DE1483294A1 - Photoconductive alloy - Google Patents

Description

Patentanwälte Dipl. ing. F. Η?-_?ί:_ΗΜ!1ΐ Br, ,„,. _Λ. _r Patent Attorneys Dipl. Ing. F. Η? - _? Ί: _{ΗΜ! 1ΐ} Br,, „,. _Λ . _r

8 Muwien 27, Hßhlstraie 228 Muwien 27, Hßhlstraie 22

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RANI XERUX LIMITEDRANI XERUX LIMITED

37/41 Mortimer Street, London, W.1» England37/41 Mortimer Street, London, W.1 »England

F h ο t ο 1 e i t β η d e Ii β g i e r u η gF h ο t ο 1 e i t β η d e Ii β g i e r u η g

Die Erfindung bezieht siett auf piiötoleitende legierungen, auf mit Hilfe derartiger Legierungen hergestellte xerographi· sehe Platten und auf die Verwendung derartiger Platten.The invention relates to piiöto-conductive alloys, on xerographs produced with the help of such alloys see plates and on the use of such plates.

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In jüngster Zeit hat sich ein verstärktes Interesse photoleitende Legierungen, die sich für spezielle Anwendungsgebiete eignen, entwickelt. Dieses zunehmende Interesse wurde vor allem durch die wachsende Nachfrage nach Fernseh-Aufnahmeröhren, Bürokopiergeräten und ähnlichen Einrichtungen, für die derartige Legierungen zur Anwendung kommen, hervorgerufen. Recently there has been an increased interest photoconductive alloys that are suitable for special applications suitable, developed. This increasing interest was mainly due to the growing demand for television pick-up tubes, Office copiers and similar devices for which such alloys are used.

So hat z.B. die Anwendung xerographischer Kopierverfahren in den Büros in den letzten paar Jahren eine außerordentlich starke Zunahme erfahren. Dieses Kopierverfahren, zuerst vonFor example, the use of xerographic copying processes in offices has had an extraordinary effect over the past few years experience strong increase. This copying process, first from

^ Carlson in der US-Patentschrift 2 297 691 und danach in erweitertem Umfang in zahlreichen, damit in Zusammenhang stehenden, auf diesem Gebiet angemeldeten Patenten beschrieben, zeichnet sich dadurch aus, daß eine photoleitende Isolierschicht, die wesentlicher Bestandteil einer xerographischen Platte ist, oberflächlich mit einer gleichmäßigen elektrostatischen Aufladung versehen und dadurch sensibilisiert wird» Dann wird diese Platte entsprechend einem Bild akti- "* vierender elektromagnetischer Strahlung, wie Licht, Böntgenstrahlung oder dergl., ausgesetzt. Dadurch wird die Aufladung selektiv in den belichteten Bereichen abgebaut, während sie in den unbelichteten der photoleitenden Isolierschicht erhalten bleibt. Auf diese Weise kommt es in der Photoschicht zur^ Carlson in US Pat. No. 2,297,691 and thereafter to an expanded extent in numerous related patents pending in this field, is characterized in that a photoconductive insulating layer, which is an essential part of a xerographic plate, is superficially with is provided a uniform electrostatic charge and sensitized by "Then this plate is corresponding to a picture activated" * four electromagnetic radiation, exposed to such light Böntgenstrahlung or the like.,. as a result, the charge is selectively removed in the exposed areas, whereas in the unexposed the photoconductive insulating layer is retained

W Ausbildung eines latenten elektrostatischen Bildes. Das latente Bild kann dann entwickelt oder sichtbar gemacht werden, indem man fein verteiltes elektroskopisches Markierungsmaterial auf die Oberfläche der photoleitenden Schicht aufbringt. Dort wird das feinverteilte Material aufgrund seiner Aufladung entsprechend dem latenten Bild festgehalten. In den Pällen, in denen das photoleitende Material einer Wiederverwendung zugeführt werden kann, wird das durch das fein verteilte oder gepulverte Markierungsmaterial gebildete sichtbare Bild auf eine zweite Oberfläche, z.B. ein Blatt Papier, übertragen und bildet dort eine dauerhafte sichtbare Reproduktion des Originals. ■ . . W Formation of a latent electrostatic image. The latent image can then be developed or visualized by applying finely divided electroscopic marking material to the surface of the photoconductive layer. There the finely divided material is retained due to its charge in accordance with the latent image. In the pits in which the photoconductive material can be recycled, the visible image formed by the finely divided or powdered marking material is transferred to a second surface, for example a sheet of paper, and there forms a permanent visible reproduction of the original. ■. .

