mittelpunkte der Kugelflächen EF und EG. EG und EF befinden sich bei E in Kontakt. D stellt einen Punkt auf EG dar, der der Ecke der Maske entspricht, welche schließlich hieraus hergestellt wird. O ist eine Punktlichtquelle und B der Punkt auf EF, an welchem Licht von der Quelle hindurchtritt, um bei D auf EG aufzuteilen. EF hat eine Anordnung von öffnungen, die über ihre Fläche gleichmäßig ist, und von dem an der Schirmmitte erforderlichen Abstand. Die Krümmungen sind_vso gewählt, daß OD/OB gleich der erforderlichen Ausdehnung der Anordnung an der Schirmecke ist, und O ist so angeordnet, daß OB den gleichen Winkel mit AB macht wie OD mit CD. a cross section of a spherical mask with a smaller radius of curvature than EG . A and C are the centers of the spherical surfaces EF and EG. EG and EF are in contact at E. D represents a point on EG which corresponds to the corner of the mask which will ultimately be made from it. O is a point light source and B the point on EF at which light from the source passes to split at D on EG. EF has an array of openings that is uniform across its area and spaced apart from the center of the screen. The curvatures are _v chosen such that OD / OB is equal to the required expansion of the assembly at the corner of the screen, and O is arranged so that OB makes the same angle with AB as OD with CD.

Diese Anordnung gewährleistet, daß die Abbildung von EF auf EG sich in der Vergrößerung von i in der This arrangement ensures that the mapping from EF to EG is in the magnification of i in the

Mitte auf ODIOB bei D verändert. Der Verkürzungseffekt infolge des Umstandes, daß EF zu den Lichtstrahlen bei B nicht senkrecht ist, wird kompensiert durch einen gleichen Mangel an orthogonaler Lage bei D, so daß die Abbildung von B in der radialen und in der tangentialen Richtung in gleicher Weise gedehnt wird.Center changed to ODIOB at D. The shortening effect due to the fact that EF is not perpendicular to the light rays at B is compensated for by an equal lack of orthogonal position at D, so that the image of B is stretched equally in the radial and tangential directions.

Der vorangehend erwähnte mechanische Fehler ergibt eine Bewegung in einer radialen Richtung, so daß nur eine radiale Ausdehnung erforderlich ist, jedoch hat eine gleichmäßige Ausdehnung den Vorteil, daß kreisförmige Scheibchen immer noch in tangentialen Kontakt gebracht werden können. The aforementioned mechanical error results in movement in a radial direction so that only radial expansion is required, but uniform expansion has the advantage that circular disks can still be brought into tangential contact.

Das in der vorangehend beschriebenen Weise erzeugte Negativ von EG kann in verschiedener an sich bekannter Weise behandelt werden, z.B. zur Eiastellung der Lochgröße oder zur Erzeugung von Zwischennegativen. The EG negative produced in the manner described above can be treated in various known ways, for example to set the hole size or to produce intermediate negatives.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings

$09633/26$ 09633/26

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Claims (4)

