DE1467030A1 - Verfahren zur Entfernung kleiner Mengen Fluorwasserstoff aus Chlorwasserstoff - Google Patents
Verfahren zur Entfernung kleiner Mengen Fluorwasserstoff aus ChlorwasserstoffInfo
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- C01B7/00—Halogens; Halogen acids
- C01B7/01—Chlorine; Hydrogen chloride
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Description
DYNAMIT NOBEL AKTIENGESELLSCHAFT Troisdorf / Bez. Köln
Verfahren zur Entfernung kleiner Mengen Fluorwasserstoff aus Chlorwasserstoff"
Die meisten Fluorierungsverfahren organischer Verbindungen beruhen
auf einem Halogenaustausch zwischen Fluorwasserstoff und Chlor enthaltenden Verbindungen. Dabei entsteht wasserfreier Chlorwasserstoff,
der von den letzten Spuren Fluorwasserstoff nur sehr
schwer zu befreien ist. Dadurch wird dieses an sich relativ wertvolle Nebenprodukt für fast alle Zwecke unbrauchbar. Daher sind
neben der schwierigen destillativen Trennung auch chemische Verfahren vorgeschlagen worden, um den Fluorwasserstoff zu entfernen.
Zum Beispiel sind hier die Abtrennung mittels Kieselgel bei erhöhtem
Druck und die Abtrennung durch hochkonzentrierte wässrige Salzsäure, gegebenenfalls mit Zusätzen von Metallsalzen, insbesondere,
von Calcium- oder Aluminiumsalzen, zu nennen.
In dem einen Fall ist die Kompression so aggressiver Gase ein
Störungsfaktor, im anderen die hohe Korrosionsgefahr durch die stark
salzsauren wässrigen Lösungen. Auch ist die Bildung flüchtiger Fluorverbindungen, wie z.B. SiF. oder BF,, die bei einem weiteren
bekannten Verfahren entstehen, für manche Verwendungszwecke ein ausschließendes Hindernis.
Es wurde nun gefunden, daß man bei Normaldruck und Normaltemperatur
in einem Verfahren ohne Wasseranwendung den Fluorwasserstoff
809901/0655 >
ohne großen Aufwand restlos, dazu ohne Auftreten störender, flüchtiger Fluorverbindungen, aus Chlorwasserstoff entfernen kann,
indea man ihn durch eine Schicht von oberflächenreichem AIpO,
oder AIO(OH) strömen läßt. 13s war zv/ar bekannt, daß diese Verbindungen
mit HF reagieren, doch konnte nicht erwartet werden, daß diese Reaktion bei Verdünnungen von wesentlich unter einem
Prozent so leicht und vor allem vollständig verlaufen würde.
Das entstehende AlF,, oder anfänglich auch AlOF, ist nicht flüchtig. Auch wurde sogar bei AIO(OH) als Ausgangsmaterial kein
Auftreten von Wasserdampf gefunden, vielmehr wird die relativ geringe Menge Wasser von AlF, oder dem oberflächenreichen Aluminiumoxid
gebunden. Die Ausnutzung des Absorptionsmittels geht zwar nicht bis zu 100 fo, aber doch relativ weit, im Mittel bis zu
etwa 60 $, so daß der Materialverbrauch nicht hoch ist. Zweckmäßig
benutzt man die absorbierende oxidische Aluminiumverbindung in einer körnigen oder granulierten Form, um den Strömungswiderstand
gering zu halten, doch ist die Reaktion auch mit feinem, pulverförmigem Korn durchzuführen.
Das nach der Sättigung mit HF entstandene verbrauchte Absorptionsmaterial kann als wertvolle Fluor-Duelle, etwa zur Fabrikation von
Kryolith weiter verwertet werden} es ist also kein wertloses und zu beseitigendes Abfallprodukt.
LO Beispiel:
ο Ein Rohr von 80 mm lichter Weite wurde mit kugelförmiger Aktiv-
*~ tonerde, ihirchmesser 5-5 mm, in einer Schichthöhe von 200 mm
ο
*? gefüllt. Das Gewicht der Schicht betrug 9 kg. Durch diese Ab-O0
sorptionsschicht wurde mehrere Tage lang ein Strom von 6 m /h HCl hindurchgeleitet, der zwischen 0,25 und 0,5 HF enthielt. Unter
diesen Umständen war die Verweilzeit 6 see. Erst nachdem 2,4 kg HF
— 3 —
aufgenommen waren, ließ sich HF am Ausgang nachweisen. Der Gehalt
der Oxidkugeln, die ihre Form nicht wesentlich verändert hatten, betrug am unteren Ende der Schicht etwa 22 rfo F, am oberen finde
etwa 12 <fo F.
0 9 9 0 1 / η R5 5
Claims (1)
- "4" 1*67030Patentanspruch :erfahren zur Entfernung kleiner Mengen Fluorwasserstoff aus Chlorwasserstoff, dadurch gekennzeichnet, daß man das Gas bei Raumtemperatur über Aluminiumoxid und/oder Aluminiumhydroxid leitet.Dr.Mi/Hä.80990170655
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DED0045573 | 1964-10-06 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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ID=7049103
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19641467030 Pending DE1467030A1 (de) | 1964-10-06 | 1964-10-06 | Verfahren zur Entfernung kleiner Mengen Fluorwasserstoff aus Chlorwasserstoff |
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NL (1) | NL6512951A (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51130696A (en) * | 1975-04-25 | 1976-11-13 | Lummus Co | Separating process for hydrogen fluoride from hydrogen chloride gas |
DE19500785C1 (de) * | 1995-01-13 | 1996-07-04 | Metallgesellschaft Ag | Verfahren zur Abtrennung von HF aus Salzsäure |
-
1964
- 1964-10-06 DE DE19641467030 patent/DE1467030A1/de active Pending
-
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- 1965-10-04 ES ES0318102A patent/ES318102A1/es not_active Expired
- 1965-10-06 NL NL6512951A patent/NL6512951A/xx unknown
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS51130696A (en) * | 1975-04-25 | 1976-11-13 | Lummus Co | Separating process for hydrogen fluoride from hydrogen chloride gas |
DE19500785C1 (de) * | 1995-01-13 | 1996-07-04 | Metallgesellschaft Ag | Verfahren zur Abtrennung von HF aus Salzsäure |
EP0721916A1 (de) | 1995-01-13 | 1996-07-17 | Metallgesellschaft Ag | Verfahren zur Abtrennung von HF aus Salzsäure |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL6512951A (de) | 1966-04-07 |
BE670429A (de) | 1966-04-01 |
ES318102A1 (es) | 1965-12-16 |
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