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Ib. anderen fällen, in denen billigeres, nur einmal verwendbares photoleitendes Material zur Anwendung kommt, werden die Markieriiags- l^öner—)partikelii' direkt auf die Oberfläche der photoleitendeii Schicht aufgebracht und bleiben dort, wodurch der Vorgang der '•Bildübertragung*¹ in diesem Verfahren vollständig übergangen wird« 'Ib. In other cases, in which cheaper, single-use photoconductive material is used, the marking particles are applied directly to the surface of the photoconductive layer and remain there, whereby the process of image transfer * ^{1 is carried out} in it Procedure is completely ignored

Obgleich qualitativ hochwertige, unter Verwendung'photoleitender Materialien, wie z.B. von amorphem Selen, hergestellte xerographische Platten (beschrieben in der US-Patentschrift 2 970 906 (Bixby) ) in dem im Vorhergehenden erläuterten xerographisehen Grundprozeß dank der ihnen anhaftenden Eigenschaften mit gutem Erfolg angewendet wurden, sind sie für andere AbMldungsverfahren aufgrund eben dieser Eigenschaften unbrauchbare-Although high quality, using 'photoconductive Materials such as xerographic plates made from amorphous selenium (described in U.S. Pat 2,970,906 (Bixby)) in the basic xerographic process discussed above, thanks to the inherent in them Properties have been used with good success, they are for other mapping methods because of these properties unusable-

So sind z.B. Platten, die unter Verwendung von amorphem Selen hergestellt wurden, aufgrund seiner Empfindlichkeit sowohl im sichtbaren Bereich als auch im Eöntgenbereich des elektromagnetischen Spektrums, nur mit äußerster Vorsicht zu handhaben und müssen, soweit sie im Röntgenbereich zur Anwendung kommen sollen, vor der Einwirkung des Tageslichts geschützt werden.For example, plates made using amorphous selenium are, because of its sensitivity, both in the visible range as well as in the X-ray range of the electromagnetic Spectrum, to be handled only with extreme caution and must, insofar as it is used in the X-ray range should come, protected from the effects of daylight will.

Darüberhinaüs ist dieses Material aufgrund der Tatsache, daß unter Verwendung" von amorphem Selen hergestellte xerographische Platten nacheinander in rascher Folge zu wiederholten Malen dem herkömmliehen xerographisehen Prozeß unterworfen werden können, ohne daß die vorhergehenden Belichtungen irgendeine Wirkung auf die photoelfektrieche Empfindlichkeit (photoconductive' insulating response)' des Selens bei den nachfolgenden Prozessen ausüben, für Vervielfältigungsverfahren ungeeignet. Diese Vervielfältigungsverfahren beruhen nämlich auf der "Haltbarkeit" (retention) des durch die Belichtung hervorgerufenen Ladungs^ bildes in· tf.eir-'phOtoleitenden Schicht Während der nachfolgenden > ReprOdük-ti'onsVbrgärige. Derartige Phötoleiter, die man als i'stark ermüdende" (high fatigue) Photoleiter bezeichnen kann,Furthermore, this material is due to the fact that xerographic made using "amorphous selenium Plates one after the other in rapid succession for repeated times the can be subjected to conventional xerographic processes, without the previous exposures having any effect on the photoelectric sensitivity (photoconductive ' insulating response) 'of selenium in the subsequent processes, unsuitable for reproduction processes. This reproduction process namely based on the "retention" of the charge caused by the exposure ^ image in · tf.eir-'phOtoconductive layer During the subsequent> ReprOdük-ti'onsVbrgärige. Such photoconductors, which are called I can designate high fatigue photoconductors,

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brauchen nur einmal belichtet zu werden, um bei wiederholtem Durchlaufen des Reproduktionsprozesses eine Vielaa&l von Duplikaten des zuerst hergestellten Bildes zu ergeben» Der Reproduktionsprozeß umfaßt auch in diesem Fall die folgenden Arbeitsgänge: Erzeugen einer gleichmäßigen oberflächlichen Aufladung, Entwickeln des bei der Belichtung entstehenden latenten Bildes und Übertragen des entwickelten Bildes auf ein Kopierpapier oder eine entsprechende Unterlage* Da es sich bei einem Material, welches sich an die anfängliche Belichtung "erinnert", um ein rasch ermüdendes Material handelt, behält es in den anfänglich belichteten Bereichen eine relativ hohe Leitfähigkeit, so daß das erneute Aufbringen einer gleichmäßigen Aufladung während eines jeden Vervielfältigungsprozesses lediglich eine Wiederaufladung der Hintergründbereiche unter Ausschluß der ursprünglich belichteten Bereiche, in denen ein schneller Ladungsabbau nach dem Aufladen erfolgt, bewirkt.only need to be exposed once in order to achieve a multiplicity of To give duplicates of the first picture produced »The reproduction process in this case also includes the following Work steps: generating a uniform superficial charge, developing what is created during exposure latent image and transferring the developed image to copy paper or an equivalent support * Since it a material that "remembers" the initial exposure is a material that tires quickly, it retains a relative value in the initially exposed areas high conductivity so that the re-application of a uniform charge during each replication process only a recharge of the background areas excluding the originally exposed areas in which the charge is rapidly reduced after charging, causes.

Es ist daher Aufgabe der Erfindung, eine neue photoleitende Legierung anzugeben.It is therefore the object of the invention to provide a new photoconductive alloy.

Es ist außerdem Aufgabe der Erfindung, eine photoleitende Legierung anzugeben, die in sehr ebenmäßigen dünnen Filmen aufgetragen werden kann.It is also an object of the invention to provide a photoconductive alloy that can be used in very smooth thin films can be applied.

Es ist weiterhin Aufgabe der Erfindung, eine neue xerographische Platte anzugeben, deren Eigenschaften je nach Polarität der angewandten Aufladung variiert werden können.It is also an object of the invention to provide a new xerographic Plate to indicate their properties depending on polarity the applied charge can be varied.