mosaikartig angeordneten Phosphorscheibchen erzeu- Patentansprüche: gen, auf dem ein Farbbild wiedergegeben werden soll, und einer zwischen den ElektronenstrahlerzeugeraPhosphorus disks arranged like a mosaic generate patent claims: gene on which a color image is to be reproduced, and one between the electron beam generators 1. Kathodenstrahlröhre mit mehreren Elektro- und dem Schirm angeordneten Lochmaske mit einer nenstrahlerzeugern, die nebeneinander angeord- 5 Vielzahl von Löchern, durch die die Strahlen zum net sind und Elektronenstrahlen zur gemeinsamen ' Schirm hindurchtreten, wobei sowohl die Abstände Ablenkung über einen Schirm mit mosaikartig der Mittelpunkte benachbarter Löcher auf der Lochangeordneten Phosphorscheibchen erzeugen, auf maske als auch die Abstände der Mittelpunkte benachdem ein Farbbild wiedergegeben werden soll, und barter Phosphorscheibchen auf dem Schirm nicht einer zwischen den Elektronenstrahlerzeugera und io konstant, sondern eine Funktion des Ortes auf der dem Schirm angeordneten Lochmaske mit einer Lochmaske bzw. dem Schirm sind.1. Cathode ray tube with several electrical and the screen arranged perforated mask with a nen jet generators, the side by side arranged 5 large number of holes through which the beams to net are and electron beams pass through to the common 'screen, with both the distances Deflection via a screen with the centers of neighboring holes tessellated on the hole Produce phosphor discs, on mask as well as the distances between the centers adjacent a color image is to be reproduced and bartered phosphor discs on the screen do not one constant between the electron guns and io, but a function of the location on the the screen arranged perforated mask with a perforated mask or the screen. Vielzahl von Löchern, durch die die Strahlen zürn . Infolge der seitlichen Versetzung der Strahlerzeuger Schirm hindurchtreten, wobei sowohl die Ab- mit Bezug aufeinander erzeugen diejenigen Teile der stände der Mittelpunkte benachbarter Löcher auf Strahlen aus den drei Strahlerzeugern, welche durch der Lochmaske als auch die Abstände der Mittel- »5 jedes Loch in der Lochmaske hindurchtreten, eine punkte benachbarter Phosphorscheibchen auf dem Dreiergruppe Elektronenstrahlflecke auf dem Schirm. Schirm nicht konstant, sondern eine Funktion des Der Schirm trägt Farbphosphorscheibchen, die in Ortes auf der Lochmaske bzw. dem Schirm sind, entsprechenden Dreiergruppen so angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet, daß der Ab- daß in jedem Augenblick jeder der drei Strahlen ein stand zwischen den Mittelpunkten benachbarter ao Phosphorscheibchen verschiedener Emissionsfarbe Löcher (19) der Lochmaske (15) am Rand der beaufschlagt.Multitude of holes through which the rays rage. As a result of the lateral offset of the beam generator Pass through the screen, whereby both the ab- with respect to each other generate those parts of the the centers of neighboring holes would stand on rays from the three beam generators, which pass through the shadow mask as well as the distances between the center »5 each hole in the shadow mask pass through, one dots of neighboring phosphor disks on the group of three electron beam spots on the screen. The screen is not constant, but a function of the The screen carries colored phosphor discs that are in Place on the shadow mask or the screen, corresponding groups of three are arranged in such a way that characterized in that the ab- that in each instant each of the three rays a stood between the centers of neighboring ao phosphor discs of different emission color Holes (19) of the perforated mask (15) on the edge of the acted upon. Maske größer ist als in der Mitte und daß der Der Maske-Schirm-Abstand bestimmt die GrößeMask is larger than in the middle and that the mask-to-screen distance determines the size Abstand der Mittelpunkte benachbarter Phosphor- der Dreiergruppe (unter welcher Größe die Größe des scheibchen (20) auf dem Schirm (14) ebenfalls Dreiecks zu verstehen ist, das die Fleckmittelpunkte am Rand des Schirmes größer ist als in seiner as verbindet), rand es werden gegenwärtig drei verschie-Mitte. dene Anordnungen verwendet.Distance between the centers of neighboring phosphorus groups of three (under what size the size of the disk (20) on the screen (14) is also to be understood as a triangle, which is the center of the spots at the edge of the screen is larger than in its a flat), there are currently three different edges. dene arrangements are used. 2. Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 1, da- Bei der ersten wird der Maske-Schirm-Abstand durch gekennzeichnet, daß die Phosphorscheib- von der Mitte zum Rand konstant gemacht. In diesem chen (20) auf dem Schirm (14) in ihrer Größe Falle macht die radiale Verschiebung der Ablenkvom Mittelpunkt des Schirmes nach außen hin 30 mittelpunkte (der scheinbaren Strahlenquellen) inzunehmen und im wesentlichen tangentialen Kon- folge der Korrektur der dynamischen Konvergenz takt zueinander besitzen. (d. h. die Korrektur, die notwendig ist, um die Kon-2. Cathode ray tube according to claim 1, wherein the first is the mask-screen distance characterized in that the Phosphorscheib- made constant from the center to the edge. In this Chen (20) on the screen (14) in their size trap makes the radial displacement of the deflection Take the center of the screen towards the outside 30 centers (of the apparent radiation sources) and an essentially tangential consequence of the correction of the dynamic convergence have tact with each other. (i.e. the correction that is necessary to 3. Verfahren zur Anfertigung einer Lochmaske vergenz der Strahlen über die ganze Schirmoberfläche für eine Röhre nach Anspruch 1, dadurch ge-, herbeizuführen) die Größe der Elektronenstrahlfleckkennzeichnet, daß eine sphärisch gekrümmte, 35 Dreiergruppe am Rand des Schirmes größer als in der lichtempfindliche Platte