DE1467030A1 - Verfahren zur Entfernung kleiner Mengen Fluorwasserstoff aus Chlorwasserstoff - Google Patents

Verfahren zur Entfernung kleiner Mengen Fluorwasserstoff aus Chlorwasserstoff

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DE1467030A1
DE1467030A1 DE19641467030 DE1467030A DE1467030A1 DE 1467030 A1 DE1467030 A1 DE 1467030A1 DE 19641467030 DE19641467030 DE 19641467030 DE 1467030 A DE1467030 A DE 1467030A DE 1467030 A1 DE1467030 A1 DE 1467030A1
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hydrogen
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hydrogen fluoride
hydrogen chloride
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Richard Kaiser
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Dynamit Nobel AG
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Dynamit Nobel AG
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B7/00Halogens; Halogen acids
    • C01B7/01Chlorine; Hydrogen chloride

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)

Description

DYNAMIT NOBEL AKTIENGESELLSCHAFT Troisdorf / Bez. Köln
Verfahren zur Entfernung kleiner Mengen Fluorwasserstoff aus Chlorwasserstoff"
Die meisten Fluorierungsverfahren organischer Verbindungen beruhen auf einem Halogenaustausch zwischen Fluorwasserstoff und Chlor enthaltenden Verbindungen. Dabei entsteht wasserfreier Chlorwasserstoff, der von den letzten Spuren Fluorwasserstoff nur sehr schwer zu befreien ist. Dadurch wird dieses an sich relativ wertvolle Nebenprodukt für fast alle Zwecke unbrauchbar. Daher sind neben der schwierigen destillativen Trennung auch chemische Verfahren vorgeschlagen worden, um den Fluorwasserstoff zu entfernen. Zum Beispiel sind hier die Abtrennung mittels Kieselgel bei erhöhtem Druck und die Abtrennung durch hochkonzentrierte wässrige Salzsäure, gegebenenfalls mit Zusätzen von Metallsalzen, insbesondere, von Calcium- oder Aluminiumsalzen, zu nennen.
In dem einen Fall ist die Kompression so aggressiver Gase ein Störungsfaktor, im anderen die hohe Korrosionsgefahr durch die stark salzsauren wässrigen Lösungen. Auch ist die Bildung flüchtiger Fluorverbindungen, wie z.B. SiF. oder BF,, die bei einem weiteren bekannten Verfahren entstehen, für manche Verwendungszwecke ein ausschließendes Hindernis.
Es wurde nun gefunden, daß man bei Normaldruck und Normaltemperatur in einem Verfahren ohne Wasseranwendung den Fluorwasserstoff
809901/0655 >
ohne großen Aufwand restlos, dazu ohne Auftreten störender, flüchtiger Fluorverbindungen, aus Chlorwasserstoff entfernen kann, indea man ihn durch eine Schicht von oberflächenreichem AIpO, oder AIO(OH) strömen läßt. 13s war zv/ar bekannt, daß diese Verbindungen mit HF reagieren, doch konnte nicht erwartet werden, daß diese Reaktion bei Verdünnungen von wesentlich unter einem Prozent so leicht und vor allem vollständig verlaufen würde.
Das entstehende AlF,, oder anfänglich auch AlOF, ist nicht flüchtig. Auch wurde sogar bei AIO(OH) als Ausgangsmaterial kein Auftreten von Wasserdampf gefunden, vielmehr wird die relativ geringe Menge Wasser von AlF, oder dem oberflächenreichen Aluminiumoxid gebunden. Die Ausnutzung des Absorptionsmittels geht zwar nicht bis zu 100 fo, aber doch relativ weit, im Mittel bis zu etwa 60 $, so daß der Materialverbrauch nicht hoch ist. Zweckmäßig benutzt man die absorbierende oxidische Aluminiumverbindung in einer körnigen oder granulierten Form, um den Strömungswiderstand gering zu halten, doch ist die Reaktion auch mit feinem, pulverförmigem Korn durchzuführen.
Das nach der Sättigung mit HF entstandene verbrauchte Absorptionsmaterial kann als wertvolle Fluor-Duelle, etwa zur Fabrikation von Kryolith weiter verwertet werden} es ist also kein wertloses und zu beseitigendes Abfallprodukt.
LO Beispiel:
ο Ein Rohr von 80 mm lichter Weite wurde mit kugelförmiger Aktiv-
*~ tonerde, ihirchmesser 5-5 mm, in einer Schichthöhe von 200 mm ο
*? gefüllt. Das Gewicht der Schicht betrug 9 kg. Durch diese Ab-O0 sorptionsschicht wurde mehrere Tage lang ein Strom von 6 m /h HCl hindurchgeleitet, der zwischen 0,25 und 0,5 HF enthielt. Unter diesen Umständen war die Verweilzeit 6 see. Erst nachdem 2,4 kg HF
— 3 —
aufgenommen waren, ließ sich HF am Ausgang nachweisen. Der Gehalt der Oxidkugeln, die ihre Form nicht wesentlich verändert hatten, betrug am unteren Ende der Schicht etwa 22 rfo F, am oberen finde etwa 12 <fo F.
0 9 9 0 1 / η R5 5

Claims (1)

  1. "4" 1*67030
    Patentanspruch :
    erfahren zur Entfernung kleiner Mengen Fluorwasserstoff aus Chlorwasserstoff, dadurch gekennzeichnet, daß man das Gas bei Raumtemperatur über Aluminiumoxid und/oder Aluminiumhydroxid leitet.
    Dr.Mi/Hä.
    80990170655
DE19641467030 1964-10-06 1964-10-06 Verfahren zur Entfernung kleiner Mengen Fluorwasserstoff aus Chlorwasserstoff Pending DE1467030A1 (de)

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ES (1) ES318102A1 (de)
NL (1) NL6512951A (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51130696A (en) * 1975-04-25 1976-11-13 Lummus Co Separating process for hydrogen fluoride from hydrogen chloride gas
DE19500785C1 (de) * 1995-01-13 1996-07-04 Metallgesellschaft Ag Verfahren zur Abtrennung von HF aus Salzsäure

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51130696A (en) * 1975-04-25 1976-11-13 Lummus Co Separating process for hydrogen fluoride from hydrogen chloride gas
DE19500785C1 (de) * 1995-01-13 1996-07-04 Metallgesellschaft Ag Verfahren zur Abtrennung von HF aus Salzsäure
EP0721916A1 (de) 1995-01-13 1996-07-17 Metallgesellschaft Ag Verfahren zur Abtrennung von HF aus Salzsäure

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NL6512951A (de) 1966-04-07
BE670429A (de) 1966-04-01
ES318102A1 (es) 1965-12-16

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