Darüber hinaus ist es Aufgabe der Erfindung, eine neue xerographische Platte anzugeben, die bei Belichtung mit Röntgenstrahlen eine hohe Empfindlichkeit zeigt, während sie gegenüber der Belichtung mit sichtbarem Licht praktisch unempfindlich ist.In addition, it is an object of the invention to provide a new xerographic Specify plate which, when exposed to X-rays, shows high sensitivity while being exposed to X-rays is practically insensitive to exposure to visible light.

Außerdem soll durch die Erfindung eine neue "rasch ermüdende" xerοgraphische Platte angegeben werden, die für Vervielfältigungen geeignet ist.In addition, the invention is intended to provide a new "quickly tiring" xerographic plate which is suitable for reproductions suitable is.

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Diese und weitere Aufgaben der Erfindung können generell durch die Anwendung einer photoleitenden Legierung aus Selen und Thallium gelöst werden. Dies umso mehr, als derartige Legierungen nicht nur schlechthin brauchbare photoleitende Isoliermaterialien sind, sondern sich speziell für . xerographische Platten eignen. Unter Verwendung einer Selen/Thallium-Legierung hergestellte Xerographische Platten können, wenn sie durch eine positive Aufladung sensibilisiert worden sind, mit besonderem Vorteil für xerographische Verfahren im Röntgenbereich - im Folgenden als "Xeroradiographie" bezeichnet, - angewendet werden, während eine Sensibilisierung mittels negativer Aufladung ihre Brauchbarkeit für Verviel- g fältigungen erhöht.These and other objects of the invention can generally be achieved through the use of a photoconductive alloy of selenium and thallium. All the more so since such alloys are not only perfectly useful photoconductive insulating materials, but are especially suitable for. xerographic plates are suitable. Xerographic plates produced using a selenium / thallium alloy can, if they have been sensitized by a positive charge, be used with particular advantage for xerographic processes in the X-ray sector - hereinafter referred to as "xeroradiography" - while sensitization by means of a negative charge their usefulness for Verviel- g fältigungen increased.

Wie im Vorhergehenden erläutert, wird nach der. lehre der Erfindung das photoleitende Material durch Legieren von Thallium mit amorphem Selen hergestellt. Obgleich zur Herstellung der Legierung bis zu etwa 5 Gewichtsprozent Thallium verwendet werden können, ist zu bedenken, daß Selen in amorpher Form gegenüber Thallium außerordentlich empfindlich ist und daß Thalliumzusätze bis herab zu 0,0001 Prozent merkliche Effekte in Bezug auf die xerographischen Eigenschaften der Legierung zeigen. Als besonders günstiger Bereich hat sich ein Zusatz von etwa 0,0005 i> bis etwa 0,002 $> erwiesen, zumal größere Zugaben eine Verunreinigung der Einrichtung mit sich bringen, ( ohne zusätzliche günstige Effekte zu zeitigen.As explained above, after the. teach the invention the photoconductive material made by alloying thallium with amorphous selenium. Although up to about 5 weight percent thallium can be used to make the alloy, it should be noted that selenium in amorphous form is extremely sensitive to thallium and that thallium additions as low as 0.0001 percent have significant effects on the xerographic properties of the alloy . An addition of about 0.0005 i> to about 0.002 $> has proven to be a particularly favorable range, especially since larger additions result in contamination of the device ( without producing additional beneficial effects.

Das Thallium kann dem Selen nach irgendeiner an sich bekannten Methode hinzugefügt werden. So kann das Selen beispielsweise auf eine Temperatur oberhalb seines Schmelzpunktes erhitzt werden, wonach anschließend dem geschmolzenen Selen die erforderliche Menge Thallium hinzugefügt wird»The thallium can be added to the selenium by any method known per se. So can the selenium for example be heated to a temperature above its melting point, after which the molten selenium then the required Amount of thallium is added »

Das Vermischen erfolgt aweokmäßigerweise unter Rühren, um eine innige Vermischung der beiden Komponenten zu erreichen. An dieser Stelle muß erwähnt werden, daß es nicht sicher ist,Mixing is usually done with stirring to achieve an intimate mixing of the two components. At this point it must be mentioned that it is not certain

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ob das hinzugefügte Thallium mit dem im Überschuß vorhan<d<eH<en Selen, unter Bildung einer geringen Menge Thalliumselenid eine'Reaktion eingeht oder ob eine feste Lösung der beiden Komponenten dabei entsteht. Demzufolge sind die in dieser Anmeldung verwendeten Bezeichnungen "Mischung" und "Legierung" in ihrem weitesten Sinne zu verstehen. Demnach werden sowohl diejenigen Materialien erfaßt, die einen geringen Anteil Thalliumselenid, in gelöster Form oder nicht, enthalten, als auch solche, die aus den ursprünglichen Komponenten Selen und Thallium ohne eine geringe Beimengung eines Reaktionsproduktes bestehen. Dabei ist jedoch die erstgenannte Möglichkeit, d.h. die Bildung einer.Legierung, die wahrscheinlichere. Die Legierung wird in amorpher Form abgeschieden. Diese ist der amorphen Modifikation des Selens sehr ähnlich. Die Bezeichnung "amorphe Form" wird im Rahmen der vorliegenden Anmeldung auch für solche Schichten verwendet, die einen geringen Gehalt an Kristalliten oder Kristallisationskeimen, die gleichmäßig in der Schicht verteilt sind, aufweisen, verwendet.whether the added thallium is in excess with that Selenium, a reaction with the formation of a small amount of thallium selenide or whether a solid solution of the two Components are created. Accordingly, the terms "mixture" and "alloy" used in this application to be understood in its broadest sense. Accordingly, both those materials are recorded that have a low proportion Thallium selenide, whether dissolved or not, contain, as well as those derived from the original selenium components and thallium exist without a slight admixture of a reaction product. However, the first option is i.e. the formation of an alloy, the more likely. The alloy is deposited in amorphous form. This is very similar to the amorphous modification of selenium. The term "amorphous form" is used in the context of the present Registration also used for those layers that have a have a low content of crystallites or crystallization nuclei that are evenly distributed in the layer, used.

