DE1515318A1 - Einrichtung zur Herstellung duenner Schichten auf einem Traeger mittels Ionenstrahl-Zerstaeubung - Google Patents
Einrichtung zur Herstellung duenner Schichten auf einem Traeger mittels Ionenstrahl-ZerstaeubungInfo
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/46—Sputtering by ion beam produced by an external ion source
-
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
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Description
909831/1104'
BAD ORIGINAL
Verwendete Eesugezeicheni ' v
1 Iononcuolle
2 Isolator . . - .
3 · Beschleunigungeraua ' 3' Trennwand ' * - · ■' . . . "
4 Anschluß - · · "·■ . -\'
5 Subotratraufa -v- , ■
·.'- 6 Anschluß ··"-;.- ; " V
7 Gaselnlaßventii . ' '"■'■
8 Abseugelektrode .·'-'
9 Ionenstrahl . .;
Strbmtihgewideretand ;.
.11 Target. · ··, .,'
, .13 Pokueslereljirlchtiinig V1^ /-.,·:.; .:'.;-. c.·1';;
.·.': 14 teilchen ■'■■■-'Ä';;."· -' '-''''^. ·''-r'·'. S"
"15 i Meßauffängejp .·: :■"-■ ' ■ ·;- . :-*-.:-V' \ .·■ «i,":"*'.'";:
^; 18 Targethalter ;. - '", ':.'/.
; 19 Subetratlmlterung..
: 20 Heizung . \ ■ : !...--
ZX
Spur-'- . \'\ V1" v'"" -'' ;
-22 Ionen« tranldurohmeaeer
9ΐ>983ί/ίίθ*
Claims (1)
1 5 1 5 ? 1 8
Patentansprüche: . .
1« Einrichtung sur Herstellung dünner Schichten auf einem
■ Träger mittels lonenstrahl-Zerstäubung, dadurch gekennzeichnet, daß eine Ionenquelle (1)». vorsugsvs/eiee eine
Duoplasmatron-Ionenquelle an einem Beschleunigungoraum (3)
angeordnet ist, der über einen Strömungswiderstand (10),
vorzugsweise ein Rohr» mit einera gesondert evakuierbarem
■ Substratraum (5) verbunden ist, in dem außer einem, zn
- · .-."■.-
■ .zerstäubenden Target (11) und dem Substrat
<12) ein ließ-
' auffänger (15) angeordnet ist, und daß das Target (11)
■· kontinuierlich oder diskontinuierlich senkrecht "zur ". t : ·
·,. -Achse dee lone not rallies (9) vorschiebbar ist uad daß
. - außerdem die Substrate C5) einzeln oder zu raehreren» kon-/
tinuierlich oder diskontinuierlich senkrecht zur Achse
,. dee lonenstrahles (9) verschiebbar sind., ."".·.--,- . .'
2, Einrichtung nach, Anspruch 1r dadurch gekennzeichnet, daß'
. ν "in dem Besohleunigungsraum (3) eine elektroatatischo
V" . oder eine eiektromagnetische Pokuösiereinrichtung (13). .
" angeordnet ist»/ / * ·. ...";·
3* Einrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2* dadurchr göltenn-,
zeichnet» daßder Strömungswiderstand (10) in seineffl
Querschnitt quadratisch» rechteckig oder in einer anderen
' Querschnittsform entsprechend der Form und Fokussierung
des. lonenstrahles (9) ausgebildet ist» -. *. ·
. .909831/1104 ' ~ 13 "
- BAD ORIGINAL
4« Einrichtung nach, den Anspruches 1 bia "3, dadurch
'.. zeichnet, daß an den Substratrauai (5) ein Gaaeinlsßven-
;^v til:(7) angeordnet ist, ι;*ΐ^!"^νί.;','"»C:>.\ --'-,V1V-,'-'''' ;■·;*""■
5«; Einrichtung nach den Ansprüchen t. bier At dadurets gekenn«
>x*. eeichnet, daß der Meßauffänger C|5T außerhalb der Jonen·
'V etrahlachse nahe dem Strömungßwlderstand (10) im Substrat-»
•i-'raum (5) angeordniBt- und nur.jtuaj Zeitpunkt <3er Kessung
;:"■'. in die lonenatrahlaehce bewegbar let.. ' . ■ .
6i Einrichtung nach den Aneprüchen 1 bia 5, dadurch geicenn-
■ si zeichnet, daß der Ionenstrahl (9) mittels eines ma^ne-»
-.: tischen oder elektrostatlechen. Wnlenk'feXdeB'(17) csiilv.else
>;. eof dae Target (11) oder daa Substrat (12) ablenkbar ist.
Einrichtung nacii Anspruch 1, dadurch gekeiinzeichnet, · ·
;. '-j., daß das Target (11) mittels einer'Kühlung (16) oder
Λv, einer Heizung.auf konstanter Teaperatur gehalten ist·
.8· Einrichtung nach den Ansprüchen 1 bia 7, dadurch gekenn·'
; . zeichnet* daß der Durchmesser des Ionenstralilea (9)
-.den Abnessungen des .Substrates (12) entspricht und dsO
" der Abstand des Targets (11) vom Substrat (12) einige
;-.;· Zentimeter, vorzugsweise drei 2entiraeter, gewähl't ist*
90-9831/110* ■ . , BAD0RiemAL
9. Einrichtung nach den Ansprüchen 1 und 8, dadurch gekennzeichnet,
daß das Target (11) zur Achse des Ionen-Strahles (9) ta ca, 45° geneigt angeordnet ict.
10. Einrichtung nach den Ansprüchen 1 und 9» dadurch /gekennzeichnet,
daß der Ionenstrahldurchxneaser auf dem
Target (11) klein gegenüber den Substratabmessungen
und/oder daß der Ionensträhldurchraeaaer klein gegenüber
dem Abstand zwischen dem Substrat (12) und dem Target (11)
ist. ?
11. Einrichtung nach den Ansprüchen 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet,
daß die Substrathalterung (19) mit einer elektrischen Heizimg (20) ver3ehe~n ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEV0027457 | 1964-12-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1515318A1 true DE1515318A1 (de) | 1969-07-31 |
Family
ID=7583408
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19641515318 Pending DE1515318A1 (de) | 1964-12-28 | 1964-12-28 | Einrichtung zur Herstellung duenner Schichten auf einem Traeger mittels Ionenstrahl-Zerstaeubung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1515318A1 (de) |
FR (1) | FR1422539A (de) |
GB (1) | GB1089967A (de) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE2857102A1 (de) * | 1978-07-08 | 1980-06-12 | Wolfgang Kieferle | Vorrichtung zum auflagern einer metall- oder legierungsschicht auf ein elektrisch leitendes werkstueck |
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-
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- 1964-12-28 DE DE19641515318 patent/DE1515318A1/de active Pending
-
1965
- 1965-01-19 FR FR2487A patent/FR1422539A/fr not_active Expired
- 1965-02-24 GB GB797065A patent/GB1089967A/en not_active Expired
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1089967A (en) | 1967-11-08 |
FR1422539A (fr) | 1965-12-24 |
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