so angeordnet wird, daß Mitte. Diese Zunahme in der Größe der Elektronensie an ihrer Mitte (E) tangential eine kleinere strahlfleck-Dreiergruppe am Schirmrand wird als Desphärische Maske berührt, die eine gleichmäßige gruppierungseffekt bezeichnet. Daher können, wenn Anordnung von öffnungen aufweist, wobei der der Schirm aus in tangentialem Kontakt befindlichen Krümmungsmittelpunkt (C) der sphärischen Platte 40 Phosphorscheibchen von gleichmäßigem Abstand be- und der Krümmungsmittelpunkt (A) der sphäri- steht, wie durch eine (z. B. optische) Schirmbedrukschen Maske auf einer geraden Linie liegen, die kungseinrichtung erzielbar ist, die Elektronenstrahlim wesentlichen durch den Berührungspunkt zwi- flecke nicht zu den Phosphorscheibchen sowohl an sehen der Platte und der Maske (E) hindurch- der Schirmmitte als auch am Rand konzentrisch sein, tritt, die lichtempfindliche Platte durch die öff- 45 Normalerweise werden die Parameter für Konzentrinungen in der Maske von einer im wesentlichen zität am Schirmrand, wo die größte Toleranz erforpunktförmigen Lichtquelle beleuchtet wird, die derlich ist, eingestellt.3. A method for making a shadow mask vergence of the rays over the entire screen surface for a tube according to claim 1, characterized in that the size of the electron beam spot indicates that a spherically curved group of three at the edge of the screen is larger than in the photosensitive plate so is arranged that middle. This increase in the size of the electrons at their center (E) tangential to a smaller beam spot group of three at the screen edge is referred to as a despherical mask, which is referred to as a uniform grouping effect. Therefore, if the arrangement has openings, the screen of the center of curvature (C) of the spherical plate 40 being in tangential contact with phosphor disks evenly spaced and the center of curvature (A) being spherical, as indicated by a (z. B. . Optical) screen printing mask lie on a straight line, the kung device is achievable, the electron beam essentially through the point of contact not to see the phosphor discs on both the plate and the mask (E) through the screen center and be concentric at the edge Normally, the parameters for concentrations in the mask are set to a substantially degree at the edge of the screen, where the greatest tolerance required is illuminated. an einem Punkt (O) auf der erwähnten Geraden Bei der zweiten bekannten Anordnung wird derat a point (O) on the straight line mentioned. In the second known arrangement, the angeordnet und so gewählt ist, daß das Verhältnis Masken-Schirm-Abstand in der Weise verändert, daß der Strecken ODIOB größer als Eins ist, wobei D 50 die Größe der Elektronenstrahlfleck-Dreiergruppe ein Punkt auf der erwähnten lichtempfindlichen trotz der Radialverschiebung der Ablenkmittelpunkte Platte ist, der von dem am Punkt O erzeugten nach außen infolge dynamischer Konvergenz-Korrek-Licht beaufschlagt wird, das durch eine öffnung tür konstant ist. Dies ergibt einen Maske-Schirmam Punkt B der Maske hindurchtritt. Abstand, der am Rand kleiner als in der Mitte ist. Daand is chosen so that the ratio of mask-screen distance changes in such a way that the distance ODIOB is greater than one, where D 50 is the size of the electron beam spot group of three a point on the mentioned photosensitive plate despite the radial displacement of the deflection centers , which is acted upon by the generated at point O to the outside as a result of dynamic convergence-correction light that is constant through an opening door. This gives a mask screen at point B the mask passes through. Distance that is smaller at the edge than in the middle. There 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch ge- 55 die Verringerung in der Vergrößerung am Rand sokennzeichnet, daß die Anordnung so getroffen ist, wohl auf die Elektronenstrahlßscke als auch auf die daß der Winkel OBA im wesentlichen gleich dem Schirmbedruckungseinrichtung zutrifft und zu einem Winkel ODC ist, wobei A der Krümmungsmittcl- gleichmäßigen Elektronenstrahlfleck-Abstand über punkt der Maske und C der Krümmungsmittel- den Schirm führt, kann den Erfordernissen für einen punkt der lichtempfindlichen Platte ist. 60 Schirm mit tangential in Kontekt befindlichen Phosphorscheibchen und für eine Fleck-Scheibchen-Kon-4. The method according to claim 3, characterized in that the reduction in the magnification at the edge is so made that the arrangement is made, probably on the electron beam sockets as well as on that the angle OBA applies essentially equal to the screen printing device and to an angle ODC where A is the mean of curvature - uniform electron beam spot distance over point of the mask and C is the mean of curvature - guides the screen, can meet the requirements for a point of the photosensitive plate. 60 screen with phosphor discs tangentially in contact and for a spot-disc con- zentrizität gleichzeitig Rechnung getragen werden.centricity must be taken into account at the same time. Bei der dritten bekannten Anordnung verändert sich der Maske-Schirm-Abstand derart, daß er zumIn the third known arrangement, the mask-screen distance changes so that it is for Die Erfindung betrifft eine Kathodenstrahlröhre 65 Rand der Röhre in der Weise zunimmt, daß die mit mehreren Elektronenstrahlerzeugern, die neben- Elektronenstrahlflecke trotz des vorerwähnten Deeinander angeordnet sind und Elektronenstrahlen zur gruppierungseffekts mit den Phosphorscheibchen zugemeinsamen Ablenkung über einen Schirm mit sammenfallen, welche durch benachbarte ÖffnungenThe invention relates to a cathode ray tube 65 edge of the tube increases in such a way that the with several electron guns, the side electron beam spots in spite of the above-mentioned separation are arranged and electron beams are common to the grouping effect with the phosphor disks Deflection over a screen with coincide which through adjacent openings