Daneben können den photoleitenden Legierungen noch anaere Elemente oder Komponenten hinzugefügt werden, die spezifische Wirkungen auf die spektrale Empfindlichkeit oder auf die Herabsetzung der Kristallisationsneigung hervorrufen,,In addition, the photoconductive alloys can still be anaeric Elements or components are added which have specific effects on the spectral sensitivity or on the Reduce the tendency to crystallize,

Für zahlreiche Verwendungszwecke erscheint es wünschenswert, die Legierung als überzug auf eine Unterlage aufzubringen, wodurch die mechanische Stabilität, der Kontakt mit einer Spannungsquelle oder dergl«, erheblich verbessert werden können. So kann die Legierung z.B. bei Verwendung für xerographische Platten als Überzug auf eine Unterlage aus leitendem Material, wie Aluminium, Magnesium, Messing, Stahl oder Chrom, bzw. aus nicht leitendem Material, wie Glas Papier, Kunststoff oder dergl., soweit dieses mit einem Überzug aus leitendem Material, wie Sold, Zinnoxyd, Kupferjodid oder dergl« versehen ist, aufgebracht werden. Durch die Verwendung einerFor numerous purposes it appears desirable to apply the alloy as a coating on a base, whereby the mechanical stability, the contact with a voltage source or the like can be considerably improved. For example, the alloy can be used for xerographic Plates as a coating on a base made of conductive Material such as aluminum, magnesium, brass, steel or chrome, or made of non-conductive material such as glass, paper, plastic or the like, insofar as this is covered with a coating of conductive material, such as pay, tin oxide, copper iodide or the like is provided. By using a

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-Unterlage aus leitendem Material wird nicht nur die mechanische Stabilität der herges-feeHten xerographischen Plätte wesentlich vergrößert, vielmehr wird darüberhinaus ttar-citi' die Anwesenheit einer unmittelbar unterhalb der Oberfläche der Legierungssehicht liegenden elektrischen GrundeiSeae (electrical ground plane) die Aufladung mittels einer 0orona-Entladung nach der Lehre der US-Patentschrift 2 588 699 (Carlson) wesentlich erleichtert.-The pad made of conductive material is not just mechanical Stability of the manufactured xerographic plate substantially enlarged, rather, moreover, ttar-citi ' the presence of one immediately below the surface the electrical basis lying on the alloy layer (electrical ground plane) the charging by means of a 0orona discharge according to the teaching of the US patent 2,588,699 (Carlson) was greatly facilitated.

Dabei ist noch .zu erwähnen, daß zu diesem Zweck daa "leitende Material" nicht notwendigerweise ein elektrischer Leiter sein muß, vielmehr genügt es, wenn der elektrische Widerstand um einige Zehnerpotenzen niedriger ist, als der Wider- f stand des belichteten Photaleiters. Es besteht deshalb di-e Möglichkeit, als Unterlage einige spezielle Gläser und Kunststoffe sogar ohne einen metallischen Überzug zu verwenden* Werden andererseits bestimmte andere Methoden zum Aufladen angewandt, wie.z.B. das in der US-Patentschrift 2 922 883 beschriebene Verfahren einer "beiderseitigen¹¹ Coronaefitladamg (two-sided corona eharging), so kann die Leitfähigkeit der Unterlage praktisch vernachlässigt werden, so daß sich die Auswahl des Materials für die Unterlage nur nach dessen mechanischen Eigenschaften richtet.It should also be mentioned that for this purpose the "conductive material" does not necessarily have to be an electrical conductor, rather it is sufficient if the electrical resistance is a few powers of ten lower than the resistance of the exposed photoconductor. Therefore, there is di-e possibility even applied as a support some special glasses and plastics without a metallic coating to use * On the other hand, certain other methods for charging, wie.zB described in US Patent No. 2 method of "described 922,883 mutual ¹¹ Coronaefitladamg (two-sided corona charging), the conductivity of the base can practically be neglected, so that the selection of the material for the base depends only on its mechanical properties.

Zum Auftragen der Legierung auf die Unterlage eignen sich praktisch alle an sich' bekannten Verfahren, bei denen der ' amorphe Zustand der Legierung nicht zerstört wird, cL*h», daß er praktisch eingefroren wird, ohne daß es zu emitter merklichen Kristallisation de« Legierungsmaterials koumt.Suitable for applying the alloy to the base practically all 'known processes in which the' amorphous state of the alloy is not destroyed, cL * h », that it is practically frozen without it being emitter noticeable crystallization of the alloy material occurs.

Zu diesen Verfahren zählen beispielsweise das Aufdampfen im- Vakuum auf eine gekühlte Unterlage, sowie Gießen, Tauchen oder ähnliche VerfahreneThese processes include, for example, vapor deposition in vacuum on a cooled surface, as well as pouring, dipping or similar procedures

Als besonders vorteilhaftes Verfahren hat sich jedoch das Aufdämpfen im Vakuum erwiesen, zumal die dadurch erhaltenen Oberflächen außerordentlich.glatt und gleichmäßig sind.However, vapor deposition in a vacuum has proven to be a particularly advantageous process, especially those obtained thereby Surfaces are extraordinarily smooth and uniform.

Die DickedeT herzustellenden Schichten richtet sich nachThe layers to be produced by DickedeT depend on

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dem jeweiligen Verwendungszweck der fertigen Platten. So sind beispielsweise für manche Anwendungsgebiete sehr dünne Überzüge' erforderlich, deren Schichtdicke in der Größenordnung von wenigen Mikron liegt. Für die Verwendung bei den allgemein üblichen Xerographiechen Kopierverfahren sind dagegen Schichtdicken von etwa 40 /um bis etwa 100/um zweckmäßig. Im Röntgengebiet oder bei Anwendung anderer sehr energiereicher Strahlung sind noch bedeutend größere Sohichtdicken erforderlich, beispielsweise in der Größenordnung von etwa 250 /um bis etwa 500/im, um die Bremswirkung der größeren Schichtdicke auszunützen.the intended use of the finished panels. So are For example, very thin coatings are required for some areas of application, the layer thickness of which is in the order of magnitude of a few microns. For use in the generally customary xerographic copying processes, on the other hand, layer thicknesses of about 40 μm to about 100 μm are expedient. In the X-ray area or if other very high-energy radiation is used, significantly greater layer thicknesses are required, for example on the order of about 250 µm to about 500 µm, in order to use the braking effect of the greater layer thickness.

Ein besonderer Vorzug der photoleitenden Legierung nach der Lehre der Erfindung ist darin zu sehen, daß bei Verwendung der ψ Legierung zur Herstellung xerographischer Platten ihre xerographischen Eigenschaften,je nach Polarität der Aufladung,merkliche Unterschiede zeigen. Wird z.B. eine unter Verwendung die<ser Legierung hergestellte Platte mit einer positiven Aufladung versehen, so ist sie im sichtbaren Bereich praktisch unempfindlich, während im Eöntgenbereich (bei Wellenlängen von etwaA particular advantage of the photoconductive alloy according to the teaching of the invention is that when the ψ alloy is used for the production of xerographic plates, its xerographic properties show noticeable differences depending on the polarity of the charge. If, for example, a plate produced using this alloy is provided with a positive charge, it is practically insensitive in the visible range, while in the X-ray range (at wavelengths of about

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10 bis 10 ^ cm) eine außerordentlich hohe Empfindlichkeit erhalten bleibt. Wird demgegenüber eine derartige Platte mit einer negativen Aufladung versehen, so ist sie im sichtbaren Bereich des elektromagnetischen Spektrums (bei Wellenlängen von etwa 4000 bis 7000 Angström) sehr empfindlich und zeigt außerdem eine außerordentlich starke Remanenz des Ermüdungseffektes nach der ersten Belichtung. Wird die Platte nach der anfänglichen " Belichtung von Zeit zu Zeit wieder aufgeladen, so bleibt demzufolge nur in den ursprünglich unbelichteten Bereichen ein Ladungsmuster zurück. Dieses zurückbleibende Ladungsmuster kann dann nach jedem Aufladen entwickelt und auf ein Kopierpapier übertragen werden, so daß es auf diese Weise gelingt, eine Vielzahl von Kopien durch Vervielfältigen des Originals herzustellen, ohne daß dabei das photoleitende Material vor jedem Durchlaufen des Vervielfältigungsprozesses erneut belich- · .tet Werden muß.10 to 10 ^ cm) get an extremely high sensitivity remain. In contrast, if such a plate is provided with a negative charge, it is in the visible range of the electromagnetic spectrum (at wavelengths of about 4000 to 7000 Angstroms) very sensitive and also shows an extraordinarily strong remanence of the fatigue effect after the first exposure. Will the plate after the initial "Exposure recharged from time to time, it remains accordingly A charge pattern returns only in the originally unexposed areas. This remaining charge pattern can then be developed after each charge and transferred to a copy paper, so that it is possible in this way make multiple copies by duplicating the original without using the photoconductive material must be exposed again every time the reproduction process is run through.

,· Nähere Einzelheiten der Erfindung werden anhand der im folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele erläutert., · Further details of the invention will be based on the following Described embodiments explained.

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Beispiel I:Example I:

99 Gewichtsteile hochreines Selen (Reinheitsgrad 99,99 i» und mehr) und 1 Gewichtsteil Thallium (in elementarer "Form) werden zunächst in eine Vorlegierung, z.B. durch gemeinsames Erhitzen in einer Stickstoffatmosphäre, übergeführt. Diese wird in einem Schiffchen aus inertem Material, z.B. Pyrexglas, in ein evakuierbares Verdampfungsgefäß eingebracht und dort unterhalb einer mit einem dünnen Oxydfilm überzogenen Aluminiumplatte angeordnet. Dann wird das Verdampfungsgefäß verschlossen und bis zum Erreichen eines Unterdrucks (Vakuum) von etwa 10 mm Hg evakuiert; die Aluminiumplatte wird dabei auf einer Temperatur von etwa 50 bis 60⁰C gehalten. Dann wird das Selen-Thalliumgemisch durch Beheizen des Pyrexschiffchens auf eine Temperatur von etwa 280⁰O verdampft und kondensiert sich an der Oberfläche der Aluminiumplatte unter Bildung eines gleichmäßigen Überzugs. Obgleich Thallium einen Schmelzpunkt von etwa 300⁰O besitzt, löst es in dem bei etwa 215⁰O schmelzenden Selen unter Bildung einer festen Lösung und wird dann zusammen mit dem Selen verdampft« Auf diese Weise wird ein sehr gleichmäßiger, glänzender Überzug aus amorphem Material erhalten, dessen Schichtdicke etwa 160 um beträgt. Nach Beendigung des AufdampfVorgangs wird das Verdampfungsgefäß unter Aufrechterhaltung des Unterdrücke abgekühlt. Dann wird das Gefäß geöffnet und die Platte herausgenommen. Anschließend wird die so hergestellte Platte mittels einer Corona-Entladung (beschrieben in der US-Patentschrift 2 777 957 (tfalkup)) mit einer positiven Aufladung versehen. Die anschließende Überprüfung der Platte mit Hilfe eines Elektrometers zeigt, daß die anfängliche Aufladung der Platte etwa 760 Volt beträgt.99 parts by weight of high-purity selenium (degree of purity 99.99 i » and more) and 1 part by weight of thallium (in elemental" form) are first converted into a master alloy, for example by joint heating in a nitrogen atmosphere. This is converted in a boat made of inert material, eg Pyrex glass, placed in an evacuable evaporation vessel and arranged there beneath an aluminum plate coated with a thin oxide film. The evaporation vessel is then closed and evacuated until a negative pressure (vacuum) of about 10 mm Hg is reached; the aluminum plate is at a temperature of about 50 held to 60 ⁰ C. Then, the selenium thallium mixture by heating the Pyrexschiffchens is evaporated to a temperature of about 280 ⁰ O and condensed on the surface of the aluminum plate to form a uniform coating. Although thallium has a melting point of about 300 ⁰ O, it dissolves in the ^{selenium, which melts at about 215 0} O, to form egg in a solid solution and is then evaporated together with the selenium. In this way a very uniform, glossy coating of amorphous material is obtained, the thickness of which is about 160 .mu.m. After completion of the evaporation process, the evaporation vessel is cooled while maintaining the negative pressure. Then the vessel is opened and the plate is removed. The plate produced in this way is then provided with a positive charge by means of a corona discharge (described in US Pat. No. 2,777,957 (tfalkup)). The subsequent examination of the plate with the aid of an electrometer shows that the initial charge on the plate is about 760 volts.

Eine zweite Überprüfung, nachdem die Platte für die Dauer von drei Minuten dem Tageslicht ausgesetzt war, ergab eine Aufladung von mehr als 700 Volt. Eine erneute Belichtung der gleichen Platte mit einer herkömmlichen Lichtquelle, deren Strahlungsbereich im sichtbaren Bereich des elektromagnetischen Spektrums liegt, hinterläßt in den belichteten Bereichen ebenfallsA second check after the plate had been exposed to daylight for three minutes showed a charge of more than 700 volts. A renewed exposure of the same plate with a conventional light source, whose radiation range lies in the visible range of the electromagnetic spectrum, leaves behind in the exposed areas as well

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praktisch die ganze ursprüngliche Aufladung (die verbleibende Aufladung beträgt etwa 675 Volt)» Der Versuch, die derart belichtete Platte zu entwickeln, erwies sich als erfolglos.practically all of the original charge (the remaining Charge is about 675 volts) »The attempt that exposed in this way Developing a record proved unsuccessful.

Die gleiche Platte wird dann gereinigt und abermals mit einer Aufladung versehen (Anfangspotential wiederum 760 Volt). Dann wird die Platte mit Röntgenstrahlen belichtet. Beispielsweise um die Abbildung eines großen Rindsknochens herzustellen. Das hierbei entstehende latente elektrostatische Bild wird anschließend mittels einer Kaskadenentwicklung (Entwicklergemisch und Vorrichtung sind bereits in der US-PatentschriftThe same plate is then cleaned and charged again (initial potential again 760 volts). Then the plate is exposed to X-rays. For example, to create a picture of a large bovine bone. The resulting latent electrostatic image is then developed by means of a cascade development (developer mixture and device are already in US patent specification

2 600 580 (Säbel) beschrieben worden) in ein sichtbares Bild übergeführte Man erhält auf diese Weise ein qualitativ hochwertiges sichtbares Bild des Rindsknochens. Das verwendete Entwicklergemisch - vom Typ des in der US-Patentschrift 2 638 416 beschriebenen - enthält feinteilige Toner-Partikeln (US-Patent2 600 580 (saber)) in a visible image In this way, a high quality visible image of the bovine bone is obtained. The developer mix used - of the type described in US Pat. No. 2,638,416 - contains finely divided toner particles (US Pat

3 079 34-2) und mit einem Überzug versehene, kugelförmige Trägerpartikeln (US-Patent 2 618 551). Nach Beendigung des Entwicklungsvorgangs wird dann das entwickelte Bild auf ein Kopierpapier übertragen und dort durch Erwärmen fixiert.3 079 34-2) and coated, spherical carrier particles (U.S. Patent 2,618,551). After completion of the development process, the developed image is then printed on a copy paper transferred and fixed there by heating.

Beispiel II: Example II :

Die im vorhergehenden Beispiel I beschriebene Platte wird in der gleichen Weise wie im vorhergehenden Beispiel mittels einer Gorona-Entladung mit einer Aufladung versehen. Der einzige Unterschied besteht darin, daß die Polarität der Aufladung entgegengesetzt derjenigen im Beispiel I ist, d.h. die Platte wird mit einer negativen Aufladung versehen. Die anfängliche Aufladung der Platte beträgt, wie die Messung mit Hilfe eines Elektrometers zeigt, 675 Volt. Die Platte wird dann in Kontakt mit einem Original mit einer Lichtquelle, wie sie in der US-Patentschrift 2 600 580 beschrieben ist, belichtet und in der anhand des 1.Beispiels erläuterten Weise entwickelt. Hach dem Übertragen-des entwickelten Bildes auf ein Kopierpapier, wird die Platte arneut aufgeladen und mittels eines ElektrometersThe plate described in Example I above is shown in charged in the same way as in the previous example by means of a Gorona discharge. One and only The difference is that the polarity of the charge is opposite that in Example I, i.e. the plate is given a negative charge. The initial one The charge on the plate, as measured by an electrometer, is 675 volts. The plate is then in contact exposed to an original with a light source as described in US Pat. No. 2,600,580, and in US Pat developed based on the first example. Oh that Transferring the developed image onto a copy paper the plate is recharged and using an electrometer

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überprüft. Obgleich die Platte in den bei der ersten Belichtung nicht belichteten Bereichen praktisch die gesamte Aufladung aufrechterhält, findet in den zuvor belichteten Bereichen eine Entladung von nahezu 98 # statt. Die Platte wird dann ohne zusätzliche Belichtung entwickelt, das entwickelte Bild wird anschließend auf ein Kopierpapier übertragen und dort fixiert. ' Man erhält so eine qualitativ hochwertige Abbildung des ersten Originals. Auch bei etwa zehnmaliger Wiederholung dieses Vor-., gangs konnte keine merkliche Verschlechterung der Bildqualität der Kopien festgestellt werden.checked. Although the plate was in the first exposure unexposed areas practically maintains the entire charge, takes place in the previously exposed areas Discharge of nearly 98 # takes place. The plate is then developed without additional exposure, which becomes the developed image then transferred to a copy paper and fixed there. ' This gives a high-quality image of the first original. Even if this procedure is repeated about ten times., Initially, there was no noticeable deterioration in the image quality of the copies.

Beispiele III bis VII: Examples III to VII :

Nach der im Beispiel I beschriebenen Methode wurden noch weitere xerographisehe Platten hergestellt, die sich von der ersten Platte durch einen unterschiedlichen Thalliumgehalt unterschieden. Der Thalliumgehalt betrug (in Gewichtsprozent) beim 3.Beispiel 0,5 #i beim 4.Beispiel 0,1 #; beim 5.Beispiel 0,05 &i beim 6„Beispiel 0,01 i» und beim 7.Beispiel 0,0001 jt·According to the method described in Example I, further xerographic plates were produced which differed from the first plate in that they had a different thallium content. The thallium content was (in percent by weight) in the 3rd example 0.5 # i in the 4th example 0.1 #; in the 5th example 0.05 & i in the 6 "example 0.01 i" and in the 7th example 0.0001 jt ·

Jede der Platten wurde in der anhand der Beispiele I und II · erläuterten Weise untersucht. Dabei wurden im wesentlichen gleiche Ergebnisse erzielt, abgesehen von einer graduellen Abnahme - entsprechend dem in der Legierung enthaltenen Thalliumgehalt - der gespeicherten Aufladung nach einer etwa drei Minuten dauernden Belichtung mit sichtbarem Licht. Diese Abnahme ist jedoch außerordentlich unbedeutend, da die Platte nach Beispiel VII mit einem Thalliumgehalt von 0,0001 Gewichtsprozent nach dieser Belichtung immer noch eine Aufladung von 500 Volt zeigt und da ihre Empfindlichkeit im Röntgenbereich genauso groß ist, wie diejenige der Platte mit einem Thalliumgehalt von 1,0 Gewichtsprozent.Each of the plates was made in the manner described in Examples I and II examined manner. Essentially the same results were obtained, with the exception of a gradual one Decrease - according to the thallium content contained in the alloy - of the stored charge after approx three minute exposure to visible light. However, this decrease is extremely insignificant since the Plate according to Example VII with a thallium content of 0.0001 percent by weight still has a charge after this exposure of 500 volts and there its sensitivity in the X-ray range is the same size as that of the plate with a thallium content of 1.0 percent by weight.

Beispiel VIIIi Example VIII i

Um eicher zu gehen, daß zufällig vorhandene andere Verunreinigungen keinerlei Wirkung auf die untersuchten Platteneigenschaften ausüben, wurde eine mit einem überzug von reinem amorphenTo make sure that other impurities happen to be present exert no effect on the properties of the board examined, one with a coating of pure amorphous

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Selen versehene Platte (das Selen war das Gleiche wie in den Beispielen I bis VI) in der anhand der Beispiele I und II erläuterten Weise untersucht. Es konnte festgestellt werden« daß diese Platte nach einer drei Minuten dauernden Belichtung praktisch keine gespeicherte Ladung zeigte, und daß außerdem kein auf vorhergehende Belichtungen beruhendes "Ermüdungebild" (fatigue pattern) festgestellt werden konnte, wenn die Platte entsprechend Beispiel II untersucht wurde·Selenium-provided plate (the selenium was the same as in Examples I to VI) in the explained with reference to Examples I and II Way investigated. It was found that this plate after exposure for three minutes showed practically no stored charge, and also that no "fatigue image" based on previous exposures (fatigue pattern) could be determined when the plate was examined according to Example II

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Claims (2)

''η 8 32 94 43 Patentanspruch· .'' η 8 32 94 43 claim. 1. Photoleitende Legierung zur Herstellung von für die Verwendung im Bereich harter elektromagnetischer Strahlung sowie für die Herstellung von Vervielfältigungen geeigneten xerographischen Platten, gekennzeichnet durch einen Gehalt von etwa 0,0001 bis 5 Gewichtsprozent Thallium in amorphem Selen.1. Photoconductive alloy for the manufacture of for use in the field of hard electromagnetic radiation as well as xerographic plates suitable for the production of reproductions, characterized by a Content of about 0.0001 to 5 percent by weight of thallium in amorphous selenium. 2. Photoleitende legierung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie einen Gehalt von etwa 0,0001 bis etwa 0,002 Gewichtsprozent Thallium aufweist»2. Photoconductive alloy according to claim 1, characterized in that that they have a content of about 0.0001 to about Contains 0.002 percent by weight thallium » 3· Photoleitende Legierung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß sie je nach Polarität der aufgebrachten oberflächlichen Aufladung unterschiedliche xerographische Eigenschaften zeigt.3 · Photoconductive alloy according to claim 1 or 2, characterized characterized in that it depends on the polarity of the applied superficial charging different xerographic Properties shows. 4· Photoleitende Legierung nach Anspruch 1,2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß sie bei Aktivierung durch eine positive Aufladung eine hohe Empfindlichkeit im Bereich harter elektromagnetischer Strahlung, wie z.B. Röntgenstrahlung oder radioaktive Strahlung, zeigt, während ihre Empfindlichkeit im sichtbaren Bereich zu vernachlässigen ist»4 photoconductive alloy according to claim 1, 2 or 3, characterized in that when activated by a positive charge, it has a high sensitivity in Area of hard electromagnetic radiation, such as X-rays or radioactive radiation, shows while their sensitivity in the visible range increases neglect is » 5· Photoleitende Legierung nach Anspruch 1,2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß sie bei Aktivierung durch eine negative Aufladung eine starke Neigung zur Ermüdung zeigt (high fatigue material) bei gleichzeitiger Empfindlichkeit im sichtbaren Bereich.5 · Photoconductive alloy according to claim 1, 2 or 3, characterized characterized in that it shows a strong tendency to fatigue when activated by a negative charge (high fatigue material) with simultaneous sensitivity in the visible range. 6, Xerographische Platte, hergestellt unter Verwendung der photoleitenden Legierung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine auf einer als Träger dienenden Unterlage6, Xerographic plate made using the Photoconductive alloy according to Claim 1, characterized by a base which serves as a carrier SO9882/0SSISO9882 / 0SSI angeordneten dünnen, eine glatte Oberfläche aufweisenden photoleitenden Isolierschicht.arranged thin, having a smooth surface photoconductive insulating layer. 7e Xerographische Platte nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Unterlage eine elektrische Leitfähigkeit von etwa 10 Ohm/cm aufweist·7e xerographic plate according to claim 6, characterized in that that the base has an electrical conductivity of about 10 Ohm / cm 8β Verwendung der xerographischen Platte nach Anspruch oder 7 zur Herstellung von Abbildung mittels harter elektromagnetischer Strahlung, wobei die photoleitende Isolierschicht zunächst durch' eine positive Aufladung ™ aktiviert und dann in an sich bekannter Weise weiterbehandelt wird·8β Use of the xerographic plate according to claim or 7 for the production of images by means of hard electromagnetic radiation, the photoconductive Insulating layer first through a positive charge ™ activated and then further treated in a manner known per se will· 9· Verwendung der xerographischen Platte nach Anspruch oder 7 zur Herstellung von Vervielfältigungen, wobei die photoleitende Isolierschicht zunächst durch eine negative Aufladung aktiviert und dann in an sich bekannter Weise weiter behandelt wird«9 · Use of the xerographic plate according to claim or 7 for the production of copies, wherein the photoconductive insulating layer is first covered by a negative charge is activated and then further treated in a manner known per se « 909882/0565909882/0565